JPS59225308A - 微小間隔測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、物体間の微小間隙測定方法および装置に係り
、特に磁気ディスクヘッドの浮上量の測定や、半導体作
製プロセスにおける膜厚の測定等、微小間隙を高速度か
つ高精度で行うために好適な微小間隙測定方法および装
置に関する０ 〔発明の背景〕 磁気ディスクヘッドの浮上量や、半導体作製プロセスに
おける膜厚等の測定技術として、従来スペクトル幅の狭
い波長の光を照射し、得られる干渉縞の強度パターン分
布の山や谷を求め次に波長を変化させ、同様の測定を繰
り返して行い、間隙の絶対測定を行っていた。

しかしながら、前記従来技術には、次のような欠点があ
る。

（１）波長を変化させるのに時間を要する。

（リ　干渉縞強度パターンの山や谷の検出に時間を要す
る。

■　真に測定したい間隙量は、前記干渉縞強度の山や谷
から外挿する必要があるため、正確な測定ができない。

これらの点につき、図面に沿ってさらに詳しく説明する
。

第１図、第２図（ａ）　、　（ｂ）　、　（ｃ）および
（ｄ）は、微小間隙測定の従来技術を示すもので、磁気
ディスクヘッドの浮上量の測定に適用した場合を示す。

その第１図に示すように、スペクトル幅の狭い照射光１
３は、ビームスプリッタ１４により微小間隙Ｇの形成面
に照射される。磁気ディスクヘッドの磁気ヘッド１１と
ガラスディスク１２で反射した光は、干渉光となり、レ
ンズ１６を通り、撮像装置１７に入射する。この撮像装
置１７には、干渉縞が形成されるので、第２図（ａ）に
示すように磁気ヘッド１１上の浮上面にＸ座標を取ると
、ア軸に沿って干渉強度は第２図（ｂ）、（ｃ）のよう
に変化する。すなわち、第２図（ｂ）は波長λがλ、の
場合の干渉強度であり、波長λをλ１からλ２に変える
と干渉強度は第２図（ｅ）のように変わる。それぞれに
ついて、干渉強度が最大および最小となる位Ｉｔヲ求め
れば、第２図（ｃ）に示すように微小間隙Ｇが求まる。

なお、第１図、第２図（ａ）中１０１　、１０２は被測
定部、第２図（ｂ）、（ｅ）中ＩＩ、Ｉ２は反射光の干
渉強度を示す。

しかし、この従来技術では第２図（ｂ）の・印、および
第２図（ｃ）のＸ印のみが測定され、実際に測定したい
被測定部１０１は第２図（ｂ）　、　（ｃ）から得られ
る第２図（ｄ）の間隙データを外挿するほかはない。と
ころが、この外挿値は磁気ヘッド１１の面形状が正確に
分かつていない限り、正確に求まらないという欠点があ
り、葦だ高速度で測定できない欠点もある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、前記従来技術の欠点をなくし、微小間
隙を高速度で、しかも高精度に測定し得る微小間隙測定
方法を提供するところにあり、他の目的は、前記方法を
適確に実施し得る微小間隙測定装置を提供することにあ
る。

〔発明の概要〕 本発明方法は、多波長可干渉性光源から出射された多波
長光全微小スポットに集束し、この微小スポットを、微
小間隙を有する物体間の被測定部に照射し、微小間隙を
形成している２面からのそれぞれの反射光により生ずる
干渉強度全容波長成分ごとに分離して検出するようにし
たことにより、微小間隙を高精度で測定することができ
たものである。また、本発明方法は微小間隙を形成して
いる２面からのそれぞれの反射光により生ずる干渉強度
を各波長ごとに分離してほぼ同時に検出し、その検出結
果から微小間隙量を計算するようにしたことにより、微
小間隙を高速度で測定することができたものである０ そして、本発明装置は多波長可干渉性光源とこの多波長
可干渉性光源から出射された多波長光を微小スポットに
集束させるスポット形成手段と、このスポット形成手段
で形成された微小スポットを、微小濶隙を有する物体間
の被測定部に照射させるスポット照射手段と、微小間隙
を形成している２面からの反射光により生ずる干渉光を
各波長成分ごとに分離する波長分離手段と、各波長ごと
の干渉強度成分をほぼ同時に検出する干渉強度検出手段
と、この干渉強度検出手段の検出結果から微小間隙量を
計算する演算実行手段との協働により、前記方法を適確
に実施することができたものである。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施１例を図面に基づいて説明する。

