JPS59208552A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
感光性平版印刷版Info
- Publication number
- JPS59208552A JPS59208552A JP58083305A JP8330583A JPS59208552A JP S59208552 A JPS59208552 A JP S59208552A JP 58083305 A JP58083305 A JP 58083305A JP 8330583 A JP8330583 A JP 8330583A JP S59208552 A JPS59208552 A JP S59208552A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- diazo
- resin layer
- diazo resin
- layer
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性平版印刷版(以下28版と称する)に関
するものであり、更に詳しくは保存安定性が良く、耐刷
性に侵れ且つ弱アルカリ水溶液で現像できるネガ型フォ
トポリマー系の28版に関するものである。
するものであり、更に詳しくは保存安定性が良く、耐刷
性に侵れ且つ弱アルカリ水溶液で現像できるネガ型フォ
トポリマー系の28版に関するものである。
28版の感光層には一般にジアゾ系感光材が多く使用ざ
ノしている。例えば、ポジ型PS版にはCt−ナフトキ
ノンジアジド、ネガ型28版には4−ジアゾジフェニル
アミン祉たは3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミ
ンなどとホルムアルデヒドとの縮合物(以下ジアゾ樹脂
と称する)が主に使用されている。
ノしている。例えば、ポジ型PS版にはCt−ナフトキ
ノンジアジド、ネガ型28版には4−ジアゾジフェニル
アミン祉たは3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミ
ンなどとホルムアルデヒドとの縮合物(以下ジアゾ樹脂
と称する)が主に使用されている。
このジアゾ樹脂は、高分子化合物と混合することによシ
、ラッカー盛りなしでも耐刷力のある平版印刷版を得る
ことができ、しかも容易に界面活性剤を含む水系現像液
で現像できるため、ネガ型28版の感光層として多量に
使用されている。またこのジアゾ樹脂は、28版の製造
に際しては保存安定性を向上させるために、特公昭47
−1167号公報に示されるような水不溶性の形にして
使用されているが、溶液になると熱あるいは湿度に対し
て本質的に弱く、このためにジアゾ樹脂を1吏用したネ
ガ型psNiは、製造ロットによる経時安定性、画像強
度、耐刷性などの性能において、溶剤現像タイプの7オ
トボリマーをg光層としたP’SM、に比べて劣ってい
る。
、ラッカー盛りなしでも耐刷力のある平版印刷版を得る
ことができ、しかも容易に界面活性剤を含む水系現像液
で現像できるため、ネガ型28版の感光層として多量に
使用されている。またこのジアゾ樹脂は、28版の製造
に際しては保存安定性を向上させるために、特公昭47
−1167号公報に示されるような水不溶性の形にして
使用されているが、溶液になると熱あるいは湿度に対し
て本質的に弱く、このためにジアゾ樹脂を1吏用したネ
ガ型psNiは、製造ロットによる経時安定性、画像強
度、耐刷性などの性能において、溶剤現像タイプの7オ
トボリマーをg光層としたP’SM、に比べて劣ってい
る。
また、篩分子化合物を混合した場合も、感光液は室温で
不安定なため、ジアゾ樹脂と高分子化合物を混合した後
数時間ないし数日間以内にその感光液を使用しなければ
ならない。更にまたとのジアゾ感光液はローラー塗布機
などにより手、に械的に紳られると、ジアゾ化合物の分
解が促伍されて数時間で使用不能となってし捷う。
不安定なため、ジアゾ樹脂と高分子化合物を混合した後
数時間ないし数日間以内にその感光液を使用しなければ
ならない。更にまたとのジアゾ感光液はローラー塗布機
などにより手、に械的に紳られると、ジアゾ化合物の分
