JPS59206465A - 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物Info
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- JPS59206465A JPS59206465A JP58081360A JP8136083A JPS59206465A JP S59206465 A JPS59206465 A JP S59206465A JP 58081360 A JP58081360 A JP 58081360A JP 8136083 A JP8136083 A JP 8136083A JP S59206465 A JPS59206465 A JP S59206465A
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/5406—Silicon-containing compounds containing elements other than oxygen or nitrogen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K5/54—Silicon-containing compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物、
特(二は放射線照射によってシリコーン移行性のない充
分に硬化された塗布面を与える放射線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物に関スルものである。
特(二は放射線照射によってシリコーン移行性のない充
分に硬化された塗布面を与える放射線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物に関スルものである。
放射線照射l二より硬化するオリガノポリシロキサン組
成物については、例えばけい素原子に結合したビニル基
を有するオルガノポリシロキサンとけい素原子に結合し
た水素基を有するオルガノハイドロジエンシロキサンと
を光照射によって付加反応させるもの、(特開昭47−
32072号公報、特公昭53−48198疹を照)、
またげい累原子l二結合したメルカプト基を有するオル
ガノポリシロキサンとけい素原子に結合したビニル基を
有するオルガノポリシロキサンとを光増感剤の共存下ζ
二元照射C二よって反応させる−もの←特公昭54−6
512号公報、特公昭57−34318号公報−特開昭
54−48854号公報、特開昭54−50067号公
報参照)が知られている。
成物については、例えばけい素原子に結合したビニル基
を有するオルガノポリシロキサンとけい素原子に結合し
た水素基を有するオルガノハイドロジエンシロキサンと
を光照射によって付加反応させるもの、(特開昭47−
32072号公報、特公昭53−48198疹を照)、
またげい累原子l二結合したメルカプト基を有するオル
ガノポリシロキサンとけい素原子に結合したビニル基を
有するオルガノポリシロキサンとを光増感剤の共存下ζ
二元照射C二よって反応させる−もの←特公昭54−6
512号公報、特公昭57−34318号公報−特開昭
54−48854号公報、特開昭54−50067号公
報参照)が知られている。
しかし、これら公知のオルガノポリシロキサン組成物で
はこの組成物の塗布面でのシリコーンの移行があるため
、その表面硬化が不充分のものになり易く、シたがって
これらは剥離紙用への利用などに必すしも満足すべき性
質を示すものではなかった。すなわち、上記したような
公知のオルガノシロキチン組成物を剥離紙用として使用
する場合これらは極めて薄い塗膜として対象物C二塗布
されるのであるが、これを光照射で硬化させるときには
その表面硬化がわるいためにその剥離性能に経時変化が
生じたり、このシリコーンがこれと接触している粘着剤
に移行するという不利があった。
はこの組成物の塗布面でのシリコーンの移行があるため
、その表面硬化が不充分のものになり易く、シたがって
これらは剥離紙用への利用などに必すしも満足すべき性
質を示すものではなかった。すなわち、上記したような
公知のオルガノシロキチン組成物を剥離紙用として使用
する場合これらは極めて薄い塗膜として対象物C二塗布
されるのであるが、これを光照射で硬化させるときには
その表面硬化がわるいためにその剥離性能に経時変化が
生じたり、このシリコーンがこれと接触している粘着剤
に移行するという不利があった。
そのため、この柿のオルガノシロキチン組成物について
は硬化性を上げてこれらの欠点を除去するという自回に
おいて、オルガノシロキサン中の官能基の量を増したり
一光増感剤の配合量を増加するという方法が提案されて
いるが、これらは却って剥離性を損なうこと(二なった
