JPS59208552A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
感光性平版印刷版Info
- Publication number
- JPS59208552A JPS59208552A JP58083305A JP8330583A JPS59208552A JP S59208552 A JPS59208552 A JP S59208552A JP 58083305 A JP58083305 A JP 58083305A JP 8330583 A JP8330583 A JP 8330583A JP S59208552 A JPS59208552 A JP S59208552A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- diazo
- resin layer
- diazo resin
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は感光性平版印刷版（以下２８版と称する）に関
するものであり、更に詳しくは保存安定性が良く、耐刷
性に侵れ且つ弱アルカリ水溶液で現像できるネガ型フォ
トポリマー系の２８版に関するものである。
するものであり、更に詳しくは保存安定性が良く、耐刷
性に侵れ且つ弱アルカリ水溶液で現像できるネガ型フォ
トポリマー系の２８版に関するものである。
２８版の感光層には一般にジアゾ系感光材が多く使用ざ
ノしている。例えば、ポジ型ＰＳ版にはＣｔ−ナフトキ
ノンジアジド、ネガ型２８版には４−ジアゾジフェニル
アミン祉たは３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミ
ンなどとホルムアルデヒドとの縮合物（以下ジアゾ樹脂
と称する）が主に使用されている。
ノしている。例えば、ポジ型ＰＳ版にはＣｔ−ナフトキ
ノンジアジド、ネガ型２８版には４−ジアゾジフェニル
アミン祉たは３−メトキシ−４−ジアゾジフェニルアミ
ンなどとホルムアルデヒドとの縮合物（以下ジアゾ樹脂
と称する）が主に使用されている。
このジアゾ樹脂は、高分子化合物と混合することによシ
、ラッカー盛りなしでも耐刷力のある平版印刷版を得る
ことができ、しかも容易に界面活性剤を含む水系現像液
で現像できるため、ネガ型２８版の感光層として多量に
使用されている。またこのジアゾ樹脂は、２８版の製造
に際しては保存安定性を向上させるために、特公昭４７
−１１６７号公報に示されるような水不溶性の形にして
使用されているが、溶液になると熱あるいは湿度に対し
て本質的に弱く、このためにジアゾ樹脂を１吏用したネ
ガ型ｐｓＮｉは、製造ロットによる経時安定性、画像強
度、耐刷性などの性能において、溶剤現像タイプの７オ
トボリマーをｇ光層としたＰ’ＳＭ、に比べて劣ってい
る。
、ラッカー盛りなしでも耐刷力のある平版印刷版を得る
ことができ、しかも容易に界面活性剤を含む水系現像液
で現像できるため、ネガ型２８版の感光層として多量に
使用されている。またこのジアゾ樹脂は、２８版の製造
に際しては保存安定性を向上させるために、特公昭４７
−１１６７号公報に示されるような水不溶性の形にして
使用されているが、溶液になると熱あるいは湿度に対し
て本質的に弱く、このためにジアゾ樹脂を１吏用したネ
ガ型ｐｓＮｉは、製造ロットによる経時安定性、画像強
度、耐刷性などの性能において、溶剤現像タイプの７オ
トボリマーをｇ光層としたＰ’ＳＭ、に比べて劣ってい
る。
また、篩分子化合物を混合した場合も、感光液は室温で
不安定なため、ジアゾ樹脂と高分子化合物を混合した後
数時間ないし数日間以内にその感光液を使用しなければ
ならない。更にまたとのジアゾ感光液はローラー塗布機
などにより手、に械的に紳られると、ジアゾ化合物の分
解が促伍されて数時間で使用不能となってし捷う。
不安定なため、ジアゾ樹脂と高分子化合物を混合した後
数時間ないし数日間以内にその感光液を使用しなければ
ならない。更にまたとのジアゾ感光液はローラー塗布機
などにより手、に械的に紳られると、ジアゾ化合物の分
解が促伍されて数時間で使用不能となってし捷う。
このようにジアゾ、（４！脂は溶媒に溶かされた時から
時間の経過と吉もに分解していくので、高分子化合物を
混合したジアゾ感光液の管理が非常にｌｉｅ Ｌ、 ＜
、特に湿層及び湿度の高い夏期においてはとのジアゾ
感光液を用いる２８版の製造は至難である。
時間の経過と吉もに分解していくので、高分子化合物を
混合したジアゾ感光液の管理が非常にｌｉｅ Ｌ、 ＜
、特に湿層及び湿度の高い夏期においてはとのジアゾ
感光液を用いる２８版の製造は至難である。
（発明の目的）
本発明は上記従来技術の問題点を解決するためのもので
あり、その目的とするところはジアゾ系ネガ型２８版と
同じく容易に界面活性剤を含む弱アルカリ水溶液で現像
することができ、且つフォトポリマータイプの２８版と
同様の経時安定性、画像強度、耐刷性などを備えもつネ
ガ型２８版を捺供することにある。
あり、その目的とするところはジアゾ系ネガ型２８版と
同じく容易に界面活性剤を含む弱アルカリ水溶液で現像
することができ、且つフォトポリマータイプの２８版と
同様の経時安定性、画像強度、耐刷性などを備えもつネ
