JPS5932435B2 - リボン状シリコン結晶の製造方法 - Google Patents

リボン状シリコン結晶の製造方法

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JPS5932435B2
JPS5932435B2 JP14581581A JP14581581A JPS5932435B2 JP S5932435 B2 JPS5932435 B2 JP S5932435B2 JP 14581581 A JP14581581 A JP 14581581A JP 14581581 A JP14581581 A JP 14581581A JP S5932435 B2 JPS5932435 B2 JP S5932435B2
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JP
Japan
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ribbon
crystal
shaped silicon
silicon
manufacturing
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JP14581581A
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JPS5849691A (ja
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光雄 飯田
俊幸 沢田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/34Edge-defined film-fed crystal-growth using dies or slits

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、リボン状シリコン結晶の製造方法の改良に関
する。
一般に用いられているシリコン単結晶ウエノ1は、棒状
の単結晶インゴットとして引き上げられたものをウェハ
状にスライス切断し、その後に表面研磨して形成された
ものとなっている。
このため、インゴットの約801ま不要に捨てられてい
る。
したがって、シリコン単結晶ウェハの製造には経済的に
大きな損失が伴なうばかりか工程数が多いので長時間を
要する問題があった。
そこで、このような不具合を解消するために最近、原料
シリコンから直接的にリボン状シリコン結晶を製造する
方法が考えられている。
このリボン状シリコン結晶を製造する方法は、第1図に
示すように、抵抗加熱炉1内で原料シリコンを溶解させ
、これによって形成されたシリコン融液2中に、一対の
板3a 、3bを平行配置してなるダイ4の下部を挿し
込み、上記ダイ4の上記板3a。
3b間に形成されたスロット5内に毛細管現象によって
シリコン融液を上昇させ、この上昇したシリコン融液に
種子結晶を接触させてダイ上端で種子付けし、上記種子
結晶を引き上げることによって連続的にリボン状シリコ
ン結晶6を製造するようにしている。
なお、得られたリボン状シリコン結晶6はホイール7に
よって連続的に反転された後、レーザ加工装置8によっ
て一定長さに切断される。
このような方法を用いるとリボン状シリコン結晶を直接
的にかつ連続的に製造することができる。
しかしながら、上記のような製造方法にあっては、次の
ような問題があった。
すなわち、生産性を上げるには、引き上げ速度が大きけ
れば大きい程好ましいが、通常、30mm/分以上の速
度で第2図aに示すような一定幅のリボン状シリコン結
晶6を引き上げることは非常に困難である。
一般的には、リボン状シリコン結晶の幅を一定に保つに
は引き上げメニスカス部の温度制御および引き上げ速度
を制御すればよいが、前述のように、30mm1分以上
の高速引き上げを行なわんとする場合には温度制御が非
常に困難なものとなる。
すなわち、引き上げ速度が30mrrt1分以下の場合
は、リボン状シリコン結晶の引き上げメニスカス部の温
度制御によって幅を一定に保つことが可能であるが、引
き上げ速度が30mm/分以上の場合においてメニスカ
ス部の温度制御によって幅を一定に保とうとしても、メ
ニスカス部、リボン結晶固液界面での熱的バランスがく
ずれ、この結果、固化が発生して引き上げが不能となる
また、メニスカス部の温度を一定に保った状態でリボン
状結晶を引き上げようとしても、第2図すに示すように
リボン状シリコン結晶6の両端PI、P2が徐々にやせ
細ったり、その他第2図c、d中にP3 、 P4で示
すようにダイ上の左右温度の不均一に基くリボン形状の
異常が発生することが往々にしてあった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、極めて簡単な制御で高速引き上
げ時に起こり易いリボン形状の異常発生を解消でき、も
って生産性を向上させ得るリボン状シリコン結晶の製造
方法を提供することにある。
すなわち、本発明は、リボン状シリコン結晶を成長させ
て引き上げるに当り、ダイに形成されたスロットの幅よ
