JPS59109270A - ロ−タリデイスク型の流体噴霧装置 - Google Patents
ロ−タリデイスク型の流体噴霧装置Info
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- JPS59109270A JPS59109270A JP58203760A JP20376083A JPS59109270A JP S59109270 A JPS59109270 A JP S59109270A JP 58203760 A JP58203760 A JP 58203760A JP 20376083 A JP20376083 A JP 20376083A JP S59109270 A JPS59109270 A JP S59109270A
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- disk
- spraying device
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B3/00—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements
- B05B3/02—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements
- B05B3/10—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces
- B05B3/1057—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces with at least two outlets, other than gas and cleaning fluid outlets, for discharging, selectively or not, different or identical liquids or other fluent materials on the rotating element
-
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- B05B3/10—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces
- B05B3/1007—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces characterised by the rotating member
- B05B3/1014—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces characterised by the rotating member with a spraying edge, e.g. like a cup or a bell
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- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
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- B05B3/1064—Spraying or sprinkling apparatus with moving outlet elements or moving deflecting elements with rotating elements discharging over substantially the whole periphery of the rotating member, i.e. the spraying being effected by centrifugal forces the liquid or other fluent material to be sprayed being axially supplied to the rotating member through a hollow rotating shaft
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は流体噴霧装置、特に放出する霧粒子のサイズを
調整でき農業分野に好適なロータリディスク型の流体噴
霧装置に関する。
調整でき農業分野に好適なロータリディスク型の流体噴
霧装置に関する。
従来の流体噴霧装置では散布する化学液の霧粒子のサイ
ズが均一にされ得す、相当の量の化学液が散布されずに
滴下してしまい、むだにされていた。散布する粒子のサ
イズが大きくなると作物の処理対象部分や除去対象の寄
生虫に対し適確に散布できず、一方粒子が小さくなり過
ぎると粒子が風で流されたり蒸発し易くなる。近年ロー
タリゾ（６） イスク型の流体噴霧装置が改良されており、散布する流
体粒子のサイズを比較的均一に調整可能にし散布効率を
大巾に向上するものも提案されている。この場合、流体
はロータリディスクの中央部近傍に導入され、遠心力に
より流体がロータリディスク上において薄い層状をなし
流動される。この層状の流体はロータリディスクの縁部
に達したとき縁部における周速度が早いので、放射状に
放出されて層状にされる。流体の供給速度およびロータ
リディスクの回転速度を調整することにより散布する霧
粒子を所望のサイズ（二できる。このロータリディスク
型の流体噴霧装置においては、化学液の利用効率を大巾
に改良でき、かつ放出される霧粒子の風による損失を最
小限に押えることができることが判明している。
ズが均一にされ得す、相当の量の化学液が散布されずに
滴下してしまい、むだにされていた。散布する粒子のサ
イズが大きくなると作物の処理対象部分や除去対象の寄
生虫に対し適確に散布できず、一方粒子が小さくなり過
ぎると粒子が風で流されたり蒸発し易くなる。近年ロー
タリゾ（６） イスク型の流体噴霧装置が改良されており、散布する流
体粒子のサイズを比較的均一に調整可能にし散布効率を
大巾に向上するものも提案されている。この場合、流体
はロータリディスクの中央部近傍に導入され、遠心力に
より流体がロータリディスク上において薄い層状をなし