ガ型２８版を捺供することにある。
（発明の構成）
すなわち本発明の感光性平版印刷版は、親水性表面を有
する支持体上に感光性ジアゾ樹脂層を形成し、該層上に
側鎖に芳香族アジド基を有する酸価１０〜１００の感光
性ポリビニルアセクール樹脂層を形成させることを特６
Ｖとする。
する支持体上に感光性ジアゾ樹脂層を形成し、該層上に
側鎖に芳香族アジド基を有する酸価１０〜１００の感光
性ポリビニルアセクール樹脂層を形成させることを特６
Ｖとする。
本発明に用いるジアゾ樹脂は溶媒に溶解して塗布するが
、この際に時間とともに分解していくジアゾ樹脂を濾過
により簡単に除去することができるので、高分子化合物
を混合したジアゾ系感光液を使用する場合のような廃棄
処理による感光液の損失もない。またジアゾ樹脂層は、
上層の７オトボリマーによって外気とＢＵ ｔＪｆｒさ
れる形となるので、ジアゾ化合物の湿度による分解が抑
制され、従って安定したＰＳ版を製造することが可能と
なる。
、この際に時間とともに分解していくジアゾ樹脂を濾過
により簡単に除去することができるので、高分子化合物
を混合したジアゾ系感光液を使用する場合のような廃棄
処理による感光液の損失もない。またジアゾ樹脂層は、
上層の７オトボリマーによって外気とＢＵ ｔＪｆｒさ
れる形となるので、ジアゾ化合物の湿度による分解が抑
制され、従って安定したＰＳ版を製造することが可能と
なる。
本発明に使用される親水性を持つ支持体とは、平版印刷
機にとりつけて標準的な条件で印刷を行った場合に、湿
し水で表面が濡れてインキを反撥することができる表面
をもった板素材をｂう。紙、プラスチックを支持体とす
る場合には、親水基を有する樹脂を塗布したり、あるい
は化学的処理をして親水性表面とする。金属特にアルミ
ニウムを支持体とする場合には、砂目立て処理、ケイ酸
ソーダ、７フ化ジルコニウム酸カリウムなどの水溶液を
使用した浸漬処理、あるいはｆｉｌｌ酸化処理などの表
面処理をすることが好１）シい。
機にとりつけて標準的な条件で印刷を行った場合に、湿
し水で表面が濡れてインキを反撥することができる表面
をもった板素材をｂう。紙、プラスチックを支持体とす
る場合には、親水基を有する樹脂を塗布したり、あるい
は化学的処理をして親水性表面とする。金属特にアルミ
ニウムを支持体とする場合には、砂目立て処理、ケイ酸
ソーダ、７フ化ジルコニウム酸カリウムなどの水溶液を
使用した浸漬処理、あるいはｆｉｌｌ酸化処理などの表
面処理をすることが好１）シい。
本発明に用いられる感光性ジアゾ樹脂は、４−ジアゾジ
フェニルアミン、３−メトキシ−４−シフ７”ジフェニ
ルアミン、２，５−ジェトキシ−４−ジアゾ（トリルメ
ルカプト）ベンゼンなどのジアゾ化合物の塩と、パラホ
ルムアルデヒド、４．４′−ビス−（メトキシメチル）
ジフェニルエーテルなどの縮合剤を用いて縮合反応させ
て皮膜形成能を有するジアゾ樹脂とし、更にヘキサフル
オロホスフェート、テトラフルオロボレート、Ｐ−）ル
エンスルホネート、メンチレンスルポネート、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネー
トナトト反応させてその塩として単離し使用する。これ
らの感光性ジアゾ樹脂は、水、メタノール、メチル七ロ
ンルプ、ジメチルホルムアミド、ｒ−ブチロラクトンな
どの有機溶媒に溶解して塗布する。この時の塗布乾燥後
の膜厚は０．５μｍ以下が好ましく、これよシ厚くなる
と現イぽ時間が長くなる。
フェニルアミン、３−メトキシ−４−シフ７”ジフェニ
ルアミン、２，５−ジェトキシ−４−ジアゾ（トリルメ
ルカプト）ベンゼンなどのジアゾ化合物の塩と、パラホ
ルムアルデヒド、４．４′−ビス−（メトキシメチル）
ジフェニルエーテルなどの縮合剤を用いて縮合反応させ
て皮膜形成能を有するジアゾ樹脂とし、更にヘキサフル
オロホスフェート、テトラフルオロボレート、Ｐ−）ル
エンスルホネート、メンチレンスルポネート、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネー
トナトト反応させてその塩として単離し使用する。これ
らの感光性ジアゾ樹脂は、水、メタノール、メチル七ロ
ンルプ、ジメチルホルムアミド、ｒ−ブチロラクトンな
どの有機溶媒に溶解して塗布する。この時の塗布乾燥後
の膜厚は０．５μｍ以下が好ましく、これよシ厚くなる
と現イぽ時間が長くなる。
本発明に用いる感光性ポリビニルアセタール樹脂層、重
合ｙ：ｔｏｏ〜３ｏ ｏ ｏのポリビニルアルコールを
氷酢酸中でｐ−アジドベンズアルデヒド、１）−アジド
ケイ皮アルデヒド、１−アジド−５−ホルミルナフタレ
ンなどのアジドアリールアルデヒドでアセタール化した
後、更ニコハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル市
無水物、トリメリット酸無水物などの酸無水物でエステ
ル化しで製造する。またメタノール中でポリ酢酸ビニル
を鉱酸で加水分解を行いながらアジドアリールアルデヒ
ドで７セタール化し、更に酸無水物でエステル化すると
とＫよっても製造することができる。
合ｙ：ｔｏｏ〜３ｏ ｏ ｏのポリビニルアルコールを
氷酢酸中でｐ−アジドベンズアルデヒド、１）−アジド
