JPS5922632A - 排ガス処理装置の触媒補充交換方法 - Google Patents
排ガス処理装置の触媒補充交換方法Info
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- JPS5922632A JPS5922632A JP57133396A JP13339682A JPS5922632A JP S5922632 A JPS5922632 A JP S5922632A JP 57133396 A JP57133396 A JP 57133396A JP 13339682 A JP13339682 A JP 13339682A JP S5922632 A JPS5922632 A JP S5922632A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- catalyst layers
- performance
- catalysts
- exhaust gas
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2550/00—Monitoring or diagnosing the deterioration of exhaust systems
- F01N2550/02—Catalytic activity of catalytic converters
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は排ガス処理装置の触媒性能回復のだめの触媒補
充交換方法に関する。
充交換方法に関する。
一般に、乾式排ガス脱硝装置のように、複数の触媒層に
排ガスを順次通過させて不純物を化学反応させて除去す
る排ガス処理装置に於ては、同装置の運転の経過にとも
ない、同装置の触媒の全体としての性能が漸時劣化し、
所要性能下限になった場合、触媒を交換して性能の回復
をはかる必要がある。
排ガスを順次通過させて不純物を化学反応させて除去す
る排ガス処理装置に於ては、同装置の運転の経過にとも
ない、同装置の触媒の全体としての性能が漸時劣化し、
所要性能下限になった場合、触媒を交換して性能の回復
をはかる必要がある。
従来は固定数の触媒層を設え、その触媒の全体としての
性能が所要性能下限に致るまで使用した後、全ての触媒
層を新しいものと交換し、触媒性能の回復をはかってい
た。この結果、交換される各触媒層はまだかなりの活性
を残１．ているにもかかわらず、十分に使用されぬまま
廃棄されることになり、触媒消費量の増大による排ガス
処理装置運転コストの上昇をまねくという欠点があった
。
性能が所要性能下限に致るまで使用した後、全ての触媒
層を新しいものと交換し、触媒性能の回復をはかってい
た。この結果、交換される各触媒層はまだかなりの活性
を残１．ているにもかかわらず、十分に使用されぬまま
廃棄されることになり、触媒消費量の増大による排ガス
処理装置運転コストの上昇をまねくという欠点があった
。
本発明の目的はかかる従来の欠点を解消することにあり
、排ガス処理装置において触媒を有効に冬期間使用し触
媒の消費量を大巾に低減させ、経済的な同装置の運転を
可能とする触媒の補充交換方法を供することにある。
、排ガス処理装置において触媒を有効に冬期間使用し触
媒の消費量を大巾に低減させ、経済的な同装置の運転を
可能とする触媒の補充交換方法を供することにある。
本発明による方法は排ガスを複数の触媒層に順次通過さ
せ同排ガス中の不純物を化学反応により除去する排ガス
処理装置において、一定数にとどめた初装架触媒層の劣
化度を検知して所定数の予備触媒層を補充し、全体の劣
化度に応じて新だな予備触媒層の補充を必要回数重ね、
触媒層が所定数に達した後は、全体の劣化度に応じて古
い触媒層から順次新しいものに交換することに特徴を有
している。
せ同排ガス中の不純物を化学反応により除去する排ガス
処理装置において、一定数にとどめた初装架触媒層の劣
化度を検知して所定数の予備触媒層を補充し、全体の劣
化度に応じて新だな予備触媒層の補充を必要回数重ね、
触媒層が所定数に達した後は、全体の劣化度に応じて古
い触媒層から順次新しいものに交換することに特徴を有
している。
本発明の方法においては、排ガス処理装置の運転にとも
ない同装置の一定数の初装架触媒層の全体としての触媒
性能が漸時劣化し所要性能下限に至った事を検知した場
合、触媒の交換を行わず予備触媒層を補充することによ
り、それまで使用されたためある程度劣化した全初装架
触媒層の触媒活性に、新たに補充した予備触媒層の触媒
活性を加える事となり、排ガス処理装置における全体と
しての触媒性能を回復することを可能とし、その後は全
体としての触媒性能が所要下限まで劣化した事を検知す
る毎に、補充される予備触媒層の触媒活性がカロわるこ
とによって全体としての触媒性能を更めて回復すること
を可能とするものである。さらに触媒層が所定数に達し
た後は、全体としての触媒性能が所要性能下限まで劣化
する毎に、触媒活性を最も失った最も古い触媒層から順
次、触媒活性の高い新しい触媒に交換することになるか
ら、全体としての触媒性能をその度に、くり返し高め回
復することが出来る。
ない同装置の一定数の初装架触媒層の全体としての触媒
性能が漸時劣化し所要性能下限に至った事を検知した場
合、触媒の交換を行わず予備触媒層を補充することによ
り、それまで使用されたためある程度劣化した全初装架