り小なる粒径の粒状の原料シリコンをスロットの上部か
ら補給場所を加味して補給することによって上記目的を
達成したものである。
以下、本発明方法の一実施形態を図面を参照しながら説
明する。
第3図は本発明に係る製造方法を実施する装置の一例を
示すもので、第1図と同一部分は同一符号で示しである
したがって、重複する部分の説明は省略する。
この装置にあっては、ダイ4の上方で、このダイ4を通
して引き上げられるリボン状シリコン結晶60両側に、
それぞれの先端開口部が上記リボン状シリコン結晶60
両端近傍のスロット5上に位置する関係に案内パイプ1
1a。
11bを配置し、これら案内パイプ11a、11bを介
して原料シリコン供給装置12からスロット50幅より
小径の粒状原料シリコンを一定時間おきに一定量ずつリ
ボン状シリコン結晶の固液界面近傍に落し込むようにし
ている。
このように、リボン状シリコン結晶6の両側で固液界面
近傍に一定時間おきに一定量ずつ粒状原料シリコンを補
給するようにしている。
補給された粒状原料シリコンは、スロット5内のシリコ
ン融液に接触して溶解する。
したがって、粒状原料シリコンの補給によって実質的に
スロット5内のシリコン融液の上昇速度が速められるこ
とになり、引き上げられる部分、つまり結晶成長部分へ
良好に原料の補給が行なわれることになり、この結果、
第2図すに示した両端のヤセ細りゃ同図c、dに示した
片側のヤセ細りの発生を防止することができる。
実験によると、リボン状シリコン結晶の幅を80mm、
リボン結晶引き上げ速度40mm1分で引き上げた場合
、従来の製造方法では第4図中Aで示すように8071
L71引き上げて約20係のリボン幅の減少が見られた
これに対し、本発明製造方法を適用して、上記条件で、
かつリボン結晶の左右端の固液界面近傍0.5 umの
部分に粒状原料シリコンを0.2mgrずつ1秒間隔で
投入した場合には、第4図中Bで示すように均一な幅の
リボン状シリコン結晶を得ることができた。
この結果から明らかなように、本発明に係る製造方法は
、生産性を向上させる上で極めて有効である。
なお、上述した実施例では、引き上げるリボン結晶の両
端近傍にスロット上から一定時間おきに一定量の粒状原
料シリコンを投入しているが、やせ細りを検出し、やせ
細りを開始した方何だけに粒状原料シリコンを投入して
もよい。
この場合には、光学系等を組合せた幅検出器を必要とす
ることは勿論である。
以上詳述したように本発明によれば、複雑な制御を必要
とせずに、一定幅のリボン状結晶を高速度で引き上げる
ことができ、もって生産性の向上化に寄与できるリボン
状シリコン結晶の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のこの種製造方法を説明するための図、第
2図a j b ff Ct dは従来の製造方法の問
題点を説明するための図、第3図は本発明の一実施例に
係る製造方法を実施する製造装置の要部を示す構成図、
第4図は本発明製造方法で製造されたリボン状シリコン
結晶の幅精度と従来の製造方法で製造されたリボン状シ
リコン結晶のそれとを比較して示す図である。 1・・・・・・抵抗加熱炉、2・・・・・・シリコン融
液、3a。 3b・・・・・・板、4・・・・・・ダイ、5・・・・
・・スロット、6・・・・・・リボン状シリコン結晶、
11a、11b・・・・・・案内パイプ、12・・・・
・・原料シリコン供給装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 シリコン融液中に、一対の板を平行させてなるダイ
    の一部を挿込み、このダイの上記一対の板間に形成され
    たスロット内に上記シリコン融液な毛細管現象で上昇さ
    せるとともに上昇したシリコン融液に種子結晶を接触さ
    せ、上記種子結晶を引き上げることによってリボン状シ
    リコン結晶を長させるに当り、前記スロットの幅より小
    なる粒径の粒状の原料シリコンを前記スロットの上部か
    ら引き上げられるリボン結晶の両端近傍に補給すること
    によってリボン状シリコン結晶の幅を制御するようにし
    たことを特徴とするリボン状シリコン結晶の製造方法。
JP14581581A 1981-09-16 1981-09-16 リボン状シリコン結晶の製造方法 Expired JPS5932435B2 (ja)

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JPS5849691A JPS5849691A (ja) 1983-03-23
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JPS58185258A (ja) * 1982-04-26 1983-10-28 Silver Seiko Ltd 印字装置

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JPS5849691A (ja) 1983-03-23

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