り、あるいは臭気発生を伴なうものl二なるという不利
をもたらすもので好ましいも−のではなく、実用化g二
は到っていない。
は硬化性を上げてこれらの欠点を除去するという自回に
おいて、オルガノシロキサン中の官能基の量を増したり
一光増感剤の配合量を増加するという方法が提案されて
いるが、これらは却って剥離性を損なうこと(二なった
り、あるいは臭気発生を伴なうものl二なるという不利
をもたらすもので好ましいも−のではなく、実用化g二
は到っていない。
本発明はこのような不利を解決した放射線硬化性オルガ
ノポリシロキサン組成物に関するものであり、これはA
) 、’L)一般式 (こ\にRは2価炭化水素基、Rは水素原子またはメチ
ル基−Rは非置換または置換1価炭化水素基−Xは酸素
原子。
ノポリシロキサン組成物に関するものであり、これはA
) 、’L)一般式 (こ\にRは2価炭化水素基、Rは水素原子またはメチ
ル基−Rは非置換または置換1価炭化水素基−Xは酸素
原子。
■
−a−O−基一硫黄原子またはチオ化合物、m=′0〜
2)で示されるシロキチン単位と、1l)一般式Rn
Sin、n (こ\にRは前記(二同じ、n7− 二〇〜3)で示されるシロキサン単位とからなり、1分
子中g二上記1)式で示されるシロキチン単位を少なく
とも2ケ有するオルガノポリシロキチン−B)1分子中
に少なくとも2ケのメルカプト基を有する、このメルカ
プト基の量と上記A)成分中の不飽和基との比が1:1
00〜100:1の範囲(二なる量のメルカプト基含有
オルガノシリコーン化合物とからなることを特徴とする
ものである。
2)で示されるシロキチン単位と、1l)一般式Rn
Sin、n (こ\にRは前記(二同じ、n7− 二〇〜3)で示されるシロキサン単位とからなり、1分
子中g二上記1)式で示されるシロキチン単位を少なく
とも2ケ有するオルガノポリシロキチン−B)1分子中
に少なくとも2ケのメルカプト基を有する、このメルカ
プト基の量と上記A)成分中の不飽和基との比が1:1
00〜100:1の範囲(二なる量のメルカプト基含有
オルガノシリコーン化合物とからなることを特徴とする
ものである。
これを説明すると一本発明者らはけい素原子に結合した
ビニル基を有するオルガノポリシロキチンとけい素原子
i二結合したメルカプト基を有するオルガノポリシロキ
サンとからなる放射線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物の放射線硬化性の改良について種々検討した結果、
この硬化性につイテハビニル基含有オルガノシロキチン
中におけるビニル基をけい素原子に直接結合させること
なく、これをけい素原子から遠く離して結合させてけい
素原子周辺への立体障害の影響を少なくすると共に、こ
のビニル基の2重結合の近くに電子供与性のへテロ原子
または電子吸引性のへテロ原子を含む有機基を導入して
おけば、このオルガノシロキサンの反応性を高めること
ができることを見出し、これにもとづいてさらに研究を
進め、これによればこの組成物の皇布面での硬化性を満
足すべき6史度C二まで高めることができ一シリコーン
の移行もなくすことができることを確認して本発明を完
成させた。
ビニル基を有するオルガノポリシロキチンとけい素原子
i二結合したメルカプト基を有するオルガノポリシロキ
サンとからなる放射線硬化性オルガノポリシロキサン組
成物の放射線硬化性の改良について種々検討した結果、
この硬化性につイテハビニル基含有オルガノシロキチン
中におけるビニル基をけい素原子に直接結合させること
なく、これをけい素原子から遠く離して結合させてけい
素原子周辺への立体障害の影響を少なくすると共に、こ
のビニル基の2重結合の近くに電子供与性のへテロ原子
または電子吸引性のへテロ原子を含む有機基を導入して
おけば、このオルガノシロキサンの反応性を高めること
ができることを見出し、これにもとづいてさらに研究を
進め、これによればこの組成物の皇布面での硬化性を満
足すべき6史度C二まで高めることができ一シリコーン
の移行もなくすことができることを確認して本発明を完
成させた。
本発明の組成物を構成するA)成分としてのビニル基を
含有するオルガノシロキサンは前記、した一般式+)=
i)のシロキサン単位からなるものであるが、この1〕 で示されるシロキサン単位におけるR1 はメチレン基
、エチレン基−グロビレン基−−エチレン基。
含有するオルガノシロキサンは前記、した一般式+)=
i)のシロキサン単位からなるものであるが、この1〕 で示されるシロキサン単位におけるR1 はメチレン基
、エチレン基−グロビレン基−−エチレン基。
フェニレン基などのような2価炭化水累基、R2は水素
原子またはメチル基−Rは炭素数1〜30の1価炭化水
素基で、これに【エメチル基、エチル基、グロビル基−