触媒層の触媒活性に、新たに補充した予備触媒層の触媒
活性を加える事となり、排ガス処理装置における全体と
しての触媒性能を回復することを可能とし、その後は全
体としての触媒性能が所要下限まで劣化した事を検知す
る毎に、補充される予備触媒層の触媒活性がカロわるこ
とによって全体としての触媒性能を更めて回復すること
を可能とするものである。さらに触媒層が所定数に達し
た後は、全体としての触媒性能が所要性能下限まで劣化
する毎に、触媒活性を最も失った最も古い触媒層から順
次、触媒活性の高い新しい触媒に交換することになるか
ら、全体としての触媒性能をその度に、くり返し高め回
復することが出来る。
上記のように本発明の方法によれば触媒性能がその所要
性能下限まで劣化した°場合、所定数の触媒層の補充又
は交換で回復でき、触媒層は冬期間にわたり使用される
ため触媒活性をより有効に消耗した後に廃棄されること
となるから、前述の従来方法のように未だ触媒活性を相
当残したまま全触媒層を新しいものに交換し廃棄する弊
がなく、排ガス処理装置の運転上累計的には触媒消費量
の多大な低減をはかれるものであり、ひいては経済的な
同装置の運転を可能とするものである。
性能下限まで劣化した°場合、所定数の触媒層の補充又
は交換で回復でき、触媒層は冬期間にわたり使用される
ため触媒活性をより有効に消耗した後に廃棄されること
となるから、前述の従来方法のように未だ触媒活性を相
当残したまま全触媒層を新しいものに交換し廃棄する弊
がなく、排ガス処理装置の運転上累計的には触媒消費量
の多大な低減をはかれるものであり、ひいては経済的な
同装置の運転を可能とするものである。
以下、本発明の一実施例につき第１図によって説明する
。（１）は乾式排ガス脱硝装置であり、図示されないボ
イラ、内燃機関、態動装置等の持 銘ガス（３）は通常当該乾式排ガス脱硝装置（１）に導
入される前の段階でアンモニア（ＮＩ（３）が添加さ還
元除去された後処理済Ｉトガ・（６）となり出口ダクト
（７）を通り図示されない次の必要な工程を経て大気中
に放出される。図中の触媒層（４ａ）、（４ｂ）、（４
Ｑ）は初装架触媒層であり、該初装架触媒層は当該乾式
排ガス脱硝装置（］）運転開始時から使用され、漸時そ
の触媒性能が劣化するが、所定の所要性能下限まで劣化
する唸でに、一定の期間の運転が可能であるような層数
をもって設置される。触媒の全体としての劣化度は、追
酸化物（ＮＯＸ）濃度を検知することにより、その比か
ら脱硝率をもとめ、これを触媒性能の指標とし、脱硝率
の低下をもって触媒の全体としての劣化度を検知するこ
とができ、例えば脱硝率８０％を所要能力の下限とし、
同下限まで触媒性能が劣化したときに触媒の補充ないし
交換をするように定めることができる。上記初装架触媒
層（４ａ）、（４ｂ）、〔４Ｃ）の全体としての性能が
所要性能下限まで劣化した段階では予備触媒い、全体と
しての触媒性能が劣化すれば、予備（５ｂ）に通過させ
処理する。以上のように予備触媒層（５ａ）、（５ｂ）
を全て補充した後は、全体としての触媒性能が所要下限
となる度に最も使用ｊｔｌ１間の長い触媒層のうちから
所定数、例えば触媒層（４ａ）を新しい触媒に交換し、
触媒性能の煤層を（４ｂ）、（４Ｃ）、（５ａ）、（５
ｂ）、（４ａ）、（４ｂ）・・・・・・・・・・の順で
新しいものに順次交換することにより、最も冬期間使用
され、触媒活性を充分に消耗した触媒から廃棄すること
を得る。
。（１）は乾式排ガス脱硝装置であり、図示されないボ
イラ、内燃機関、態動装置等の持 銘ガス（３）は通常当該乾式排ガス脱硝装置（１）に導
入される前の段階でアンモニア（ＮＩ（３）が添加さ還
元除去された後処理済Ｉトガ・（６）となり出口ダクト
（７）を通り図示されない次の必要な工程を経て大気中
に放出される。図中の触媒層（４ａ）、（４ｂ）、（４
Ｑ）は初装架触媒層であり、該初装架触媒層は当該乾式
排ガス脱硝装置（］）運転開始時から使用され、漸時そ
の触媒性能が劣化するが、所定の所要性能下限まで劣化
する唸でに、一定の期間の運転が可能であるような層数
をもって設置される。触媒の全体としての劣化度は、追
酸化物（ＮＯＸ）濃度を検知することにより、その比か
ら脱硝率をもとめ、これを触媒性能の指標とし、脱硝率
の低下をもって触媒の全体としての劣化度を検知するこ
とができ、例えば脱硝率８０％を所要能力の下限とし、
同下限まで触媒性能が劣化したときに触媒の補充ないし
交換をするように定めることができる。上記初装架触媒
層（４ａ）、（４ｂ）、〔４Ｃ）の全体としての性能が
所要性能下限まで劣化した段階では予備触媒い、全体と
しての触媒性能が劣化すれば、予備（５ｂ）に通過させ
処理する。以上のように予備触媒層（５ａ）、（５ｂ）
を全て補充した後は、全体としての触媒性能が所要下限
となる度に最も使用ｊｔｌ１間の長い触媒層のうちから
所定数、例えば触媒層（４ａ）を新しい触媒に交換し、
触媒性能の煤層を（４ｂ）、（４Ｃ）、（５ａ）、（５
ｂ）、（４ａ）、（４ｂ）・・・・・・・・・・の順で
新しいものに順次交換することにより、最も冬期間使用
され、触媒活性を充分に消耗した触媒から廃棄すること
を得る。
以上の本実施例における触媒の補充交換方法によれば、
触媒性能がその所要性能下限まで劣化した場合、所定数
の触媒層の補充又は交換で回復でき、触媒層は長期間に
わたり使用されるだめ触媒活性！−ヲより有効に消耗し
た後廃棄されることになるから、該乾式排ガス脱硝装置
（１）の運転上累計的には触媒消費量の多大な低減をは