ケイ皮アルデヒド、１−アジド−５−ホルミルナフタレ
ンなどのアジドアリールアルデヒドでアセタール化した
後、更ニコハク酸無水物、マレイン酸無水物、フタル市
無水物、トリメリット酸無水物などの酸無水物でエステ
ル化しで製造する。またメタノール中でポリ酢酸ビニル
を鉱酸で加水分解を行いながらアジドアリールアルデヒ
ドで７セタール化し、更に酸無水物でエステル化すると
とＫよっても製造することができる。
この７％光性ポリビニルアセタール樹脂の酸価は１０〜
１００が好ましい。１０以下では界面活性剤を含む弱ア
ルカリ水溶液による現像が遅くなるため、現像が終了し
た後においても非画像部にインキ汚れが生じ易い。ｔた
、１００以上では画像部の感脂性が著しく低下し、平版
印刷版の感光層に用いるには不適当である。
１００が好ましい。１０以下では界面活性剤を含む弱ア
ルカリ水溶液による現像が遅くなるため、現像が終了し
た後においても非画像部にインキ汚れが生じ易い。ｔた
、１００以上では画像部の感脂性が著しく低下し、平版
印刷版の感光層に用いるには不適当である。
葦だ、アンドアリールアルデヒドは、ポリビニルアルコ
ール及びポリ酢酸ビニルに対して５〜５０モル壬用いて
アセタール化するのが好ましく、５モル％以下では十分
な感光性を得ることが国難である。更に耐刷性、感脂性
を向上させるためにブチルアルデヒド、ベンズアルデヒ
ドなどを少量加えて同時にアセタール化させてもよい。
ール及びポリ酢酸ビニルに対して５〜５０モル壬用いて
アセタール化するのが好ましく、５モル％以下では十分
な感光性を得ることが国難である。更に耐刷性、感脂性
を向上させるためにブチルアルデヒド、ベンズアルデヒ
ドなどを少量加えて同時にアセタール化させてもよい。
こうして得られた感光にトポリビニルアセタール樹脂は
、下層のジアゾ樹脂層に難溶なエチルセロソルブ、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキザノンなどの溶剤に溶解さ
せ、ミヒラーケトン、１．２−ベンズアントラキノン、
５−ニトロアセナフテン、Ｎ−７セチルー４−ニトロ−
１−ナフチルアミン、２−ニトロフルオレノン、ミヒラ
ーチオケトン、Ｎ−フェニルチオアクリドン、エオシン
、２−ベンゾイル−１−＃ｆＡ−−β−ナフトチアゾリ
ンなどの増感剤を５〜１５係添加して使用する。更に必
要に応じて染料、可塑剤、ラジカル発生剤々どを加える
ことによシＰＳ版の性能を向上させることができる。
、下層のジアゾ樹脂層に難溶なエチルセロソルブ、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキザノンなどの溶剤に溶解さ
せ、ミヒラーケトン、１．２−ベンズアントラキノン、
５−ニトロアセナフテン、Ｎ−７セチルー４−ニトロ−
１−ナフチルアミン、２−ニトロフルオレノン、ミヒラ
ーチオケトン、Ｎ−フェニルチオアクリドン、エオシン
、２−ベンゾイル−１−＃ｆＡ−−β−ナフトチアゾリ
ンなどの増感剤を５〜１５係添加して使用する。更に必
要に応じて染料、可塑剤、ラジカル発生剤々どを加える
ことによシＰＳ版の性能を向上させることができる。
本発明の感光性ポリビニルアセタール樹脂は、下層のジ
アゾ樹脂層がなくても弱アルカリ水溶液で現像可能であ
るが、親水性表面を有する支持体との密着性が悪く印刷
時に画像部が動離し易い。また、密着性を向上させるた
めに加熱乾燥を十分に行うと、現像が終了した後におい
ても非画像部にインキ汚れが発生し易い。本発明におい
て中間層として設けた感光性ジアゾ樹脂層は、親水性表
面を有する支持体と上記感光性ポリビニルアセタール樹
脂層との密着性の向上と現像後のインキ汚れ防止に役立
ってｂる。
アゾ樹脂層がなくても弱アルカリ水溶液で現像可能であ
るが、親水性表面を有する支持体との密着性が悪く印刷
時に画像部が動離し易い。また、密着性を向上させるた
めに加熱乾燥を十分に行うと、現像が終了した後におい
ても非画像部にインキ汚れが発生し易い。本発明におい
て中間層として設けた感光性ジアゾ樹脂層は、親水性表
面を有する支持体と上記感光性ポリビニルアセタール樹
脂層との密着性の向上と現像後のインキ汚れ防止に役立
ってｂる。
特開昭５５−１８６２１号には、親水性表面を有する支
持体上に感光性ジアゾ樹脂を塗布し、その上にインキ受
容性層として非感光性の親油性樹脂層を形成させて、感
光性平版印刷版とする方法が記載されている。これは、
現像液が下層のジアゾ樹脂層まで浸透して膨潤させた後
、非画像部を物理的に擦って除去することにより平版印
刷版を作製するもので、現像性及び画質低下に問題があ
る。また上層が非感光性で現像液に溶解する場合、画像
形成は下層のジアゾ樹脂層によシ法定されるので、上層
の親油性樹脂層は膜薄となるため耐刷力の向上は望めな
い。
持体上に感光性ジアゾ樹脂を塗布し、その上にインキ受
容性層として非感光性の親油性樹脂層を形成させて、感
光性平版印刷版とする方法が記載されている。これは、
現像液が下層のジアゾ樹脂層まで浸透して膨潤させた後
、非画像部を物理的に擦って除去することにより平版印
刷版を作製するもので、現像性及び画質低下に問題があ
る。また上層が非感光性で現像液に溶解する場合、画像
形成は下層のジアゾ樹脂層によシ法定されるので、上層