解が促伍されて数時間で使用不能となってし捷う。
このようにジアゾ、(4!脂は溶媒に溶かされた時から
時間の経過と吉もに分解していくので、高分子化合物を
混合したジアゾ感光液の管理が非常にlie L、 <
、特に湿層及び湿度の高い夏期においてはとのジアゾ
感光液を用いる28版の製造は至難である。
時間の経過と吉もに分解していくので、高分子化合物を
混合したジアゾ感光液の管理が非常にlie L、 <
、特に湿層及び湿度の高い夏期においてはとのジアゾ
感光液を用いる28版の製造は至難である。
(発明の目的)
本発明は上記従来技術の問題点を解決するためのもので
あり、その目的とするところはジアゾ系ネガ型28版と
同じく容易に界面活性剤を含む弱アルカリ水溶液で現像
することができ、且つフォトポリマータイプの28版と
同様の経時安定性、画像強度、耐刷性などを備えもつネ
ガ型28版を捺供することにある。
あり、その目的とするところはジアゾ系ネガ型28版と
同じく容易に界面活性剤を含む弱アルカリ水溶液で現像
することができ、且つフォトポリマータイプの28版と
同様の経時安定性、画像強度、耐刷性などを備えもつネ
ガ型28版を捺供することにある。
(発明の構成)
すなわち本発明の感光性平版印刷版は、親水性表面を有
する支持体上に感光性ジアゾ樹脂層を形成し、該層上に
側鎖に芳香族アジド基を有する酸価10〜100の感光
性ポリビニルアセクール樹脂層を形成させることを特6
Vとする。
する支持体上に感光性ジアゾ樹脂層を形成し、該層上に
側鎖に芳香族アジド基を有する酸価10〜100の感光
性ポリビニルアセクール樹脂層を形成させることを特6
Vとする。
本発明に用いるジアゾ樹脂は溶媒に溶解して塗布するが
、この際に時間とともに分解していくジアゾ樹脂を濾過
により簡単に除去することができるので、高分子化合物
を混合したジアゾ系感光液を使用する場合のような廃棄
処理による感光液の損失もない。またジアゾ樹脂層は、
上層の7オトボリマーによって外気とBU tJfrさ
れる形となるので、ジアゾ化合物の湿度による分解が抑
制され、従って安定したPS版を製造することが可能と
なる。
、この際に時間とともに分解していくジアゾ樹脂を濾過
により簡単に除去することができるので、高分子化合物
を混合したジアゾ系感光液を使用する場合のような廃棄
処理による感光液の損失もない。またジアゾ樹脂層は、
上層の7オトボリマーによって外気とBU tJfrさ
れる形となるので、ジアゾ化合物の湿度による分解が抑
制され、従って安定したPS版を製造することが可能と
なる。
本発明に使用される親水性を持つ支持体とは、平版印刷
機にとりつけて標準的な条件で印刷を行った場合に、湿
し水で表面が濡れてインキを反撥することができる表面
をもった板素材をbう。紙、プラスチックを支持体とす
る場合には、親水基を有する樹脂を塗布したり、あるい
は化学的処理をして親水性表面とする。金属特にアルミ
ニウムを支持体とする場合には、砂目立て処理、ケイ酸
ソーダ、7フ化ジルコニウム酸カリウムなどの水溶液を
使用した浸漬処理、あるいはfill酸化処理などの表
面処理をすることが好1)シい。
機にとりつけて標準的な条件で印刷を行った場合に、湿
し水で表面が濡れてインキを反撥することができる表面
をもった板素材をbう。紙、プラスチックを支持体とす
る場合には、親水基を有する樹脂を塗布したり、あるい
は化学的処理をして親水性表面とする。金属特にアルミ
ニウムを支持体とする場合には、砂目立て処理、ケイ酸
ソーダ、7フ化ジルコニウム酸カリウムなどの水溶液を
使用した浸漬処理、あるいはfill酸化処理などの表
面処理をすることが好1)シい。
本発明に用いられる感光性ジアゾ樹脂は、4−ジアゾジ
フェニルアミン、3−メトキシ−4−シフ7”ジフェニ
ルアミン、2,5−ジェトキシ−4−ジアゾ(トリルメ
ルカプト)ベンゼンなどのジアゾ化合物の塩と、パラホ
ルムアルデヒド、4.4′−ビス−(メトキシメチル)
ジフェニルエーテルなどの縮合剤を用いて縮合反応させ
て皮膜形成能を有するジアゾ樹脂とし、更にヘキサフル
オロホスフェート、テトラフルオロボレート、P−)ル
