JPS5921638A - 不飽和化合物の光重合法 - Google Patents
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
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- G—PHYSICS
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
異な光開始剤を使い、不飽オ11化合物を光重合させる
方法に関する。この光開始剤とは、カルボニル基に対し
α一位に〇一官能基またはN一官能基を持つアリールシ
クロアルケニルケトンおよびアリールオキサシクロアル
ケニルクトンである。現在までの所、これらの化合物は
新規なもので、本発明はこれらの化合物にも関する。
方法に関する。この光開始剤とは、カルボニル基に対し
α一位に〇一官能基またはN一官能基を持つアリールシ
クロアルケニルケトンおよびアリールオキサシクロアル
ケニルクトンである。現在までの所、これらの化合物は
新規なもので、本発明はこれらの化合物にも関する。
更に本発明は光重合性不飽和化合物およびこれらの光開
始剤からなる組成物にも関する。。
始剤からなる組成物にも関する。。
光化学的重合は、工業上、特に薄層を短時間で硬化する
必要がある場合、レリえば塗岑・1被覆の硬化や14」
刷インクの乾燥の場合に非常にm 安であることが知ら
れている3、通常の硬化法に比較して光開始剤存在下の
紫外勝照射は多くの利点を持っている。その内で最も重
要な点は、おそらく光硬化の関連性であろう。この速度
はその大部分を便用する光開始剤で決まり、従来の開始
剤をより優れた効果的な化合物に16き侯えようという
試みは数多くある。このような非常に効果的な光開始剤
には、純粋に芳香族のケトン(ヘンシフエノン類)、ベ
ンゾインおよびベンゾインエーテルまたはベンジルおよ
びベンジルケタールのようなアロイル(Aroyl)化
合物が含まれる。
必要がある場合、レリえば塗岑・1被覆の硬化や14」
刷インクの乾燥の場合に非常にm 安であることが知ら
れている3、通常の硬化法に比較して光開始剤存在下の
紫外勝照射は多くの利点を持っている。その内で最も重
要な点は、おそらく光硬化の関連性であろう。この速度
はその大部分を便用する光開始剤で決まり、従来の開始
剤をより優れた効果的な化合物に16き侯えようという
試みは数多くある。このような非常に効果的な光開始剤
には、純粋に芳香族のケトン(ヘンシフエノン類)、ベ
ンゾインおよびベンゾインエーテルまたはベンジルおよ
びベンジルケタールのようなアロイル(Aroyl)化
合物が含まれる。
水酸基またはアミン基またはこのような基の誘導体の着
いた第三炭素原子をα−位に含む芳香族−1脂肪族ケト
ンも効果が置いこ、とが見い出されている。これらの化
合物の構造上の本質は一般式二 〇 I 1 アリール−C−C−X (式中、 Xは水酸基、OR基、アミン基、N 1−1R基または
N1(2基を表わす)で表わすことができる。
いた第三炭素原子をα−位に含む芳香族−1脂肪族ケト
ンも効果が置いこ、とが見い出されている。これらの化
合物の構造上の本質は一般式二 〇 I 1 アリール−C−C−X (式中、 Xは水酸基、OR基、アミン基、N 1−1R基または
N1(2基を表わす)で表わすことができる。
これらには西ドイツ公開特許第2,722,264号お
よび第2,808,459号明細書およびヨーロツノく
%ffA3002号明aj書に記載されている化合物が
含まれる。ヨーロッパ特許A3002号明II(II曹
には、化合物の脂肪族基はシクロアルカン基であってよ
く、その典型的例は化合物尻4として記載されている1
−ベンゾイルシクロヘキサノールであることも述べられ
ている。不飽和脂環式環を持つ化合物は、これ−まで光
開始剤として記載されたことはない。不飽和化合物を光
開始剤として使用することは、例えば重合反応のラジカ
ル連鎖機構に好ましくない影響を与えるかもしれないと
いうことから、偏見があったことは明白である。事実、
オレフィン性不飽和化合物は光開始剤として工業的重要
性を持つことはなかった。
よび第2,808,459号明細書およびヨーロツノく
%ffA3002号明aj書に記載されている化合物が
含まれる。ヨーロッパ特許A3002号明II(II曹
には、化合物の脂肪族基はシクロアルカン基であってよ
く、その典型的例は化合物尻4として記載されている1
−ベンゾイルシクロヘキサノールであることも述べられ
ている。不飽和脂環式環を持つ化合物は、これ−まで光
開始剤として記載されたことはない。不飽和化合物を光
開始剤として使用することは、例えば重合反応のラジカ
ル連鎖機構に好ましくない影響を与えるかもしれないと
いうことから、偏見があったことは明白である。事実、
オレフィン性不飽和化合物は光開始剤として工業的重要
性を持つことはなかった。
驚くべきことに、環が不飽和であるヘテロ脂環式アロイ
ル化合物、特にアリールシクロアルケニルケトンおよび
アリールオギサシクロアルケニルケトンが、ヨーロッパ
特許A3oo2号で公知の飽オ[1化合物に劣らず、場
合によってはよシ優れた光開始剤として有用であること
を見い出した0 本発明は、光開始剤として 式1.II、■、■または■; (式中、 Arは未t0Iたは1または2個のハロゲン草子、フェ
ニル基、炭素原子数1乃至2のアルキル基、炭素原子数
5乃至8のシクロアルキル基、水酸基、炭素原子数1乃
至4のアルコキシ基、フェノキシ基、スルフヒドリル(
−8’−’>丞、炭素原子数1乃至4のアルキルチオ基
、フェニルチオ基、2−ヒドロキシエチルチオ基、炭素
原子数2乃至5のアルカノイルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基、炭素原子数2乃至12のジアルキルアミン基、
ピロリシフ基、ピペリジノ基、モルフォリノ基、4−メ
チルピペラジ7基−またはベンゾイル基によって置換さ
ねた炭素原子数6乃至12のアリール、チェニル、ピリ
ジル゛またはフリル基を表わし、独立に水素原子、炭素
原子数1乃至8のアルキル基、フェニル裁寸たは炭素原
子数6乃至8のアルケニル基を表わし、 Xは 式ニーN(1山(R勺、式ニー01も8−または−O8
i (lも9)2(1も10) (式中、 比6およびR’はて扛ぞれ独立に水素原子、炭素原子数
1乃主12のアルキル基または水酸基、炭素原子数1乃
主12のアルコキシ基、炭素原才数2乃全5のカルボア
ルコキシ基−またはシアノ基で泗′換をれた炭素原子数
2乃至4ののアルギル、炭素原子数6乃至5のアルケニ
ル、シクロアルギル、炭素J5C子数7乃至9のフェニ
ルアルキル環たはフェニル基金表わずか、または R6およびR・7はいっり、よになって−〇−または式
ニーN(CH3)−で表わされる基によって中断されて
いてもよい炭素原子数6乃全5のアルキレン基を表わし
、 R8は水素原子、炭素原子数1乃至12のアルキル基、
炭素原子数3乃至12のアルコキシアルキル基、炭素原
子数6乃至5のアルケニル基、ベンジル基、フェニル裁
寸たは2〜デトラヒドロビラニル基を表わし、 1t9および+モlo は炭素原−子数1乃至4のアル
ギル基、′またはフェニル基を表わす)でノ〈わされる
基を表わし、 Y[水素原子、シアノ基、カルボキシル基、式ニーC0
c)R。
ル化合物、特にアリールシクロアルケニルケトンおよび
アリールオギサシクロアルケニルケトンが、ヨーロッパ
特許A3oo2号で公知の飽オ[1化合物に劣らず、場
合によってはよシ優れた光開始剤として有用であること
を見い出した0 本発明は、光開始剤として 式1.II、■、■または■; (式中、 Arは未t0Iたは1または2個のハロゲン草子、フェ
ニル基、炭素原子数1乃至2のアルキル基、炭素原子数
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−8’−’>丞、炭素原子数1乃至4のアルキルチオ基
、フェニルチオ基、2−ヒドロキシエチルチオ基、炭素
原子数2乃至5のアルカノイルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基、炭素原子数2乃至12のジアルキルアミン基、
ピロリシフ基、ピペリジノ基、モルフォリノ基、4−メ
チルピペラジ7基−またはベンゾイル基によって置換さ
ねた炭素原子数6乃至12のアリール、チェニル、ピリ
ジル゛またはフリル基を表わし、独立に水素原子、炭素
原子数1乃至8のアルキル基、フェニル裁寸たは炭素原
子数6乃至8のアルケニル基を表わし、 Xは 式ニーN(1山(R勺、式ニー01も8−または−O8
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1乃主12のアルキル基または水酸基、炭素原子数1乃
主12のアルコキシ基、炭素原才数2乃全5のカルボア
ルコキシ基−またはシアノ基で泗′換をれた炭素原子数
2乃至4ののアルギル、炭素原子数6乃至5のアルケニ
ル、シクロアルギル、炭素J5C子数7乃至9のフェニ
ルアルキル環たはフェニル基金表わずか、または R6およびR・7はいっり、よになって−〇−または式
ニーN(CH3)−で表わされる基によって中断されて
いてもよい炭素原子数6乃全5のアルキレン基を表わし
、 R8は水素原子、炭素原子数1乃至12のアルキル基、
炭素原子数3乃至12のアルコキシアルキル基、炭素原
子数6乃至5のアルケニル基、ベンジル基、フェニル裁
寸たは2〜デトラヒドロビラニル基を表わし、 1t9および+モlo は炭素原−子数1乃至4のアル
ギル基、′またはフェニル基を表わす)でノ〈わされる
基を表わし、 Y[水素原子、シアノ基、カルボキシル基、式ニーC0
c)R。
(式中、Rは炭素原子数1乃至12のアルキル基、戻索
原子数2乃至4のヒドロキシエルギル基、炭素原子数6
乃至8のアルコキシアルギル裁寸たはシクロヘキシル基
を表わす)で表わきれる基、 式 : −Co−1も12 (式中、J(12は水素原子または炭素原−子1乃全4
のアルキル基を表わす)で表わされる裁寸たは 式ニーCO−フエ、=ル で表わされる基を戎わ17、 (式中、H,lJ前に7」<シた量体を表わす)で表わ
される基を表わすか、′−!たは Y、!l:Yはいっしょになって−CO−0−CO−基
を衣わし、 Zけ−(月−12−丞、 −CH□C1(2−基、 −
C(CI−I3)2−基、1 −C−基または−0−を衣わ丁−)で表わされる化合物
を1利(またはそれ以上を田?用することを’+!jm
とする、アロイル化合物群に属する光開始剤の任在丁に
不飽オ(1化合物を光重合する方法に関する。
原子数2乃至4のヒドロキシエルギル基、炭素原子数6
乃至8のアルコキシアルギル裁寸たはシクロヘキシル基
を表わす)で表わきれる基、 式 : −Co−1も12 (式中、J(12は水素原子または炭素原−子1乃全4
のアルキル基を表わす)で表わされる裁寸たは 式ニーCO−フエ、=ル で表わされる基を戎わ17、 (式中、H,lJ前に7」<シた量体を表わす)で表わ
される基を表わすか、′−!たは Y、!l:Yはいっしょになって−CO−0−CO−基
を衣わし、 Zけ−(月−12−丞、 −CH□C1(2−基、 −
C(CI−I3)2−基、1 −C−基または−0−を衣わ丁−)で表わされる化合物
を1利(またはそれ以上を田?用することを’+!jm
とする、アロイル化合物群に属する光開始剤の任在丁に
不飽オ(1化合物を光重合する方法に関する。
不飽和アリール基として、Arはフェニル基、ナフチル
基またはビフェニル基を表わしてよい。
基またはビフェニル基を表わしてよい。
置換されたアリール基として、A「はf^゛、換された
フェニル基を表わすことが望ましい。次のものが置換さ
れ/ζアリール基としてのArの例である:4− り(
]]ロンエニル基!−ブロモフェニル基4−ブロモ−1
−ナフチル基、2,4−ジクロロフェニル基、l)
+・リル基、0−トリル基、2.4−キノリル基、a−
第三ブチルフェニル基、4−イソグロビルフェニル基、
4−ノニルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基
、 2,4.6−1− IJメチルフェニル基、2−
工トキンフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−ブ
トキシフェニル基、4−フェノキシフェニルJb、3
’−メチルチオフェニル基、4−(2−ヒドロキシエチ
ルチオ)−フェニル基、4−フェニルチオフェニル基、
4−アセチルアミノフェニル、%、3−ベンゾイルアミ
ノフェニル基、3−ジメチルアミノフェニルM、4−ジ
エチルアミンフェニル基、4−モルフォリノフェニル基
、4−(4−メチルピペラジノ)−フェニル基、6−ベ
ンゾイルフェニル基または4−ベンゾイルフェニル基。
フェニル基を表わすことが望ましい。次のものが置換さ
れ/ζアリール基としてのArの例である:4− り(
]]ロンエニル基!−ブロモフェニル基4−ブロモ−1
−ナフチル基、2,4−ジクロロフェニル基、l)
+・リル基、0−トリル基、2.4−キノリル基、a−
第三ブチルフェニル基、4−イソグロビルフェニル基、
4−ノニルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基
、 2,4.6−1− IJメチルフェニル基、2−
工トキンフェニル基、4−メトキシフェニル基、4−ブ
トキシフェニル基、4−フェノキシフェニルJb、3