第６図および第４図は、本発明方法を実施する装置の第
１の実施例を示す。

これらの図に示す実施例のものは、多波長可干渉性光源
１８、スポット形成手段１９、スポット照射手段１９、
スポット照射手段としてのビームスプリンタ２１、ミラ
ー２５、波長選択ビームスプリッタ２６〜２８、干渉フ
ィルタ２９〜６２、レンズ３３〜３６、スリット６７〜
４０、干渉強度検出手段としての光強度検出器４１〜４
４、演算実行手段としての計算回路４５とを備えて構成
されている。

この第１の実施例においては、磁気ヘッド１１とガラス
ディスク１２とを備える磁気ディスクヘッドの浮上量と
しての、前記磁気ヘッド１１の表面とガラスディスク１
２の裏面間の微小間隙について、１個所の被測定部１０
１全測定するようになっている。

前記多波長可干渉性光源１８は、多数の波長成分を有す
る可干渉光を同時に出射させるように外っている。

前記スポット形成手段１９は、多波長可干渉性光源１８
から出射された多波長光を微小スポット２０に集束する
ようになっている。

前記ビームスプリンタ２１は、多波長の微小スポット２
０を、−微小間隙を有する物体としての磁気ヘッド１１
とガラスディスク１２間の被測定部１（］１に照射させ
るようになっている。）前記ミラー２５は、磁気ヘッド
１１の表面と、ガラスディスク１２の裏面と表面からの
反射光２２゜’）３．２４を波長選択ビームスプリッタ
２６〜２８に反射させるようになっている。

前記波長選択ビームスプリッタ２６〜２８と、干渉フィ
ルタ２９〜ろ２と、レンズ６３〜６６ト、スリット６７
〜４０とは、微小間隙を形成している２面から反射した
干渉光を各波長成分に分離する波長分離手段を構成して
いる。前記波長選択ビームスプリッタ２６〜２８は微小
間隙を形成している２面であする磁気ヘッド１１の表面
とガラスディスク１２の裏面からの反射光２２．２３の
干渉光を各波長成分ことに分離するようになっている。

前記干渉フィルタ２９〜６２は、分剤、された６元から
純粋の各波長成分のみ取り出すようになっている。

前記レンズ３３〜５６は、各波長ごとの光合集束するよ
うになっている。前記スリット６７〜４０は、磁気ヘッ
ド１１の表面とノブラスディヌク１２の裏面から反射し
た光の干渉光のみを選択的に取り出し、ガラステイス２
１２０表面からの反射光を遮断し得るように配置ｉｉさ
れている。

前記光強１夏検出器４１〜４４は、各波長成分の光から
干渉強度を（・グぼ同時に検出するようになっている。

前記計算回路４５は、光強度検出器４１〜４４の検出結
果としての干渉強度信号に基づいて微小間隙を計算する
ようになっている。

次に、前記第１の実施例の微小間隙測定装置の作用に関
連して本発明方法の実施態様を説明する。

多波長可干渉性光源１８から出射された多数の波長成分
を有する光は、微小スポット形成手段１９により数十〜
数百ミクロン径の微小スポット２０に集束され、この微
小スポット２０はビームスプリンタ２１を介して磁気ヘ
ッド１１とガラスディスク１２間の被測定部１０１に照
射される。

前記磁気ヘッド１１の表面とガラスディスク１２の裏面
間の間隙は、０２〜２μｍ程度の微小間隙であるため、
磁気ヘッド１１からの反射光２２と、ガラスディスク１
２の裏面からの反射光２６は同一光路を進み、干渉が生
ずる。そして、被測定部１０１への入射光は、ガラスデ
ィスク１２に対して数十〜中度程度の入射角を有してい
るため、ガラスディスク１２の表面からの反射光２４は
第４図に拡大して示すように、前記反射光２２．２３と
は別の光路を通る。