エンスルホネート、メンチレンスルポネート、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホネー
トナトト反応させてその塩として単離し使用する。これ
らの感光性ジアゾ樹脂は、水、メタノール、メチル七ロ
ンルプ、ジメチルホルムアミド、r−ブチロラクトンな
どの有機溶媒に溶解して塗布する。この時の塗布乾燥後
の膜厚は0.5μm以下が好ましく、これよシ厚くなる
と現イぽ時間が長くなる。
フェニルアミン、3−メトキシ−4−シフ7”ジフェニ
ルアミン、2,5−ジェトキシ−4−ジアゾ(トリルメ
ルカプト)ベンゼンなどのジアゾ化合物の塩と、パラホ
ルムアルデヒド、4.4′−ビス−(メトキシメチル)
ジフェニルエーテルなどの縮合剤を用いて縮合反応させ
て皮膜形成能を有するジアゾ樹脂とし、更にヘキサフル
オロホスフェート、テトラフルオロボレート、P−)ル
エンスルホネート、メンチレンスルポネート、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホネー
トナトト反応させてその塩として単離し使用する。これ
らの感光性ジアゾ樹脂は、水、メタノール、メチル七ロ
ンルプ、ジメチルホルムアミド、r−ブチロラクトンな
どの有機溶媒に溶解して塗布する。この時の塗布乾燥後
の膜厚は0.5μm以下が好ましく、これよシ厚くなる
と現イぽ時間が長くなる。
本発明に用いる感光性ポリビニルアセタール樹脂層、重
合y:too〜3o o oのポリビニルアルコールを
氷酢酸中でp−アジドベンズアルデヒド、1)−アジド
ケイ皮アルデヒド、1−アジド−5−ホルミルナフタレ
ンなどのアジドアリールアルデヒドでアセタール化した
後、更ニコハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル市
無水物、トリメリット酸無水物などの酸無水物でエステ
ル化しで製造する。またメタノール中でポリ酢酸ビニル
を鉱酸で加水分解を行いながらアジドアリールアルデヒ
ドで7セタール化し、更に酸無水物でエステル化すると
とKよっても製造することができる。
合y:too〜3o o oのポリビニルアルコールを
氷酢酸中でp−アジドベンズアルデヒド、1)−アジド
ケイ皮アルデヒド、1−アジド−5−ホルミルナフタレ
ンなどのアジドアリールアルデヒドでアセタール化した
後、更ニコハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル市
無水物、トリメリット酸無水物などの酸無水物でエステ
ル化しで製造する。またメタノール中でポリ酢酸ビニル
を鉱酸で加水分解を行いながらアジドアリールアルデヒ
ドで7セタール化し、更に酸無水物でエステル化すると
とKよっても製造することができる。
この7%光性ポリビニルアセタール樹脂の酸価は10〜
100が好ましい。10以下では界面活性剤を含む弱ア
ルカリ水溶液による現像が遅くなるため、現像が終了し
た後においても非画像部にインキ汚れが生じ易い。tた
、100以上では画像部の感脂性が著しく低下し、平版
印刷版の感光層に用いるには不適当である。
100が好ましい。10以下では界面活性剤を含む弱ア
ルカリ水溶液による現像が遅くなるため、現像が終了し
た後においても非画像部にインキ汚れが生じ易い。tた
、100以上では画像部の感脂性が著しく低下し、平版
印刷版の感光層に用いるには不適当である。
葦だ、アンドアリールアルデヒドは、ポリビニルアルコ
ール及びポリ酢酸ビニルに対して5〜50モル壬用いて
アセタール化するのが好ましく、5モル%以下では十分
な感光性を得ることが国難である。更に耐刷性、感脂性
を向上させるためにブチルアルデヒド、ベンズアルデヒ
ドなどを少量加えて同時にアセタール化させてもよい。
ール及びポリ酢酸ビニルに対して5〜50モル壬用いて
アセタール化するのが好ましく、5モル%以下では十分
な感光性を得ることが国難である。更に耐刷性、感脂性
を向上させるためにブチルアルデヒド、ベンズアルデヒ
ドなどを少量加えて同時にアセタール化させてもよい。
こうして得られた感光にトポリビニルアセタール樹脂は
