JPS58993A - 新規アミノ配糖体及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 （式中Ｒ１及びＲ２の一方は水素原子、他方はメチル基
、Ｒ３は水素原子又はアミノアシル基を示し、アミン基
及び／又は水酸基は保護されていてもよい）で表わされ
る新規なアミノ配糖体及びその酸付加塩ならびにその製
法に関する。

本発明者らは先に、サツカロポリスポラ・ヒルスタ・Ｋ
Ｃ−６６０６−株ならびにストレプトミセスｓｐ、、Ｋ
Ｃ−７０３８株の代謝産物として、それぞれ抗生物質と
して有用な数種の化合物（ＫＡ−６６０６物質群ならび
にＫＡ−７０３８物質群）を見い出した。これらの化合
物のうち、ＫＡ−６６０６１〜■及び■、ＫＡ−７，Ｏ
ｎ　ｌ及び■は次の構造式で示される（特開昭５５−１
２７４０１号、同５４−６６６０５号、同５４−１４１
７０１号、及び同５５−１１１４９７号各公報参照）。

１位アミノ基 ＫＡ−６６０６ １ＣＨ，ＨＣ０ＣＨ２ＮＨ２シス ■／／　　　　　Ｉ／　　　　　　）（ｌ／＠　　　　
　ｔｔ　　　　　ｕ　　　　ＣＯＣＨ２ＮＨＣＯＮＨ２
、”ＩＶ　　　　　／／　　　　　／／　　　　Ｃ０Ｃ
Ｈ２ＮＨＣＨＯ／／Ｖｌ　　　　ｕ　　　　ｔｔ　　　
　ＨトランスＫＡ−７０３８ ＩＨＣＨ３ＣＯＣＨ２ＮＩ（２トランスｌ　　　ｕ　　
　　ｕ　　　　　Ｉ（、ｔｔ本発明者らは、これら化合
物の誘導体を合成してその活性を検討したところ、５位
のメチルエーテルを開裂した５−デー０−メチル体が優
れた抗菌作用を有することを見い出した（特開昭５５−
５５１９８号及び同５６−２９９７号各公報径照）。

そして更に研究を進めた結果、前記の５−デー〇−メチ
ル体を５，６位の間で脱水した化合物である５−デメト
キシ−５−エノ体（１）が優れた抗菌作用を示すことを
見い出して本発明に到達した。

本発明の化合物（１）は、一般式 （式中Ｒ１及びＲ１は前記の意味を有し、へは水素原子
又はアミノアシル基を示す）で表わされる化合物又はそ
のアミノ基及び６位の水酸基が保護された化合物の５位
の水酸基を電子吸引性の基に置換したのち、酸性、−塩
基性又は中性の塩を作用させることにより製造できる。

式（１）の化合物を製造するに際しては、まず式（３）
の化合物又はそのアミン基及び３位の水酸基が保護され
た化合物に電子吸引性の基を導入する。

電子吸引性の置換基としては、トシル基、メシル基、ナ
シル基等の置換スルホン酸エステル基、塩素、臭素、ヨ
ウ素等のハロゲン原子、ニトリル基、アジド基などがあ
げられる。この反応ｉ通常の方法により行われる。例え
ば、スルホン酸エステル化スる場合には、スルホン酸ノ
・・ロゲン化物を溶媒中で式（６）の化合物に作用させ
ることが好ましい。ハロゲン化を行う場合には、ハロゲ
ン化スルフリル、ハロゲン化チオニル等を式（６）の化
合物に作用させる方法、四ハロゲン化炭化水素をトリフ
ェニル７オスフインの存在下に式（６）の化合物に作用
させる方法、前記のスルホン酸エステル誘導体にハロゲ
ン化アルキルを作用させる方法などを用いることができ
る。ニトリル化、アジド化を行う場合には、前記のスル
ホン酸誘導体にシアン化ア□ルカリ、アジ化アルカリ等
を作用させることが好ましい。

次いで５位の水酸基が電子吸引性の基で置換された式（
５）の化合物に酸性、塩基性ス（中性の塩を作用させる
と、脱水反応により、目的化合物（１）が得られる。

酸性塩としては、炭素数１〜５０アールキル基を有する
テトラアル゛キルアンモニウムハロゲナイド、例えばテ
トラブチルアンモニウムクロリドなどの４級アンモニウ
ム、塩など、塩基性塩としては、酢酸、プロピオン酸、
コハク酸、安息香酸、フタル酸などのアルカリ金属又は
アルカリ土類金属塩など、中性塩としてはフッ化カリウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カルシウムなどがあげられる
。