流動される。この層状の流体はロータリディスクの縁部
に達したとき縁部における周速度が早いので、放射状に
放出されて層状にされる。流体の供給速度およびロータ
リディスクの回転速度を調整することにより散布する霧
粒子を所望のサイズ（二できる。このロータリディスク
型の流体噴霧装置においては、化学液の利用効率を大巾
に改良でき、かつ放出される霧粒子の風による損失を最
小限に押えることができることが判明している。
またかかるロータリディスク型の流体噴霧装置は通常ロ
ータリディスクの回転軸が垂直になるよう支承プームに
取り付けられており、霧粒子はロータリディスクから水
平方向かつ円周方向に放出され散布対象の作物の上に散
布され得る。しかしながら大豆のように多くの植物の上
部は実質的にすきまなく葉で扱われているので、この流
体噴霧装置では散布される霧粒子は作物の上部の葉のみ
にかかり下部の葉や下部に巣くう寄生虫までとどかない
ことが多かった。この欠点を解決すべく、ロータリディ
スクの回転軸が垂直面（二対し傾斜するように流体噴霧
装置を構成し、装置の片側から放出される霧粒子を強制
的に植物の下部まで達せしめる試みがなされているが、
従来の噴霧装置ではこのよう？＝垂直面に対し斜めにな
す、特に垂直面に対し大きな角度を持たせて取り付ける
程、ロータリディスク（二供給される流体がディスクの
片側へ不均一（二流れて放出される霧粒子のサイズが不
均一（二なり、場合によっては化学液が流体噴霧装置か
ら単に漏出するだけになり、作物に直接かかつて薬害を
生ずる等の欠点があった。
ータリディスクの回転軸が垂直になるよう支承プームに
取り付けられており、霧粒子はロータリディスクから水
平方向かつ円周方向に放出され散布対象の作物の上に散
布され得る。しかしながら大豆のように多くの植物の上
部は実質的にすきまなく葉で扱われているので、この流
体噴霧装置では散布される霧粒子は作物の上部の葉のみ
にかかり下部の葉や下部に巣くう寄生虫までとどかない
ことが多かった。この欠点を解決すべく、ロータリディ
スクの回転軸が垂直面（二対し傾斜するように流体噴霧
装置を構成し、装置の片側から放出される霧粒子を強制
的に植物の下部まで達せしめる試みがなされているが、
従来の噴霧装置ではこのよう？＝垂直面に対し斜めにな
す、特に垂直面に対し大きな角度を持たせて取り付ける
程、ロータリディスク（二供給される流体がディスクの
片側へ不均一（二流れて放出される霧粒子のサイズが不
均一（二なり、場合によっては化学液が流体噴霧装置か
ら単に漏出するだけになり、作物に直接かかつて薬害を
生ずる等の欠点があった。
本発明の一目的は広範囲にかつ流体の噴霧な正確に調整
可能なロータリディスク型の流体噴霧装置を提供するこ
とにある。
可能なロータリディスク型の流体噴霧装置を提供するこ
とにある。
本発明の他の目的は垂直位置又は垂直面に対し大巾に傾
斜した位置で収り付けられても、放出される噴霧粒子の
サイズを正確かつ均一に制御可能なロータリディスク型
の流体噴霧装置を提供することにある。本発明の別の目
的は垂直面に対し傾斜して取り付けられても流体が滴下
したり漏出したすせずかつ放出される霧粒子を均一にで
きるロータリディスク型の流体噴霧装置を提供すること
にある。
斜した位置で収り付けられても、放出される噴霧粒子の
サイズを正確かつ均一に制御可能なロータリディスク型
の流体噴霧装置を提供することにある。本発明の別の目
的は垂直面に対し傾斜して取り付けられても流体が滴下
したり漏出したすせずかつ放出される霧粒子を均一にで
きるロータリディスク型の流体噴霧装置を提供すること
にある。
本発明の更に他の目的はｒｘ霧し散布する前に異種の化
学液でも予め混合する必要のないロータリディスク型の
流体噴霧装置を提供することにある。
学液でも予め混合する必要のないロータリディスク型の
流体噴霧装置を提供することにある。
また本発明の他の目的は散布と同時に異種の化学液を混
合可能なロータリディスク型の流体噴霧装置を提供する
ことにある。
合可能なロータリディスク型の流体噴霧装置を提供する
ことにある。
本発明は図示の実施例に限定されるものではなく、特許
請求の範囲の技術的思想に含まれる設計変更を包有する
ことは理解されよう。
請求の範囲の技術的思想に含まれる設計変更を包有する
ことは理解されよう。
以下本発明を好ましい実施例に沿って説明する。
第１因に本発明のロータリディスク型の噴霧装置００を
示す。噴霧装置θＯのロータリディスク（１１１は（９
） モータＩの駆動シャツ） （１２に装着される。本実施
例においては噴霧装置（１０１は水平な支承ブーム０秒
から延びる取付フランジ（＋５１ 、 ＣＩ（へ）によ
り支承されている。更に詳述するに、取付フランジ（＋
５１はＣ形りランプａ！Ｊにより垂直方向に垂下した状
態で支承プーム（１８１に固定される。一方取付フラン
ジ（１６１は、例えば第１図に図示されるようにフラン
ジ（１５１の垂直部分に取り付けられ、モータＩを支承
したときモータ住４の駆動シャフト０２が垂直方向に向
くように曲げられている。図示のモータ（１４）はケー
シング（２υ内に収容され、ケーシング（イ）自体は取
付ブロックＣ２１）上に支承され一方取付ブロック（２
１）はポル） （２２によりフランジａ６１に固設され
ている。円形のスプラッシュプレートｅ冶がロータリデ
ィスク（１１１の上方かつ僅かな距離離間して取付フラ
ンジＯｅの下面に取り付けられており、スプラッシュプ
レート（２４１の直径は本実施例の場合ロータリディス
ク（１１１の直径より僅かに犬に設けられている。駆動
シャフトａ′２は取付ブロック（２１１，取付フランジ
ａ６１およびスプラッシュプレート０ルの各部材を貫通
し、モータα（イ）が付勢（］０） されたときロータリディスクα９が所望の速度で回転さ
れるよう構成されている。通常農業用噴霧機には上述し
たような噴霧装置が複数個具備されており、バッテリに
より駆動される。また本実施例ではロータリディスク（
１１１がモータ（１４）の駆動シャフト（１２１に直結
されているが、プーリ又はギヤ装置等を介し駆動シャツ
）Ｑ２１に対し間接的に連係することも可能である。
示す。噴霧装置θＯのロータリディスク（１１１は（９
） モータＩの駆動シャツ） （１２に装着される。本実施
例においては噴霧装置（１０１は水平な支承ブーム０秒
から延びる取付フランジ（＋５１ 、 ＣＩ（へ）によ
り支承されている。更に詳述するに、取付フランジ（＋