、下層のジアゾ樹脂層に難溶なエチルセロソルブ、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキザノンなどの溶剤に溶解さ
せ、ミヒラーケトン、1.2−ベンズアントラキノン、
5−ニトロアセナフテン、N−7セチルー4−ニトロ−
1−ナフチルアミン、2−ニトロフルオレノン、ミヒラ
ーチオケトン、N−フェニルチオアクリドン、エオシン
、2−ベンゾイル−1−#fA−−β−ナフトチアゾリ
ンなどの増感剤を5〜15係添加して使用する。更に必
要に応じて染料、可塑剤、ラジカル発生剤々どを加える
ことによシPS版の性能を向上させることができる。
、下層のジアゾ樹脂層に難溶なエチルセロソルブ、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキザノンなどの溶剤に溶解さ
せ、ミヒラーケトン、1.2−ベンズアントラキノン、
5−ニトロアセナフテン、N−7セチルー4−ニトロ−
1−ナフチルアミン、2−ニトロフルオレノン、ミヒラ
ーチオケトン、N−フェニルチオアクリドン、エオシン
、2−ベンゾイル−1−#fA−−β−ナフトチアゾリ
ンなどの増感剤を5〜15係添加して使用する。更に必
要に応じて染料、可塑剤、ラジカル発生剤々どを加える
ことによシPS版の性能を向上させることができる。
本発明の感光性ポリビニルアセタール樹脂は、下層のジ
アゾ樹脂層がなくても弱アルカリ水溶液で現像可能であ
るが、親水性表面を有する支持体との密着性が悪く印刷
時に画像部が動離し易い。また、密着性を向上させるた
めに加熱乾燥を十分に行うと、現像が終了した後におい
ても非画像部にインキ汚れが発生し易い。本発明におい
て中間層として設けた感光性ジアゾ樹脂層は、親水性表
面を有する支持体と上記感光性ポリビニルアセタール樹
脂層との密着性の向上と現像後のインキ汚れ防止に役立
ってbる。
アゾ樹脂層がなくても弱アルカリ水溶液で現像可能であ
るが、親水性表面を有する支持体との密着性が悪く印刷
時に画像部が動離し易い。また、密着性を向上させるた
めに加熱乾燥を十分に行うと、現像が終了した後におい
ても非画像部にインキ汚れが発生し易い。本発明におい
て中間層として設けた感光性ジアゾ樹脂層は、親水性表
面を有する支持体と上記感光性ポリビニルアセタール樹
脂層との密着性の向上と現像後のインキ汚れ防止に役立
ってbる。
特開昭55−18621号には、親水性表面を有する支
持体上に感光性ジアゾ樹脂を塗布し、その上にインキ受
容性層として非感光性の親油性樹脂層を形成させて、感
光性平版印刷版とする方法が記載されている。これは、
現像液が下層のジアゾ樹脂層まで浸透して膨潤させた後
、非画像部を物理的に擦って除去することにより平版印
刷版を作製するもので、現像性及び画質低下に問題があ
る。また上層が非感光性で現像液に溶解する場合、画像
形成は下層のジアゾ樹脂層によシ法定されるので、上層
の親油性樹脂層は膜薄となるため耐刷力の向上は望めな
い。
持体上に感光性ジアゾ樹脂を塗布し、その上にインキ受
容性層として非感光性の親油性樹脂層を形成させて、感
光性平版印刷版とする方法が記載されている。これは、
現像液が下層のジアゾ樹脂層まで浸透して膨潤させた後
、非画像部を物理的に擦って除去することにより平版印
刷版を作製するもので、現像性及び画質低下に問題があ
る。また上層が非感光性で現像液に溶解する場合、画像
形成は下層のジアゾ樹脂層によシ法定されるので、上層
の親油性樹脂層は膜薄となるため耐刷力の向上は望めな
い。
本発明は、界面活性剤を含む弱アルカリ水溶液で、7オ
トボリマ一層と感光性ジアゾ樹脂層とを同時に溶解現像
するため、あたかも一層の7オトボリマ一層が現像され
る如くに児える。
トボリマ一層と感光性ジアゾ樹脂層とを同時に溶解現像
するため、あたかも一層の7オトボリマ一層が現像され
る如くに児える。
また、画像部の光硬化性も優れているため耐刷力が向上
し品質面でも安定した物が得られる。
し品質面でも安定した物が得られる。
本発明の感光性ポリビニルアセタール樹脂は、感光性ジ
アゾ樹脂と混合して耐刷力のあるネガ型28版の感光層
とすることもできるが、このような方法を用いた場合に
は感光液の管理が従来のジアゾ系感光液と同様難かしく
なる。