’−メチルチオフェニル基、4−(2−ヒドロキシエチ
ルチオ)−フェニル基、4−フェニルチオフェニル基、
4−アセチルアミノフェニル、%、3−ベンゾイルアミ
ノフェニル基、3−ジメチルアミノフェニルM、4−ジ
エチルアミンフェニル基、4−モルフォリノフェニル基
、4−(4−メチルピペラジノ)−フェニル基、6−ベ
ンゾイルフェニル基または4−ベンゾイルフェニル基。
およびル5は例えばメチル基、エチル基、イソプロピル
基、ブチル基、ヘキシル基またはオクチル基を表わして
よい。アルケニル基として、同じ置換基は、例えばアリ
ル基、メタリル基または2−・ブテン−1−イル基であ
ってよい。R1からR5までのものは水素原子−!たは
メチル基金衣わ原子を表わすことが望ましい。
基、ブチル基、ヘキシル基またはオクチル基を表わして
よい。アルケニル基として、同じ置換基は、例えばアリ
ル基、メタリル基または2−・ブテン−1−イル基であ
ってよい。R1からR5までのものは水素原子−!たは
メチル基金衣わ原子を表わすことが望ましい。
式: −N(R’) (1も勺で表わされるアミン基と
して、Xは一級、二級″=!、たは三級アミン基、例え
ばメチルアミン基、ブチルアミノ基、ドデシルアミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジアリルアミノ基、ジ
デシルアミノ基、2−ヒドロキシエチルチオ基、ジー(
2−ヒドロキシエチル)−アミノ基、ジー(2−メトキ
シエチル)−アミノ基、3−エトキシグロビルアミノ基
、2−ブトキシプロピルアミノ基、3−ドデシルオキシ
プロピルアミノ基、2−シアノエチルアミノ基、ジー(
2−シアンエチル)−アミノ基、アリルアミノ基、ジア
リルアミノ基、メチルアリルアミノ基、シクロヘキシル
ブチルアミノ基、ベンジルアミノ基、2−フェニルエチ
ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ベンジルドデシルア
ミノ基、ベンジルシクロへキシルアミノ基、フェニルメ
チルアミノ基、フェニルベンジルアミノ基、ピロリジノ
基、ピペリジノ基、モルフォリノ基または4−メチルピ
ペラジノ基を表わしてよい。
して、Xは一級、二級″=!、たは三級アミン基、例え
ばメチルアミン基、ブチルアミノ基、ドデシルアミン基
、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジアリルアミノ基、ジ
デシルアミノ基、2−ヒドロキシエチルチオ基、ジー(
2−ヒドロキシエチル)−アミノ基、ジー(2−メトキ
シエチル)−アミノ基、3−エトキシグロビルアミノ基
、2−ブトキシプロピルアミノ基、3−ドデシルオキシ
プロピルアミノ基、2−シアノエチルアミノ基、ジー(
2−シアンエチル)−アミノ基、アリルアミノ基、ジア
リルアミノ基、メチルアリルアミノ基、シクロヘキシル
ブチルアミノ基、ベンジルアミノ基、2−フェニルエチ
ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ベンジルドデシルア
ミノ基、ベンジルシクロへキシルアミノ基、フェニルメ
チルアミノ基、フェニルベンジルアミノ基、ピロリジノ
基、ピペリジノ基、モルフォリノ基または4−メチルピ
ペラジノ基を表わしてよい。
式ニーOR8で表わされる基として、Xは水酸基または
エーテル基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ
基、2−エチルブトキシ基、インデシルオキシ基、n−
ドデシルオキシ基、2−ブトキシエトキシ基、アリルオ
キシ基、メタリルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェノ
キシ基またはテトラヒドロビシニル−2−オキシ基を表
わしてよい。
エーテル基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ
基、2−エチルブトキシ基、インデシルオキシ基、n−
ドデシルオキシ基、2−ブトキシエトキシ基、アリルオ
キシ基、メタリルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェノ
キシ基またはテトラヒドロビシニル−2−オキシ基を表
わしてよい。
式: −O8i (R9)2(几10)で表わされる基
として、Xけ例えば、l−リメチルシロキシ基、トリプ
ロピルオキシ基、トリフェニルシロキシ基、ジメチルフ
ェニルシロキシ基、メチルジフェニルシロキシ基または
ジメチル−第三ブチルゾロキシ基を表わしてよい。
として、Xけ例えば、l−リメチルシロキシ基、トリプ
ロピルオキシ基、トリフェニルシロキシ基、ジメチルフ
ェニルシロキシ基、メチルジフェニルシロキシ基または
ジメチル−第三ブチルゾロキシ基を表わしてよい。
基を表5わす場合、Rはアルキ、ル基、例えばメチル基
、エチル基、イソプロピル基、第三ブチル基、n−ブチ
ル基、n−ヘキシル基、2−エチルブチル基、n−オク
チル基、イソ−オクチル基またはn−ドデシル基を表わ
してよい。
、エチル基、イソプロピル基、第三ブチル基、n−ブチ
ル基、n−ヘキシル基、2−エチルブチル基、n−オク
チル基、イソ−オクチル基またはn−ドデシル基を表わ
してよい。
■もはまたヒドロキシアルキル基またはアルコキシアル
キル基、例えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキ
シプロピル基、6−ヒドロキシブチル基、2−メトキシ
エチル基、2−ブトキシエチル基、2−エトキシグロピ
ル基または2−へキシルオキシエチル基を表わしてよい
。
キル基、例えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキ
シプロピル基、6−ヒドロキシブチル基、2−メトキシ
エチル基、2−ブトキシエチル基、2−エトキシグロピ
ル基または2−へキシルオキシエチル基を表わしてよい
。
式1,11.l11.IVおよび■
(式中、
Arは未置換または塩素原子、炭素原子数1乃至4のア
ルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、炭素原
子数1乃至4のアルキルチオ基、2−ヒドロキシエチル
チオ基、フェノキシ基、フェニルチオ基またはベンゾイ
ル基によってIKt換された炭素原子数6乃至10のア
リール基を表わし− R11,R2,几3.几4およびR5はたがいに独立に
水素原子、フェニル基またはメチル基を表わし、 Xは 式 : −N(I尤6) (上も7)(式中、 R6および1t7はたがいに独立に水素原子、炭素原子
数1乃至4のアルキル基または炭素原子数3乃至5のア
ルケニル基またはふたつの基がいっしょになって−O−
または−N(CI−1,)−で衆わされる基によって中
断されていてもよい炭素原子数3乃至5のアルキレン基
を表わす)で表わされる基、 式: −OR,’ (式中、 It8は水素原子、炭素原子数1乃至12のアルキル基
、炭素原子数3乃至5のアルケニル基、イ ベンジル基または2−テトラヒドロビラニルノんを表わ
す)で表わされる基または 式:08l(R9)3 (式中、R9はメチル基−またはフェニル基を表わす)
で表わされる基を表わし、 Yはシアノ基または 式: −CUOR (式中、1(、は炭素原子数1乃至4のアルキル基を表
わす)で表わされる基を表わし、Yは水素原子または 式: −COOfも (式中、11は前に示し/ζ意味を表わす)で表わされ
る基を表わし、 Zは=CI(2−基、−CH,、Cl−12−基、 C
(CH3)2−基−または−o−6表わす)で表わされ
る光開始剤を使用することが望せしい。
ルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、炭素原
子数1乃至4のアルキルチオ基、2−ヒドロキシエチル
チオ基、フェノキシ基、フェニルチオ基またはベンゾイ
ル基によってIKt換された炭素原子数6乃至10のア
リール基を表わし− R11,R2,几3.几4およびR5はたがいに独立に
水素原子、フェニル基またはメチル基を表わし、 Xは 式 : −N(I尤6) (上も7)(式中、 R6および1t7はたがいに独立に水素原子、炭素原子
数1乃至4のアルキル基または炭素原子数3乃至5のア
ルケニル基またはふたつの基がいっしょになって−O−
または−N(CI−1,)−で衆わされる基によって中
断されていてもよい炭素原子数3乃至5のアルキレン基
を表わす)で表わされる基、 式: −OR,’ (式中、 It8は水素原子、炭素原子数1乃至12のアルキル基
、炭素原子数3乃至5のアルケニル基、イ ベンジル基または2−テトラヒドロビラニルノんを表わ
す)で表わされる基または 式:08l(R9)3 (式中、R9はメチル基−またはフェニル基を表わす)
で表わされる基を表わし、 Yはシアノ基または 式: −CUOR (式中、1(、は炭素原子数1乃至4のアルキル基を表
わす)で表わされる基を表わし、Yは水素原子または 式: −COOfも (式中、11は前に示し/ζ意味を表わす)で表わされ
る基を表わし、 Zは=CI(2−基、−CH,、Cl−12−基、 C
(CH3)2−基−または−o−6表わす)で表わされ
る光開始剤を使用することが望せしい。
特に望ましいのは、
式■、■゛まfC,は■
(式中、
Arはフェニル基−または塩素原子、メチル基、メトキ
シ基、メチルチオ基、フェノキシ基またはベンゾイル基
によって置換されたフェニル基を表わし、 R’ 、 R2,R3,it’およびI(5はたがいに
独立に水素原子またはメチル基を表わし、 Xは 式: −N(R6)(R勺 (式中、R6於よび几7は炭素原子数1乃至4のアルキ
ル基を表わすか、または R6およびIt7はいっしょになって一〇−または式ニ
ー N (CH3)−で表わされる基によって中断され
ていてもよい炭素原子数5乃至5のアルキレン基を表わ
す)で表わをれる基、 式 : −01も8 (式中、Itは水素原子、メチル基、アリル基、または
ベンジル基を表わす)で表わされる裁寸たは 式: −O8i (R9)3 (式中、R9はメチル基を表わす)で表わされる基を表
わし、 Zは−CH2−基、−C1(20R2−基または一〇−
を表わす)で表わされる光開始剤を使用することである
。。
シ基、メチルチオ基、フェノキシ基またはベンゾイル基
によって置換されたフェニル基を表わし、 R’ 、 R2,R3,it’およびI(5はたがいに
独立に水素原子またはメチル基を表わし、 Xは 式: −N(R6)(R勺 (式中、R6於よび几7は炭素原子数1乃至4のアルキ
ル基を表わすか、または R6およびIt7はいっしょになって一〇−または式ニ
ー N (CH3)−で表わされる基によって中断され
ていてもよい炭素原子数5乃至5のアルキレン基を表わ
す)で表わをれる基、 式 : −01も8 (式中、Itは水素原子、メチル基、アリル基、または
ベンジル基を表わす)で表わされる裁寸たは 式: −O8i (R9)3 (式中、R9はメチル基を表わす)で表わされる基を表
わし、 Zは−CH2−基、−C1(20R2−基または一〇−
を表わす)で表わされる光開始剤を使用することである
。。
下6己のものが本発明に従って使用可能な式1で表わさ
れる化合物の例である:1−ベンゾイル−1−シx チ
ルアミノシクロへジス−6−エン、1−ベンゾイル−1
−ヒドロキシ−6−メチルシクロへジス−3−エン、1
−ベンソイル−1−シメfルアミノシクロへジス−6−
エン、1−ペンソイル−1−ヒドロキシ−4−メチルシ
クロへジス−3−エン、1−ベンゾイル−1−ヒドロキ
シ−3−メチルシクロヘクス−6−エン、1−ペンソイ
ル−6゜4−ジメチル−1−ヒドロキシシクロへジス−
6一エン、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシンクロヘク
ス−5−エン、1−(5,4−ジメチルベンゾイル)−
1−ヒドロキシ−2−フェニルシクロへジス−6−エン
、1−(p−トルイル)−1−モルフォリノ−4−メチ
ルシクロヘクス−6−エン、1−(4−7エ二ルチオベ
ンゾイル)−1−シクロヘキシルアミノシクロへジス−
3−エン、1−β−ナフl−イル−1−ヒドロギシ−4
−メチルシクロヘクス−6−エン、1−70イル−1−
h+、+メチルシロキシー4−メチルシクロヘクス−6
−エン、1−(4−プロピオニルアミドベンゾイル)−
1−フェノキシ−4−メチルシクロヘクス−3−エン、
1−(4−ジ)fルアミノベンゾイル)−1−(ジメチ
ル−第三ブチルシロギシ) −6,A−ジメチルシクロ
へジス−6−エン、1−(4−モルフォリノベンソイル
)−1−ベンジルオキシ−2,5−ジメチルシクロへジ
ス−6−エン、1−(4−ベンゾイルベンゾイル)−1
−ヒトロギシー2.5−’/’フェニルシクロヘクス−
6−エン、1−(4−シクロペンチルベンソイル)−1
−(ジアリルアミノ)−4−メチル−6−ニチルシクロ
へジス−6−エン、1−(2,3−ジクロロベンゾイル
)−1−ヒドロキシ−4−ブチルシクロへクスづ一エン
、1−(3,4−ビス(メチルチオ)ベンゾイルクー1
−アニリノシクロへジス−6−エノ ン、1−(+、 4−ジブチルベンゾイル) −1−(
4−メチルピペラジノ)−5,4−ジメチル−6−ニチ
ルソクロヘクスー6−エン、1−(4−ブトキシベンゾ
イル)−1−ジベンジルアミノシクロへジス−3−エン
、1−(3−ジエチルアミノベンゾイル)−1−(、!