の親油性樹脂層は膜薄となるため耐刷力の向上は望めな
い。
本発明は、界面活性剤を含む弱アルカリ水溶液で、７オ
トボリマ一層と感光性ジアゾ樹脂層とを同時に溶解現像
するため、あたかも一層の７オトボリマ一層が現像され
る如くに児える。
トボリマ一層と感光性ジアゾ樹脂層とを同時に溶解現像
するため、あたかも一層の７オトボリマ一層が現像され
る如くに児える。
また、画像部の光硬化性も優れているため耐刷力が向上
し品質面でも安定した物が得られる。
し品質面でも安定した物が得られる。
本発明の感光性ポリビニルアセタール樹脂は、感光性ジ
アゾ樹脂と混合して耐刷力のあるネガ型２８版の感光層
とすることもできるが、このような方法を用いた場合に
は感光液の管理が従来のジアゾ系感光液と同様難かしく
なる。
アゾ樹脂と混合して耐刷力のあるネガ型２８版の感光層
とすることもできるが、このような方法を用いた場合に
は感光液の管理が従来のジアゾ系感光液と同様難かしく
なる。
本発明のネガ型２８版の現像に際して１は、特公昭５６
− ：（９４６４号及び特公昭５６−４２８６０号公報
釦記載されているアニオン型界面活性剤、ベンジルアル
コール、アルカリ剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水溶液
からなる現像液や、特開昭５５−１３８７４０号に記載
されているフェニルセロソルブとベンゾトリアゾールの
アミン付加塩及び界面活性剤を含む水溶液からなる現像
液などの使用が好ましい。
− ：（９４６４号及び特公昭５６−４２８６０号公報
釦記載されているアニオン型界面活性剤、ベンジルアル
コール、アルカリ剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水溶液
からなる現像液や、特開昭５５−１３８７４０号に記載
されているフェニルセロソルブとベンゾトリアゾールの
アミン付加塩及び界面活性剤を含む水溶液からなる現像
液などの使用が好ましい。
以下実施例をあげて本発明の詳細な説明するが本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
実施例１
（１）ｇ光性ポリビニルアセタール樹脂の合成温度計、
還流冷却器、攪拌器を備えた容量１ｔの三つ日丸底フラ
スコに氷酢酸２００ ｍを入れ、攪拌しながらポリビニ
ルアルコール（Ｍ今度１０００、ケン化度９８モル％）
１５．８Ｐ、ｐ−アジドベンズアルデヒド１３．２Ｆ、
ペンズアルデヒド０．４５９を加え、触媒として：３：
（％硫酸水溶液５．４ ａ／を添加して５５℃で３時間
アセタール化反応を行う。反応終了後冷却し、エタノー
ルで反応液を希釈した後大量の水中に注入し、析出した
樹脂を戸数して水分が１％以下となるまで−Ｊｌ乾燥す
る。次に、このポリビニルアジドベンザール樹脂２５ｆ
を氷酢酸２５０ｍ／に溶解させ、更に無水酢酸ソーダ４
２２、コハク酸＄ ７１物５９２及びフタル酸無水物２
ｔ６ｙを加え、９５℃で３時間攪拌を続けてエステル化
反応を行う。反応終了後冷却し、エタノールで反応液を
希釈して大なの水中に攪拌注入し、樹脂を析出させてＰ
椴し、Ａ空乾燥する。このようにして合成したＡｔｓ光
性ポリビニルアセタール樹脂の酸価は４８であった。
還流冷却器、攪拌器を備えた容量１ｔの三つ日丸底フラ
スコに氷酢酸２００ ｍを入れ、攪拌しながらポリビニ
ルアルコール（Ｍ今度１０００、ケン化度９８モル％）
１５．８Ｐ、ｐ−アジドベンズアルデヒド１３．２Ｆ、
ペンズアルデヒド０．４５９を加え、触媒として：３：
（％硫酸水溶液５．４ ａ／を添加して５５℃で３時間
アセタール化反応を行う。反応終了後冷却し、エタノー
ルで反応液を希釈した後大量の水中に注入し、析出した
樹脂を戸数して水分が１％以下となるまで−Ｊｌ乾燥す
る。次に、このポリビニルアジドベンザール樹脂２５ｆ
を氷酢酸２５０ｍ／に溶解させ、更に無水酢酸ソーダ４
２２、コハク酸＄ ７１物５９２及びフタル酸無水物２
ｔ６ｙを加え、９５℃で３時間攪拌を続けてエステル化
反応を行う。反応終了後冷却し、エタノールで反応液を
希釈して大なの水中に攪拌注入し、樹脂を析出させてＰ
椴し、Ａ空乾燥する。このようにして合成したＡｔｓ光
性ポリビニルアセタール樹脂の酸価は４８であった。
（２） ネガ型ｐｓ版の！、り造
厚さ０．３ｍのアルミニウム板をナイロンブラシと研磨
砂を用いて砂目立てした後、１０嗟苛性ソーダ水溶液に
１０秒間浸漬し、水洗して、次に１（ｌ硝酸水溶液に５
秒間浸漬してデスマット後水洗し、更にこのアルミニウ
ム板を２０係硫酸水溶液中で電流密度２Ａ／ｄ−で２分
間陽極酸化し、水洗する。その後５偶の３号ケイ酸ソー
ダ水を用いて７０℃で１５秒間処理し、水洗後乾燥する
。次にホエラーを用いて下記の組成の感光性ジアゾ樹脂
溶液を塗布し、６０℃で３分間乾燥させる。この時の感
光性ジアゾ樹脂層の膜厚は０２μｍであった。
砂を用いて砂目立てした後、１０嗟苛性ソーダ水溶液に
１０秒間浸漬し、水洗して、次に１（ｌ硝酸水溶液に５
秒間浸漬してデスマット後水洗し、更にこのアルミニウ
ム板を２０係硫酸水溶液中で電流密度２Ａ／ｄ−で２分
間陽極酸化し、水洗する。その後５偶の３号ケイ酸ソー
ダ水を用いて７０℃で１５秒間処理し、水洗後乾燥する
。次にホエラーを用いて下記の組成の感光性ジアゾ樹脂