前記磁気ヘッド１１の表面からの反射光２２とガラスデ
ィスク１２の裏面からの反射光２３との干渉光と、ガラ
スディスク１２０表面からの反射光２４は、ミラー２５
により波長選択ビームスプリッタ２６〜２８に向かって
反射され、波長選択ビームスプリッタ２６〜２８で多波
長可干渉光の各波長成分ごとに分離され、この分離され
た各党から干渉フィルタ２９〜３２によりさらに純粋の
各波長成分のみが取り出され、各波長成分の光はレンズ
６６〜６６により集束され、スリット３７〜４０により
磁気ヘッド１１の表面とガラスディスク１２の裏面から
反射した光の干渉光のみが取他出され、ガラスディスク
１２の表面からの反射光は遮断される。

各スリン）３７−４０を透過した光は、光強度検出器４
１〜４４に送られ、干渉強度が検出され、その検出結果
としての干渉強度信号は計算回路４５に送られる。

前記計算回路４５には、あらかじめ各波長強度に対する
間隙候補値が計算されており、この計算値から非常に短
時間のうちに微小間隙量を計算する。

これにより、磁気ディスクヘッドの浮上量としての、磁
気ヘッド１１０表面とガラスディスク１２の裏面間の微
小間隙について、被測定部１０１の微小間隙を高速度で
、しかも高精度で測定することができる。

次に、第５図は本発明方法を実施する装置の第２の実施
例を示す。

この図に示す実施例のものは、多波長可干渉性光源とし
ての多波長同時発信レーザ４６、ビーム拡大光学系４７
、微小スポット形成手段としての集光レンズ４８、マル
チビーム発生器５０、レンズ５３．５４、スポット照射
手段としてのビームスグリツタ５５、レンズ５８．ミラ
ー５９、波長選択ビームスプリッタ６０〜６２、レンズ
６６〜６６、干渉フィルタ６７〜７０、スリット７１〜
７４、干渉強度検出手段としての光強度検出器７５〜７
８、演算実行手段としての割算回路７９とを備えている
。

そして、この第２の実施例においては、磁気ヘッド１１
とガラスディスク１２とを有する磁気ディスクヘッドの
浮上量としての、前記磁気ヘッド１１の表面とカラスデ
ィスク１２の裏面間の微小間隙について、２個所の被測
定部１０１　、１０２を測定すべく構成されている。

また、ガラスディスク１２０表面には、反射防止コーテ
ィングが施されており、ガラスディスク１２０表面から
の正反射光による影響を除去している。

前記多波長同時発揚レーザ４６は、多波長レーザビーム
を同時に発振し得るようになっている。

前記ビーム拡大光学系４７は、多波長レーザビームを設
定径に拡大するようになっている。

前記集光レンズ４８は、前記多波長レーザビームを微小
スポット４９に集束するようになっている０ 前記マルチビーム発生器５０は、プリズム等を有してお
り、微小スポット４９を被測定部の数に相当する本数の
ビーム、すなわちこの第２の実施例では２本のビーム５
１．５２に分割し得るように構成されている。

前記レンズ５６は各ビーム金それぞれ平行なマルチビー
ムに形成し、他のレンズ５４は各ビームを互いに平行に
なし得るようになっている。

前記ビームスプリッタ５５は、各ビームを被測定部１０
１　、１０２に反射させ、集光させ得るように配置され
ている。

前記レンズ５８は被測定部１０１　、１０２から反射し
た光の干渉光５６．５７をそれぞれ平行に形成してミラ
ー、５９に送り、ミラー５９は各干渉光を波長選択ビー
ムスプリッタ６０〜６２に反射させるようになっている
。

前記波長選択ビームスプリッタ６０〜６２と、レンズ６
３〜６６と、干渉フィルタ６７〜７０と、スリット７１
〜７４とにより、微小間隙を形成している２面から反射
した光の干渉光を各波長成分に分離する波長分離手段を
構成している。その波長選択ビームスプリッタ６０〜６
２は、各干渉光を各波長成分ごとに分離するようになっ
ている。前記レンズ６３〜６６は、各波長成分ごとに分
離された光をスリット７１〜７４の開口上に集光させる
ように配置されている。前記干渉フィルクロア〜７０は
各波長成分ごとに分離された光から純粋な波長成分のみ
を取り出すようになっている。前記スリット７１〜７４
は、干渉フィルタ６７〜７０から取り出された各波長成
分の光を光強度検出器７５〜７日に透過させるように設
置されている。