ブチル基、オクチル基、ドデシル基などのアルキル基−
シクロシンチル基、シクロアキル基などのシクロアルキ
ル基、フェニル基、トリル基−ナフチル基、キシリル基
などノ芳香族基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、2−フェニルエチル基などのアラルキル基。
原子またはメチル基−Rは炭素数1〜30の1価炭化水
素基で、これに【エメチル基、エチル基、グロビル基−
ブチル基、オクチル基、ドデシル基などのアルキル基−
シクロシンチル基、シクロアキル基などのシクロアルキ
ル基、フェニル基、トリル基−ナフチル基、キシリル基
などノ芳香族基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、2−フェニルエチル基などのアラルキル基。
さらにはこれらの基の水素原子の1部を塩素原子−フッ
素原子などで置換したグロログロビル基、グロロフェニ
ル基、ジクσaグaビル基+3.3゜3−トリフルオa
グaピル基などが例示される。
素原子などで置換したグロログロビル基、グロロフェニ
ル基、ジクσaグaビル基+3.3゜3−トリフルオa
グaピル基などが例示される。
また、とのXは酸蓄原子。
1
−a’−o−基、硫黄原子またはチオ化合物を示すもの
であるが、このヘテロ原子としての硫黄は一〇 −(、
、aH2÷2s−、−0H2−〇−0H2−8−のよう
なエーテル結合−チオニーチル結合またはエステル結合
であってもよい。このI)式で示されるシロキサン単位
C二ついては次式。
であるが、このヘテロ原子としての硫黄は一〇 −(、
、aH2÷2s−、−0H2−〇−0H2−8−のよう
なエーテル結合−チオニーチル結合またはエステル結合
であってもよい。このI)式で示されるシロキサン単位
C二ついては次式。
Me
V100H20H2S(OH2)3SiO−+Vi00
H201(2S(OH2)3SiOい、Me ■工00H2CH2S(OH2)3Si01A、Me Me ViCH2S(OH2)3SiO− ViOH2S(OH2)、 5iOB/2−Me ViOIH2S(OH,)3310、かMe 1 Vloo (OH2)3S i03/2−0H2=O−
00(0H2)3S i O、Me 0 0H2=O−00(OR,ン8 5103/2 −(式
中のVlはビニル基−Meはメチル基を示す、以下同じ
)が例示され、また、この式11゛)3 Si0 ・ 1ユニ′示される7°1す′単位に3げるR は
前記したとおりのものであればよく、これはそのn =
0のときにはビニル基であってもよいが、このnが1
〜2のときはビニル基であってはならず−これらC二つ
いては次式で示されるものが好ましいものとされる。
H201(2S(OH2)3SiOい、Me ■工00H2CH2S(OH2)3Si01A、Me Me ViCH2S(OH2)3SiO− ViOH2S(OH2)、 5iOB/2−Me ViOIH2S(OH,)3310、かMe 1 Vloo (OH2)3S i03/2−0H2=O−
00(0H2)3S i O、Me 0 0H2=O−00(OR,ン8 5103/2 −(式
中のVlはビニル基−Meはメチル基を示す、以下同じ
)が例示され、また、この式11゛)3 Si0 ・ 1ユニ′示される7°1す′単位に3げるR は
前記したとおりのものであればよく、これはそのn =
0のときにはビニル基であってもよいが、このnが1
〜2のときはビニル基であってはならず−これらC二つ
いては次式で示されるものが好ましいものとされる。
Me2SiO+ MeS’03//2. PhMe
SiO−Me Ph5103A、 Ph2sio 、 0F30H2
0H2S10(式中のPhはフェニル基を示す)。
SiO−Me Ph5103A、 Ph2sio 、 0F30H2
0H2S10(式中のPhはフェニル基を示す)。
ナオーこのA)成分としてのオルガノポリシロキチンは
式1)で示されるシロキサン単位を0.1〜100%、
式l)で示されるシロキサン単位を0〜99.9%含む
ものとすればよく、これは25℃で測定した粘度が1,
000〜60,000,000O8の範囲のものとする
ことがよい。
式1)で示されるシロキサン単位を0.1〜100%、
式l)で示されるシロキサン単位を0〜99.9%含む
ものとすればよく、これは25℃で測定した粘度が1,
000〜60,000,000O8の範囲のものとする
ことがよい。
他方一本発明の組成物を構成するB)成分としてのメル
カプト基含有オルガノシリコーン化合物はその分子中に
少なくとも2ケのメルカプト基を含有するものであれば
オルガノシラン、オルガノシロキサンのいずれであって
もよいし、その分子構造およびメルカプト基の結合位1
t−=特に制限はなく、これはまた線状構造体1分枝状
構造体のり、Nずれであってもよい。また、このものの