アゾ樹脂と混合して耐刷力のあるネガ型28版の感光層
とすることもできるが、このような方法を用いた場合に
は感光液の管理が従来のジアゾ系感光液と同様難かしく
なる。
本発明のネガ型28版の現像に際して1は、特公昭56
− :(9464号及び特公昭56−42860号公報
釦記載されているアニオン型界面活性剤、ベンジルアル
コール、アルカリ剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水溶液
からなる現像液や、特開昭55−138740号に記載
されているフェニルセロソルブとベンゾトリアゾールの
アミン付加塩及び界面活性剤を含む水溶液からなる現像
液などの使用が好ましい。
− :(9464号及び特公昭56−42860号公報
釦記載されているアニオン型界面活性剤、ベンジルアル
コール、アルカリ剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水溶液
からなる現像液や、特開昭55−138740号に記載
されているフェニルセロソルブとベンゾトリアゾールの
アミン付加塩及び界面活性剤を含む水溶液からなる現像
液などの使用が好ましい。
以下実施例をあげて本発明の詳細な説明するが本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例1
(1)g光性ポリビニルアセタール樹脂の合成温度計、
還流冷却器、攪拌器を備えた容量1tの三つ日丸底フラ
スコに氷酢酸200 mを入れ、攪拌しながらポリビニ
ルアルコール(M今度1000、ケン化度98モル%)
15.8P、p−アジドベンズアルデヒド13.2F、
ペンズアルデヒド0.459を加え、触媒として:3:
(%硫酸水溶液5.4 a/を添加して55℃で3時間
アセタール化反応を行う。反応終了後冷却し、エタノー
ルで反応液を希釈した後大量の水中に注入し、析出した
樹脂を戸数して水分が1%以下となるまで−Jl乾燥す
る。次に、このポリビニルアジドベンザール樹脂25f
を氷酢酸250m/に溶解させ、更に無水酢酸ソーダ4
22、コハク酸$ 71物592及びフタル酸無水物2
t6yを加え、95℃で3時間攪拌を続けてエステル化
反応を行う。反応終了後冷却し、エタノールで反応液を
希釈して大なの水中に攪拌注入し、樹脂を析出させてP
椴し、A空乾燥する。このようにして合成したAts光
性ポリビニルアセタール樹脂の酸価は48であった。
還流冷却器、攪拌器を備えた容量1tの三つ日丸底フラ
スコに氷酢酸200 mを入れ、攪拌しながらポリビニ
ルアルコール(M今度1000、ケン化度98モル%)
15.8P、p−アジドベンズアルデヒド13.2F、
ペンズアルデヒド0.459を加え、触媒として:3:
(%硫酸水溶液5.4 a/を添加して55℃で3時間
アセタール化反応を行う。反応終了後冷却し、エタノー
ルで反応液を希釈した後大量の水中に注入し、析出した
樹脂を戸数して水分が1%以下となるまで−Jl乾燥す
る。次に、このポリビニルアジドベンザール樹脂25f
を氷酢酸250m/に溶解させ、更に無水酢酸ソーダ4
22、コハク酸$ 71物592及びフタル酸無水物2
t6yを加え、95℃で3時間攪拌を続けてエステル化
反応を行う。反応終了後冷却し、エタノールで反応液を
希釈して大なの水中に攪拌注入し、樹脂を析出させてP
椴し、A空乾燥する。このようにして合成したAts光
性ポリビニルアセタール樹脂の酸価は48であった。
(2) ネガ型ps版の!、り造
厚さ0.3mのアルミニウム板をナイロンブラシと研磨
砂を用いて砂目立てした後、10嗟苛性ソーダ水溶液に
10秒間浸漬し、水洗して、次に1(l硝酸水溶液に5
秒間浸漬してデスマット後水洗し、更にこのアルミニウ
ム板を20係硫酸水溶液中で電流密度2A/d−で2分
間陽極酸化し、水洗する。その後5偶の3号ケイ酸ソー
ダ水を用いて70℃で15秒間処理し、水洗後乾燥する
。次にホエラーを用いて下記の組成の感光性ジアゾ樹脂
溶液を塗布し、60℃で3分間乾燥させる。この時の感
光性ジアゾ樹脂層の膜厚は02μmであった。
砂を用いて砂目立てした後、10嗟苛性ソーダ水溶液に
10秒間浸漬し、水洗して、次に1(l硝酸水溶液に5
