JPS59134540A - 二次電子検出装置 - Google Patents

二次電子検出装置

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Publication number
JPS59134540A
JPS59134540A JP58007291A JP729183A JPS59134540A JP S59134540 A JPS59134540 A JP S59134540A JP 58007291 A JP58007291 A JP 58007291A JP 729183 A JP729183 A JP 729183A JP S59134540 A JPS59134540 A JP S59134540A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
secondary electron
detector
electron beam
electric field
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58007291A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Otaka
正 大高
Yasushi Nakaizumi
泰 中泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS59134540A publication Critical patent/JPS59134540A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は走査形電子顕微鏡に係シ、特に対物レンズの上
部より2次電子を効率良く検出する二次電子検出装置に
関する。
〔従来技術〕
近年、2次電子像の高分解能化を計るために対物レンズ
の焦点距離を短くしてレンズの収差を著しく小さくし、
試料を対物レンズに近接、もしくは対物レンズ間隙を挿
入し、2次電子を対物レンズの上部より取り出す方式が
採用されてきた。
しかしながら、低加速電圧の一次電子線は、2次電子検
出器で生ずる2次電子引出し電界によす曲げられ、対物
レンズの軸外を通ることになり、レンズの軸外収差を受
けて高分解能が得られない。
一方、2次電子検出器で生ずる2次電子の引出し電界を
弱めると、−次電子線の軸の曲が9を小さくすることが
できるが、十分に2次電子を上方に引出すことが困難に
なり、良質の2次電子像を得ることができなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、上記した従来の欠点をなくし2次電子
検出のための電界による一次電子線の偏向を補正すると
共に、試料から放出された2次電子も効率良〈検出する
二次電子検出装置を提供するにある。
〔発明の概要〕
本発明は2次電子検出器の2次電子引出し電界による一
次電子線の偏向を補正するため、2次電子検出器と直交
して偏向磁界を生ぜしめ、同時にこの偏向磁界は試料か
ら放出された2次電子を検出器側に偏向させるようにし
たものである。
〔発明の実施例〕
以下、実施例によシ詳述する。
第1図は本発明の一実施例であシ断面図を示す。
第2図は第1図のA−A’断面を示す図である。
試料1に一次電子線6が照射されると2次電子7が放出
され、対物レンズ2の磁極間隙に生ずる磁場で収束され
つつレンズの上方向に向かい2次電子検出器3で検出さ
れる。
周知の如く2次電子検出器3は検出した2次電子7を加
速して光に変換するために約+10kVの電圧が印加さ
れている。同時にこの電圧で生じる電界が対物レンズ2
の上部に構成され、試料lから放出される2次電子を誘
導する。同時に一次電子線6の軌道を曲げる結果となる
。そこで第2図のA−A’断面で示す如く、2次電子検
出器3と直交する位置にS極−N極を有する補正励磁コ
イル8−1.8−2を設は磁界を形成させる。このよう
に配置して励磁を与えることにより一次電子線6は2次
電子検出器3によって偏向された分だけ補正し、対物レ
ンズ2の中心軸に入射させることができる。
補正励磁コイル8−1.8−2を励磁して一次電子線6
の補正を行なう。同時に試料1で放出される2次電子7
はこの補正励磁コイル8−1.8−2によって作られる
磁界によ92次電子検出器3の側に軌道が曲げられ、2
次電子の補促効率を高めるという効果を同時に発揮させ
ることができる。
このように構成することによシ、−前型子線6が2次電
子検出器3の電界によって曲げられる量だけ補正励磁コ
イル8−1.8−2で補正することができる。特に−前
型子線6を低い加速電圧にして観察することが近年半導
体等の試料において多用されるようになってきているが
、このような場合には大きく対物レンズ2の中心軸から
はずれるため本補正励磁コイル8−1.8−2で補正す
ることによシ、大巾な性向上を計ることができる。
尚、2次電子検出器3には例えば正極で10kVという
ように一定の電圧を印加しておシ、−前型子線6の曲げ
られる量はこの加速電圧に反比例して大きくなる。した
がって補正励磁コイル8−1゜8−2に流す電流は加速
電圧に対して比例する量を供給することにより完全に補
正することができる。
〔発明の効果〕
以上詳述したように本発明によれば2次電子検出器の電
界による一次電子線の軸の曲がりを完全に補正すること
ができると共に、2次電子検出器への2次電子の補促効
率も向上させることができ高分解能で、かつ良質な2次
電子像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図は第1図に
おけるA−A’部の断面図、第3図は本発明による一次
電子と2次電子との関係を示す概略図である。 1・・・試料、2・・・対物レンズ、3・・・2次電子
検出器、6・・・−前型子線、7・・・2次電子線、8
・・・補正励磁コイル。 某 1 (2) 12図 ¥3(2)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 対物レンズの上部より2次電子を検出して像表示
    する走査形電子顕微鏡において、−次電子線を該2次電
    子検出器と反対の側に偏向させる手段を有することを特
    徴とする二次電子検出装置。
JP58007291A 1983-01-21 1983-01-21 二次電子検出装置 Pending JPS59134540A (ja)

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JPS59134540A true JPS59134540A (ja) 1984-08-02

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6231933A (ja) * 1985-06-28 1987-02-10 カメカ 電子ビ−ム使用の集積回路試験器
JPS62168324A (ja) * 1985-09-13 1987-07-24 イーツエーテー インテグレイテツド サーキツト テスチング ゲゼルシヤフト フユア ハルプライタープリユーフテヒニク ミツト ベシユレンクテル ハフツング 電子線装置内の二次およびまたは後方散乱電子の検出装置
US5149968A (en) * 1990-09-06 1992-09-22 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
WO1996036053A1 (fr) * 1995-05-12 1996-11-14 Hitachi, Ltd. Emetteur de faisceaux ioniques pourvu d'un detecteur de particules secondaires et procede de detection de particules secondaires

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6231933A (ja) * 1985-06-28 1987-02-10 カメカ 電子ビ−ム使用の集積回路試験器
JPS62168324A (ja) * 1985-09-13 1987-07-24 イーツエーテー インテグレイテツド サーキツト テスチング ゲゼルシヤフト フユア ハルプライタープリユーフテヒニク ミツト ベシユレンクテル ハフツング 電子線装置内の二次およびまたは後方散乱電子の検出装置
US5149968A (en) * 1990-09-06 1992-09-22 Hitachi, Ltd. Scanning electron microscope
WO1996036053A1 (fr) * 1995-05-12 1996-11-14 Hitachi, Ltd. Emetteur de faisceaux ioniques pourvu d'un detecteur de particules secondaires et procede de detection de particules secondaires

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