この−子吸引性の置換基の脱離反応は溶媒中で室温ない
し１００℃で約６０分ないし約２０時間で行われる。溶
媒としては、ベンゼン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミＰ、ジメチル
スルホキシドなどがあげられる。゛ 出発物質（６）は、例えば式（２）で表わされる化合物
（ＫＡ−６６０６物質ならびにＫＡ−７０３８物質）に
、特開昭５５−５５１９８号公報に記載の方法により、
鉱酸例えば臭化水素酸、沃化水素酸、弗化水素酸等又は
ルイス酸例えば三塩化硼素、三弗化硼素等、あるいはア
ルカリ金属及びアミンを作用さすて５位のメチルエーテ
ルを開裂することによって製造できる。

式（６）の化合物の５．６位の間で脱水するためには、
化合物（３）の各アミノ基及び３位の水酸基を保護して
おくことが好ましい。

アミノ基の保護基としては、従来ペプチド合成において
常用されている公知のアミン保護基を使用することがで
きるが、一般式 （式中Ａはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基
又はアルアルキル基を示す）で表わされる保護基が特に
好ましい。これらの保護基としては、例えば次のものが
あげられる。アルキルオキシカルボニル基例えばエチル
オキシカルボニル基、三級ブチルオキシカルボニル基、
三級アミルオキシカルボニル基等、シクロアルキルオキ
シカルボニル基ｍｌ　ｉｃ　＆’！シクロへキシルオキ
シカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば
フェノキシカルボニル基等、アルアルキルオキシカルボ
ニル基例えばベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル基等。

保護基の導入は通常の方法で行われるが、一般式 ％式％（４１ （式中のＡは前記の意味を有する）で表わされるカルボ
ン酸又はその反応性誘導体を化合物（６）に作用させる
方法が好ましい。カルボン酸の反応性誘導体としては、
例えば酸ノ＼ロゲニド、酸アジド化合物、酸無水物、活
性エステルなどがあげられる。次いで３位の水酸基のみ
を選択的に保護する。式（６）の化合物には３位の水酸
基に隣接して４位にアミノ基が存在するため、これを利
用して環状カルバメートを形成することにより、３位の
水酸基を４位のアミン基と共に容易に保護することがで
きる。環状カルノ（メートは、テトラ−Ｎ−保護化合物
に好ましくは溶媒中でアルカリを作用させることによっ
て形成される。アルカリとしては、例えば水素化ナトリ
ウム、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カル
シウムなど、溶媒としては、例えばジメチルホルムアミ
ド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、水など又はこれ
らの混合物が用いられる。

式（３）の化合物の３，４位間に環状カルバメートを形
成すると、置換基へが脱離するため、この化合物を脱水
したのち加水分解すると、Ｒ５が水素原子である式（１
）の化合物が生成し、この化合物の４位のメチルアミノ
基をアンル化すると、Ｒ３がアシル基である式（１）の
化合物が得られる。

アシル化を実施するには、まず４位のメチルアミノ基を
遊離させたのちこれをアシル化する。

すなわち、６，４位間の環状カルバメートを加水分解す
ることにより、容易に４位のメチルアミン基を遊離させ
ることができる。この加水分解には通常の酸加水分解又
はアルカリ加水分解を適用することができる。

Ｒ３が水素原子でアミノ基が遊離した式（１）化合物の
４位のメチルアミノ基をアシル化する場合は、まず式（
１）の化合物の１位、２′位及び６′位のアミン基を保
護する。この保護反応は前記の化合物（３）のアミン基
の保護反応と同様に行うことができる。このとき４位の
メチルアミン基も同時に保護されるため、アシル化すべ
き４位のメチルアミノ基を遊離させる必要がある。この
ためには、前記と同様にして６位の水酸基と４位のメチ
ルア、、ミイ基との間で環状カルバメートを形成し、次
いでこれを加水分解することにより、容易に４位のメチ
ルアミノ基のみを遊離させることができる。加水分解に
は、通常の酸加水分解又はアルカリ加水分解を適用する
ことができる。