秒間浸漬してデスマット後水洗し、更にこのアルミニウ
ム板を20係硫酸水溶液中で電流密度2A/d−で2分
間陽極酸化し、水洗する。その後5偶の3号ケイ酸ソー
ダ水を用いて70℃で15秒間処理し、水洗後乾燥する
。次にホエラーを用いて下記の組成の感光性ジアゾ樹脂
溶液を塗布し、60℃で3分間乾燥させる。この時の感
光性ジアゾ樹脂層の膜厚は02μmであった。
感光性ジアゾ樹脂溶液の組成
メチルセロソルブ 25グジメチルホル
ムアミド 224−ジアゾジフェニルアミン
とホルム アルデヒドとの紺0合物の2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5 −スルホネートo、5y この感光性ジアゾ樹脂を塗布した陽極酸化アルミニウム
板に、下記の組成の7オトボリマー感光液をホエラーを
用いて塗布し、80℃で3分間乾燥してPS版とする。
ムアミド 224−ジアゾジフェニルアミン
とホルム アルデヒドとの紺0合物の2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5 −スルホネートo、5y この感光性ジアゾ樹脂を塗布した陽極酸化アルミニウム
板に、下記の組成の7オトボリマー感光液をホエラーを
用いて塗布し、80℃で3分間乾燥してPS版とする。
この時の7オトボリマ一層の膜厚は1.2μmであった
。
。
フォトポリマー感光液組成
エチルセロソルブ 969感光性ポリビ
ニルアセタール樹脂4t 5−ニトロアセナフテン 041ビクトリアピ
ユアブルーB OH0,12F得られたネガ型28版に
ネガフィルムを密着させ、IKWの超高圧水銀灯を用い
て2.2mW/dの強さで1分間露光し、下記の組成の
現像液を用いて25℃で30秒間)(ット現像した後水
洗する。かくして鮮明なポジ画像の平版印刷版が得られ
た。
ニルアセタール樹脂4t 5−ニトロアセナフテン 041ビクトリアピ
ユアブルーB OH0,12F得られたネガ型28版に
ネガフィルムを密着させ、IKWの超高圧水銀灯を用い
て2.2mW/dの強さで1分間露光し、下記の組成の
現像液を用いて25℃で30秒間)(ット現像した後水
洗する。かくして鮮明なポジ画像の平版印刷版が得られ
た。
現像液組成
フェニルセロソルブ 122ベンゾトリア
ゾールトリエタノールア ミン付加塩 3tイソプロピルナ
フタレンスルホン酸ナ トリウム 6f水
250f上記
の方法によシ製造したネガ型28版は、温度40℃、湿
度75%の雰囲気中に10日以上保存しても現像の際非
画像部にインキ汚れを生じることもなく、まだオフセッ
ト印刷機に取りつけて印刷したところ10万部以上の印
刷物を安定して刷子することができた。
ゾールトリエタノールア ミン付加塩 3tイソプロピルナ
フタレンスルホン酸ナ トリウム 6f水
250f上記
の方法によシ製造したネガ型28版は、温度40℃、湿
度75%の雰囲気中に10日以上保存しても現像の際非
画像部にインキ汚れを生じることもなく、まだオフセッ
ト印刷機に取りつけて印刷したところ10万部以上の印
刷物を安定して刷子することができた。
実施例2
感光性ジアゾ樹脂溶液を、25℃で7日間放置した後に
東洋戸紙N[L 2を用いてこの溶液を濾過し、実施例
1の如く処理してネガ型28版を製造したところ、実施
例1の場合と同様の品質をもつPS版が得られた。
東洋戸紙N[L 2を用いてこの溶液を濾過し、実施例
1の如く処理してネガ型28版を製造したところ、実施
例1の場合と同様の品質をもつPS版が得られた。
(発明の効果)
上述のように本発明の感光性平版印刷版は界面活性剤を
含む弱アルカリ水溶液で現は可能であるため現像操作が
極めて容易且つ安全であシ、更に経時安定性、画像強度
、耐刷性等の性能面においても従来の液剤現像タイプの
感光性平版印刷版に比べて劣らないものとなった。
含む弱アルカリ水溶液で現は可能であるため現像操作が
極めて容易且つ安全であシ、更に経時安定性、画像強度
、耐刷性等の性能面においても従来の液剤現像タイプの
感光性平版印刷版に比べて劣らないものとなった。
特許出願人 冨士薬品工業株式会社
代理人 弁理士 萼 優 美 (ホX>−14)手続