l−メチルピペラジノ)−2,6−ジメチルシクロヘク
ス−6−エン、1−(4−シクロヘキシルベンゾイル)
−1−アリルオキシ−5−フロビルシクロヘクス−6−
エン、1−(3−クロロ−4−プロピルベンゾイル)−
1−モルフォリノ−2,5−ジフェニル−6,6−シメ
チルシクロへジス−3−エン、1−[a−(2−ヒドロ
キシエチルチオ)−ヘンソイルクー6−ニチルー1−ヒ
)”oキシ−3,4゜6〜トリメチルシクロヘクス−3
−エン、1−ベンゾイル−6−メチル−1−)リメチル
シロキシシクロへジス−3−エン、1(4−イングロビ
ルペンゾイル)−1−ヒドロキシ−2,3,4,5,6
−ペンタメチルシクロへジス−3−エン、2,6−シメ
チルー1−モルフォリノ−3−フェニル−1−(3−フ
ェノキシベンゾイル)−シクロへジス−3−工7.6−
ニチルー1−(3,4−ジメトキシベンゾイル)−1−
モルフォリノ−3,5,5−)リメチルシクロへジス−
3−エン、1−(3−(2−ヒドロキシエチルチオ)−
4−メトキシペ/グイル〕−モル7オリ/−6,I!l
、6−ドリメチルシクロヘクスー3−エン、6−メチル
−1−(4−メチルチオベンゾイル)−1−モルフォリ
ノシクロへジス−3−エン、6−メチル−1−(4−メ
トキシベンゾイル)−1−モルフォリノシクロへジス−
3−エン、6−エチル−3,4−ジメチル−1−(4−
(2−ヒドロキシエチルチオ)−ベンゾイルクー1−モ
ルフォリノシクロへジス−3−エン、 2.6−”;
メチル−1−(4−イソプロピルチオベンゾイル)−1
−ジ(2−メトキシエチル)アミノシクロヘクス−3−
エン、6,6−シメチルー1−(4−メトキシベンゾイ
ル)−1−モルフォリノシクロへクスづ一エン、1−(
4−ヒドロキシベンゾイル)−4−メチル−1−〔N−
メチル−N−(2−メトキシエチル)−アミノクー6−
フェニルシクロへジス−3−エン、1−(4−エトキシ
ベンゾイル)−6−エチル−6−フ左ニルー1−ピペリ
ジノシクロへジス−6−エンおよび5,6−シメチルー
1−(4−メトキシベンゾイル)−1−モル7オリメシ
クロへジス−6−エン。
れる化合物の例である:1−ベンゾイル−1−シx チ
ルアミノシクロへジス−6−エン、1−ベンゾイル−1
−ヒドロキシ−6−メチルシクロへジス−3−エン、1
−ベンソイル−1−シメfルアミノシクロへジス−6−
エン、1−ペンソイル−1−ヒドロキシ−4−メチルシ
クロへジス−3−エン、1−ベンゾイル−1−ヒドロキ
シ−3−メチルシクロヘクス−6−エン、1−ペンソイ
ル−6゜4−ジメチル−1−ヒドロキシシクロへジス−
6一エン、1−ベンゾイル−1−ヒドロキシンクロヘク
ス−5−エン、1−(5,4−ジメチルベンゾイル)−
1−ヒドロキシ−2−フェニルシクロへジス−6−エン
、1−(p−トルイル)−1−モルフォリノ−4−メチ
ルシクロヘクス−6−エン、1−(4−7エ二ルチオベ
ンゾイル)−1−シクロヘキシルアミノシクロへジス−
3−エン、1−β−ナフl−イル−1−ヒドロギシ−4
−メチルシクロヘクス−6−エン、1−70イル−1−
h+、+メチルシロキシー4−メチルシクロヘクス−6
−エン、1−(4−プロピオニルアミドベンゾイル)−
1−フェノキシ−4−メチルシクロヘクス−3−エン、
1−(4−ジ)fルアミノベンゾイル)−1−(ジメチ
ル−第三ブチルシロギシ) −6,A−ジメチルシクロ
へジス−6−エン、1−(4−モルフォリノベンソイル
)−1−ベンジルオキシ−2,5−ジメチルシクロへジ
ス−6−エン、1−(4−ベンゾイルベンゾイル)−1
−ヒトロギシー2.5−’/’フェニルシクロヘクス−
6−エン、1−(4−シクロペンチルベンソイル)−1
−(ジアリルアミノ)−4−メチル−6−ニチルシクロ
へジス−6−エン、1−(2,3−ジクロロベンゾイル
)−1−ヒドロキシ−4−ブチルシクロへクスづ一エン
、1−(3,4−ビス(メチルチオ)ベンゾイルクー1
−アニリノシクロへジス−6−エノ ン、1−(+、 4−ジブチルベンゾイル) −1−(
4−メチルピペラジノ)−5,4−ジメチル−6−ニチ
ルソクロヘクスー6−エン、1−(4−ブトキシベンゾ
イル)−1−ジベンジルアミノシクロへジス−3−エン
、1−(3−ジエチルアミノベンゾイル)−1−(、!
l−メチルピペラジノ)−2,6−ジメチルシクロヘク
ス−6−エン、1−(4−シクロヘキシルベンゾイル)
−1−アリルオキシ−5−フロビルシクロヘクス−6−
エン、1−(3−クロロ−4−プロピルベンゾイル)−
1−モルフォリノ−2,5−ジフェニル−6,6−シメ
チルシクロへジス−3−エン、1−[a−(2−ヒドロ
キシエチルチオ)−ヘンソイルクー6−ニチルー1−ヒ
)”oキシ−3,4゜6〜トリメチルシクロヘクス−3
−エン、1−ベンゾイル−6−メチル−1−)リメチル
シロキシシクロへジス−3−エン、1(4−イングロビ
ルペンゾイル)−1−ヒドロキシ−2,3,4,5,6
−ペンタメチルシクロへジス−3−エン、2,6−シメ
チルー1−モルフォリノ−3−フェニル−1−(3−フ
ェノキシベンゾイル)−シクロへジス−3−工7.6−
ニチルー1−(3,4−ジメトキシベンゾイル)−1−
モルフォリノ−3,5,5−)リメチルシクロへジス−
3−エン、1−(3−(2−ヒドロキシエチルチオ)−
4−メトキシペ/グイル〕−モル7オリ/−6,I!l
、6−ドリメチルシクロヘクスー3−エン、6−メチル
−1−(4−メチルチオベンゾイル)−1−モルフォリ
ノシクロへジス−3−エン、6−メチル−1−(4−メ
トキシベンゾイル)−1−モルフォリノシクロへジス−
3−エン、6−エチル−3,4−ジメチル−1−(4−
(2−ヒドロキシエチルチオ)−ベンゾイルクー1−モ
ルフォリノシクロへジス−3−エン、 2.6−”;
メチル−1−(4−イソプロピルチオベンゾイル)−1
−ジ(2−メトキシエチル)アミノシクロヘクス−3−
エン、6,6−シメチルー1−(4−メトキシベンゾイ
ル)−1−モルフォリノシクロへクスづ一エン、1−(
4−ヒドロキシベンゾイル)−4−メチル−1−〔N−
メチル−N−(2−メトキシエチル)−アミノクー6−
フェニルシクロへジス−3−エン、1−(4−エトキシ
ベンゾイル)−6−エチル−6−フ左ニルー1−ピペリ
ジノシクロへジス−6−エンおよび5,6−シメチルー
1−(4−メトキシベンゾイル)−1−モル7オリメシ
クロへジス−6−エン。
下記のものが式■で表わされる化合物の例である=1−
ベンゾイルヒドロキシシクロへジス−2−エン、1−ヒ
ドロキシ−3−メチル−1−(4−トルイル)−シクロ
ヘクス−2−エン、1−(4−クロロベンゾイル)−3
,5,5−4リメチル−1−トリメチルシロキシシクロ
ヘクス−2−x7,1−ヒドロキシ−1−(3−ピリジ
ルカルボニル)−シクロヘクスー2−エン、6−メチル
−1−(2−テトラヒドロピラニル)−オキシ−1−テ
ノイルシクロへジス−2−エン、1−(4−1”デシル
ベンゾイル)−6−メチル−1−(フェニルジメチルシ
ロキシ)−シクロヘクス−2−エン、1−(4−第三ブ
チルチオベンゾイル)−1−ヒドロキシ−3゜5.5−
)!Jメチルシクロヘクスー2−エン、1−(2,4−
ジクロロベンゾイル)−1−ジメチルアミノ−6−イソ
プロビルシクロヘクス−2−エン、1−(4−メトキシ
ベンゾイル)−1−モルフォリノシクロへジス−2−エ
ンおよび4−第三プチル−1−(4−メチルチオベンゾ
イル)−1−モルフォリノシクロへジス−2−エン。
ベンゾイルヒドロキシシクロへジス−2−エン、1−ヒ
ドロキシ−3−メチル−1−(4−トルイル)−シクロ
ヘクス−2−エン、1−(4−クロロベンゾイル)−3
,5,5−4リメチル−1−トリメチルシロキシシクロ
ヘクス−2−x7,1−ヒドロキシ−1−(3−ピリジ
ルカルボニル)−シクロヘクスー2−エン、6−メチル
−1−(2−テトラヒドロピラニル)−オキシ−1−テ
ノイルシクロへジス−2−エン、1−(4−1”デシル
ベンゾイル)−6−メチル−1−(フェニルジメチルシ
ロキシ)−シクロヘクス−2−エン、1−(4−第三ブ
チルチオベンゾイル)−1−ヒドロキシ−3゜5.5−
)!Jメチルシクロヘクスー2−エン、1−(2,4−
ジクロロベンゾイル)−1−ジメチルアミノ−6−イソ
プロビルシクロヘクス−2−エン、1−(4−メトキシ
ベンゾイル)−1−モルフォリノシクロへジス−2−エ
ンおよび4−第三プチル−1−(4−メチルチオベンゾ
イル)−1−モルフォリノシクロへジス−2−エン。
下記のものが式■で表わされる化合物の例である:2−
メチル−6−(4−メチルチオベンゾイル)−6−モル
フォリノ−3,4−ジヒドロ−211−ビラン、2−エ
チル−3−(2,6−ジクロロベンゾイル)−3−)リ
フチルシロキシ−3,4−ジヒドロ−2H−ビラン、2
,6−シメチルー3− (4−メトキシベンゾイル)−
6−モルフオリ/−3,4−ジヒドロ−2H−ビランお
よび3−ヒドロキシ−ろ−(4−トルイル)−3,4−
ジヒドロ−211−ビラン0 下記のものが弐■で表わされる化合物の例である=2−
ベンゾイル−2−モルフォリノビシクロ〔2,2,1〕
ヘプト−5−エン、2−ベンゾイル−2−ヒドロキシビ
シクロ[2,2,1)−\ブドー5−エン、2−(4−
フェノキシベンゾイル)−2−ブトキシ−7,7−ジメ
チルビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−5−エン、1−メ
チル−2(3,4−ジクロロベンソイル)−2−ヒドロ
キシビ’/ りOC2+2+’〕ヘプト−5−エン、2
−(4−ブロモベンゾイル)−2−ヒOvジ/−3−メ
チルビ/りDI:2,2.J−ヘプト−5−エン、2−
(4−ベンゾイルベンゾイル)−2−ペンジルオキンー
7.7− ジメチルビシクロ〔2,2,1〕 ヘプト−
5−エン、2−(、+−(2−ヒドロキシエチルチオ)
−ベンゾイルクー2−ジメチルアミン−4、7、7t−
トリメチルビシクロ(2121’:]]ヘプトー5−エ
ン2−(4−り00ペンン°イルンー2−ヒ°ベリジノ
ビシクロ〔2゜2.2〕オクト−5−エン、2−(4−
ベンズアミド−3−クロロベンゾイルクー2−ヒドロキ
シ〔2゜2.2〕オクト−5−エン、2−(3,,1−
ジエチルベンゾイル)−2−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)−5−メチルビシクロ(21212) オ
クト−5−エン、2−ベンゾイル−2−ト’Jフェニル
シロキシ−7−オキサビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−
5−エン、2(4−(4−メチルピペラジノ)−ベンゾ
イルクー2−ヒドロキシ−7−オキサビシクロ〔2,2
,1〕ヘプト−5−エン、2−(4−エチルチオ−5−
メチルベンゾイル)−2−ジメチルアミノ−6−メチル
−7−オキサビシクロC212+ 1 :]]ヘゲ1−
−5−工7.2−3−(ノブDビルペンゾイルフー・2
−ヒドロキン−3−フェニル−7−オキサビシクロ〔2
,2,1〕ヘグトー5−エン、2−(4−メチルチオベ
ンゾイル)−5−メチル−2−モルフォリノビシクロ[
2+2+1)ヘプト−5−エン、2−(4−メトキシベ
ンゾイル)−6−メチル−2−モルフォリノビンクロ(
2,2,1)ヘプト−5−エン、6−ニチルー2−44
−(2−ヒドロギシェチルチオンーベンゾイル〕−2−
(4−メチルピペラジノ)−ビシクロ〔2,2,1〕ヘ
プト−5−エン、エキソ−2−ベンゾイル−2−ヒドロ
キシビシクロC2,2,2)オフ)−5−エン、エンド
−2−ベンゾイル−2−ヒドロキシビシクロ〔2,2,
2〕オクト−5−エン、2−”(4−メトキシベンゾイ
ル)−2−モル7オリノー3−メチルビシクロ〔2,2
,2〕オクト−5−エン、3−エチル−2−(4−メチ
ルチオベンソイル)−2−モルフォリノビシクロ(2+
2+2)オクト−5−エン、2−(4−(2−ヒドロキ
シエチルチオ)−ペンソイルクー6−フェニル−2−ヒ
ベリジノビシクロ[2+2121オクト−5←エン、2
−(4−メトキシベンソイル)−6−メチル−2モルフ
ォリノ−7−オギサビシクロ(2+211)ヘプト−5
−エン、6,3−ジメチル−2−(4−メチルチオベン
ゾイル)−2−モルフォリノ−7−オキサビシクロ〔2
,2,1〕ヘプト−5−エンおよび2−(4−クロロベ
ンソイル)−2−ヒドロキシ−3−メチル−1,4,5
,6−チトラフエニルー7−オキサビシクロ(2,2,
1)ヘプト−5−エン。
メチル−6−(4−メチルチオベンゾイル)−6−モル
フォリノ−3,4−ジヒドロ−211−ビラン、2−エ
チル−3−(2,6−ジクロロベンゾイル)−3−)リ
フチルシロキシ−3,4−ジヒドロ−2H−ビラン、2
,6−シメチルー3− (4−メトキシベンゾイル)−
6−モルフオリ/−3,4−ジヒドロ−2H−ビランお
よび3−ヒドロキシ−ろ−(4−トルイル)−3,4−
ジヒドロ−211−ビラン0 下記のものが弐■で表わされる化合物の例である=2−
ベンゾイル−2−モルフォリノビシクロ〔2,2,1〕
ヘプト−5−エン、2−ベンゾイル−2−ヒドロキシビ
シクロ[2,2,1)−\ブドー5−エン、2−(4−