５１はＣ形りランプａ！Ｊにより垂直方向に垂下した状
態で支承プーム（１８１に固定される。一方取付フラン
ジ（１６１は、例えば第１図に図示されるようにフラン
ジ（１５１の垂直部分に取り付けられ、モータＩを支承
したときモータ住４の駆動シャフト０２が垂直方向に向
くように曲げられている。図示のモータ（１４）はケー
シング（２υ内に収容され、ケーシング（イ）自体は取
付ブロックＣ２１）上に支承され一方取付ブロック（２
１）はポル） （２２によりフランジａ６１に固設され
ている。円形のスプラッシュプレートｅ冶がロータリデ
ィスク（１１１の上方かつ僅かな距離離間して取付フラ
ンジＯｅの下面に取り付けられており、スプラッシュプ
レート（２４１の直径は本実施例の場合ロータリディス
ク（１１１の直径より僅かに犬に設けられている。駆動
シャフトａ′２は取付ブロック（２１１，取付フランジ
ａ６１およびスプラッシュプレート０ルの各部材を貫通
し、モータα（イ）が付勢（］０） されたときロータリディスクα９が所望の速度で回転さ
れるよう構成されている。通常農業用噴霧機には上述し
たような噴霧装置が複数個具備されており、バッテリに
より駆動される。また本実施例ではロータリディスク（
１１１がモータ（１４）の駆動シャフト（１２１に直結
されているが、プーリ又はギヤ装置等を介し駆動シャツ
）Ｑ２１に対し間接的に連係することも可能である。
上記ロータリディスクＱ、Ｄは円錐状部材αＪとボス０
ηとから成り、ボス０ηは円錐状部材（１３）の下面に
好適に固定される。円錐状部材ＯＪの上面には円錐状の
凹所が形成され、本実施例の場合前記凹所は水平面に対
し約１０度の角度をもったテーパ面を具備しており、前
記テーパ面は流体散布面として機能する。ロータリディ
スクαＢが高速度で回転している間前記凹所のテーパ面
に沿って半径方向外向きに液体が円滑に流動されるよう
に、前記テーパ面には互いに近接しかつ半径方向に延び
る多数の溝（ハ）が形成されることが好ましい（特に第
５図参照）。円錐状の凹所のテーパ角およびテーパ面に
設ける溝の数はロータリディスク（１１）の寸法、液体
の供給速度およびロータリディスクの回転速度に応じて
好適に変更され得ることは当業者には容易に理解されよ
う。
ηとから成り、ボス０ηは円錐状部材（１３）の下面に
好適に固定される。円錐状部材ＯＪの上面には円錐状の
凹所が形成され、本実施例の場合前記凹所は水平面に対
し約１０度の角度をもったテーパ面を具備しており、前
記テーパ面は流体散布面として機能する。ロータリディ
スクαＢが高速度で回転している間前記凹所のテーパ面
に沿って半径方向外向きに液体が円滑に流動されるよう
に、前記テーパ面には互いに近接しかつ半径方向に延び
る多数の溝（ハ）が形成されることが好ましい（特に第
５図参照）。円錐状の凹所のテーパ角およびテーパ面に
設ける溝の数はロータリディスク（１１）の寸法、液体
の供給速度およびロータリディスクの回転速度に応じて
好適に変更され得ることは当業者には容易に理解されよ
う。
ロータリディスク（１１１をモータ０４）の駆動ンヤフ
トα２に対し固定するため、ボス面には相対向する開口
部を有した垂直な円形壁ＣＯが設けられる。すなわちビ
ン（２８を前記開口部および駆動シャフトα２に貫通す
ることによりロータリディスク０υを駆動ンヤフトａ２
に対し固定し得る（特に第３図参照）。
トα２に対し固定するため、ボス面には相対向する開口
部を有した垂直な円形壁ＣＯが設けられる。すなわちビ
ン（２８を前記開口部および駆動シャフトα２に貫通す
ることによりロータリディスク０υを駆動ンヤフトａ２
に対し固定し得る（特に第３図参照）。
駆動シャツ） （１２）の下端部にはネジ山部が形成さ
れておりボス（Ｉ７１を貫通して延びナツト（２９＋に
より螺結される。また、Ｏ−リング（７）によりボス面
の最下端部と駆動シャフトα２との間が密封されワッシ
ャＣ３１）がナツトＱ０とボス（Ｉηとの間に間装され
ている。
れておりボス（Ｉ７１を貫通して延びナツト（２９＋に
より螺結される。また、Ｏ−リング（７）によりボス面
の最下端部と駆動シャフトα２との間が密封されワッシ
ャＣ３１）がナツトＱ０とボス（Ｉηとの間に間装され
ている。
本発明によれば、噴霧装置を垂直又は実質的に斜めに取
付可能になし、噴霧される霧粒子のサイズを均等にしか
つ放出する流体の漏出を防ぎ流体を一様にロータリディ
スクに供給するように構成される。更に詳述するに、流
体が噴霧装置のうず室に高流速をもって導入され比較的
均等な層流が生成されて、うす室からロータリディスク
（Ｉｎの中心部に均等に放出されるよう、うす室に対し
接線方向に流体を導入する装置が具備される。本実施例
においては駆動シャツ） （１２１に対し同軸にかつ離
間してスリーブ（至）を配設し固定のうす室を区画する
。すなわちスリーブ（３つは取付フランジ（１６）およ
びスプラッシュプレート０（イ）の各中心部に形成され
た開口部に挿通され、且スリーブＧツの上端部において
外向きに突出したフランジ部（至）が取付ブロック圓お
よび取付フランジ（１６１の間に間装されて、スリーブ
（３つは駆動シャフトα２に対し同軸かつ離間して装着
される。またスリーブ０りの内部には相対的に大径の第
１のうす室（至）と相対的に小径の第２のうす室（４（
）とが区画されている。第１のうす室（至）はその上部
において、第１のうす室（至）の頂部を閉鎖する取付ブ
ロック（２］）の皿穴部（３Ｇと連通され、前記皿穴部
（３１の直径は第１のうす室と等しく設けられる。
付可能になし、噴霧される霧粒子のサイズを均等にしか
つ放出する流体の漏出を防ぎ流体を一様にロータリディ
スクに供給するように構成される。更に詳述するに、流
体が噴霧装置のうず室に高流速をもって導入され比較的
均等な層流が生成されて、うす室からロータリディスク
（Ｉｎの中心部に均等に放出されるよう、うす室に対し
接線方向に流体を導入する装置が具備される。本実施例
においては駆動シャツ） （１２１に対し同軸にかつ離
間してスリーブ（至）を配設し固定のうす室を区画する
。すなわちスリーブ（３つは取付フランジ（１６）およ
びスプラッシュプレート０（イ）の各中心部に形成され
た開口部に挿通され、且スリーブＧツの上端部において
外向きに突出したフランジ部（至）が取付ブロック圓お
よび取付フランジ（１６１の間に間装されて、スリーブ
（３つは駆動シャフトα２に対し同軸かつ離間して装着