溶液を塗布し、６０℃で３分間乾燥させる。この時の感
光性ジアゾ樹脂層の膜厚は０２μｍであった。
感光性ジアゾ樹脂溶液の組成
メチルセロソルブ ２５グジメチルホル
ムアミド ２２４−ジアゾジフェニルアミン
とホルム アルデヒドとの紺０合物の２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン−５ −スルホネートｏ、５ｙ この感光性ジアゾ樹脂を塗布した陽極酸化アルミニウム
板に、下記の組成の７オトボリマー感光液をホエラーを
用いて塗布し、８０℃で３分間乾燥してＰＳ版とする。
ムアミド ２２４−ジアゾジフェニルアミン
とホルム アルデヒドとの紺０合物の２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン−５ −スルホネートｏ、５ｙ この感光性ジアゾ樹脂を塗布した陽極酸化アルミニウム
板に、下記の組成の７オトボリマー感光液をホエラーを
用いて塗布し、８０℃で３分間乾燥してＰＳ版とする。
この時の７オトボリマ一層の膜厚は１．２μｍであった
。
。
フォトポリマー感光液組成
エチルセロソルブ ９６９感光性ポリビ
ニルアセタール樹脂４ｔ ５−ニトロアセナフテン ０４１ビクトリアピ
ユアブルーＢ ＯＨ０，１２Ｆ得られたネガ型２８版に
ネガフィルムを密着させ、ＩＫＷの超高圧水銀灯を用い
て２．２ｍＷ／ｄの強さで１分間露光し、下記の組成の
現像液を用いて２５℃で３０秒間）（ット現像した後水
洗する。かくして鮮明なポジ画像の平版印刷版が得られ
た。
ニルアセタール樹脂４ｔ ５−ニトロアセナフテン ０４１ビクトリアピ
ユアブルーＢ ＯＨ０，１２Ｆ得られたネガ型２８版に
ネガフィルムを密着させ、ＩＫＷの超高圧水銀灯を用い
て２．２ｍＷ／ｄの強さで１分間露光し、下記の組成の
現像液を用いて２５℃で３０秒間）（ット現像した後水
洗する。かくして鮮明なポジ画像の平版印刷版が得られ
た。
現像液組成
フェニルセロソルブ １２２ベンゾトリア
ゾールトリエタノールア ミン付加塩 ３ｔイソプロピルナ
フタレンスルホン酸ナ トリウム ６ｆ水
２５０ｆ上記
の方法によシ製造したネガ型２８版は、温度４０℃、湿
度７５％の雰囲気中に１０日以上保存しても現像の際非
画像部にインキ汚れを生じることもなく、まだオフセッ
ト印刷機に取りつけて印刷したところ１０万部以上の印
刷物を安定して刷子することができた。
ゾールトリエタノールア ミン付加塩 ３ｔイソプロピルナ
フタレンスルホン酸ナ トリウム ６ｆ水
２５０ｆ上記
の方法によシ製造したネガ型２８版は、温度４０℃、湿
度７５％の雰囲気中に１０日以上保存しても現像の際非
画像部にインキ汚れを生じることもなく、まだオフセッ
ト印刷機に取りつけて印刷したところ１０万部以上の印
刷物を安定して刷子することができた。
実施例２
感光性ジアゾ樹脂溶液を、２５℃で７日間放置した後に
東洋戸紙Ｎ［Ｌ ２を用いてこの溶液を濾過し、実施例
１の如く処理してネガ型２８版を製造したところ、実施
例１の場合と同様の品質をもつＰＳ版が得られた。
東洋戸紙Ｎ［Ｌ ２を用いてこの溶液を濾過し、実施例
１の如く処理してネガ型２８版を製造したところ、実施
例１の場合と同様の品質をもつＰＳ版が得られた。
（発明の効果）
上述のように本発明の感光性平版印刷版は界面活性剤を
含む弱アルカリ水溶液で現は可能であるため現像操作が
極めて容易且つ安全であシ、更に経時安定性、画像強度
、耐刷性等の性能面においても従来の液剤現像タイプの
感光性平版印刷版に比べて劣らないものとなった。
含む弱アルカリ水溶液で現は可能であるため現像操作が
極めて容易且つ安全であシ、更に経時安定性、画像強度
、耐刷性等の性能面においても従来の液剤現像タイプの
感光性平版印刷版に比べて劣らないものとなった。
特許出願人 冨士薬品工業株式会社
代理人 弁理士 萼 優 美 （ホＸ＞−１４）手続
補正書 昭和５８年 ６ 月 １３日 ２°発明（７） ’（＋ Ｉｓゝ感光性平版印刷版３、
補正する者 事ｆ１との関係 特許出願人 ５、補正命令の日付 ７、補正の内容 （１） 明細書第１頁第１９行目の「・・・Ｃｔ−ナ
フトキノンジアジド、・・・」ヲ「・・・Ｏ−ナフトキ
ノンジアジド、・−・」に補正する。
補正書 昭和５８年 ６ 月 １３日 ２°発明（７） ’（＋ Ｉｓゝ感光性平版印刷版３、
補正する者 事ｆ１との関係 特許出願人 ５、補正命令の日付 ７、補正の内容 （１） 明細書第１頁第１９行目の「・・・Ｃｔ−ナ
フトキノンジアジド、・・・」ヲ「・・・Ｏ−ナフトキ
ノンジアジド、・−・」に補正する。
（２） 明細書第５頁第２０行目ないし第６頁第１行
目の「・・・スルホネートなどと反応させてその塩とし
て・・・」を「・・・スルホネートなどの反応させた塩
として・・・」に補正する。
目の「・・・スルホネートなどと反応させてその塩とし
て・・・」を「・・・スルホネートなどの反応させた塩
として・・・」に補正する。
（３） 明細書第１４頁第１６行目の「・・・従来の
液剤現像タイプの・・・Ｊ ｅｒ、、従来の溶剤現像タ
イプの・・・」に補正する。
液剤現像タイプの・・・Ｊ ｅｒ、、従来の溶剤現像タ
イプの・・・」に補正する。
Claims (1)
- 親水性を有する支持体上に感光性ジアゾ樹脂層を形成し