分子鎖末端はトリメチルシリル基のようなトリオルガノ
シリル基−ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカグト
グロピルメチル基のようなメルカグトジオルガノシリル
基などのいずれであってもよいが、このメルカプ)Mは
例えば 5H(OH2)aSiヨ(aは1〜3)、 に結合していることが好ましい。また、このオルガノシ
リコーン化合物中のけい素原子に結合するメルカプト基
以外の有機基としてはメチル基−エチル基、グミピル基
、フェニル基、トリフルオログミピル基などが例示され
るが、これらの有機基を含むけい基原子とメルカプト基
と結合したげい素原子の配列順序などC二特に制限はな
い。このメルカプト基を有するオルガノシリコーン化合
物は本発明の組成物が無溶剤で塗布されることもあるの
で、これは25℃における粘度が10,000C8以下
のものとすることがよいが、これは特に制限的なもので
はない。
カプト基含有オルガノシリコーン化合物はその分子中に
少なくとも2ケのメルカプト基を含有するものであれば
オルガノシラン、オルガノシロキサンのいずれであって
もよいし、その分子構造およびメルカプト基の結合位1
t−=特に制限はなく、これはまた線状構造体1分枝状
構造体のり、Nずれであってもよい。また、このものの
分子鎖末端はトリメチルシリル基のようなトリオルガノ
シリル基−ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカグト
グロピルメチル基のようなメルカグトジオルガノシリル
基などのいずれであってもよいが、このメルカプ)Mは
例えば 5H(OH2)aSiヨ(aは1〜3)、 に結合していることが好ましい。また、このオルガノシ
リコーン化合物中のけい素原子に結合するメルカプト基
以外の有機基としてはメチル基−エチル基、グミピル基
、フェニル基、トリフルオログミピル基などが例示され
るが、これらの有機基を含むけい基原子とメルカプト基
と結合したげい素原子の配列順序などC二特に制限はな
い。このメルカプト基を有するオルガノシリコーン化合
物は本発明の組成物が無溶剤で塗布されることもあるの
で、これは25℃における粘度が10,000C8以下
のものとすることがよいが、これは特に制限的なもので
はない。
本発明の組成物は上記したA)成分とB)成分との配合
によって得られるが−これらの配合比はこのB)成分の
配合量をA)成分中のビニル基に対しB)成分中のメル
カプト基が1:100〜100:1モルの範囲となるよ
うにすればよく、これは好ましくはA)成イ場ビニル基
とB)成分中のメルカプト基が CH2−C)i/5H
=2/1〜1/2の範囲となるよう(ニすればよい。
によって得られるが−これらの配合比はこのB)成分の
配合量をA)成分中のビニル基に対しB)成分中のメル
カプト基が1:100〜100:1モルの範囲となるよ
うにすればよく、これは好ましくはA)成イ場ビニル基
とB)成分中のメルカプト基が CH2−C)i/5H
=2/1〜1/2の範囲となるよう(ニすればよい。
本発明の組成物はこれを構成するビニル基含有オルガノ
ポリシロキサンが上記した式1)で示されるシロキサン
単位を含むものであることから、これに紫外線−電子線
などの放射線を照射するとこのビニル基とメルカプト基
との反応によって硬化し、その塗膜面はシリローンの移
行もなく十分(二硬化するので、これは剥離剤などとし
て有用とされるが−これにはその硬化反応を促進させる
ための増感剤を添加してもよい。この増感剤は公知のも
のでよく、これにはアセトフエノンーグロビオフエノン
ーp−エチルベンゾフェノン+p−)リメチルν口キシ
ベンゾフエノン−p−)リメチルシロキシベンゾフエノ
ンのようなベンゾフェノン類−キサントーン−フルオレ
ノン、ベンズアルデヒド−フルオレン−アントラキノン
、トリフェニルアミン、カルバゾール、ペンソインメ゛
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、アゾピヌイソプチロニトリルなど
のような芳香族ケトン、アゾ化合物などが例示されるが
、これらの添加量は前記した本発明の組成物を光増感さ
せるの(:充分な量とすればよく、これは通常この組成
物に対し0.01〜20重量係、重量しくは0.1〜5
重量重量すればよい。
ポリシロキサンが上記した式1)で示されるシロキサン
単位を含むものであることから、これに紫外線−電子線
などの放射線を照射するとこのビニル基とメルカプト基
との反応によって硬化し、その塗膜面はシリローンの移
行もなく十分(二硬化するので、これは剥離剤などとし
て有用とされるが−これにはその硬化反応を促進させる
ための増感剤を添加してもよい。この増感剤は公知のも
のでよく、これにはアセトフエノンーグロビオフエノン