される。またスリーブ０りの内部には相対的に大径の第
１のうす室（至）と相対的に小径の第２のうす室（４（
）とが区画されている。第１のうす室（至）はその上部
において、第１のうす室（至）の頂部を閉鎖する取付ブ
ロック（２］）の皿穴部（３Ｇと連通され、前記皿穴部
（３１の直径は第１のうす室と等しく設けられる。
一方第２のうす室（Ｉｎはその下端部がボスＣ１？）の
上部中央に形成された液体供給用の環状チャンバ（４１
）内（１３） （二延出している。この場合環状チャンバ（４１）の上
部の直径は下部の直径より大にされ、スリーブＣ３つの
下端部が環状チャンバ（４１Ｊの上部の大径の空間部に
突入され、更に前記大径の空間部はその上部において、
ロータリディスク０１）の中央部：二形成される開口部
と前記開口部に突入されたスリーブ（ハ）とで区画され
る小さな環状の放出間隙（４２と連通される。
上部中央に形成された液体供給用の環状チャンバ（４１
）内（１３） （二延出している。この場合環状チャンバ（４１）の上
部の直径は下部の直径より大にされ、スリーブＣ３つの
下端部が環状チャンバ（４１Ｊの上部の大径の空間部に
突入され、更に前記大径の空間部はその上部において、
ロータリディスク０１）の中央部：二形成される開口部
と前記開口部に突入されたスリーブ（ハ）とで区画され
る小さな環状の放出間隙（４２と連通される。
本発明の一実施態様によれば、取付ブロック（２Ｂには
導入部（４ｅと第１のうす室間の上部空間とを連通ずる
流路（ハ）が形成され、前記流路（４９は前記第１のう
す室（至）の上部空間に対し接線方向に延びている（特
（−第３図および第４図参照）。また前記流路（４０は
導入部（４！１９から水平面に対し比較的小さな角度を
もって斜め上方に延設することが好ましいが、水平方向
あるいは水平面に対し下方に最大６０度までの角度をも
って形成してもよい。導入部（４６１から流路（４つに
導入された圧力流体が第１のうす室（（支）の上部空間
に接線方向に導入されたとき、第１のうす室（至）内に
おいて流体がうず巻状に流動されることになる。流体が
流路（４Ｆ３から第１のうす室（至）内（１４） （二導入されるに応じ、流体は第１のうす室間の上部空
間の壁部近傍において実質的に均一の薄手で環状且層状
にされ、又この流体に対し軸方向かつ接線方向への流動
力が働くので流体は第２のうす室（４（ｊＪへ向かって
流下され第２のうす室（４１の下端部から第３図に点線
で示すよう（二下方に向かって拡大しつ＼均一に、中空
円錐状をなしてボス住ηの環状チャンバ（４１）へ放出
される。環状チャンバ（４１Ｊに放出された流体は依然
としてその壁部近傍においてうす状をなし且実質的に均
一に薄手で円形の層状をなして回流し続け、この作用は
ロータリディスクａ旧ユ生ずる遠心力により更に増大さ
れる。層状の流体がロータリディスクα１）の放出間隙
（４２に達すると、流体は円錐部材（１３１のテーパ面
を持つ凹所の中央部に間断なく流出される。次に流体は
全体として半径方向外向に拡散され、テーバ面全面にお
いて均一に実質的に薄手の層状にされることＣ二なり、
実質的に同一サイズの粒子からなる霧粒子が放出される
。
導入部（４ｅと第１のうす室間の上部空間とを連通ずる
流路（ハ）が形成され、前記流路（４９は前記第１のう
す室（至）の上部空間に対し接線方向に延びている（特
（−第３図および第４図参照）。また前記流路（４０は
導入部（４！１９から水平面に対し比較的小さな角度を
もって斜め上方に延設することが好ましいが、水平方向
あるいは水平面に対し下方に最大６０度までの角度をも
って形成してもよい。導入部（４６１から流路（４つに
導入された圧力流体が第１のうす室（（支）の上部空間
に接線方向に導入されたとき、第１のうす室（至）内に
おいて流体がうず巻状に流動されることになる。流体が
流路（４Ｆ３から第１のうす室（至）内（１４） （二導入されるに応じ、流体は第１のうす室間の上部空
間の壁部近傍において実質的に均一の薄手で環状且層状
にされ、又この流体に対し軸方向かつ接線方向への流動
力が働くので流体は第２のうす室（４（ｊＪへ向かって
流下され第２のうす室（４１の下端部から第３図に点線
で示すよう（二下方に向かって拡大しつ＼均一に、中空
円錐状をなしてボス住ηの環状チャンバ（４１）へ放出
される。環状チャンバ（４１Ｊに放出された流体は依然
としてその壁部近傍においてうす状をなし且実質的に均
一に薄手で円形の層状をなして回流し続け、この作用は
ロータリディスクａ旧ユ生ずる遠心力により更に増大さ
れる。層状の流体がロータリディスクα１）の放出間隙
（４２に達すると、流体は円錐部材（１３１のテーパ面
を持つ凹所の中央部に間断なく流出される。次に流体は
全体として半径方向外向に拡散され、テーバ面全面にお
いて均一に実質的に薄手の層状にされることＣ二なり、
実質的に同一サイズの粒子からなる霧粒子が放出される
。
スリーブ＜３！１９および環状チャンバ（４１）を経て
円錐状部材０りのテーパ面へ送られる流体はスリーブｃ
（りおよび環状チャンバ（４０を貫通する駆動シャフト
ａｚに対し半径方向に離間していわば環状で層状にされ
るので、駆動シャフトα２は供給されるが１体に実質的
に接触しないことが理解されよう。従って取付プロック
シυと駆動シャツ） （１２Ｊとの間を液密：：する必
要がなく、密封構成による負荷が加わらないからロータ
リディスクａυに対し必要な回転駆動力が小さくてよい
。一方モータ側に流体がはねることを防ぐため一個のワ
ッシャ（４ｇ）が取付ブロック（２′Ｏの、駆動シャフ
トを挿通する開口部の直上において駆動ンヤフ） ａ２
に装着されている。
円錐状部材０りのテーパ面へ送られる流体はスリーブｃ
（りおよび環状チャンバ（４０を貫通する駆動シャフト
ａｚに対し半径方向に離間していわば環状で層状にされ
るので、駆動シャフトα２は供給されるが１体に実質的
に接触しないことが理解されよう。従って取付プロック
シυと駆動シャツ） （１２Ｊとの間を液密：：する必
要がなく、密封構成による負荷が加わらないからロータ
リディスクａυに対し必要な回転駆動力が小さくてよい
。一方モータ側に流体がはねることを防ぐため一個のワ
ッシャ（４ｇ）が取付ブロック（２′Ｏの、駆動シャフ
トを挿通する開口部の直上において駆動ンヤフ） ａ２
に装着されている。
上述の如く本発明においては、スリーブ（３５１および
環状チャソバ（４１１を通過する際流体は遠心力を受は