フェノキシベンゾイル)−2−ブトキシ−7,7−ジメ
チルビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−5−エン、1−メ
チル−2(3,4−ジクロロベンソイル)−2−ヒドロ
キシビ’/ りOC2+2+’〕ヘプト−5−エン、2
−(4−ブロモベンゾイル)−2−ヒOvジ/−3−メ
チルビ/りDI:2,2.J−ヘプト−5−エン、2−
(4−ベンゾイルベンゾイル)−2−ペンジルオキンー
7.7− ジメチルビシクロ〔2,2,1〕 ヘプト−
5−エン、2−(、+−(2−ヒドロキシエチルチオ)
−ベンゾイルクー2−ジメチルアミン−4、7、7t−
トリメチルビシクロ(2121’:]]ヘプトー5−エ
ン2−(4−り00ペンン°イルンー2−ヒ°ベリジノ
ビシクロ〔2゜2.2〕オクト−5−エン、2−(4−
ベンズアミド−3−クロロベンゾイルクー2−ヒドロキ
シ〔2゜2.2〕オクト−5−エン、2−(3,,1−
ジエチルベンゾイル)−2−(2−テトラヒドロピラニ
ルオキシ)−5−メチルビシクロ(21212) オ
クト−5−エン、2−ベンゾイル−2−ト’Jフェニル
シロキシ−7−オキサビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−
5−エン、2(4−(4−メチルピペラジノ)−ベンゾ
イルクー2−ヒドロキシ−7−オキサビシクロ〔2,2
,1〕ヘプト−5−エン、2−(4−エチルチオ−5−
メチルベンゾイル)−2−ジメチルアミノ−6−メチル
−7−オキサビシクロC212+ 1 :]]ヘゲ1−
−5−工7.2−3−(ノブDビルペンゾイルフー・2
−ヒドロキン−3−フェニル−7−オキサビシクロ〔2
,2,1〕ヘグトー5−エン、2−(4−メチルチオベ
ンゾイル)−5−メチル−2−モルフォリノビシクロ[
2+2+1)ヘプト−5−エン、2−(4−メトキシベ
ンゾイル)−6−メチル−2−モルフォリノビンクロ(
2,2,1)ヘプト−5−エン、6−ニチルー2−44
−(2−ヒドロギシェチルチオンーベンゾイル〕−2−
(4−メチルピペラジノ)−ビシクロ〔2,2,1〕ヘ
プト−5−エン、エキソ−2−ベンゾイル−2−ヒドロ
キシビシクロC2,2,2)オフ)−5−エン、エンド
−2−ベンゾイル−2−ヒドロキシビシクロ〔2,2,
2〕オクト−5−エン、2−”(4−メトキシベンゾイ
ル)−2−モル7オリノー3−メチルビシクロ〔2,2
,2〕オクト−5−エン、3−エチル−2−(4−メチ
ルチオベンソイル)−2−モルフォリノビシクロ(2+
2+2)オクト−5−エン、2−(4−(2−ヒドロキ
シエチルチオ)−ペンソイルクー6−フェニル−2−ヒ
ベリジノビシクロ[2+2121オクト−5←エン、2
−(4−メトキシベンソイル)−6−メチル−2モルフ
ォリノ−7−オギサビシクロ(2+211)ヘプト−5
−エン、6,3−ジメチル−2−(4−メチルチオベン
ゾイル)−2−モルフォリノ−7−オキサビシクロ〔2
,2,1〕ヘプト−5−エンおよび2−(4−クロロベ
ンソイル)−2−ヒドロキシ−3−メチル−1,4,5
,6−チトラフエニルー7−オキサビシクロ(2,2,
1)ヘプト−5−エン。
下^己のものが式■で表わされる化合物の例で、fiる
:1−ベンゾイルー5−エトキシカルボニル−7−オキ
サビシクロ(2、,2、1)ヘプト−2−エン、1−(
3,4−ジメチルベンゾイル)−5−(2−エチルへキ
シルオギシ力ルポニル)−7〜オキサビシクロ(:2,
2.1)ヘプト−2−エン、1−(4−エトキシベンゾ
イル)−5−メトギシ力ルボニル−6一メチル−7−オ
キサビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン、l−1
4−(2−ヒドロキシエチルチオ)−ベンゾイル−5−
シアノ−7−オキサビンクロ〔2゜2.1〕ヘプト−2
−エン、1−α−ナフトイル−5−カルボギシー7−オ
キサビシク口〔2,2,1〕ヘプト−2−エン、1−(
3,4−ジクロロベンゾイル)−4−メチル−5−ベン
ゾイル−7−オキサビシクロ[2+211)ヘプト−2
−エン、1−(4−ベンゾイルベンゾイル)−5−7オ
ルミルー7−オキサピンクロ(2,2,1)ヘプト−2
−エン、1−(4−ドデシルベンゾ・イル)−5−メチ
ル−5−フォルミルー7−オキサビシクロ〔2,2,1
〕ヘプト−2−エン、1−ベンソイル−5,6−ビス−
(エトキシカルボニル)−7−オキサビシクロC2,2
,1,l]ヘプト−2−エン、1−(4−フェニルベン
ゾイル)−5−メトキシカルボニル−6−カルホキシー
ツ−オキサビシクロ[2+2+1)ヘプト−2−エン、
1−(4−フェニルベンゾイル)−5−カルボニル−6
−メドギシカルボニルー7−オキサビシクロ(2+21
1)ヘプト−2−エン、1−ベンゾイル−6−ニトキ7
カルポニルー2,3−ジメチル−7−オキサビシクロ〔
2,2,1〕ヘプト−2−エンおよび1−ベンゾイル−
7−オキサビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−2−エン−
5,6−ジカルボン酸5.6−アンヒドリド。
:1−ベンゾイルー5−エトキシカルボニル−7−オキ
サビシクロ(2、,2、1)ヘプト−2−エン、1−(
3,4−ジメチルベンゾイル)−5−(2−エチルへキ
シルオギシ力ルポニル)−7〜オキサビシクロ(:2,
2.1)ヘプト−2−エン、1−(4−エトキシベンゾ
イル)−5−メトギシ力ルボニル−6一メチル−7−オ
キサビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン、l−1
4−(2−ヒドロキシエチルチオ)−ベンゾイル−5−
シアノ−7−オキサビンクロ〔2゜2.1〕ヘプト−2
−エン、1−α−ナフトイル−5−カルボギシー7−オ
キサビシク口〔2,2,1〕ヘプト−2−エン、1−(
3,4−ジクロロベンゾイル)−4−メチル−5−ベン
ゾイル−7−オキサビシクロ[2+211)ヘプト−2
−エン、1−(4−ベンゾイルベンゾイル)−5−7オ
ルミルー7−オキサピンクロ(2,2,1)ヘプト−2
−エン、1−(4−ドデシルベンゾ・イル)−5−メチ
ル−5−フォルミルー7−オキサビシクロ〔2,2,1
〕ヘプト−2−エン、1−ベンソイル−5,6−ビス−
(エトキシカルボニル)−7−オキサビシクロC2,2
,1,l]ヘプト−2−エン、1−(4−フェニルベン
ゾイル)−5−メトキシカルボニル−6−カルホキシー
ツ−オキサビシクロ[2+2+1)ヘプト−2−エン、
1−(4−フェニルベンゾイル)−5−カルボニル−6
−メドギシカルボニルー7−オキサビシクロ(2+21
1)ヘプト−2−エン、1−ベンゾイル−6−ニトキ7
カルポニルー2,3−ジメチル−7−オキサビシクロ〔
2,2,1〕ヘプト−2−エンおよび1−ベンゾイル−
7−オキサビシクロ〔2,2,1〕ヘプト−2−エン−
5,6−ジカルボン酸5.6−アンヒドリド。
本発明に従って使用し得る化合物の中で、Arがフェニ
ル基を表わし、Xが水酸基を表わし、ajがメチル基を
表わし、杼、几1′、R鵞T”ZR暮′。
ル基を表わし、Xが水酸基を表わし、ajがメチル基を
表わし、杼、几1′、R鵞T”ZR暮′。
几13よび、s/が水素原子を表わすような式Iで表わ
される化合物は公知の化合物である。これは のようにディールス−アルダ−(]]els−Alde
r)反応により、ティー、ササキ、ワイ、イシバシおよ
びエム、オーツ:テトラうドロン レターズ 23巻、
1693頁、1982年(TJasakI。
される化合物は公知の化合物である。これは のようにディールス−アルダ−(]]els−Alde
r)反応により、ティー、ササキ、ワイ、イシバシおよ
びエム、オーツ:テトラうドロン レターズ 23巻、
1693頁、1982年(TJasakI。
y、1slBbasht and M、□hno;T
etrahedron Letters25.1693
(1982))に従って調製することができる。
etrahedron Letters25.1693
(1982))に従って調製することができる。
閉環付加反応の触媒きして5nct、およびBP。
(CaHs)no を使用した。−次の閉環生成物は分
離することなしにメタノール性塩酸で加水分解した。
離することなしにメタノール性塩酸で加水分解した。
本発明に使用可能な式I、It、II(、IVおよび■
で表わされる化合物の残りはすべて新規化合物で、これ
らも本発明の一部である。
で表わされる化合物の残りはすべて新規化合物で、これ
らも本発明の一部である。
これらは種々の方法で、lAlffすることができる。
式I、Illおよび■で表わされる化合物に一般に適用
できる方法はディールス−アルダ−反応である。この反
応ではα〜置換アリールビニルケトンVIがジェノフィ
ルとしてジエン■■と反応する。もし使用するジエンが
開鎖ジエンであれば、式■で表わされる化合物は次のよ
うにして生成される: VI VII 先に述べたササキ等(SasakIetat)の方法に
よる1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−4−メチルシク
ロヘクサ−3−エンの合成はこの一般的調製法の特別な
場合である。式■で表イっされるジエンの例はデールス
ーアルダー反応に一般に適したジエン、例えばブタジェ
ン、イソプレン、2,3−ジメチルブタジェンまたは1
.4−ジフェニルブタジェンである。
できる方法はディールス−アルダ−反応である。この反
応ではα〜置換アリールビニルケトンVIがジェノフィ
ルとしてジエン■■と反応する。もし使用するジエンが
開鎖ジエンであれば、式■で表わされる化合物は次のよ
うにして生成される: VI VII 先に述べたササキ等(SasakIetat)の方法に
よる1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−4−メチルシク
ロヘクサ−3−エンの合成はこの一般的調製法の特別な
場合である。式■で表イっされるジエンの例はデールス
ーアルダー反応に一般に適したジエン、例えばブタジェ
ン、イソプレン、2,3−ジメチルブタジェンまたは1
.4−ジフェニルブタジェンである。
もし使用するジエンがα、β−不飽和カルポニル化合物
(vm) (?あれば、弐■の生成物は次のようにして
得られる: ■の列は荷にアクロ1/イン、メタクロレインおよびメ
チルビニルアトンである。
(vm) (?あれば、弐■の生成物は次のようにして
得られる: ■の列は荷にアクロ1/イン、メタクロレインおよびメ
チルビニルアトンである。
もし使用するジエンが環状ジエン(IX)であれは、式
■で表わされる生成物は次のようにして得られる: IX 環状ジエンIXの91J i’、t、特にシクロペンタ
ジエ゛/、シクロへギーリジエンおよびフランである。
■で表わされる生成物は次のようにして得られる: IX 環状ジエンIXの91J i’、t、特にシクロペンタ
ジエ゛/、シクロへギーリジエンおよびフランである。
コレラのディールス−アルダ−反応のすべての場合に、
基Xは環状付加物として得られるか、または次の反応工
程で異った基Xに変換される。
基Xは環状付加物として得られるか、または次の反応工
程で異った基Xに変換される。
この例としては、前述のササキ等(SasaJ eta
t)の方法による1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−4
−メチルシクロヘクサ−5−エンの合成で、この場合、
基−O8+ (CHs ) sは最初Xとして導入され
、次の加水分解によって水酸基に変換されている。
t)の方法による1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−4
−メチルシクロヘクサ−5−エンの合成で、この場合、
基−O8+ (CHs ) sは最初Xとして導入され
、次の加水分解によって水酸基に変換されている。
ディールス−アルダ−反応はルイス酸によって触媒され
る。この例としてはhtcta 。
る。この例としてはhtcta 。
C,HsAtC4,、(CzHs)、AtC45nC6
,、BF、 およびBF、付加物である。
,、BF、 およびBF、付加物である。
これらのディールス−アルダ−反応の変法を式■で表わ
される化合物の調製のために使用してよい。この変法に
は、2−アロイルフラン(X)をジエンとして使用し、
α、β−不飽和カルボン酸またはその誘導体(XI)を
ジェノフィルとして使用する。
される化合物の調製のために使用してよい。この変法に
は、2−アロイルフラン(X)をジエンとして使用し、
α、β−不飽和カルボン酸またはその誘導体(XI)を
ジェノフィルとして使用する。
式XIで表わされる好適なジェノフィルの例は、アクリ
ル酸およびメタクリル酸およびそれらのエステルおよび
ニトリル、マレイン酸およびその無水物、エステルおよ
び半エステルおよびビニルケトンである。
ル酸およびメタクリル酸およびそれらのエステルおよび
ニトリル、マレイン酸およびその無水物、エステルおよ
び半エステルおよびビニルケトンである。