、該層上に側鎖に芳香族アジド基を有する酸価１０ない
しＩｔ）０の感光４・１；ポリビニルアセタール樹脂Ｍ
を形成したことを９１．徴とす、る感光性平版印刷版。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58083305A JPS59208552A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | 感光性平版印刷版 |
| US06/608,457 US4588669A (en) | 1983-05-12 | 1984-05-09 | Photosensitive lithographic plate with diazo resin underlayer and polyvinyl acetal resin with azide in side chain overlayer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58083305A JPS59208552A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59208552A true JPS59208552A (ja) | 1984-11-26 |
Family
ID=13798698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58083305A Pending JPS59208552A (ja) | 1983-05-12 | 1983-05-12 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4588669A (ja) |
| JP (1) | JPS59208552A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02123361A (ja) * | 1988-11-01 | 1990-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| US6514657B1 (en) | 2000-07-19 | 2003-02-04 | Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. | Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate |
| US6689539B2 (en) | 2000-01-05 | 2004-02-10 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5254431A (en) * | 1988-02-03 | 1993-10-19 | Vickers Plc | Radiation-sensitive polymers having sulfonyl urthane side chains and azide containing side chains in a mixture with diazo compounds containing |
| CA2040199A1 (en) * | 1990-04-10 | 1991-10-11 | Shigeki Shimizu | Negative type lithographic printing plate |
| US5262270A (en) * | 1991-07-30 | 1993-11-16 | Eastman Kodak Company | Photosensitive compositions and lithographic printing plates containing binary acetal polymers |
| US5219699A (en) * | 1991-07-30 | 1993-06-15 | Eastman Kodak Company | Photosensitive compositions and lithographic printing plates containing acid-substituted ternary acetal polymers |
| US5258263A (en) * | 1991-09-10 | 1993-11-02 | Polaroid Corporation | Printing plate and methods of making and use same |
| US5563023A (en) * | 1994-11-02 | 1996-10-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Photoimageable elements |
| US5597677A (en) * | 1994-11-02 | 1997-01-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photoimageable elements |