各チャンバ又はチャンバの壁部に対し半径方向外向きに
向けられると共に円錐状部材０（８）のテーパ面へ供給
されるように構成されているので、噴霧装置０υを第１
図に示すようにその回転軸を垂直に又は第２図Ｃ＝示す
如く垂直面に対し実質的に傾斜した状態で取付可能であ
る。例えば第２図の噴射装置の場合、ロータリディスク
０υの回転軸が垂直面に対しある角度傾斜されるよう、
取付フランジ（ｔｅが取付フランジａ（至）の足部ｅｉ
ｌに固定されている。
環状チャソバ（４１１を通過する際流体は遠心力を受は
各チャンバ又はチャンバの壁部に対し半径方向外向きに
向けられると共に円錐状部材０（８）のテーパ面へ供給
されるように構成されているので、噴霧装置０υを第１
図に示すようにその回転軸を垂直に又は第２図Ｃ＝示す
如く垂直面に対し実質的に傾斜した状態で取付可能であ
る。例えば第２図の噴射装置の場合、ロータリディスク
０υの回転軸が垂直面に対しある角度傾斜されるよう、
取付フランジ（ｔｅが取付フランジａ（至）の足部ｅｉ
ｌに固定されている。
この場合、ロータリディスク（ＩＩ）の上部、すなわち
第２図の右側から放出される噴霧流体は対象作物の葉間
な通り内部に強力に向けられ、一方反対の左側から放出
される噴霧流体は上方へ放出されて葉の上に散布される
。本発明のこの構成により、噴射装置を上述の如く傾斜
して取付可能であり、この場合放出される流体の噴霧粒
子のサイズに大きな変化を生ぜずかつ噴霧されずに滴下
する危惧がない。また第２図に示す実施例においては噴
霧装置θαは垂直に対し約２０度の角度傾斜して取り付
けられているが最大９０度までの随意の角度に取付可能
であることは理解されよう。
第２図の右側から放出される噴霧流体は対象作物の葉間
な通り内部に強力に向けられ、一方反対の左側から放出
される噴霧流体は上方へ放出されて葉の上に散布される
。本発明のこの構成により、噴射装置を上述の如く傾斜
して取付可能であり、この場合放出される流体の噴霧粒
子のサイズに大きな変化を生ぜずかつ噴霧されずに滴下
する危惧がない。また第２図に示す実施例においては噴
霧装置θαは垂直に対し約２０度の角度傾斜して取り付
けられているが最大９０度までの随意の角度に取付可能
であることは理解されよう。
本発明の実施態様によれば、同時に異なる化学液を混合
して散布可能な構成を取り得る。即ち第６図に示す如く
、一対の流路６→、輸が第１のうす室に対し対角線上に
対向して配設され、接線方向（二異なる流体を第１のう
す室に導入するように、（１７） 取付ブロックに形成されている。異なる化学液、又は化
学液と水又は他のキャリヤ液が別々に供給され、スリー
ブ（至）内の第１および第２のうす室、更に環状チャン
バ（４１１においてその混合液がうず巻状に回流され、
完全に混合されて円錐状部材のテーパ面へ流動される。
して散布可能な構成を取り得る。即ち第６図に示す如く
、一対の流路６→、輸が第１のうす室に対し対角線上に
対向して配設され、接線方向（二異なる流体を第１のう
す室に導入するように、（１７） 取付ブロックに形成されている。異なる化学液、又は化
学液と水又は他のキャリヤ液が別々に供給され、スリー
ブ（至）内の第１および第２のうす室、更に環状チャン
バ（４１１においてその混合液がうず巻状に回流され、
完全に混合されて円錐状部材のテーパ面へ流動される。
この構成は特に不相容の化学液を同時に付与しなければ
ならない場合、予め混合された化学混合液を長期間保管
できない場合、あるいは単に本噴射装置への送入前の混
合工程を省きたい場合に望ましい。
ならない場合、予め混合された化学混合液を長期間保管
できない場合、あるいは単に本噴射装置への送入前の混
合工程を省きたい場合に望ましい。
更に第７図を参照するに、本発明の別の実施例の噴霧装
置（Ｈｌａ、）が示される。同図において上述した実施
例と同−又は等価の構成部材には同一番号にａ′を付し
て示しである。噴霧装置（１０ａ）の取付ブロック（２
１ａ）には中心部にモータの駆動シャツ） （１２ａ）
を貫通する環状の第１の流体チャンバ（６（Ｉｔが形成
され、流体は導入部（４６ａ）から流路（４５ａ）を経
て第１の流体チャンバ（６１に導入され得る。第１の流
体チャンバーには流体が充満され、第１の流体チャンバ
１〔の両端部にはロータリ密封部Ｃ；υ、（６２が配（
１８） 設される。また本実施例の場合ロータリ密封部（６カは
取付ブロック（２１ａ、）に螺着されたキャップ（２）
内に支承され、第１の流体チャンバ（ＩＩＯ）の上端部
が液密に閉鎖される。またＯ−リング（６つがキャップ
（６４１の外向きのフランジ部と取付ブロック（２１ａ
）との間に配設されている。
置（Ｈｌａ、）が示される。同図において上述した実施
例と同−又は等価の構成部材には同一番号にａ′を付し
て示しである。噴霧装置（１０ａ）の取付ブロック（２
１ａ）には中心部にモータの駆動シャツ） （１２ａ）
を貫通する環状の第１の流体チャンバ（６（Ｉｔが形成
され、流体は導入部（４６ａ）から流路（４５ａ）を経
て第１の流体チャンバ（６１に導入され得る。第１の流
体チャンバーには流体が充満され、第１の流体チャンバ
１〔の両端部にはロータリ密封部Ｃ；υ、（６２が配（
１８） 設される。また本実施例の場合ロータリ密封部（６カは
取付ブロック（２１ａ、）に螺着されたキャップ（２）
内に支承され、第１の流体チャンバ（ＩＩＯ）の上端部
が液密に閉鎖される。またＯ−リング（６つがキャップ
（６４１の外向きのフランジ部と取付ブロック（２１ａ
）との間に配設されている。
一方ロータリディスク（Ｉｌａ）は円錐状部材（１３ａ
）とボス（１７ａ）とを具備しており、ボス（１７ａ）
にはモータの駆動シャツ） （１２ａ）の最下端部に連
結された内部ディスク（６鵠が内包される。内部ディス
ク（６印は又円錐状部材（１３ａ）に螺着されたエンド
キャップ器内に固定されている。内部ディスクａ凶およ
びエンドキャップ（６唾により、駆動シャツ） （＋２
ａ）の最下端部の直下に第２の流体チャンバｆｆｌが区
画される。第１および第２の流体チャンバ（６０） 、
ｆｆ０１間を連通ずるように、駆動シャフト（＋２ａ
）の内部には軸方向に延びる流路συおよび水平方向に
延びる開口部ａりが形成されている。前記流路σ刀は上
端部において開口部σ擾を介し第１の流体チャンバ（６
０と連通し下端部においては第２の流体チャンバ（７υ
と直接連通している。