前記光強度検出器７５〜７８は、被測定部１０１゜１０
２に対応させてそれぞれ検出素子７５１　、７５２の組
、７６１　、７６２の組、７７１　、７７２の組、７８
１７８２の組を有し、被測定部１０１　、１０２の反射
光の各波長成分ごとの干渉強度をほぼ同時に検出し得る
ように構成されている。

前記計算回路７９は、検出素子７５１　、　７５２の組
’　７６１　、７６２の組、７７１　、７７２の組、７
８１　、７８２の組から送り込まれる検出結果としての
干渉強度信号に基づいて、被測定部１０１　、　１０２
の微小間隙量を計算するようになっている。

ついで、この第２の実施例の微小間隙測定装置の作用に
関連して本発明方法の実施態様を説明する。

多波長同時発振レーザ４６から発振された多波長レーザ
ビームは、ビーム拡大光学系４７により設定幅のビーム
に拡大され、ついで集光レンズ４已により微小スポット
４９に集束される。

前記集光レンズ４Ｂによυ集束された微小スポット４日
は、マルチビーム発生器５０により、この実−節制では
被測定部１０１　、　１０２に対応して２本のビーム５
１．５２に分割され、各ビーム５１．５２はレンズ５３
によりそれぞれ平行かビームに形成され、ついで２木の
ビームはレンズ５４により互いに平行に形成され、ビー
ノ・スプリッタ５５に送られる。

前記２本のビームは、ビームスプリッタ５５により反射
され、被測定部１０１　、　１０２に集光され照射され
る○ 各被測定部１０１　、１０２で各ビームが反射された光
の干渉光５６．５７は、ビームスプリッタ５５およびレ
ンズ５Ｂを透過し、ミラー５９で反射され、波長選択ビ
ームスプリッタ６０〜６２により各波長成分ごとに分離
され、ついでレンズ６６〜６６によりスリット７１〜７
４の開口上に集光され、その間干渉フィルタ６７〜７０
により純粋の各波長成分のみが取り出され、スリット７
１〜７４を透過する。

各スリット７１〜７４を透過した光は、被測定部１０１
　、１０２ごとの干渉強度を検出する光強度検出器７５
−・・−７８の検出素子７５１　、　’７５２の組、７
６１゜７６２の組、７７１　、７７２の組および７８１
　、７８２の組に導かれ、これら８個の検出素子により
ほぼ同時に干渉強展が検出され、その干渉強度信号は割
算回路７９に送り込１れる。

前記計算回路７９には、あらかじめ各波長強度に対する
間隙候補値が計算されていて、この計算値から極めて短
時間のうちに微小間隙量が求才る。

この第２の実施例では、複数個所の被測定部を同時に、
高速度でかつ高精度に測定することができる４、 なお、この第２の実施例では前述のごとくガラスディス
ク１２の表面に反射防止コーティングが施されており、
ガラスディスク１２０表面からの正反射光による影響全
除去するようにｌ〜ているが、前記第１の実施例のよう
に、ガラスディスク１２への入射角を軟度にし、スリッ
トにより一ガラスディスク１２の表面からの反射光を除
去するようにしてもよい。

また、第１．第２の実施例とも、干渉強度検出手段とし
ての光強度検出器を、時間的間隔をおいて次々に検出し
得るように構成し、演算実行手段としての計算回路で刻
々の検査結果から微小間隙量を割算し得るようにすれば
、微小間隙の動的変化全測定することが可能である。

さらに、非常に高速の変化を測定する場合には、計算回
路のメモリに一旦データを蓄積し、データ採取後、計算
を行ってもよい。

ｔた、本発明ではスポット位置変化手段を設け、任意の
ｊｌｌｌｌ定個所を選択的に測定するようにしてもよい
。

なお、第１．第２の実施例とも、図示の磁気ディスクヘ
ッドの浮上量の測定のみならず、半導体作製プロセスに
おける膜厚測定等、微小間陀測定一般に適用することが
できる。

本発明における前記策１．第２の実施例によれば、従来
技術との対比において、次のような効果がある。

（１）多波長可干渉性光源からの出射光を被測定部にの
み集光するため、微小間隙を有する物体の全体をカバー
するように大きなビーム径で照射する場合に比べ、検出
信号が非常に大きくなる。