| JP4480812B2 (ja) * | 1999-07-27 | 2010-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 感光又は感熱性ポジ型平版印刷版原版、および製版方法 |
| JP4152559B2 (ja) * | 2000-03-06 | 2008-09-17 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型感光性平版印刷版 |
| KR20020077948A (ko) | 2001-04-03 | 2002-10-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 칼라음극선관용 포토레지스트 제조용 단량체,칼라음극선관용 포토레지스트 중합체, 칼라음극선관용포토레지스트 조성물 및 칼라음극선관용 형광막 조성물 |
| EP1348690A1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-01 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Cinnamaldehyde compound having an azido group |
| US6887642B2 (en) * | 2002-04-05 | 2005-05-03 | Kodak Polychrome Graphies Llc | Multi-layer negative working imageable element |
| DE102018214343A1 (de) * | 2018-08-24 | 2020-02-27 | Heidelberg Schweiz AG | Verfahren zum Herstellen von Flexodruckplatten |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53145706A (en) * | 1977-05-19 | 1978-12-19 | Polychrome Corp | Lithographic printing plate capable of developing with water with double photosensitive layer |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA6903590B (ja) * | 1968-05-22 | |||
| US3808004A (en) * | 1969-05-29 | 1974-04-30 | Richardson Graphic Co | Lithographic plate and photoresist having two photosensitive layers |
| US3817757A (en) * | 1970-12-16 | 1974-06-18 | Agency Ind Science Techn | Photosensitive composition comprising cinnamoyl and azido groups |
| JPS566530B2 (ja) * | 1974-01-09 | 1981-02-12 | ||
| US4123276A (en) * | 1974-02-28 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
| US4191573A (en) * | 1974-10-09 | 1980-03-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive positive image forming process with two photo-sensitive layers |
| JPS5852210B2 (ja) * | 1979-04-20 | 1983-11-21 | 富士薬品工業株式会社 | オフセット印刷用プレセンシタイズドプレ−ト |
| US4263392A (en) * | 1979-06-01 | 1981-04-21 | Richardson Graphics Company | Ultra high speed presensitized lithographic plates |
| JPS57185034A (en) * | 1981-01-20 | 1982-11-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Photosensitive resin composition |
-
1983
- 1983-05-12 JP JP58083305A patent/JPS59208552A/ja active Pending
-
1984