ーp−エチルベンゾフェノン+p−)リメチルν口キシ
ベンゾフエノン−p−)リメチルシロキシベンゾフエノ
ンのようなベンゾフェノン類−キサントーン−フルオレ
ノン、ベンズアルデヒド−フルオレン−アントラキノン
、トリフェニルアミン、カルバゾール、ペンソインメ゛
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、アゾピヌイソプチロニトリルなど
のような芳香族ケトン、アゾ化合物などが例示されるが
、これらの添加量は前記した本発明の組成物を光増感さ
せるの(:充分な量とすればよく、これは通常この組成
物に対し0.01〜20重量係、重量しくは0.1〜5
重量重量すればよい。
なお1本発明の組成物は必要に応じて酸化防止剤などの
安定剤や着色剤、充填剤を添加してもよく−これハマた
溶剤で稀釈して低粘度化してもよい。また、この組成物
は木材1紙、グラスチックフィルム、金属箔などの基体
(二これを適当な方法で塗布したのち、放射線照射をす
ればそれが十分な硬度をもつ硬化膜とされ、この硬化膜
は離型性、撥水性、絶縁性、耐候性をもっているので、
これは剥離剤を始めとする各種の用途(二有用とされる
。
安定剤や着色剤、充填剤を添加してもよく−これハマた
溶剤で稀釈して低粘度化してもよい。また、この組成物
は木材1紙、グラスチックフィルム、金属箔などの基体
(二これを適当な方法で塗布したのち、放射線照射をす
ればそれが十分な硬度をもつ硬化膜とされ、この硬化膜
は離型性、撥水性、絶縁性、耐候性をもっているので、
これは剥離剤を始めとする各種の用途(二有用とされる
。
つぎ5二本発明の実施例をあげるが1例中におけるMe
はメチル基&Phはフェニル基、■1はビニル基を、ま
た粘度は25℃C二おける測定値を、4=り部は重量部
を示したものであり一例中における剥離力、残留接着率
およびシリコーン移行性は下記の方法による測定結果を
示したものである。
はメチル基&Phはフェニル基、■1はビニル基を、ま
た粘度は25℃C二おける測定値を、4=り部は重量部
を示したものであり一例中における剥離力、残留接着率
およびシリコーン移行性は下記の方法による測定結果を
示したものである。
(剥離力=、li’15crn)
硬化されたシリコーン塗膜上に、接着剤オリバインBP
S−5127(東洋インキ社製・商品名)を30g/r
r?で塗工し、100℃で3分間乾燥して得たものを表
面紙にはり合わせ一2Kfのローラーで1往復圧着し、
25℃で20時間放置後。
S−5127(東洋インキ社製・商品名)を30g/r
r?で塗工し、100℃で3分間乾燥して得たものを表
面紙にはり合わせ一2Kfのローラーで1往復圧着し、
25℃で20時間放置後。
180度で引離したときの剥離力(g/ 5 cm )
で示した。
で示した。
(残留接着率チ)
ニットポリエステルテープ31B(日東電気工業社製−
商品名)をりロキチン硬化膜にはり合わせて2胸のロー
ラーで1往復圧着後、70℃で20g/cdの荷重をか
げて20時間エージングした後、このテープを剥離して
ステンレス板(す280)にはりつけ、そのときの接着
力をテフロン板に同じようC′−はり合わせた上記31
Bテープの結果と比較して百分率で示した。
商品名)をりロキチン硬化膜にはり合わせて2胸のロー
ラーで1往復圧着後、70℃で20g/cdの荷重をか
げて20時間エージングした後、このテープを剥離して
ステンレス板(す280)にはりつけ、そのときの接着
力をテフロン板に同じようC′−はり合わせた上記31
Bテープの結果と比較して百分率で示した。
(シリコーン移行性)
硬化されたシリコーン塗膜上に厚さ20μのポリエステ
ルフィルムを2(1/iの力で70℃−24時間圧着し
たのち、これを引きはなし、そのポリエステルフィルム
面の油性マジックインキのはじき鮮度でシリコーンの移
行性を判定した。
ルフィルムを2(1/iの力で70℃−24時間圧着し
たのち、これを引きはなし、そのポリエステルフィルム
面の油性マジックインキのはじき鮮度でシリコーンの移
行性を判定した。
○・・・ はとんどはじかない
△・・・ かなりのはじきが見られる
×・・・ 全体にはじきが見られる
実施例I
A) 94モル係のMe2SiO単位、3モル係のPh
2S10単位および3モル係の Me Via(OH,)2S(OH2)3Si−0単位からな
る、末端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度
約3000 cpsのオルガノポリシロキサン1009
゜ B ) Me H8(OH2)3Si−0単位からなる粘度約30cp
s のメルカグト暴含有シロキサン10部 および C) 感光剤としてのベンゾインイソブチルエーテル5
部 を混合して組成物を作り、これをポリエチレンラミネー
ト紙にこれが薄いフィルム状となるようにL5g/n?