またテトラ−Ｎ−保護化合物に水を含む溶媒中でアルカ
リを作用させると、直接に４位のメチルアミン基のみを
遊離させることができる。

一方、Ｒ，＝Ｈである式（１）の化合物のアミノ基を保
護する際に、式（４）のカルボ／酸の反応性誘導体とし
て、活性エステル例えば置換フェニルエステル、Ｎ−オ
キシスクシ／イミドエステル、Ｎ−オキシフタルイミド
エステルなど、特に一般式 （式中又は置換されていてもよいフェニル基、こはく酸
イミジル基又は７タルイミジル基を示す）で表わされる
活性エステルを用いると、１位、２′位及び６′位のア
ミノ基だけを選択的に保護することができる。この反応
の際に金属化合物、例えば酢酸ニッケル、酢酸コバルト
、酢酸銅などを存在させると好ましい結果が得られる。

これらの方法で得られる１位、２′位及び６′位のアミ
ン基が保護された式（１）の化合物（Ｒ，＝Ｈ）の４位
のメチルアミノ基をアシル化すると、アミ７基が保護さ
れた式（１）の化合物が得られる。

−アシル化剤としては、アミノ酸例えばグリシン、アラ
二ノ、バリン等を用いることが好ましい。アミノ酸を用
いてアシル化するためには、通常のペプチド合成法を適
用することができ、Ｎ−保護アミノ酸又はその反応性誘
導体を作用させる。アミノ酸のアミン基の保護基として
は、前記の保護基のいずれを用いてもよ（、また式（１
）の化合物（Ｒ３＝Ｈ）の保護基と同一でも異なっても
よいが、次の工程における脱離反応を容易に行うため、
同じ保護基を用いることが好ましい。そのほかアミノ基
は例えば低級アルキル基、カルバモイル基、ホルミル基
等で置換されていてもよい。アミノ酸の酸反応性誘導体
としては式（４）のカルボン酸の反応性誘導体と同様の
ものを用いることかもきる。

こうして得られるアミン基及び／又は水酸基が保護され
た式（１）の化合物（Ｒ３＝Ｈ又はアシル基）の保護基
を脱離すると、式（１）の遊離化合物が得られる。アミ
ノ基及び水酸基の保護基の脱離には通常の方゛法を適用
することができるが、バーチ還元法及び酸分解を用いる
ことが好ましい。バーチ還元は液体アンモニア中で金属
ナトリウム又は金属リチウムを作用させる方法が好まし
い。酸分解を行う場合は、臭化水素酸−酢酸等を用い０
〜６０℃で０．１〜５時間反応させることが好ましい。

目的物質である式（１）の化合物ならびにそのアミノ基
及び／又は水酸基が保護された化合物の単離精製は常法
により行われるが、カラ７ムクロマトグラフイーを利用
することが特に好ましい。

吸着剤としては、例えばＣＭ−セファデックス、アンバ
ーライトＩＲＣ−５０、同ＣＧ−５０、カルボキシメチ
ルセルロース等の陽イオン交換樹脂を用いることが好ま
しい。展開は、アルカリ性水溶液例えばアラモニア水、
義酸アンモニウム水溶液などを展開溶媒として用い、濃
度勾配法又は濃度段階法により行うことができる。溶出
液より活性画分を集め、凍結乾燥すると、目的化合物の
純品を得ることができる。

式（１）の化合物は常法に従って酸付加塩に導くことが
できる。酸としては無機酸、例えば硫酸、塩酸、臭化水
素酸、沃化水素酸、燐酸、炭酸、硝酸等ならびに有機酸
例えば酢酸、フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル
酸、コハク酸等が用いられる。

重置廚の化合物（１）及びその酸付加塩は優れた抗菌活
性を有し、抗生物質として人間及び他の動物の医薬とし
て有用である。また他の抗生物質を製造する中間体とし
ても有用である。

参考例１ １　Ｔ２’１６’　−）　＋７スーＮ−ベンジルオキシ
カルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー〇
−メチル−ＫＡ−６６０６１の製造 ａ）　次式 で表わされる化合物（５−デーＯ−メチル−ＫＡ−６６
０６ＩＩ　）　Ｉ　Ｐを水１０ｍ１に溶解し、無水炭酸
ナトリウム１．３？及びメタノール４０ｍ１を加えたの
ち、水冷下にカルボベンジルオキシクロリド’１．６ｍ
ｌ、を滴下する。水冷＼下に更に３時間攪拌を続けたの
ち、反応液を濃縮乾固する。