式I、n、IIIおよび■で表;1つされる化合物の調
製に一般的に適用可能な方法は相当する1−シアン化合
物と芳香族グリニヤール化合物の反応である。この1−
シアン化合物はシアノヒドリンまたはα−アミノニトリ
ルで、したがって相当する1−オキソ化合物から得るこ
とができる。これを例としてHの合成を例として使って
図示する。
製に一般的に適用可能な方法は相当する1−シアン化合
物と芳香族グリニヤール化合物の反応である。この1−
シアン化合物はシアノヒドリンまたはα−アミノニトリ
ルで、したがって相当する1−オキソ化合物から得るこ
とができる。これを例としてHの合成を例として使って
図示する。
遊離のシアノヒドリン(Xが水酸基を表わす)の代りに
、クリニャール反応後の加水分解によって離脱させるこ
とができる保護基によって水酸基を保穫した誘導体を、
グリニヤール合成に有利に使用するこさができる。この
ような例はトリメチルシリル誘導体またはテトラヒドロ
ピラン付加物である。このような保護されたンアノヒド
リンはオキソ化合物から一工程で、例えばケーニッヒ等
:へミッシェ ベリヒテ 113巻3783頁1980
年(Kon+g etaz ;chem Ber、11
3 。
、クリニャール反応後の加水分解によって離脱させるこ
とができる保護基によって水酸基を保穫した誘導体を、
グリニヤール合成に有利に使用するこさができる。この
ような例はトリメチルシリル誘導体またはテトラヒドロ
ピラン付加物である。このような保護されたンアノヒド
リンはオキソ化合物から一工程で、例えばケーニッヒ等
:へミッシェ ベリヒテ 113巻3783頁1980
年(Kon+g etaz ;chem Ber、11
3 。
3785(1980))の方法によりトリメチルシリル
シアニドとの反応によって調製することもできる。
シアニドとの反応によって調製することもできる。
fA製法のより正確な詳細は後に記す実施例で明らかで
ある。
ある。
式I、n、I[[、IVおよびVで表わされる化合物は
不飽和化合物の光重合用光開始剤として使用するのに好
適である。この化合物はモノ不飽和またはポリ不飽和オ
レフィン性化合物およびそれらの混合物である。この不
飽和化合物は低分子(モノマー性)または高分子(オリ
ゴマー性)であってよい。
不飽和化合物の光重合用光開始剤として使用するのに好
適である。この化合物はモノ不飽和またはポリ不飽和オ
レフィン性化合物およびそれらの混合物である。この不
飽和化合物は低分子(モノマー性)または高分子(オリ
ゴマー性)であってよい。
一個の二重結合を含むモノマーの例は、アルキルアクリ
レートまたはメタクリレート、またはヒドロキシアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、91Jえは、メ
チル、エチル、ブチル。
レートまたはメタクリレート、またはヒドロキシアルキ
ルアクリレートまたはメタクリレート、91Jえは、メ
チル、エチル、ブチル。
2−エチルヘキシルまたは2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、インボルニルアクリレート。
レート、インボルニルアクリレート。
メチルメタクリレ−1・才たけエチルメタクリレートで
ある。その他の例はアクリロニ) IJル。
ある。その他の例はアクリロニ) IJル。
アクリルアミド、メタクリルアミド、N−1m換(メタ
)アクリルアミド、ビニルアセテートのようなビニルエ
ステル、インブチルビニルエーテルのようなビニルエー
テル、スチレン、アルキルスチレン、ハロガノスチレン
、N−ビニルピロリドン、ビニルクロリドまたはビニリ
デンクロリドである。
)アクリルアミド、ビニルアセテートのようなビニルエ
ステル、インブチルビニルエーテルのようなビニルエー
テル、スチレン、アルキルスチレン、ハロガノスチレン
、N−ビニルピロリドン、ビニルクロリドまたはビニリ
デンクロリドである。
いくつかの二N結合を含むモノマーの例はエチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキ
ザメチレングリコールジアクリレートコ:たはビスフェ
ノールAジアジリレー) 、 4.4’−ビス−(2−
アクリロイルオキシエトキシ)−ジフェニルプO)4ン
、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエ
リスリトール トリアクリレート またはテトラアクリ
レート、ビニルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビ
ニルスクシネート、ジアリルフタレート、トリアリルホ
スフェート、トリアリルイソシアネートまたはトリス−
(2−アクリロイルオキシエチル)インシアヌレートで
ある。
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ヘキ
ザメチレングリコールジアクリレートコ:たはビスフェ
ノールAジアジリレー) 、 4.4’−ビス−(2−
アクリロイルオキシエトキシ)−ジフェニルプO)4ン
、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエ
リスリトール トリアクリレート またはテトラアクリ
レート、ビニルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビ
ニルスクシネート、ジアリルフタレート、トリアリルホ
スフェート、トリアリルイソシアネートまたはトリス−
(2−アクリロイルオキシエチル)インシアヌレートで
ある。
高分子(オリゴマー性)ポリ不飽和化合物の例はアクリ
ル化エポキシド樹脂、アクリル化ポリエーテル、アクリ
ル化ポリウレタンまたはアクリル化ポリエステルである
。不飽和オリゴマーのその他の例は、はとんどの場合、
マレイン酸またはフタル酸と一種またはそれ以上のジオ
ールから調製され約500乃至5000の分子量を持つ
不飽和ポリエステル樹脂である。この型の不飽和オリゴ
マーもプレポリマーと言うことができる。
ル化エポキシド樹脂、アクリル化ポリエーテル、アクリ
ル化ポリウレタンまたはアクリル化ポリエステルである
。不飽和オリゴマーのその他の例は、はとんどの場合、
マレイン酸またはフタル酸と一種またはそれ以上のジオ
ールから調製され約500乃至5000の分子量を持つ
不飽和ポリエステル樹脂である。この型の不飽和オリゴ
マーもプレポリマーと言うことができる。
光重合性混合物は、例えばモノ不飽和モノマーとポリ不
飽和モノマーの混合物であってよい。
飽和モノマーの混合物であってよい。
しかし、ポリ不飽和モノマーと不飽和オリゴマー(プレ
ポリマー)の混合物がより高頻度で使用される。この型
の三種成分混合物も頻度高く使用される。これらの混合
物置おいて、プレポリマーが重合体の性質の第一次の決
定因子である。これを変えることにより、当該分野の技
術で硬化フィルムの性質に影響を与えるこさが可能であ
る。ポリ不飽和モノマーはポリマーを不溶性にする架橋
剤として機能する。モノ不飽和モノマーは反応希釈剤と
して機能し、これによって溶媒を使用する必要もなく、
粘rvが低下する。
ポリマー)の混合物がより高頻度で使用される。この型
の三種成分混合物も頻度高く使用される。これらの混合
物置おいて、プレポリマーが重合体の性質の第一次の決
定因子である。これを変えることにより、当該分野の技
術で硬化フィルムの性質に影響を与えるこさが可能であ
る。ポリ不飽和モノマーはポリマーを不溶性にする架橋
剤として機能する。モノ不飽和モノマーは反応希釈剤と
して機能し、これによって溶媒を使用する必要もなく、
粘rvが低下する。
プレポリマーにより、この型の2成分または3成分系を
印刷インク更に(ま塗料、フォトレジストおよびその他
の着色光硬化性組成物に使用する。印刷インクに使用す
る結合剤もしはしは光硬化性プレポリマーに基く一成分
系である。
印刷インク更に(ま塗料、フォトレジストおよびその他
の着色光硬化性組成物に使用する。印刷インクに使用す
る結合剤もしはしは光硬化性プレポリマーに基く一成分
系である。
不飽和ポリエステル樹脂はほとんどの場合、モノ不飽和
モノマー、望才しくけスチレンといっしょにした二成分
系で使用される。特別の一成分系、例えばポリマレイミ
ドまたはポリアルコンはフォトレジストとして使用され
ることが多い。
モノマー、望才しくけスチレンといっしょにした二成分
系で使用される。特別の一成分系、例えばポリマレイミ
ドまたはポリアルコンはフォトレジストとして使用され
ることが多い。
更に、光重合性混合物は非光重合性の皮膜形成性成分を
低比率で含んでいてよい。これらは、例えば物理的に乾
燥する重合体、またはその有機溶媒溶液、例えばニトロ
セルロースまたはセルロースアセトブチラードであって
よい。しかし、これらも化学的才たは熱によって硬化可
能な樹脂、飼えはポリイソシアネート、ポリエポキシド
またはメラミン樹脂であってよい。熱によって硬化する
樹脂を同時に使用することは、いイっゆるハイブリ・ノ
ド系において重要である。
低比率で含んでいてよい。これらは、例えば物理的に乾
燥する重合体、またはその有機溶媒溶液、例えばニトロ
セルロースまたはセルロースアセトブチラードであって
よい。しかし、これらも化学的才たは熱によって硬化可
能な樹脂、飼えはポリイソシアネート、ポリエポキシド
またはメラミン樹脂であってよい。熱によって硬化する
樹脂を同時に使用することは、いイっゆるハイブリ・ノ
ド系において重要である。
この糸は第一段階で光重合し、第二段階で引き続く熱処
理によって架橋する。
理によって架橋する。
最終使用目的に応じて、光重合性混合物は多くの他の添
加物を含んでいてよい。これらの例は熱安定剤で、照射
以前での重合を防止し、その結果貯蔵中の安定性を増大
させる。この例はヒドロキノンおよびヒドロキノン誘導
体、ナフトール、銅化合物、有機リン化合物、四級アン
モニウム化合物またはヒドロキシラミン誘導体である。
加物を含んでいてよい。これらの例は熱安定剤で、照射
以前での重合を防止し、その結果貯蔵中の安定性を増大
させる。この例はヒドロキノンおよびヒドロキノン誘導
体、ナフトール、銅化合物、有機リン化合物、四級アン
モニウム化合物またはヒドロキシラミン誘導体である。
その他の公知の添加剤は硬化促進剤、例え1ズ三級アミ
ン、アミノカルボン酸エステルおよびアミノケトンであ
る。これらの例はトリエタノールアミン、N−メチルジ
ェタノールアミン。
ン、アミノカルボン酸エステルおよびアミノケトンであ
る。これらの例はトリエタノールアミン、N−メチルジ
ェタノールアミン。
p−ジメチルアミン安息香酸アルキルエステルまたはミ
ヒラーのケトン(Mrchler’ s ketone
)である。アリルケトン型の光開始剤、例えばベンゾフ
ェノン訪感体、アントラキノン訪導体。
ヒラーのケトン(Mrchler’ s ketone
)である。アリルケトン型の光開始剤、例えばベンゾフ
ェノン訪感体、アントラキノン訪導体。
チオキサントン訪導体、ベンジルケタール、α−ヒドロ
キシアセトフェノン誘導体またはベンゾイン誘導体をも
うひとつ慰)合せることにより光重合に促進効果を与え
るこ古もできる。
キシアセトフェノン誘導体またはベンゾイン誘導体をも
うひとつ慰)合せることにより光重合に促進効果を与え
るこ古もできる。
大気の酸素の阻害作用を除去するためlこ、パラフィン
または類似のワックス様物質を光硬化性混合物に加える
こ吉も多い。これらの物質は重合体への溶解度が不十分
なために重合の初期に上部に浮き、空気の接触を防ぐ透
明な表面層を形成する。大気の酸素は自動酸化基、例え
ばアリル基を硬化すべき樹脂に導入するこ吉によっても
失活させることができる。
または類似のワックス様物質を光硬化性混合物に加える
こ吉も多い。これらの物質は重合体への溶解度が不十分
なために重合の初期に上部に浮き、空気の接触を防ぐ透
明な表面層を形成する。大気の酸素は自動酸化基、例え
ばアリル基を硬化すべき樹脂に導入するこ吉によっても
失活させることができる。
しばしば用いられるその他の添加物はシリカ。
タルクまたは石こうのような充填拐、顔料、染料、繊維
、チキントロープ剤または流動調節補助剤である。
、チキントロープ剤または流動調節補助剤である。
光重合が使用される最も重要な分野は塗料および印刷イ
ンク、フォトレジスト調製、および印刷版製造に関係す
る分野である。本発明の光開始剤は光重合性化合物に対
し、0.1乃至20重鎗チ、!侍に0.5乃至5′□*
qbのはで加える。
ンク、フォトレジスト調製、および印刷版製造に関係す
る分野である。本発明の光開始剤は光重合性化合物に対
し、0.1乃至20重鎗チ、!侍に0.5乃至5′□*
qbのはで加える。
光開始剤は一般に光重合性混ば物に対し、は古んどの混
合物が液体か溶射に溶解するため、単に攪拌することに
よって添加する。は吉んどの場合、本発明の開始前の溶
dyは好結果が得られ、開始前は均一に分布し、また重
合体は透明である。
合物が液体か溶射に溶解するため、単に攪拌することに