の塗布量で塗工したのち、これに高圧水銀灯(160W
/CPn)からの紫外線を1秒間照射したところ、この
塗膜は硬化したので、これについてその物性をしらべた
ところ、これは剥離力150975 cm、残留接着率
87%、シリコーン移行性は○であった。
2S10単位および3モル係の Me Via(OH,)2S(OH2)3Si−0単位からな
る、末端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度
約3000 cpsのオルガノポリシロキサン1009
゜ B ) Me H8(OH2)3Si−0単位からなる粘度約30cp
s のメルカグト暴含有シロキサン10部 および C) 感光剤としてのベンゾインイソブチルエーテル5
部 を混合して組成物を作り、これをポリエチレンラミネー
ト紙にこれが薄いフィルム状となるようにL5g/n?
の塗布量で塗工したのち、これに高圧水銀灯(160W
/CPn)からの紫外線を1秒間照射したところ、この
塗膜は硬化したので、これについてその物性をしらべた
ところ、これは剥離力150975 cm、残留接着率
87%、シリコーン移行性は○であった。
また、比較のため上記A)成分の
Me
Via(OH2)、5(OH2)3Si−0単位の代わ
りに一従来公知の Me ■ ViSi−0単位としたオルガノポリ シロキチンをA)成分とした以外はこれと同じようにし
て得た組成物(比較例1)について同様(=処理し、そ
の物性をしらべたところ、これは剥離力が140 、!
9/ 5cm、残留接着率70%を示し、そのシリコー
ン移行性はΔ〜×であった。
りに一従来公知の Me ■ ViSi−0単位としたオルガノポリ シロキチンをA)成分とした以外はこれと同じようにし
て得た組成物(比較例1)について同様(=処理し、そ
の物性をしらべたところ、これは剥離力が140 、!
9/ 5cm、残留接着率70%を示し、そのシリコー
ン移行性はΔ〜×であった。
実施例2
92モモル係Me2810単位−3モル係のPh2Si
O単位および5モル係の 1・、づe Via(OH2)2S(OH2)3Si−0単位とから
なる。
O単位および5モル係の 1・、づe Via(OH2)2S(OH2)3Si−0単位とから
なる。
末端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘W約5
.000 aps のシロキサン100mに実施例1
で使用したB)−0)成分を配合して組成物を作り、こ
れをポリエチレンラミネート紙≦二実施例1と同様に塗
工し、紫外゛線照射で硬化させ、その硬化膜についての
物性テストを行なうと共に−この
Me ■ Via(OH)S(OH2)、5i−0単位を 2 Me 記第1it二示すとおりの結果が得られた。
.000 aps のシロキサン100mに実施例1
で使用したB)−0)成分を配合して組成物を作り、こ
れをポリエチレンラミネート紙≦二実施例1と同様に塗
工し、紫外゛線照射で硬化させ、その硬化膜についての
物性テストを行なうと共に−この
Me ■ Via(OH)S(OH2)、5i−0単位を 2 Me 記第1it二示すとおりの結果が得られた。
実施例3
95モモルのMe s4o単位と5モルチのMe
■
vio(aH2)2S(OH2)3SiO単位とからな
る。
る。
末端がビニルジメチルシロキリ基で封鎖された粘度30
000’plSのシロキサン100部に(A)成分)、
実施例1で使用したB)成分および0)成分を同量添加
して組成物を作り−これをポリエチレンラミネート紙に
実施例1と同様に塗布し一同様に処理して紫外線照射に
より硬化させた硬化膜(二ついてその物性をしらべると
共に、この人)成分中の M8 ■ visio単位としたものを同様に処理して得た組成物
(比較例3)について同様に操作して得た硬化膜の物性
をしらべたところ、次記の第1表に示すとおりの結果が
得られた。
000’plSのシロキサン100部に(A)成分)、
実施例1で使用したB)成分および0)成分を同量添加
して組成物を作り−これをポリエチレンラミネート紙に
実施例1と同様に塗布し一同様に処理して紫外線照射に
より硬化させた硬化膜(二ついてその物性をしらべると
共に、この人)成分中の M8 ■ visio単位としたものを同様に処理して得た組成物
(比較例3)について同様に操作して得た硬化膜の物性
をしらべたところ、次記の第1表に示すとおりの結果が
得られた。
実施例4
実施例1で使用したA)成分をその末端がMe
Via(OH2)28(OH2)3Si−0八で封鎖さ
れた粘度が300 ocpsのシロキサンとし、これシ
ニ実施例1で使用したB)、C)成分を同量添加して組
成物を作り−これをポリエチレンラミネート紙に1.5
fl/ln’の量で塗布し、これに高圧水銀灯(160
W/m )を用いて紫外線を1秒間照射したところ、こ
れは完全に硬化し、これについてのシリコーン移行性を
しらべたところ−これは油性マジックインキをほとんど
はじかないもので−シリコーンの移行のないものであっ
た。
れた粘度が300 ocpsのシロキサンとし、これシ
ニ実施例1で使用したB)、C)成分を同量添加して組
成物を作り−これをポリエチレンラミネート紙に1.5
fl/ln’の量で塗布し、これに高圧水銀灯(160
W/m )を用いて紫外線を1秒間照射したところ、こ
れは完全に硬化し、これについてのシリコーン移行性を
しらべたところ−これは油性マジックインキをほとんど
はじかないもので−シリコーンの移行のないものであっ
た。
実施例5
実施例1で使用したA)成分をその末端がトリメチルシ
ロキシ基で封鎖された粘度3000op8のシロキサン
としたほかは、上記実施例4と同様に処理して得た塗膜
についてそのシリコーン移行性をしらべたところ、これ
も油性マジックインキを殆んどはしかないものであり、
これにはシリコーンの移行がなかった。