残査にクロロホルムを加え、水洗後乾燥し、溶媒を留去
すると、無色結晶２゜６？が得られる。

この結晶をベンゼンから再結晶す／ると、融点１５６〜
１５．４℃の無色針状晶として１．４．２’、６’７テ
トラキスーＮ−ベニｙジルオキシカルボニルー５−デー
０−メチル−ＫＡ−６６０６ＩＩが得られる。

元素分析値：　Ｃ４６Ｈ５４Ｎ＜ＯｌｇとしてＣ’　　
　　　　　　ＨＮ 計算値（％）　　６４．６２□　　６．３７、　６．５
５実測値（匈　６４．４９　　６．３３６．６１゜比旋
光度：［α］２Ｂ＋４４°（ｃｌ、ＣＨＣｌ３）ｂ）　
　ａ）により得られたＮ−保護化合物１００■をジオキ
サン２　ｍｌに溶解し、０．１Ｍ水酸化バリウム水溶液
１．５　ｍｌを加え、６０℃で１時間攪拌する。反応液
にドライアイスを加えて中和し、不溶物をｒ過し、ｒ液
を濃縮乾固する。残査をプレパラテイプ薄層クロマトグ
ラフィー（クロロホルム−メタノール１５：１）で分離
すると、無色固体として１．２’、６’　−）リス−Ｎ
−ベンジルオキシカルボニル−３−０：４−Ｎ−カルボ
ニル−５−チー　０−メｆｌ−ＫＡ−６６０６ＩＩ　６
８　ｍ９が得られる。

元素分析値：　ｃ、Ｑ　Ｈ４６Ｈ４０Ｉ　＋としてＣＨ
Ｎ 計算値（（６）　６２．７２　　６．２１　　７．５０
実測値（（６）　６２．４Ｂ　　　６．１０　　７．２
８比旋光度：〔α）２３＋３３°（ＣＩ、ＣＨＣｌ３）
１７６０（環状カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣＣＤＣｌ５ ｐｐ　７（５Ｈ，ａ、Ｊ＝６　Ｉ（ｚ、ｃ−ＣＨＳ）２
．８７（！ｉＨ，ｓ％Ｎ−ＣＨ５） 参考例２ １．２’ｔ６’　−）　ＩＪスーＮ−ベンジルオキ７カ
ルボニルー３’−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー〇
−メチル−ＫＡ−６６σ６■の製造 ａ）次式 で表わされる化合物（５−デー０−メチル−ＫＡ−６６
０６ＶＴ　）　５００　ＦＱを用い、参考例１（ａ）と
同様に反応処理すると、無色固体のテトラキス−Ｎ−ベ
ンジルオキ７カルポニルー５−デーＯ−メチル−ＫＡ−
４６０６Ｖｌ　７６０　Ｑが得られる。

元素分析値：　Ｃ４６Ｈ５４Ｎ４０１２としてＣＨＮ 計算値（匈　６４．６２　　６．３７　　６．５５実測
値（匈　６４．９０　　６．１８　　６．４８比旋光度
：〔α）２２　＋　５１°（ｃｌ　、　ＣＨＣｌ、　）
ＰＭＲ値：δＣＤ０１３　ｐｐｍ ［１６（３Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６　Ｈｚ、　ｃ−ＣＨ３）
２．８９　（５Ｈ，Ｓ、　Ｎ−ＣＨ，、、）　　　７．
５〜７．４　（２０Ｈ，ｍ、　４ＸＣ，Ｈ５）ｂ）上記
Ｎ−保護化合物５４０〜を用い、参考例ｉ　ｂ）と同様
に操作する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ク
ロロホルム−メタノール２０：１）で分離精製すると、
無色固体の１，２′、６′−トリス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−３−ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
０−メチル−ＫＡ−６６０６Ｖｌ　３８４〜が得られる
。

元素分析値：　Ｃ３１１Ｈ４１１Ｎ４０’１１としてｃ
　　　　　　　ＨＮ 計算値（％）　　６２．７２　　６．２１　　７．５０
実測値（（６）　６２．７Ｇ　　　５．９０　　７．３
４比旋光度：〔α）２４　＋　４　Ｂｏ（ｃｌ、ＣＨＣ
Ｌ３）ＣＨＣｌ、　　　−１ ＩＲ値二′ｍａｘ′ｒｎ １７６０ＣＨＩ状カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣ１・ｐｐｍ １．１５　（３Ｈ，ａ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ−ＣＨ３）２．
８７　（，３Ｈ％Ｓ、Ｎ−ＣＨ，）参考例３ １．２’、６’　−）　’）ターＮ−ベンジルオキシカ
ルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー０メ
チル−ＫＡ−７０３８１の製造 で表わされる化合物（５−デー０メチル−ＫＡ−７０３
８１）、５３０　ｍ９を用い、参考例１ａ）と同様に操
作すると、無色固体のテトラキス−Ｎ−ベンジルオキ７
カルボニルー５−デーＯ−メチ、ｎ、　−ＫＡ−７０３
８１８２０ｍ９が得られる。