よって添加する。は吉んどの場合、本発明の開始前の溶
dyは好結果が得られ、開始前は均一に分布し、また重
合体は透明である。
特別な場合(こは、式I 、 If 、 III 、
■また■で表わされる化合物の二個以上を光重合性混合
物を添加することが有利なことがある。
■また■で表わされる化合物の二個以上を光重合性混合
物を添加することが有利なことがある。
重合は短波長の多い光照射による光重合の公知の方法に
よって行う。光源の例は中圧、高圧および低圧水銀ラン
プ、および250nm と400圃の範囲内の最大発光
を持つスーパー化学線螢光燈である。
よって行う。光源の例は中圧、高圧および低圧水銀ラン
プ、および250nm と400圃の範囲内の最大発光
を持つスーパー化学線螢光燈である。
光増感剤の添加によりスペクトル感受性を特別の範囲に
切換えることが可能であり、その結果、比較的長波長ラ
ンプによって行うことも可能である。このような光増感
剤の例は有機染料または多核の縮合芳香族化合物、例え
ばペリレン、アントラセン誘導体またはチオキサントン
誘導体である。
切換えることが可能であり、その結果、比較的長波長ラ
ンプによって行うことも可能である。このような光増感
剤の例は有機染料または多核の縮合芳香族化合物、例え
ばペリレン、アントラセン誘導体またはチオキサントン
誘導体である。
以下の実施例により本発明の化合物の調製および光開始
剤としてのその1史用を説明する。これらの実施例にお
いて部は重量部を表わし、温度は摂氏じC)である。
剤としてのその1史用を説明する。これらの実施例にお
いて部は重量部を表わし、温度は摂氏じC)である。
実施例1
ディールス−アルダ−合成による1−ベンゾイル−1−
ヒドロキシシクロヘクサ−5−エンの調製 a) ダブリュー・エイチ・ハートラングアンドエフ
・クロスリー(オーガニック ンンセ、シ、ス 、コレ
クティブボリューム■′366頁・(W、I(,1(a
rtung and p、Crossley、:・・O
rganrc6ynthes1s Co11.vol劃
、563)の方法ζこ従い、ノ°、、・ロピオフエノン
51.5 g (2,35モル)を濃硫酸15.0m4
の存在下にメタノール121.5+mtとNa、NO,
186gからその場で生成させた亜硝酸メチルと反応さ
せる。反応を完了させ、生成物をトルエンから再結晶さ
せることにより、4融点115°の1−フェニルプロパ
ン−1,2−ジオン−2−オキシ1.1155gを得る
。
ヒドロキシシクロヘクサ−5−エンの調製 a) ダブリュー・エイチ・ハートラングアンドエフ
・クロスリー(オーガニック ンンセ、シ、ス 、コレ
クティブボリューム■′366頁・(W、I(,1(a
rtung and p、Crossley、:・・O
rganrc6ynthes1s Co11.vol劃
、563)の方法ζこ従い、ノ°、、・ロピオフエノン
51.5 g (2,35モル)を濃硫酸15.0m4
の存在下にメタノール121.5+mtとNa、NO,
186gからその場で生成させた亜硝酸メチルと反応さ
せる。反応を完了させ、生成物をトルエンから再結晶さ
せることにより、4融点115°の1−フェニルプロパ
ン−1,2−ジオン−2−オキシ1.1155gを得る
。
b)ダブリュー・ダブリュー・ハートマン アンド エ
ル、ジエイ、ロール:、t−ガニックシンセシス コレ
クティブボリューム1j120頁 (W、W、I−Ia
rtman and L、J、几all : □r
gan(cSynthes4s Co11.VOI、
z、2(1)の方法に従い、このオキシム100gを2
0係硫酸からの水蒸気蒸溜によって1−フェニルプロパ
ン−1,2−ジオンに変換する。黄色油状物87.4
gが得られる。
ル、ジエイ、ロール:、t−ガニックシンセシス コレ
クティブボリューム1j120頁 (W、W、I−Ia
rtman and L、J、几all : □r
gan(cSynthes4s Co11.VOI、
z、2(1)の方法に従い、このオキシム100gを2
0係硫酸からの水蒸気蒸溜によって1−フェニルプロパ
ン−1,2−ジオンに変換する。黄色油状物87.4
gが得られる。
C)予じめ乾燥させたガラス装置に窒素雰囲気下1こ、
無水塩化亜鉛α’46g(’N4ミlJモル)を乾燥ト
IYエチルアミン14.8g(146ミリモル)に加え
る。室温で3時間攪拌後、塩化亜鉛の乳状懸濁液□が得
:られ、これに対してメチレンクロリ・ニド5′・・O
mtに溶解した1−フェニルプロパン−1,2−ジオン
19.85g(154ミリモ□ル)を加える。得られた
均質な溶液を水浴中で冷却し、トリメチルクロロシラン
15.89g(146ミリモル)をゆるやかに茄える。
無水塩化亜鉛α’46g(’N4ミlJモル)を乾燥ト
IYエチルアミン14.8g(146ミリモル)に加え
る。室温で3時間攪拌後、塩化亜鉛の乳状懸濁液□が得
:られ、これに対してメチレンクロリ・ニド5′・・O
mtに溶解した1−フェニルプロパン−1,2−ジオン
19.85g(154ミリモ□ル)を加える。得られた
均質な溶液を水浴中で冷却し、トリメチルクロロシラン
15.89g(146ミリモル)をゆるやかに茄える。
水浴を□はずし、混合物を室温で16時間攪拌する。反
い 1・で脱水ジエチルエーテル200 mL
で希釈し、15分間攪拌する。沈殿した塩を窒素雰囲気
下にハイフロ(x4yflO)を使って枦別する=高真
空下に1液を濃縮し残渣を乾燥することにより、’ I
(’−”NMRで調べて1−フェニル−2−トリ・メチ
ルシリルオキシプロプ−2−エン−1−オンを97%以
上含む赤褐色油状物29.3og (99%)を得る。
い 1・で脱水ジエチルエーテル200 mL
で希釈し、15分間攪拌する。沈殿した塩を窒素雰囲気
下にハイフロ(x4yflO)を使って枦別する=高真
空下に1液を濃縮し残渣を乾燥することにより、’ I
(’−”NMRで調べて1−フェニル−2−トリ・メチ
ルシリルオキシプロプ−2−エン−1−オンを97%以
上含む赤褐色油状物29.3og (99%)を得る。
この油状物を精製することなしに以下の反応に使用する
。
。
d)予じめ乾燥したガラス装置中でアルゴン′雰囲気下
に1−フェニル−2−トリメチルシリルオキシプロプ−
2−エン−1−オン7g(31,7ミリモル)を乾燥〉
チレンクロリド100mtに溶解し、この溶液を水浴中
で0°Cに冷却する。次いでブクジエン14m1C〜1
60ミ’lJモル)をこの溶液中に濃縮させ、三フッ化
ホウ素−エーテラー) 4ml (51,7ミリモル)
をゆるやかに加える。この混合物をアルゴン雰囲気下に
0°Cて2時間、室温で14時間攪拌する。ロータリー
エバポレーターで溶媒と過剰のブタジェンを溜去し、残
渣をメタノール250mAとIN塩酸2Stnt中に取
、り出し、この混合物を室温で30分間攪拌する。次い
で氷冷した飽和重炭酸す) IJウム溶溶液100乙t
中この混合物を注ぎ、ロータIJ −エバポレーターで
メタノールを除去後、残った卒、相をジエチルエーテル
で抽出する。抽安物ヲ硫酸マグネシウムで脱水し、濃縮
する。
に1−フェニル−2−トリメチルシリルオキシプロプ−
2−エン−1−オン7g(31,7ミリモル)を乾燥〉
チレンクロリド100mtに溶解し、この溶液を水浴中
で0°Cに冷却する。次いでブクジエン14m1C〜1
60ミ’lJモル)をこの溶液中に濃縮させ、三フッ化
ホウ素−エーテラー) 4ml (51,7ミリモル)
をゆるやかに加える。この混合物をアルゴン雰囲気下に
0°Cて2時間、室温で14時間攪拌する。ロータリー
エバポレーターで溶媒と過剰のブタジェンを溜去し、残
渣をメタノール250mAとIN塩酸2Stnt中に取
、り出し、この混合物を室温で30分間攪拌する。次い
で氷冷した飽和重炭酸す) IJウム溶溶液100乙t
中この混合物を注ぎ、ロータIJ −エバポレーターで
メタノールを除去後、残った卒、相をジエチルエーテル
で抽出する。抽安物ヲ硫酸マグネシウムで脱水し、濃縮
する。
残渣の粘性ある褐色油状物をシリカゲルによるクロマト
グラフィー(移動相:9二1ヘキサン/酢酸工≠ル)で
精製する。これにより1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ
シクロヘクサ−3−エン五50g(55チ)を得、これ
をシイルブチューブX溜(140−145ン6 X 1
0 mmHg )によって精製する。無色の油状物で
ある。
グラフィー(移動相:9二1ヘキサン/酢酸工≠ル)で
精製する。これにより1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ
シクロヘクサ−3−エン五50g(55チ)を得、これ
をシイルブチューブX溜(140−145ン6 X 1
0 mmHg )によって精製する。無色の油状物で
ある。
元素分析 C11H14Pz (202,23)計算−
C77,20係H698チ015.82係実測値 C7
Z11憾H6,8’9チ015.92係1−フェニル−
2−トリメチルシリルオキシプロプ−2−エン−1−オ
ンをブタジェンの代りにイソプレンと反応させると、同
様の方法によって、バルブチューブ蒸溜(150°/+
H)6rrmHg)精製後番と次の元素分析□値を持つ
油状物が得られる。 □ C,、H,60,(216,28) 計算 イj C7Z75% H7,461014
,801実測値 C77,881H7,62fJC)1
4.814’f(−NMR(250MH2)ニより、’
Cレバ1− ベンゾイル一層−ヒドロキシ−4−7′チ
ルシクロへラス−3−エン約′75係と1−ベンゾイル
−1−ヒト[]]キシー5−メチルシクへラス−6−エ
ン約25俤の混合物である。
C77,20係H698チ015.82係実測値 C7
Z11憾H6,8’9チ015.92係1−フェニル−
2−トリメチルシリルオキシプロプ−2−エン−1−オ
ンをブタジェンの代りにイソプレンと反応させると、同
様の方法によって、バルブチューブ蒸溜(150°/+
H)6rrmHg)精製後番と次の元素分析□値を持つ
油状物が得られる。 □ C,、H,60,(216,28) 計算 イj C7Z75% H7,461014
,801実測値 C77,881H7,62fJC)1
4.814’f(−NMR(250MH2)ニより、’
Cレバ1− ベンゾイル一層−ヒドロキシ−4−7′チ
ルシクロへラス−3−エン約′75係と1−ベンゾイル
−1−ヒト[]]キシー5−メチルシクへラス−6−エ
ン約25俤の混合物である。
2.3−ジメチルブタジェンとの同様のディールスーア
/Q ’Z’ゝ−反応によって、バルブチューブ蒸溜(
140−150ンo、07 m+nng )後に無色の
油状物である1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−6,4
−ジメチルシクロへラス−6一二ンが得られる。
/Q ’Z’ゝ−反応によって、バルブチューブ蒸溜(
140−150ンo、07 m+nng )後に無色の
油状物である1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ−6,4
−ジメチルシクロへラス−6一二ンが得られる。
元2転分析 c、、II、so、 (25Cl31 )
計算値 C7a25* H7,881013,90%実
測値 C7a26=A H7,98% 013t85係
実施例2 ブイールスーアルダー反応によるエキソ/エンド−2−
ベンゾイル−2−ヒドロキシドシクロC2,2,2)オ
クト−5−エンの調製予じめ乾燥した装置中でアルゴン
雰囲気下に、1−フェニル−2−トリメチルシリルオキ
シプロプ−2−エン−1−オン8g(36ミリモル)を
乾燥メチレンクロリド40m1に溶解し、新たに蒸溜し
た1、6−シクロへキサジエン10mt(100ミlJ
モル)を加える。この溶液を水浴中で0″Cに冷却し、
三フッ化ホウ累−エーテラート4.6ml (56ミリ
モル)をUDえる。この反応混合物を最初0°Cで、次
いてY温で4H6間攪拌する。ロータリーエバポレータ
ーで過剰のシクロへキザジ上ンと共ζこ溶媒を榴云し、
残った残渣をメタノール250 mlとIN塩酸25m
7に敗り出す。この混合物を室温で60分子’−r’J
Q拌する。
計算値 C7a25* H7,881013,90%実
測値 C7a26=A H7,98% 013t85係
実施例2 ブイールスーアルダー反応によるエキソ/エンド−2−
ベンゾイル−2−ヒドロキシドシクロC2,2,2)オ
クト−5−エンの調製予じめ乾燥した装置中でアルゴン
雰囲気下に、1−フェニル−2−トリメチルシリルオキ
シプロプ−2−エン−1−オン8g(36ミリモル)を
乾燥メチレンクロリド40m1に溶解し、新たに蒸溜し
た1、6−シクロへキサジエン10mt(100ミlJ
モル)を加える。この溶液を水浴中で0″Cに冷却し、
三フッ化ホウ累−エーテラート4.6ml (56ミリ
モル)をUDえる。この反応混合物を最初0°Cで、次
いてY温で4H6間攪拌する。ロータリーエバポレータ
ーで過剰のシクロへキザジ上ンと共ζこ溶媒を榴云し、
残った残渣をメタノール250 mlとIN塩酸25m