- 1984-05-09 US US06/608,457 patent/US4588669A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53145706A (en) * | 1977-05-19 | 1978-12-19 | Polychrome Corp | Lithographic printing plate capable of developing with water with double photosensitive layer |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02123361A (ja) * | 1988-11-01 | 1990-05-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| US6689539B2 (en) | 2000-01-05 | 2004-02-10 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate |
| US6514657B1 (en) | 2000-07-19 | 2003-02-04 | Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. | Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4588669A (en) | 1986-05-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4940646A (en) | Polyvinyl acetal with hydroxy aliphatic acetal groups useful in photosensitive negative working compositions | |
| JPS59208552A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| US3300309A (en) | Moisture-resistant planographic plates and methods of producing same | |
| JPS60182437A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH0451018B2 (ja) | ||
| JPH09249712A (ja) | 感光性組成物に有用な酸無水物改質ポリビニルアセタールの製造法 | |
| US6451491B1 (en) | Aqueous developable negative acting photosensitive composition having improved image contrast | |
| JP2549366B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| EP1350801A1 (en) | Polymeric acetal resins containing free radical inhibitors and their use in lithographic printing | |
| JPH03148656A (ja) | 光硬化性混合物およびそれを使用して製造した光硬化性記録材料 | |
| JPH0140338B2 (ja) | ||
| JPS5852210B2 (ja) | オフセット印刷用プレセンシタイズドプレ−ト | |
| JP3004508B2 (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 | |
| US6517988B1 (en) | Radiation-sensitive, positive working coating composition based on carboxylic copolymers | |
| US4530897A (en) | Process for desensitizing diazo lithographic printing forms using desensitizing solution with light absorbing compound | |
| JPH04140752A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
| JP2622711B2 (ja) | 感光性組成物 | |
| EP0580532A2 (en) | Aqueous developer for lithographic printing plates with improved desensitizing capability | |
| JPH0290163A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH04217256A (ja) | ジアゾ樹脂含有感光材料の現像方法 | |
| JPH0153450B2 (ja) | ||
| JPH04110853A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH0257299B2 (ja) | ||
| JPS6341846A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPS62143056A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 |