元素分析値：　Ｃ４ａ　Ｈ５４Ｎ４０１２としてＣＨＮ 計算値（匈　６４．６２　　６．３７　　６．５５実測
値（％）　　６４．５９　　６．２１　　６．３８比旋
光度：〔α）　２２　＋６２°（ｃｌ、ＣＨＣｌ３）Ｐ
ＭＦＩ値：δＣＤＣｌ、　ｌ’）Ｉ）ｍ２．８９　（３
Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ５）２．９２　（３Ｈ，ｓ、　Ｎ−
ＣＨ８）ｂ）前記のＮ−保護化合物７９５１ｎ９を用い
、参考例１　ｂ）と同様に操作すると、無色固体の１．
２’、６’−）　ＩＪスーＮ−ベンジルオキシカルボニ
ル−６−ｐ：４−Ｎ−カルボニル−５−デーＯ−メチ＃
　−ＫＡ＝７０３８１５０３Ｉｎ？が得られる。

元素分析値：　Ｃ５ｏＨ＊ａＮｎＯ’＋＋としてＣＨＮ 計算値（％ｌ　　６２．７２　　６．２１　　７５０実
測値（匈６２．４５　　６．０２　　７．２８比旋光阜
：〔α）　２２　＋４６°（ｃｌ、ＣＨＣｌ、）ＣＨＣ
ｌ３　　　ｒ ＩＲ値ニジｍａｘ　ａｎ− １７６０（環状カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣｌ、ｐｐｍ ２．８１　（６Ｈ％Ｓ、　Ｎ−Ｃ馬） ２．９０　（３Ｈ，ｓ％Ｎ−ＣＨ５） 実施例１ ５−デメトキシ−５−エノー　ＫＡで６６０６Ｉｌの製
造 （ａ）　　１．２’、６’−）リス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−３−ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
〇−メチルーＫＡ−６６０６川（参考例１）６０Ｏｒｎ
＆をピリジン１０ｍ１に溶解し、トシルクロリド７５０
ｒｎ９を加えて５０℃でτ夜攪拌する。

反応液にメタノールを少量加・えたのち、溶媒を留去し
、残査をクロロホルム’ｌＱｍｌに溶解スる。

これを炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄しだのち
乾燥し、溶媒を留去してシリカゲルのカラムに付す。ク
ロロホルム−酢酸エチル（７：２）で展開し、目的物を
含む部分を常法により処理すると、無色固体のＬ２’＃
、６’−’　）　ＩＪスーＮ−ベンジルオキシカルボニ
ル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー０−メチル
−５−〇−トシルーＫＡ−６６０６１１６７０□？！ｌ
！−得られる。

比旋光度：〔α耀＋６７°（Ｃ１、ＣＨＣｌ、　）１７
７０（カルバメート） １１８０　（−ｏｓｏ、−） ＰＭＲ値ニーδＣＤＣ１１ｐｐ” １．０８　（６Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ、　６’
−Ｃ−ＣＨ３）２−６９’　（５Ｈ，ｓ　４　Ｎ　　Ｃ
Ｈａ　）・元素分析値：　Ｃ＋ａＨｓｇＮ＊０ｔｓＳと
してＣＨＮＢ 計算値（％）　　６１，５２　５．８２　６．２２　３
．５６実測値（％）　　６１．０５　５．５０　６．１
１　３．２８（ｂｌ　　（ａｌで得られるトシル体６７
０■を１０％テトラブチルアンモニウムフロリド−アセ
トニトリル溶液８．、４　ｍｌに溶解し、８０℃で８時
間加熱する。反応液にクロロホルム４０　ｍｌを加え、
水洗及び乾燥したのち、溶媒を留去する。残査をシリカ
ゲルのカラムに付し、クロロホルム−酢酸エチル（５：
２）で展開する。目的物を含む部分を常法により処理す
ると、無色固体の１．２’。