7に敗り出す。この混合物を室温で60分子’−r’J
Q拌する。
これを氷冷した重炭酸す1・゛リウム溶敢100mt中
に注ぎ、15分間撹拌後、ロークリ−エバボレークーで
濃縮する。残存水相(ジ毛チrwx−デルで抽出し、抽
出物8仙C岐マグネシウムで脱水後、溶媒を溜去する。
に注ぎ、15分間撹拌後、ロークリ−エバボレークーで
濃縮する。残存水相(ジ毛チrwx−デルで抽出し、抽
出物8仙C岐マグネシウムで脱水後、溶媒を溜去する。
残置油状物をシリカゲルによるフラッシュクロマトグラ
フィ〜(わルウ相:9:1ヘキサン/酢酸エチル)でh
tjAする。
フィ〜(わルウ相:9:1ヘキサン/酢酸エチル)でh
tjAする。
主要画分なバルブナユーブ蒸溜(15Cl’C/(10
7nrnHg )で精製することlこより無色の?+i
l状物5.67g(65%)が得らイーしる。こinは
’ H−N M R分析の結果約52俤のエンド−と2
4≠のエキツー2−ベンゾイル−2−しドUキシビシク
ロ〔2゜2.2〕オクト−5−エンき24条の2−ヒド
ロキシ−2−フェニルビシクロ〔5,2,2〕ノン−6
−エン−3−オンから成っている。ここに言うエンド−
とエキソはベンゾイル基の立***置に関係している。こ
れらの成分はシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
ー(移動相:9:1ペンタン/酢酸エチル)を繰返すこ
とによって分離することができる。
7nrnHg )で精製することlこより無色の?+i
l状物5.67g(65%)が得らイーしる。こinは
’ H−N M R分析の結果約52俤のエンド−と2
4≠のエキツー2−ベンゾイル−2−しドUキシビシク
ロ〔2゜2.2〕オクト−5−エンき24条の2−ヒド
ロキシ−2−フェニルビシクロ〔5,2,2〕ノン−6
−エン−3−オンから成っている。ここに言うエンド−
とエキソはベンゾイル基の立***置に関係している。こ
れらの成分はシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィ
ー(移動相:9:1ペンタン/酢酸エチル)を繰返すこ
とによって分離することができる。
エンド−2−ペンジイル−2−ヒドロキシビシクロ(2
,2,2)オクト−5−エン 融点69°C(ジエチル
ニーデル/ペンタンから再結晶)元素分析 C□、H,
60□(22a27)計算値 C7a924 H7,0
7% 014.029J実測値 C7&75% I−(
7,00% 014.02%エキソ−2−ベンゾイル−
2−ヒドロキシビシクロ〔2,2,2〕オクト−5−エ
ン 融ノ気47−50°C 元素分析 c、、 H,6o、 (22a27 )計H
値 C7a92s H7,o71 oi4.02惨実測
値 C1934H7,01% 013.8996実施例
5 グリニヤール合成による1−ベンゾイル−1−ヒドロキ
シシクロへジス−2−エンの’ii+g ma) 2−シクロヘキセン−1−オン0.1モルを、不活性気
体(窒素)下に室温でト1ツメチルシリルシアニドQ、
11モル占ひとつまみの無水ヨウ化亜鉛に対し南下して
加える。こσ)1寺に0.A度は600乃至70°に上
昇する。この混合9勿を次いでioo’cで6時間加熱
し、その1麦(こ蒸溜スル。沸点は70−72°/ll
TlTlHg o収率(工90チ。
,2,2)オクト−5−エン 融点69°C(ジエチル
ニーデル/ペンタンから再結晶)元素分析 C□、H,
60□(22a27)計算値 C7a924 H7,0
7% 014.029J実測値 C7&75% I−(
7,00% 014.02%エキソ−2−ベンゾイル−
2−ヒドロキシビシクロ〔2,2,2〕オクト−5−エ
ン 融ノ気47−50°C 元素分析 c、、 H,6o、 (22a27 )計H
値 C7a92s H7,o71 oi4.02惨実測
値 C1934H7,01% 013.8996実施例
5 グリニヤール合成による1−ベンゾイル−1−ヒドロキ
シシクロへジス−2−エンの’ii+g ma) 2−シクロヘキセン−1−オン0.1モルを、不活性気
体(窒素)下に室温でト1ツメチルシリルシアニドQ、
11モル占ひとつまみの無水ヨウ化亜鉛に対し南下して
加える。こσ)1寺に0.A度は600乃至70°に上
昇する。この混合9勿を次いでioo’cで6時間加熱
し、その1麦(こ蒸溜スル。沸点は70−72°/ll
TlTlHg o収率(工90チ。
NMRスペクトルは上記の構造をこ一致A−る。
b)
r)
臭化フェニルマグネシウム(11モルをジエチルエーテ
ル60m1中で等モル景のブロモベンゼンとマグネシウ
ム末から調製する。反応が完結した時に、混合物を脱水
トルエン100mtで希釈し、減圧下にエーテルを70
°で除去する。トルエン201?Itに1−シアノ−1
−トリメチルシリルオキシシクロへラス−2−エンα0
9モルを溶解した溶液を5°で滴下して加える。この混
合物を室温で4−5時間反応させ、次いで冷却しつつ酢
酸の25チ水溶液100mtを滴下して加える。混合物
を室温で更にしばらくの間攪拌する。ジエチルエーテル
100m1を加えた後、有機溶媒相を水、次いで炭酸ナ
トリウム溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を
除く。
ル60m1中で等モル景のブロモベンゼンとマグネシウ
ム末から調製する。反応が完結した時に、混合物を脱水
トルエン100mtで希釈し、減圧下にエーテルを70
°で除去する。トルエン201?Itに1−シアノ−1
−トリメチルシリルオキシシクロへラス−2−エンα0
9モルを溶解した溶液を5°で滴下して加える。この混
合物を室温で4−5時間反応させ、次いで冷却しつつ酢
酸の25チ水溶液100mtを滴下して加える。混合物
を室温で更にしばらくの間攪拌する。ジエチルエーテル
100m1を加えた後、有機溶媒相を水、次いで炭酸ナ
トリウム溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を
除く。
シリルエーテルを加水分解するために、得られた残浩を
3N塩酸と一夜攪拌する。この混合物を水で希釈し、ジ
エチルエーテルで6回抽出する。抽出分を合せて、重炭
酸す) IJウム溶液と振とうし、硫酸ナトリウムで脱
水してロータリーエバポレーターで蒸発濃縮する。残っ
た粗生成物は黄色油状物である。
3N塩酸と一夜攪拌する。この混合物を水で希釈し、ジ
エチルエーテルで6回抽出する。抽出分を合せて、重炭
酸す) IJウム溶液と振とうし、硫酸ナトリウムで脱
水してロータリーエバポレーターで蒸発濃縮する。残っ
た粗生成物は黄色油状物である。
この粗生成物をシリカゲルカラムによるクロマトグラフ
ィーで精製する。酢酸エチルを10チ含むヘキサンを溶
媒として使用し、純粋な1−ベンゾイル−1−ヒドロキ
シシクロへジス−2−エンを40−50%収率で無色の
油状物として得る。
ィーで精製する。酢酸エチルを10チ含むヘキサンを溶
媒として使用し、純粋な1−ベンゾイル−1−ヒドロキ
シシクロへジス−2−エンを40−50%収率で無色の
油状物として得る。
そのNMRスペクトルは上記の構造と一致する。
元素分析 CIRH1402
計算値 C77,20チ H498%
実測値 C7Z13* H7,02+6実施例4
う7カー樹脂の光重合
アクチランAJ 20 (UCB 、ベルギー製のアク
リレート樹脂)50部、トリメチロールプロパントリス
アクリレート15部、ジシクロペンタジェニルオキシエ
チルアクリレート15部、ヘキサンジオールジアクリレ
ート10部、N−ビニルピロリドン10部および光開始
剤2部から成る樹脂混合物をフィルI・アプリケーター
を使ってガラス板上に40μm厚に塗布する。このフィ
ルムを約20秒間大気にさらした後、中圧水銀ランフ(
モデル45080ハノビアインストラメント1(anO
Vla 1nstrLInlent)で照射する。次い
でこの試料ヲヘルトコンベアーに載せて20 m 7分
の速度で紫外酢ランプ下を通過させる。
リレート樹脂)50部、トリメチロールプロパントリス
アクリレート15部、ジシクロペンタジェニルオキシエ
チルアクリレート15部、ヘキサンジオールジアクリレ
ート10部、N−ビニルピロリドン10部および光開始
剤2部から成る樹脂混合物をフィルI・アプリケーター
を使ってガラス板上に40μm厚に塗布する。このフィ
ルムを約20秒間大気にさらした後、中圧水銀ランフ(
モデル45080ハノビアインストラメント1(anO
Vla 1nstrLInlent)で照射する。次い
でこの試料ヲヘルトコンベアーに載せて20 m 7分
の速度で紫外酢ランプ下を通過させる。
不粘着性フィルムを得るために必要な通過回数を下表の
第1欄に記す。
第1欄に記す。
第2+il: jこは、通過回数を変えた後にケーニー
ノヒ1m子振装H1(1(on+g pendulum
apparatus)で測定したフィルムの硬度(D
IN53157)を示す。
ノヒ1m子振装H1(1(on+g pendulum
apparatus)で測定したフィルムの硬度(D
IN53157)を示す。
最後の欄には黄色化の基準として硬化フィルムの黄色度
指し: (YI)を示す。
指し: (YI)を示す。
Claims (10)
- (1)次式r、 n、叱■または■: (式中、 Arは未置換または1種またはそれ以上の)・ロゲン原
子、フェニル基、炭素原子数1乃至12のアルキル基、
炭素原子数5乃至8のシクロアルキル基、水酸基、炭素
原子数1乃至4のアルコキシ基、フェノキシ基、−5H
基、炭素原子数1乃至4のアルキルチオ基、フェニルチ
オ基、2−ヒドロギシエチルテオ基、炭素原子数2乃至
5のアルカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、炭素
原子数2乃至12のジアルキルアミン基、ピロリジノ基
、ピペリジノ基、モルフォリノ基、4−メチルピペラジ
ノ基またはべ/ジイル基によって置換された炭素ふ十数
6乃至12のアリール、チェニル、ピリジルまたはフリ
ル基を表わし、 R1,R1’、 R2,R3,R3’、 R4,R4’
、 R5およびRb2はだがいに独立して、水素原子、
炭素原子数1乃至8のアルキル基、フェニル基または炭
素原子数3乃至8のアルケニル基を表わし、Xは 式: −N (R6) (R’) (式中、 R6およびR7は/ζがいに独立に水素原子、炭素IQ
子十数乃至12のアルキル基または水酸基、炭素原子数
1乃主12の アルコキシ基、炭素原子数2乃至5の カルボアルコキノ基またはシアン基に よって直換された炭素原子数2乃至4 のアルギル、炭素原子数6乃至5のア ルケニル、ノクロアルキル、炭素原子 数7乃至9のンエニルアルキルーまだはフェニル基金衣
わずか、または R6およびR7はいつし、よになって−〇−ま;ケは式
: −N (CH3) − 一’C表わされる基によって中断されていでもよい炭素
原子数6乃至5のアルキ レン基を表わす)で表わされる塾、 式ニーOR” (式中、 R8は水′4b原子、炭素原子数1乃至12のアルキル
基、炭素原子数5乃至12の アルコキシ−アルキル基、炭素原子数6乃至5のアルク
ニル基、ベンジル基、 フェニル基−まだは2−テトラヒドロピラニル基を表わ
す)で衣わ゛される鬼才たは 式: −08i (R9Lz(R10)(式中、R9お
よびRIOは炭素原子数1乃至4のアルキル層重たU、
)x にル基を表わす)で表わされる基を表わし5、 Yは水素原子、シアン基、カルボキシル基、式: −C
OOR” (式中、 R11は炭素原子数1乃至12のアルギル基、炭素原子
数2乃至4のヒドロギンアル キ1し基、炭素原子数6乃至8のアルコキシアルキル基
またはンクロヘキシル 基(C−表わす)で表わされる基、 式ニーC0−R12 (式中、 R12は水素原子または炭素原子数1乃全4のアルギル
基を表わす)で表わσれる 基υ団 式ニーCO−フェニル で表わきれる基を表わし、 Y′は水素原子、カルボキシル基または式: −COO
R11 (式中 R11は前に示した慧味を表わす)で表わされる基を表
わすか、才たは YおよびY′はいっしょになって−co−o−co−基
全表わし、 Z &+L−C)(2−周、−Cl2C)(2−基、−
C(C)Isb−基、1 −C−基または−0−を表わす)で表わされる化合物の
一神−またはそれ以上を光開始剤として使1#]するこ
とを特徴とする、アロイル化合物群に属する光開始剤の
存在下での不飽和化合物の光重合法。 - (2)使用する九開始?illが 式 1. II、 II、 IV ま た()
ゴiv(式中、 Arは未IN換捷たは塩素原子、炭素原子数1乃至4の
アルキル基、炭素原子数1乃至4のアルコキシ基、炭素
原子数1乃至4のアルギルチオ基、2−ヒドロギンア ルチオ基、フェノキン基、)c = ルチオ層重たはベ
ンゾイル基によっ゛C置換された炭素原子数6乃至10
のアl−ル基を表わし、 R1,R2,J R4およびR5はたがいに独立に水素
原子、フェニル基またはメチル基−を表わし、 R1’、 RJ’、 R”オjヒR5′v:を水素原子
を表わし、Xは 式 : 〜N (R6) (R’) (式中、 R6およびR7けたがいに独立に水素原子、炭素原子数