ロキシ基で封鎖された粘度3000op8のシロキサン
としたほかは、上記実施例4と同様に処理して得た塗膜
についてそのシリコーン移行性をしらべたところ、これ
も油性マジックインキを殆んどはしかないものであり、
これにはシリコーンの移行がなかった。
実施例6
94モル係のMe SiO単位、3モル係のPh 8
10単位および3モル係の Vie−0(OH2)3Si−0単位からなり、末端が
ビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度3000
cps のシロギサン100部(A)成分)に、実施例
1で使用したB)成分10部、C)成分5部を混合して
組成物を作り−これをポリエチレンラミネート紙上C二
15g/−の量で塗工したのち−これl二高圧水銀灯(
160W/鑞)を用いて紫外線を1秒間照射したところ
−この塗布面は完全に硬化し、これ(二ついてのシリコ
ーン移行性をしらべたが−これに二はシリコーンの移行
は全く認められず、これは剥離力%170g15crn
、残留接着力&”jf93 %を示したが、比較のため
に上記A)成分中の OMe Me111 ViC,−0(0H2)3SiO単位を yi31−〇
基としたものを使用したほかはこれと同様に処理して得
た組成物(比較例a)から得られた塗布面の物性は剥離
力140 fi/ 5crn、残留接着カフ0%で。
10単位および3モル係の Vie−0(OH2)3Si−0単位からなり、末端が
ビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度3000
cps のシロギサン100部(A)成分)に、実施例
1で使用したB)成分10部、C)成分5部を混合して
組成物を作り−これをポリエチレンラミネート紙上C二
15g/−の量で塗工したのち−これl二高圧水銀灯(
160W/鑞)を用いて紫外線を1秒間照射したところ
−この塗布面は完全に硬化し、これ(二ついてのシリコ
ーン移行性をしらべたが−これに二はシリコーンの移行
は全く認められず、これは剥離力%170g15crn
、残留接着力&”jf93 %を示したが、比較のため
に上記A)成分中の OMe Me111 ViC,−0(0H2)3SiO単位を yi31−〇
基としたものを使用したほかはこれと同様に処理して得
た組成物(比較例a)から得られた塗布面の物性は剥離
力140 fi/ 5crn、残留接着カフ0%で。
これはシリコーン移行性もΔ〜×で示されるものであっ
た。
た。
実施例7
その末端が
vioa2s(on2)3si−o基で封鎖された粘度
3000α、pcのシロキチンとしたほかは同様にして
得た組成物(二ついて、その硬化された塗膜面の物性を
しらべたところ、これもシリコーンの移行性は全く認め
られなかった。
3000α、pcのシロキチンとしたほかは同様にして
得た組成物(二ついて、その硬化された塗膜面の物性を
しらべたところ、これもシリコーンの移行性は全く認め
られなかった。
実施例8
A) 94モル係の Me2SiO単位、3モル係のp
h sio単位および3モル係の末端がビニルジメチル
シロキシ基で封鎖された1000cps のシロキサン
100重量部とB) Me H8(OH2)3Si−○単位からなる粘度が30 c
ps のシロキサン5部 とを混合して組成物を作り−これをポリエチレンラミネ
ート紙上に1.+1/fflの量で塗工し、ついでこれ
に電子線加速器(エネルギー・サイエンス社製)からの
電子線を1.5Mradの線量で照射したところ、この
塗布膜は完全に硬化し、これはシリコーン移行性のない
ものであった。
h sio単位および3モル係の末端がビニルジメチル
シロキシ基で封鎖された1000cps のシロキサン
100重量部とB) Me H8(OH2)3Si−○単位からなる粘度が30 c
ps のシロキサン5部 とを混合して組成物を作り−これをポリエチレンラミネ
ート紙上に1.+1/fflの量で塗工し、ついでこれ
に電子線加速器(エネルギー・サイエンス社製)からの
電子線を1.5Mradの線量で照射したところ、この
塗布膜は完全に硬化し、これはシリコーン移行性のない
ものであった。
実施例9
99モル係のMe SiO単位と1モル係のMe
ViOOH5(OH) 5i−0単位とからなり、そ
2 2 3 の末端がトリメチルシロキシ基で封鎖された粘度が10
00 n4j、Bのシロキサン100部C二、前記実施
例8のB)成分を5部添加して組成物を作り、これをク
ラフト紙上(二LOg/n?の量で塗工し。
2 2 3 の末端がトリメチルシロキシ基で封鎖された粘度が10
00 n4j、Bのシロキサン100部C二、前記実施
例8のB)成分を5部添加して組成物を作り、これをク
ラフト紙上(二LOg/n?の量で塗工し。
これに電子線加工器(前出)からの電子線を1.5Mr
adの線量で照射したところ−この塗布膜は完全に硬化
し、これもシリコーン移行性は全く示さないものであっ
た。
adの線量で照射したところ−この塗布膜は完全に硬化
し、これもシリコーン移行性は全く示さないものであっ
た。
実施例10
99モル係の Me2SiO単位と1モル係のMe
■
viaH2s(an2)3Si−0単位とからなり、末
端がビニルジメチル基で封鎖された粘度1000cps
のシロキサン100部に実施例8で使用したB)成
分5都を混合して組成物を作り、これを前例と同様にし
てクラフト紙上に塗工し、電子線を照射したところ、シ
リコーン移行性のない硬化膜か得られた。
端がビニルジメチル基で封鎖された粘度1000cps
のシロキサン100部に実施例8で使用したB)成
分5都を混合して組成物を作り、これを前例と同様にし
てクラフト紙上に塗工し、電子線を照射したところ、シ
リコーン移行性のない硬化膜か得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、A)l)一般式 (こ\にR1は2価炭化水素基、R2は水累原子または