）とボス（１７ａ）とを具備しており、ボス（１７ａ）
にはモータの駆動シャツ） （１２ａ）の最下端部に連
結された内部ディスク（６鵠が内包される。内部ディス
ク（６印は又円錐状部材（１３ａ）に螺着されたエンド
キャップ器内に固定されている。内部ディスクａ凶およ
びエンドキャップ（６唾により、駆動シャツ） （＋２
ａ）の最下端部の直下に第２の流体チャンバｆｆｌが区
画される。第１および第２の流体チャンバ（６０） 、
ｆｆ０１間を連通ずるように、駆動シャフト（＋２ａ
）の内部には軸方向に延びる流路συおよび水平方向に
延びる開口部ａりが形成されている。前記流路σ刀は上
端部において開口部σ擾を介し第１の流体チャンバ（６
０と連通し下端部においては第２の流体チャンバ（７υ
と直接連通している。
また第７図に示す実施例の場合、流路ｆｆ５１を介し第
２の流体チャンバ（７０と環状チャンバ（４１ａ）とが
連通され、流路（７５）から放出される流体は環状チャ
ンバ（４１ａ）において接線方向に導入される。流路（
４５ａ）から圧力流体が第１の流体チャンバ（６Ｇに導
入されて充満され次に流体は第１の流体チャンバーから
開口部（７２および流路συを経て第２の流体チャン六
συへ導入され充満される。圧力流体が流路（４５ａ）
から連続的に供給されることにより、流体は更に流路（
７５１を経て環状チャンバ（４１ａ）に接線方向に放出
され、上述の実施例と同様に環状チャンバ（４１ａ）内
において比較的均一な環状で層状のうず巻として回流さ
れ、円錐状部材（１３ａ）の中央開口部に挿入された駆
動シャフト（１２ａ）により区画される環状の放出間隙
（４２ａ）を経て円錐状部材（１３ａ）のテーバ面に供
給される。
２の流体チャンバ（７０と環状チャンバ（４１ａ）とが
連通され、流路（７５）から放出される流体は環状チャ
ンバ（４１ａ）において接線方向に導入される。流路（
４５ａ）から圧力流体が第１の流体チャンバ（６Ｇに導
入されて充満され次に流体は第１の流体チャンバーから
開口部（７２および流路συを経て第２の流体チャン六
συへ導入され充満される。圧力流体が流路（４５ａ）
から連続的に供給されることにより、流体は更に流路（
７５１を経て環状チャンバ（４１ａ）に接線方向に放出
され、上述の実施例と同様に環状チャンバ（４１ａ）内
において比較的均一な環状で層状のうず巻として回流さ
れ、円錐状部材（１３ａ）の中央開口部に挿入された駆
動シャフト（１２ａ）により区画される環状の放出間隙
（４２ａ）を経て円錐状部材（１３ａ）のテーバ面に供
給される。
本実施例の噴霧装置（ｌｏａ、）によれば、入口部（４
６ａ）へ供給する流体の圧力を制御することにより放出
する噴霧粒子のサイズを比較的正確に調整しうることが
判明している。流路群、特に流路６！１９の直径が比較
的小さいので、供給流体の圧力を変えても流量変化は比
較的緩徐であり放出霧粒子のサイズを広範囲に調整可能
である。すなわち、流量延いては霧粒子のサイズが流路
特に流路σ均の寸法を好適に設定することにより調整可
能となる。流体の圧力が環状チャンバ（４１＆）内にお
いて所望の速度でうず巻に回流させ得るレベルにある限
り、流体を効果的にロータリディスクの円周方向に放出
し得る。
６ａ）へ供給する流体の圧力を制御することにより放出
する噴霧粒子のサイズを比較的正確に調整しうることが
判明している。流路群、特に流路６！１９の直径が比較
的小さいので、供給流体の圧力を変えても流量変化は比
較的緩徐であり放出霧粒子のサイズを広範囲に調整可能
である。すなわち、流量延いては霧粒子のサイズが流路
特に流路σ均の寸法を好適に設定することにより調整可
能となる。流体の圧力が環状チャンバ（４１＆）内にお
いて所望の速度でうず巻に回流させ得るレベルにある限
り、流体を効果的にロータリディスクの円周方向に放出
し得る。
上述から本発明の９を霧装置によれば流体を広範囲かつ
正確）二調整して噴霧散布可能であることは理解されよ
う。また垂直にあるいは垂直面に対し大巾に傾斜して取
り付けても放出する霧状粒子のサイズを均一かつ正確に
調整できる。さらに上記のように構成されることにより
本発明の噴霧装置は単に散布する異種の化学液を混合す
る場合のみにも使用できる。
正確）二調整して噴霧散布可能であることは理解されよ
う。また垂直にあるいは垂直面に対し大巾に傾斜して取
り付けても放出する霧状粒子のサイズを均一かつ正確に
調整できる。さらに上記のように構成されることにより
本発明の噴霧装置は単に散布する異種の化学液を混合す
る場合のみにも使用できる。
第１図は本発明による流体噴霧装置の一実施例（２１）
の側面図、第２図は第１図と異なった取付状態の同噴霧
装置の側面図、第３図は同部分拡大断面図、第４図は第
３図の線４−４に沿って切断した断面図、第５図は第３
図の線５−５に沿って切断した断面図、第６図は本発明
の他の実施例の第５図と同様の断面図、第７図は本発明
の更に他の実施例の噴霧装置の部分拡大断面図である。 １０ 、１０ａ・・・噴霧装置、１１ ＋ ｌｌａ・・
・ロータリディスク、１２ ＋ １２ａ・・・駆動シャ
フト、１３ 、１３ａ・・・円錐状部材、１４・・・モ
ータ、１５．１６川取付フランジ、１７ ＋ １７ａ・
・・ボス、１８・・・支承プーム、１９・・・ｃ形りラ
ンプ、２０・・・ケーシング、２１ ＋ ２１ａ・・・
取付ブロック、２２・・・ボルト、２４・・・スプラッ
シュプレート、２５・・・溝、２６・・・円形壁、２８
・・・ビン、２９・・・ナツト、３０・・・０−リング
、３１・・・ワッシャ、３５・・・スリーブ、３６・・
・フランジ部、３８・・・第１のうす室、３９・・・皿
穴部、４ｏ・・・第２のうす室、４１ 、４１ａ・・・
環状チャンバ、４２ 、４２ａ・・・放出間隙、４５
、４５ａ・・・流路、４６ ＋ ４６ａ・・・導入部、
４９・・・ワッシャ、５０・・・足部、５５１５６・・
・流路、６ｏ・・・（２２） ・・・第１の流体チャンバ、６１ 、６２・・・ロータ
リ密封部、６４・・・キャップ、６５・・・０−リング
、６８・・・内部ディスク、６９・・・エンドディスク
、７０・・・第２の流体チャンバ、７１・・・流路、７
２・・・開口部、７５・・・流路 特許出願人 （２３） 手続補正書 昭和５８年１２月１５日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２０３７６０号 ２、発明 の名称 ロータリディスク型の流体ｒＩＪｔ霧装置３、補正をす