1乃至4のアル・キル)!:、または炭素原子数6乃至
5のアルケニ ル基を表わすか、−またはこのふたつ の基はいっしょになり”c−0−またけ式ニーN(CH
3)−で表わされる基によって中断され°Cいてもよい
炭素原子 数6乃至5のアルキレン基を表わす) で表わされる基、 式ニー0RB (式中、 R8は水素原子、炭素原子数1乃至12のアルキル基、
炭素原子数6乃至5 のアルケニル基、ベンジル基またば 2−テトラヒドロピラニル基を表わ す)で表わされる基または 式: −05i(R’)3 (式中 R9はメチル基まだはフェニル基を表わす)で
表わされる基を表わし、 Yはシアン基または 式: −COOR11 (式中 R11は炭素原子数1乃至4のアルキル基を表
わす)で表わされる基を表わし、 Y′は水素原子または 式: −COORII (式中、R1+は前に示した意味を表わす)で表わされ
る基を表わし、 Zは−CH2−基、−CH2CH2−基、−C(CHs
)z−暴徒たは一〇−を表わす)で表わされる一種また
はそれ以上の化合物である特許請求の範囲第1項記載の
方法。 - (3)使用する光開始剤が 式1. II、叱■および■ (式中、 Arはフェニル基または塩素原子、メチル基、メトキン
基、−5CH3基、フェノキシ基マたはベンゾイル基に
よって置換されたフェニル基を表わし、 R1,R2,R3,R4およびR5はたがいに独立に水
素原子まだはメチル基を表わし、 R1’、 R3’、 R4’およびRb2は水素原子を
表わし、XU式: −N (R61(R7) (式中、 R6およびR7は炭素原子数1乃至4のアルキル基を表
わすか、捷たは R6およびR7はいっしょになって一〇−または式:
−N(CH31−で表わされる基で中断されていてもよ
い炭素原子数 3乃至5のアルキレン基を表わす) で表わされる基、 式: −0RB (式中 R8は水素原子、メチル基、アリlし暴徒たは
ベンジル基を表わす)で表わされる基または 式: −O5i (R’)3 (式中、R9はメチル基を表わす)で表わされる基を表
わし、 Zは−CH2〜基、−CH2CH2−基まだは一〇−を
表わす)で表わされる一種またはそれ以上の化合物であ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (4)使用する光開始剤が 式I(式中、Xは水酸基を表わし、他の残りのものは特
許請求の範囲第6項に示しだ意味を表わす)で表わされ
る一種またはそれ以上の化合物である特許請求の範囲第
3項記載の方法。 - (5)光重合を紫外線照射によって行う特許請求の範囲
第1項記載の方法。 - (6)−拙捷たはそれ以上の七ツマ−またはオリゴマー
のエチレン性不飽和化合物および式1. [1,Ill
、 IV捷たは■:(式中、 Arは未IA’換捷たは1 Jili−またはそれ以ト
のハロゲン原子、フェニル故、炭素原子数1乃至12の
アルギル基、炭素原子数5乃至8のゾク[〕アルキル基
、水酸基、炭素j京十数1ノ11全4のアルコギン基、
フT−7ノギソ基、−5H基、炭り原子数1乃至4 (
7)“γルギルチオ基、ノエニルチオ故、2−ヒドロキ
ノエチルチオ基、炭素原子数2乃¥−5のアルカノイル
アミノ基、ベンヅイル了イ、ノ基、1笈JA原子危2乃
ヤ12のシアルキノ【アミン厚、ビロリジノノ人、ヒベ
リジノ^(、士ルフォリノ、H14−メヂjlビ〈ラジ
ノ基−またはベンゾイル基によっ装置11浸された炭素
1京十数6乃f:12のアリ−ル、チェニル、ヒリジル
ま* rs)−リル基を表わし、 R’、 R1′、 R2,Rj、 Rs7.
R4,R4+、 R5お・よびR’V−,j。 たがいに独立に水素原子、炭素原子数1伯−1“8のノ
゛!レキル基、フェニル基−ま&−&ま炭素原子数5乃
至8のアJトケニル基(l−表わし、 Xは ・ 式ニーN (R61(R’1 (式中、 Rb:l、よびR7はたがいに独立に水素1京子、炭素
原子数1乃三屓12のアルギル基 −またに1、水酸基、炭素原子数1乃至1217’+
フルコギノ基、炭素原子数2乃至5のカルボ−7′ルコ
吠シ基甘たは/アノ)Jによって16換された炭素原子
数2乃至4のアルキル、炭湘原子数6 乃至5のアルタニル、シクロアルギ ル、炭素原子数7乃至9のフコニル アルギル−ま7i−はフェニル基を衣わ−J−か、捷f
cは R’ :F、・よびR7はし・1つしょに々って−0−
才たは式: −N (Chis) − で表わさtする基によって中1411iされていてもよ
い炭素原子数5乃至5のア ルキレン基を表わす)で衣わ・、)れる基、 式 二 −一 OR@ (式中、 R8r:i水素原子、炭素原子数1乃至12のアルギル
基、炭素原子数6乃至12 の一γルコギシアルキル基、炭素原子 数5乃主5のア・レケニル基、ベンジ ル、)、4 、フLニル基−または2−テトラヒドロヒ
ラニル4:を表わす)で表わ され、6基または 式: −O8i (R’)x (RlO)(式中、 R9およびRIOは炭素原子数1乃至4のアル・キル基
またはフェニル基を表わす)で表わされる基を表わし7
、 Yは水素原子、ンアノ基、カルボキ/ル基、式: −C
00R11 (式中、 R11は炭素原子敬1乃至12のアルギル基、炭素原子
数2乃至4のにド[1キ 7アルキル基、炭素原子数3乃¥8 のアルコギンアルキル基またはシク ロヘキンル基を表わす)で表わされ る基、 式ニーC0−RI2 (式中、 R12は水素原子−または炭素原−十数1乃至4の一γ
ルキル基を表わす)で表わさ れる基または 式ニーCO−フェニル で表わされる基金表わし、 Y′は水素原子、力・レボキシル基−または式: −C
OOR” (式中、 R11は前に示した意味を表わす)で表わされる基を表
わすか、または YおよびY′はいっしょになって−co−o−co−基
を表わし、 Zけ−CH,−基、−CH2CH2−基、−C(CH3
12−基、−C−基または−0−を表わす)で表わされ
る化合物の一棟またはそれ以上を含む光重合性混合物。 - (7) 印刷インクとし゛C顔料を含む特許請求の範
囲第6項記載の光重合性混合物。 - (8)式1. II、 l11−または■(式中、 xh式: −N (R6) (R’) (式中、 R6およびR7は特許請求の範囲第6項に示した意味を
表わす)で表わされる基を 表わし、 Arは水酸基、炭*原子遂1乃至4のアルコキシ基、フ
ェノキシ基、−5H基、炭素原子数1乃−至4のアルキ
ルチオ層重たは2−ヒドロキンエチルチオ基によって置
換されたフェニル基を表わす)で表わされる化合物を光
開始剤として含み、印刷インクとして顔料を含む特許請
求の範囲第6項記載の光重合性混合物。 - (9) 光重合性化合物に対し光開始剤を0.1乃至
20重量饅、特に0.5乃至5重量%含む特許請求の範
囲第6項記載の光重合性混合物。 - (10)式: (式中、 Arはフェニル基を表わし、 xtま水酸層重だは式: −05i (CHa13で表
わされる基を表わし、 R3はメチル基を表わし、 R1,R1’、 R2,R”、 R4,R4’、
R5およびRb/は水素原子を表わす)で表わされる
化合物を除く 式I、 II、 IIl、 IVまたは■:(式中、 Arは未置換捷たは1種またはそれ以上のハロゲン原子
、フェニル基、炭素原子数1乃至12のアルキル基、炭
素原子数5乃至8のシクロアルキル基、水酸基、炭素原
子数1乃至4のアルコキシ基、フェノキシ基、−5H基
、炭素原子数1乃至4のアルキルチオ基、フェニルチオ
基、2−ヒドロキシエチルチオ基、炭素原子数2乃至5
のアルカノイルアミ7基、ベンゾイルアミノ基、炭素原
子数2乃至12のジアルキルアミノ基、ピロリジノ基、
ピペリジノ基、モルフォリノ基、4−メチルピペラジノ
基またはベンゾイル基によって置換された炭素原子数6
乃至12のアリール、チェニル、ピリジルまたはフリル
基を表わし、 R1,R1’、 R2,R3,R”、 R4,Rν
R5およびR5/はだがいに独立に水素原子、炭素原
子数1乃至8のアルキル基、フェニル基または炭素原子
数6乃至8のアルケニル基を表わし、 Xは 式 : −N(R6) (R7) (式中、 R6およびR7はたがいに独立に水素原子、炭素原子数
1乃至12のアルキル基 または水酸基、炭素原子数1乃至12 のアルコキシ基、炭素原子数2乃至 5のカルボアルコキソ基またはンア ノ基によっ°C首換された炭素原子数 2乃贋4のアルキル、炭素J京十数6 乃至5のアルク−ニル、7770了ルギル、炭素原子数
7乃芋9の7エニル アルギルまたはノエニル5h(金表わすか、−または R6およびR7はいっしょになって−0−jたは式ニー
N(CH3)−で表わされる基によって中断されていて
もよい炭素 原子数6乃至5のアルギレン基金表 わす)で表わ窟れる基、 式ニー0R8 (式中、 R8け水素原子、炭素原子数1乃至12のアルキル基、
炭素原子数5乃至12 のアルコギシアル・キル基、炭素原子 数5乃全5のアルケニル基、ベンジ ル基、フェニル層重たは2−デトラ E−ドロピラニル基を衣わず)で表わ される故または 式: −OS i (R9)2(R” )(式中 R9
およびRIOは炭素原子数1乃〒4のアルキル基−まだ
は)−rニル基を表わす)で表わされる基金ktつし、 Yは水素原子、ンアノ基、カルボキシル基、武: −C
OOR11 (式中、 RIIは炭素j叡十数1乃至12のアルキル基、炭素原
子数2万至4のヒドロギ ンアルギル基、炭素原子敬6乃至8 のアルツギ/アルキル基1だはシク ロヘキンル基?表わす)で表わされ イ)基、 式: −CO−R12 (式中、 R12は水素原子−!!たけ炭素原子数1乃至4のアル
キル基を表わす)で表わさ れる層重たは 式ニー〇〇−フ℃ニル で表わされる基を表わし、 Y′は水素原子、カルボキシル 式: −COORII (式中、 R11は前に示した前味を表わす)で表わされる基を表
わすか、−または YおよびY′はいっしょになってーcoーoーcoー基
を表わし、 Zは一CH2−基、−CH,CH2−基、−C(C)(
3)z−C− される化合物。 一′ /′ 、′/ 2、−″
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6211490A (ja) * | 1985-07-06 | 1987-01-20 | 株式会社 銀座山形屋 | 縫製装置 |
JPH0515695U (ja) * | 1991-08-09 | 1993-02-26 | 市光工業株式会社 | 駆動装置におけるスイツチ回路 |
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DE3473359D1 (de) * | 1983-06-29 | 1988-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosolubilizable composition |
IT1176018B (it) * | 1984-04-12 | 1987-08-12 | Lamberti Flli Spa | Chetoni aromatico alifatici polimerici o polimerizzabili adatti all'impiego come fotoiniziatori di polimerizzazione |
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EP0003002B1 (de) * | 1977-12-22 | 1984-06-13 | Ciba-Geigy Ag | Verwendung von aromatisch-aliphatischen Ketonen als Photoinitiatoren, photopolymerisierbare Systeme enthaltend solche Ketone und neue aromatisch-aliphatische Ketone |
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1983
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- 1983-06-15 JP JP58107608A patent/JPS5921638A/ja active Pending
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JPS6211490A (ja) * | 1985-07-06 | 1987-01-20 | 株式会社 銀座山形屋 | 縫製装置 |
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CA1221102A (en) | 1987-04-28 |
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EP0097124A3 (en) | 1984-09-05 |
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