６’−）　ＩＪ　ｘ　−Ｎ　−ヘンシルオキシカルボニ
ル−３−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デメトキシ−５
−エノーＫＡ−６６０６１３２４■が得られる。

比旋光度：〔α）Ａ４−６４°（ｃｌ、ＣＨＣｌ４　）
ＩＲ値ニジＣＨＣ１ａ　　１ ａｉ０− １７６０（カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣＩＩ　ｐｐｍ １．１０　（ＡＨ，ｄ％Ｊ　＝６．５Ｈｚ、　Ｃ−ｃＨ
，）２．８２　（３Ｈ，１ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）５．９１
（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：　ａ、ｅ　Ｈ４４Ｎ４０１ｏとしてＣ’　
　　　　　　ＨＮ 計算値（％）　　６４．２７　６．０９　７．６９実測
値（％）　　６４．５５　６．５３　７．４１（Ｃ）　
　（ｂ）で得られるＮ、Ｏ−保護化合物１１′７■を酢
酸１　ｍｌに溶解し、２５％臭化水素−酢酸溶液２ｍｌ
を加えて室温で２時間放置する。反応液にｎ−ヘキサン
５０　ｍｌを加え、生じた沈殿をＰ取し、これを０．５
規定の水酸化バリ゛ウム水溶液６１ｎｌに溶解し、８０
℃で１時間加熱する。反応液を硫酸で中和し、・水１０
０ｍ１で希釈して、生じる沈殿をｒ去する。Ｐ液をＣＭ
−セファデックスＣ−２５（ＮＨ々型）のカラムに付し
、０．１規定定及び０．５規定のアンモニア水の間で濃
度勾配法により展開する。目的物を含む部分を凍結乾燥
すると、無色粉末の次式で示される５−デメトキシ−５
−二ノーＫＡ−６６０６１１１４１ｎｙが得られる。

ＣＨ。

比旋光度：〔α）言−１４°（ｃｏ、ｓ、Ｈ，Ｏ）”　
　　ＰＭＲ値：δＤ２０１）Ｉ）ｍ　（ＴＭＳ外部標準
）１．５５（５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ、Ｃ−ＣＨ５
）２．８８　（５Ｈ％ｓ、　Ｎ−ＣＨ，）５．５２　（
Ｉ　Ｈ，’　ｄ、　Ｊ　＝４．０　Ｈｚ、’　Ｈ−１’
）６．２４（２Ｈ，ｓ、オレフイ７Ｈ） 元素分析値：　ＣＩ４　Ｈ２８Ｎ４０ｓ・Ｈ２０として
ＣＩＮ 計算値（％）５２．８１　９．５０　１７．６０実測値
（％）　　５２．４８　９．１５　１７．３６実施例２ ５−デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６１の製造 （ａ）　　実施例１で得られた５−デメトキシ−５−エ
ノーＫＡ　−−６６０６ｎ　６０■をメタノール２ｍｌ
に溶解し、酢酸ニッケル（四水塩）１５０■を加え６０
分攪拌したのち、ベンジルオキシカルボニルオキシスク
シンイミド１６０■を加え、３時間室温で攪拌する。次
いで濃アンモニア水１　ｍｌを加え、３０分攪−拌して
溶媒を留去２する。

残査をクロロホルム２ｏｍｌに溶解し、３規定のアンモ
ニア水及び水で洗浄したのち乾燥して溶媒を留去する。

残査をジオキサン４　ｍｌに溶解し、′Ｎ−ベンジルオ
キ７カルボニルグリシンのＮ−ヒドロキシスクシンイミ
ドエステル１５０■及びトリエチルアミン０．２　ｒｎ
ｌを加え、６０℃で一夜加熱する。

反応終了後、溶媒を留去し、残置をシリカゲルのカラム
に付してクロロホルム−酢酸エチル（５：２）で展開す
る。目的物を含む部分を常法により処理すると、無色固
体のテトラキス−ＮＴベンジルオキシカルボニル−５−
デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６１８１１ｎ９が
得られる。