補正書 昭和58年 6 月 13日 2°発明(7) ’(+ Isゝ感光性平版印刷版3、
補正する者 事f1との関係 特許出願人 5、補正命令の日付 7、補正の内容 (1) 明細書第1頁第19行目の「・・・Ct−ナ
フトキノンジアジド、・・・」ヲ「・・・O−ナフトキ
ノンジアジド、・−・」に補正する。
補正書 昭和58年 6 月 13日 2°発明(7) ’(+ Isゝ感光性平版印刷版3、
補正する者 事f1との関係 特許出願人 5、補正命令の日付 7、補正の内容 (1) 明細書第1頁第19行目の「・・・Ct−ナ
フトキノンジアジド、・・・」ヲ「・・・O−ナフトキ
ノンジアジド、・−・」に補正する。
(2) 明細書第5頁第20行目ないし第6頁第1行
目の「・・・スルホネートなどと反応させてその塩とし
て・・・」を「・・・スルホネートなどの反応させた塩
として・・・」に補正する。
目の「・・・スルホネートなどと反応させてその塩とし
て・・・」を「・・・スルホネートなどの反応させた塩
として・・・」に補正する。
(3) 明細書第14頁第16行目の「・・・従来の
液剤現像タイプの・・・J er、、従来の溶剤現像タ
イプの・・・」に補正する。
液剤現像タイプの・・・J er、、従来の溶剤現像タ
イプの・・・」に補正する。
Claims (1)
- 親水性を有する支持体上に感光性ジアゾ樹脂層を形成し
、該層上に側鎖に芳香族アジド基を有する酸価10ない
しIt)0の感光4・1;ポリビニルアセタール樹脂M
を形成したことを91.徴とす、る感光性平版印刷版。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58083305A JPS59208552A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | 感光性平版印刷版 |
US06/608,457 US4588669A (en) | 1983-05-12 | 1984-05-09 | Photosensitive lithographic plate with diazo resin underlayer and polyvinyl acetal resin with azide in side chain overlayer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58083305A JPS59208552A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59208552A true JPS59208552A (ja) | 1984-11-26 |
Family
ID=13798698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58083305A Pending JPS59208552A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4588669A (ja) |
JP (1) | JPS59208552A (ja) |
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US6689539B2 (en) | 2000-01-05 | 2004-02-10 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate |
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-
1983
- 1983-05-12 JP JP58083305A patent/JPS59208552A/ja active Pending
-
1984
- 1984-05-09 US US06/608,457 patent/US4588669A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4588669A (en) | 1986-05-13 |
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