例えば、磁気ディスクヘッドの浮上量を測定する場合、
磁気ヘッドとガラスディスク面の間隙は０．２〜２μｍ
程度あり、しかも傾いているため場所により間隙が異な
る。したがって、正確な測定を行うには５０μｍ程度の
領域の間隙を測定する必要がある。いま、磁気ヘッドの
概略寸法を４間口とすると、磁気ヘッド全体を照射する
場合と、５０μｍφの領域を集中照射する場合では、被
測定部からの反射光強度の比は１３０００となる。微小
間隙を形成している物体の反射率、光学系のロスを考慮
すると、光源からの各波長の出射光量の０．５　％　桿
度が受光される。各波長の光量を例えば１０ｍｗとする
と、本発明での受光強度は５０μＷと大きくなる。一方
、従来技術における全体一様照射法では４ｎＷとなり、
このような微弱光量でＳＮ比をよくして検出することは
非常に困難である。これに対して本発明においては干渉
強度の絶対測定ｆｔ１００以上のＳＮ比で測定すること
ができる効果がある。

（２）　　前述のように、従来技術では干渉縞の最暗部
または最明部の位置を求め、この位置での間隙量から被
測定部の間隙を外挿して求めるようにしているので、微
小間隙を有する物体の面形状が分かつていないと、正確
に間隙量を求めることができない。これに対して、本発
明では被測定部を直接測定するため、精度は０００５μ
ｍ以下と非常に正確になる。

（３）本発明では少数個所の干渉強度データを求めるよ
うにしているので、各測定データは同時に求めることが
可能であり、検出時点での正確な微小間隙量を求めるこ
とができる。これに比べ、従来の干渉画像を取り出す方
法では、画像の情報を取り出すのに数十ｍｓを要するだ
め、瞬間での情報が得られず、時間平均的な値となる。

したがって、動的な間隙変化を測定しようとすると、動
的変化の測定周期を短くすることは非常に困難となるば
かりで々く、短時間に計算できないため、非常に多数の
データを一旦保存し、これを長時間かけて処理する必要
がある。これに対して、本発明では少数のデータを並列
処理でき、短時間のうちにデータ処理できるため、微小
間隙の高速の変化を正確に測定することが可能となる。

〔発明の効果〕

以上説明した本発明方法によれば、多波長可干渉性光源
から出射された多波長光を微小スポットに集束し、この
微小スポットを、微小間隙を有する物体間の被測定部に
照射し、微小間隙を測定するようにしているので、微小
間隙を形成してい、ｌる物体の全体をカバーするような
太きなビーム径で照射する従来技術に比べ、非常に大き
な検出信号が得られる結果、微小間隙量：を高精度で測
定し得る効果がある。

さらに、本発明方法によれば、微小間隙を形成している
２面からの、微小スポットの反射光により生ずる干渉光
の干渉強度を各波長成分ごとに分離してほぼ同時に検出
し、この検出結果から微小間隙量を計算するようにして
いるので微小間隙を高速度で測定し得る効果があり、検
出時点のデータを短時間で処理できるので、高速で変化
する微小間隙をも正確に測定できる派生的効果もある。