る者 事件との関係 出願人 名称（氏名） スプレイング システムズ カンパニ
ー４、代 理 人 住 所 〒１６０東京都新宿区西新宿７丁目５番１
０号第２ミゾタビルディング７階 電話（０３） ３６５−１９８２番 昭和 年 月 日 ６、補正により増加する発明の数 ナシ７、補正の
対象
装置の側面図、第３図は同部分拡大断面図、第４図は第
３図の線４−４に沿って切断した断面図、第５図は第３
図の線５−５に沿って切断した断面図、第６図は本発明
の他の実施例の第５図と同様の断面図、第７図は本発明
の更に他の実施例の噴霧装置の部分拡大断面図である。 １０ 、１０ａ・・・噴霧装置、１１ ＋ ｌｌａ・・
・ロータリディスク、１２ ＋ １２ａ・・・駆動シャ
フト、１３ 、１３ａ・・・円錐状部材、１４・・・モ
ータ、１５．１６川取付フランジ、１７ ＋ １７ａ・
・・ボス、１８・・・支承プーム、１９・・・ｃ形りラ
ンプ、２０・・・ケーシング、２１ ＋ ２１ａ・・・
取付ブロック、２２・・・ボルト、２４・・・スプラッ
シュプレート、２５・・・溝、２６・・・円形壁、２８
・・・ビン、２９・・・ナツト、３０・・・０−リング
、３１・・・ワッシャ、３５・・・スリーブ、３６・・
・フランジ部、３８・・・第１のうす室、３９・・・皿
穴部、４ｏ・・・第２のうす室、４１ 、４１ａ・・・
環状チャンバ、４２ 、４２ａ・・・放出間隙、４５
、４５ａ・・・流路、４６ ＋ ４６ａ・・・導入部、
４９・・・ワッシャ、５０・・・足部、５５１５６・・
・流路、６ｏ・・・（２２） ・・・第１の流体チャンバ、６１ 、６２・・・ロータ
リ密封部、６４・・・キャップ、６５・・・０−リング
、６８・・・内部ディスク、６９・・・エンドディスク
、７０・・・第２の流体チャンバ、７１・・・流路、７
２・・・開口部、７５・・・流路 特許出願人 （２３） 手続補正書 昭和５８年１２月１５日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２０３７６０号 ２、発明 の名称 ロータリディスク型の流体ｒＩＪｔ霧装置３、補正をす
る者 事件との関係 出願人 名称（氏名） スプレイング システムズ カンパニ
ー４、代 理 人 住 所 〒１６０東京都新宿区西新宿７丁目５番１
０号第２ミゾタビルディング７階 電話（０３） ３６５−１９８２番 昭和 年 月 日 ６、補正により増加する発明の数 ナシ７、補正の
対象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転可能に取り付けられ外面が流体散布面をなし、
かつ中心部に環状チャンバを有し前記流体散布面と連ら
なる放出間隙を包有したディスクと、前記ディスクを回
転駆動する装置と、前記環状ｔヤンバに対し流体を接線
方向に高速度で供給し前記流体を前記環状チャンバの壁
部近傍において実質的に均一の薄い層状にし前記放出間
隙から前記流体散布面へ流動させ前記ディスクの回転に
よる遠心力により前記流体を薄い層状態で前記ディスク
の外周部へ実質的に均一に流動させる流体供給装置とを
備えたロータリディスク型の流体噴霧装置。 ２環状チヤンバ内にうす室の放出端部が侵入され、流体
供給装置には流体を前記うず室に対し接線方向（二導入
し前記環状チャンバ内に流動させる装置が包有されてな
る特許請求の範囲第１項記載の流体噴霧装置。 ３、流体供給装置にはディスクに一体に形成され流体を
環状チャンバに対し接線方向に導入する流路が包有され
てなる特許請求の範囲第１項記載の流体噴霧装置。 ４４放出間隙の直径が環状チャンバの直径より小である
特許請求の範囲第１項記載の流体噴霧装置。 ５、環状チャンバの直径が放出間隙の直径より大でかつ
うす室の放出端部の直径より大に設けられてなる特許請
求の範囲第２項記載の流体噴霧装置。 ６回転可能に取り付けられ外面が流体散布面をなすディ
スクと、前記ディスクを回転駆動する駆動装置と、前記
流体散布面に連通ずる放出端部な有し前記ディスクの回
転軸に対し同軸に位置するうす室を区画するうす室区画
装置と、前記うず室に対し流体を接線方向に高速度で供
給して前記流体を前記うず室の壁部近傍において実質的
に均一の薄い層状にし前記放出端部から前記流体散布面
へ流体を流動させ前記ディスクの回転による遠心力によ
って前記流体を薄い層状態で前記ディスクの外周部へ実
質的に均一に流動させ且前記ディスクから実質的に均一
のサイズの噴霧粒子を放出させる流体供給装置とを備え
たロータリディスク型の流体噴霧装置。 Ｚ流体供給装置にはうす室に流体を導入し前記うず室内
の流体を円周方向かつ軸方向に流動させて前記うず室か
ら放出させる流路装置が包有されてなる特許請求の範囲
第６項記載の流体噴霧装置。 ８、うず室区画装置にはディスクに対し同軸に取り付け
られた固定スリーブが包有され、流体供給装置により流
体が前記スリーブの内部に接線方向に導入可能に設けら
れてなる特許請求の範囲第６項記載の流体噴霧装置。 ９、ディスクはスリーブから流体を受容する環状チャン
バを有し、前記環状チャンバが前記ディスクの流体散布
面と連らねられてなる特許請求の範囲第８項記載の流体
噴霧装置。 １０、ディスクの放出間隙の直径が前記環状チャンバの
直径より小であり、前記環状チャンバ内の流体が前記放
出間隙に達したとき前記流体が前記放出間隙から流体散
布面に実質的に均一な層状に放出可能に設けられてなる
特許請求の範囲第９項記載の流体噴霧装置。 １１、駆動装置にはスリーブおよび環状チャンバを貫通
する駆動シャフトと前記シャフトに対しディスクを連結
する装置とが包有されてなる特許請求 ′の範囲第９
項記載の流体噴霧装置。 １２駆動装置の駆動シャフトは取付ブロックに貫通され
、前記取付ブロックの下部から離間して前記駆動シャフ
トにディスクが支承され、スリーブが前記取付ブロック
から垂下して支承され、前記スリーブの下端部が環状チ
ャンバ内に突入されてなる特許請求の範囲第９項記載の
流体噴霧装置。 １３、流体供給装置には取付ブロック内に設けられ、ス
リーブの内部に対し接線方向に流体を放出する流路が包
有されてなる特許請求の範囲第１２項記載の流体噴霧装
置。 １４、取付ブロックの流路な介し流体がスリーブの内部
に対し接線方向にかつ下方に流動可能に設けられてなる
特許請求の範囲第１３項記載の流体噴霧装置。 １５、駆動シャフトが取付ブロックに装着されたモータ
の駆動シャフトである特許請求の範囲第１２項記載の流