メチル基、R3は非置換または置換の1価炭化水累基、
Xは酸素原子。 1 −C−〇−基、硫黄原子またはチオ化合物。 (こ51二Rは前記に同じ、n二0〜3)で示されるシ
ロキサン単位とからなり、1分子中(二上記1)式で示
されるシロキサン単位を少なくとも2ケ有するオルガノ
ポリシロキサンと− B) 1分子中i二少なくとも2ケのメルカプト基を
有する2このメルカプト基の量と上記A)成分中の不飽
和基との比が1:100〜100:lの範囲になる量の
メルカグト基含有オルガノシリコーン化合物 とからなることを特徴とする放射線硬化性オルガ/ ノポリシロキサン組成物 2、光感光に十分量の感光剤を添加してなる特許請求の
範囲第1項記載の放射線硬化性オルガノボリシaキチン
組成物
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58081360A JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
US06/800,087 US4707503A (en) | 1983-05-10 | 1985-11-21 | Radiation-curable organopolysiloxane compositions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58081360A JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59206465A true JPS59206465A (ja) | 1984-11-22 |
JPS6117863B2 JPS6117863B2 (ja) | 1986-05-09 |
Family
ID=13744171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58081360A Granted JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4707503A (ja) |
JP (1) | JPS59206465A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0237757A2 (de) * | 1986-02-06 | 1987-09-23 | Wacker-Chemie GmbH | Durch Strahlung zu Elastomeren vernetzbare Massen |
US5412133A (en) * | 1987-07-31 | 1995-05-02 | General Electric Company | Radiation active silicon compounds having thioether linked functional groups |
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DE4009889C1 (ja) * | 1990-03-28 | 1991-06-13 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | |
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JP5600874B2 (ja) | 2006-12-21 | 2014-10-08 | 日立化成株式会社 | 調光フィルム |
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WO2010021276A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
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JP5621596B2 (ja) | 2009-02-13 | 2014-11-12 | 日立化成株式会社 | 調光フィルム |
WO2010092953A1 (ja) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
EP2530517B1 (en) | 2010-01-26 | 2019-02-27 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Light-diffusing film |
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KR20170106330A (ko) * | 2015-01-22 | 2017-09-20 | 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드 | 경화성 오가노폴리실록산 조성물, 그의 경화물, 및 경화 피막의 형성 방법 |
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1983
- 1983-05-10 JP JP58081360A patent/JPS59206465A/ja active Granted
-
1985
- 1985-11-21 US US06/800,087 patent/US4707503A/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JPS6117863B2 (ja) | 1986-05-09 |
US4707503A (en) | 1987-11-17 |
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