また、本発明装置によれば、多波長可干渉性光源と、こ
の多波長可干渉性光源から出射された多波長光を微小ス
ポットに集束させるスポット形成手段と、このスポット
形成手段で形成された微小スポットを、微小間隙を有す
る物体間の被測定部に照射させるスポット照射手段と、
微小間隙を形成している２面からの反射光により生ずる
干渉光を各波長成分ごとに分離する波長分離手段と、各
波長ごとの干渉強度成分をほぼ同時に検出する干渉強度
検出手段と、この干渉強度検出手段の検出結果から微小
間隙量を計算する演算実行手段との協働により、本発明
方法を適確に実施できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図（ａ、）　、　（ｂ）　、　（ｃ）およ
び（ａ）は微小間隙の従来の測定方法を示す図、第６図
は本発明方法を実施する装置の一実施例を示すブロック
図、第４図は第３図の被測定部の反射光の光路を示す拡
大図、第５図は本発明方法を実施する装置の第２の実施
例を示すブロック図である。 １１・・・測定すべき微小間隙を有する物体としての磁
気ヘッド　１２・・・同ガラスディスク　１０１１０２
・・・被測定部　１８・・・多波長可干渉性光源１９・
・・スポット形成手段　２０・・・微小スポット２１・
・・スポット照射手段としてのビームスプリッタ　２２
−２３・・・反射光　２６〜２８・・・波長分離手段を
構成する波長選択ビームスプリッタ２９〜ろ２・・・同
干渉フィルタ　３３〜６６・・・同レンズ３７〜４０・
・・同スリット４１〜４４・・・干渉強度検出手段とし
ての光強度検出器　４５・・・演算実行手段としての計
算回路　４６・・・多波長可干渉性光源としての多波長
同時′発振レーザー　４７・・・ビーム拡大光学系　４
８・・・スポット形成手段としての集光レンズ　４９・
・・微小スポット５０・・・複数個の微小スポットを形
成する手段としてのマルチビーム発生器　５１．５２・
・・微小スポットとしてのビーム　５３．５４・・・複
数個の微小スポットを導くレンズ　５５・・・スポット
照射手段としてのビームスプリッタ　５６．５７・・・
被測定部の反射光　６０〜６２・・・波長分離手段を構
成する波長選択ビームスプリッタ　６３〜６６・・同レ
ンズ６７〜７０・・・同干渉フィルタ　７１〜７４・・
・同スリット７５〜７８・・・干渉強度検出手段として
の光強度検出器　７９・・・演算実行手段としての計算
回路。 １　（図 １ｏ／　　　ＩＩ　　　　＋す１ 篤　２　口

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　多波長可干渉性光源から出射された多波長光を微
   小スポットに集束し、この微小スポットを、微小間隙を
   有−する物体間の被測定部に照射し、微小間隙を形成し
   ている２面からのそれぞれの反射光により生ずる干渉強
   度を各波長成分ごとに分離してほぼ同時に検出し、この
   検出結果から微小間隙量を計算することを特徴とする微
   小間隙測定方法。 ２　前記多波長可干渉性光源からの出射光を複数個の微
   小スポットに集束し、この複数個の微小スポットを、微
   小間隙を有する物体間の複数の被測定部に同時に照射し
   、各微小スポットごとに干渉強度を分離して検出し、複
   数の被測定部の微小間隙、を同時に計算することを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の微小間隙測定方法。 ろ、　前記微小間隙を形成している２面からのそれぞれ
   の反射光により生ずる干渉強度を、時間的間隔をおいて
   次々に検出し、刻々の検査結果から微小間隙量を計算し
   、微小間隙の動的変化を測定することを特徴とする微小
   間隙測定方法。 ４　多波長可干渉性光源と、この多波長可干渉性光源か
   ら出射された多波長光を微小スポットに集束させるスポ
   ット形成手段と、このスポット形成手段で形成された微
   小スポラトラ微小間隙を有する物体間の被測定部に照射
   させるスポット照射手段と、微小間隙を形成している２
   面からの反射光により生ずる干渉光を各波長成分ごとに
   分離する波長分離手段と、各波長ごとの干渉強度成分を
   ほぼ同時に検出する干渉強度検出手段と、この干渉強度
   検出手段の検出結果から微小間隙量を計算する演算実行
   手段とを備えていることを特徴とする微小間隙測定装置
   ｉｔ　。 ５、　前記スポット形成手段は多波長可干渉性光源から
   の出射光を複数個の微小スポットに分割する手段を含み
   、前記スノボット照射手段は複数個の微小スポットを複
   数の被測定部に同時に照射し、前記波長分離手段は各微
   小スポットごとの反射光によって生ずる干渉光を各波長
   成分ごとに分離し、前記干渉強度検出手段は各微小スポ
   ットごとに得られる干渉強度を分離しかつ各波長ごとの
   干渉強度成分をほぼ同時に検出するように構成されてい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の微小間
   隙測定装置。 ６、　前記干渉強度検出手段は時間的間隔をおいて次々
   に検出し、前記演算実行手段は刻々の検査結果から微小
   間隙旨１を計算し、微小間隙の動的変化を測定するよう
   に構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第４
   項記載の微小間隙測定装置。