かれるものであり、ひいては当該乾式排ガス脱硝装置（
１）の経済的な運転を可能とするものである。
触媒性能がその所要性能下限まで劣化した場合、所定数
の触媒層の補充又は交換で回復でき、触媒層は長期間に
わたり使用されるだめ触媒活性！−ヲより有効に消耗し
た後廃棄されることになるから、該乾式排ガス脱硝装置
（１）の運転上累計的には触媒消費量の多大な低減をは
かれるものであり、ひいては当該乾式排ガス脱硝装置（
１）の経済的な運転を可能とするものである。
第１図は本発明による方法の実施例を説明するだめの乾
式排ガス脱硝装置の縦断側面図である０
式排ガス脱硝装置の縦断側面図である０
Claims (1)
- 排ガスを複数の触媒層に順次通過させ同排ガス中の不純
物を化学反応により除去する排ガス処理装置において、
一定数にとどめた初装架触媒層の劣化度を検知して所定
数の予備触媒層を補充し、全体の劣化度に応じて新たな
予備触媒層の補充を必要回数重ね、触媒層が所定数に達
した後は、全体の劣化度に応じて古い触媒層から順次新
しいものに交換する、排ガス処理装置の触媒補充交換方
法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57133396A JPS5922632A (ja) | 1982-07-30 | 1982-07-30 | 排ガス処理装置の触媒補充交換方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57133396A JPS5922632A (ja) | 1982-07-30 | 1982-07-30 | 排ガス処理装置の触媒補充交換方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5922632A true JPS5922632A (ja) | 1984-02-04 |
Family
ID=15103766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57133396A Pending JPS5922632A (ja) | 1982-07-30 | 1982-07-30 | 排ガス処理装置の触媒補充交換方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5922632A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS642799A (en) * | 1987-03-16 | 1989-01-06 | Tokai Rika Co Ltd | Soldering flux for electronic equipment |
| JPH01233090A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-09-18 | Mitsubishi Electric Corp | はんだ付方法 |
| JP2014094355A (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス脱硝システム、排ガス脱硝装置の再生方法及び排ガス脱硝装置の触媒交換方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4849665A (ja) * | 1971-10-25 | 1973-07-13 | ||
| JPS51134384A (en) * | 1975-05-16 | 1976-11-20 | Hitachi Zosen Corp | Catalytic reactor |
-
1982
- 1982-07-30 JP JP57133396A patent/JPS5922632A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4849665A (ja) * | 1971-10-25 | 1973-07-13 | ||
| JPS51134384A (en) * | 1975-05-16 | 1976-11-20 | Hitachi Zosen Corp | Catalytic reactor |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS642799A (en) * | 1987-03-16 | 1989-01-06 | Tokai Rika Co Ltd | Soldering flux for electronic equipment |
| JPH01233090A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-09-18 | Mitsubishi Electric Corp | はんだ付方法 |
| JPH0829430B2 (ja) * | 1987-11-27 | 1996-03-27 | 三菱電機株式会社 | はんだ付方法 |
| JP2014094355A (ja) * | 2012-11-09 | 2014-05-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排ガス脱硝システム、排ガス脱硝装置の再生方法及び排ガス脱硝装置の触媒交換方法 |
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