体噴霧装置。 １６、流体供給装置にはうす室区画装置内に異種の液体
を同時に供給可能な複数の流路が包有されてなる特許請
求の範囲第６項記載の流体噴霧装置。 １Ｚうず室区画装置がディスクの中央部に区画される環
状のチャンバである特許請求の範囲第６項記載の流体噴
霧装置。 １Ｂ、駆動装置には駆動シャフトと前記駆動シャフトに
ディスクを支承する装置とが包有され、流体供給装置を
介し圧力流体が前記駆動シャフトを経て環状のチャンバ
に対し接線方向に供給可能に設けられてなる特許請求の
範囲第１７項記載の流体噴霧装置。 １９、ディスクの回転軸が所定の位置に配設する取付装
置を包有してなる特許請求の範囲第６項記載の流体噴霧
装置。 ２０、取付装置を介しディスクの回転軸が水平面に（５
） 対し実質的に大きな角度をなすよう傾斜して取り付けら
れてなる特許請求の範囲第１９項記載の流体噴霧装置。 ２１、ディスクの流体散布面は円錐状の凹面である特許
請求の範囲第６項記載の流体噴霧装置。 ２２−流体散布面には層状の流体を外周部へ案内する、
相互に近接しかつ離間された放射状に延びる多数の溝が
具備されてなる特許請求の範囲第２１項記載の流体噴霧
装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/439,858 US4540124A (en) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | Rotary disc atomizer |
| US439858 | 1999-11-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59109270A true JPS59109270A (ja) | 1984-06-23 |
Family
ID=23746416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58203760A Pending JPS59109270A (ja) | 1982-11-08 | 1983-11-01 | ロ−タリデイスク型の流体噴霧装置 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4540124A (ja) |
| JP (1) | JPS59109270A (ja) |
| AU (1) | AU2098183A (ja) |
| BR (1) | BR8306103A (ja) |
| DE (1) | DE3340145A1 (ja) |
| FR (1) | FR2535626B1 (ja) |
| GB (1) | GB2129712B (ja) |
| IT (1) | IT1235451B (ja) |
| SE (1) | SE8306072L (ja) |
| ZA (1) | ZA837833B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112218725A (zh) * | 2019-10-22 | 2021-01-12 | 深圳市大疆创新科技有限公司 | 离心甩盘、离心式喷头、喷洒***及可移动平台 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8611460D0 (en) * | 1986-05-10 | 1986-06-18 | Case Systems Ltd | Spray devices |
| SE456486B (sv) * | 1987-03-27 | 1988-10-10 | Ralf Andersson | Sett och anordning for uppdelning av en smelta i droppar |
| GB2288136A (en) * | 1994-04-05 | 1995-10-11 | Riverlynx Ltd | Rotary elements for liquid distribution |
| JPH08323305A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄装置 |
| US5795391A (en) * | 1996-03-21 | 1998-08-18 | Consultex Corporation | Method and apparatus for application of fluent material to a moving substrate |
| US6152382A (en) * | 1999-01-14 | 2000-11-28 | Pun; John Y. | Modular spray unit and method for controlled droplet atomization and controlled projection of droplets |
| ITTO20070683A1 (it) * | 2007-09-28 | 2009-03-29 | Ohg Pejrani S R L | Procedimento e apparecchiatura per la disinfezione di ambienti. |
| WO2014052351A1 (en) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Agco Corporation | Air assistance and drift reduction technology for controlled droplet applicator |
| US20150258556A1 (en) * | 2012-09-28 | 2015-09-17 | Agco Corporation | Reclamation system for a controlled droplet applicator |
| US9610595B2 (en) | 2012-09-28 | 2017-04-04 | Agco Corporation | Rotatable shroud for directional control of application area |
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