比旋光度：〔α〕甘せ２１°（ｃｌ、ＣＨＣｌ、　）１
６５０　（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＣＤＣＩＩ　　ｐｐｍ １．０７　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ、　Ｃ−
ＣＨ５）２．８９　（Ｓ　Ｈｌｓ、　Ｎ−ＣＨＬ）元素
分析値：　１０４８Ｈ５１１Ｎ１１０１２としてＣＨＮ 計算値（％）　　６４．４９　６．２０　７．８５実測
値（％）　　６４．２２　　６．０１　７．５６（ｂ）
　　（ａ）で得られたＮ−保護化合物８１〜を用い、実
施例１（Ｃ）と同様に反応処理すると、無色粉末の次式
で示される５−デメトキシ−５−エノ〜ＫＡ−６６０６
１１０Ｔｎ９が得られる。

ＣＨ。

１．５６　（６Ｈ１ａ、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ、　Ｃ−
ＣＨ，）３．５２　（３Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）５．５
８　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝３．４　Ｈｚ、　Ｈ−ｉり
元素分析値：　Ｃ＋ａＨｊｔＮａ０４”Ｈｚ０としてＣ
Ｈ・　　Ｎ 計算値（％）　　５１．１８　８．８６　１８．６５実
測値（％）　　５０．９１　　８．５３　１８．５６実
施例６ ５−デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６Ｖｌの製造
（ａ）　　１．２’、６’　　）リス−Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デ
ー〇−メチル−ＫＡ−６６ａ６Ｖｉ（参考例２）１００
〜をビリジｊ７２　ｍｌに溶解し、トシルクロリド２５
６ダを加え６７℃で４０時間加温する。

反応液に少量の水を加えたのち溶媒を留去し、残置を実
施例１（ａ）と同様に処理すると、無色固体の１．２’
、６’　−）リス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３
−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー〇−メチル−５−
０−）シル−ＫＡ−６６０６ＶＩ８０■が得られる。

比旋光度：〔α）習＋、１５°（Ｃ２、ＣＨＣｌ５）１
７７０　（カルバメート） １１７５　（−０ＳＯ，−） ＰＭＲ値：δＣＤＣ１４ｐｐｍ １０３（５Ｈ，ａ、　Ｊ＝６Ｈ２，ｃ−ｃ５Ｊ−２，７
０（６Ｈ，ｓ、Ｎ−ＣＨ，） 元素分析値：　Ｃ４６Ｈ５１１Ｎ４０＋３８としてＣＨ
ＮＳ 計算値（％）　　６１．５２　５．８２　６．２２　５
．５６実測値（％）　　６０．９Ｂ　　５．９１　６．
０３５．５２（ｂ）　　（ａ）で得られ“るトシル体６
０ｍｇを７％テトラブチルアンモニウムフロリド−ベン
ゼン溶液１゜５　ｍｌに溶解し、４５℃で５時間加温す
る。次いで反応液を実施例１四と同様に処理すると、無
色固体の１ｍ２’ｍ６’　−）　’）クーＮ−ベンジル
オキシカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−
デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６ＶＩ２８即が得
られる。

比旋光度：〔α〕２３＋２５°（ｃｌ、ＣＭＣＩ、　）
１７６５（カルバメート） ＰＭＲ値：δ−ＣＤＣ１ｘ　ｐｌ）ｍ ｌ、０８　（Ｓ　Ｈ，ｄ、　Ｊ−！６Ｈｚ、　Ｃ−ＣＨ
３）２．８３　（ｊＨ，ｓ、Ｎ−ＣＨ３） ５．８９（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：　Ｃ３ｇ　Ｈ４４Ｎ４０１ｇとしてＣ、Ｈ
Ｎ 計算値（％）　　６４．２７　６．０９　７．６９実測
値（％）　　６４．３１　６．２５　７．５８（Ｃ）（
ｂ）で得られるＮ、Ｏ−保護化合物１８９■を用い、実
施例１（Ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の次
式の５−デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６ＶＴ　
５１■が得られる。

ＰＭＲ値：δＤ２０　　ｐｐｍ １．５４　（３Ｈ，ａ、　Ｊ　＝６．５　Ｈ２，ｃ−ｃ
４　）２．８６（５Ｈ％ｓ、　Ｎ−ＣＨ，） ５．５４　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝＝３．５Ｈｚ、　Ｈ−
１’）６．２２（２Ｈ，８，オレフィンＨ） 元素分析値：　”＋４　Ｈｕ　Ｎ４ＯＡ　’　Ｈ２０と
してＣＨ 計算値（％）　　５２．８１　９．５０　１７．６０実
測値（％）　　５２．５５　９．５４　１７．２２実施
例４ ５−デメトキシ−５−エフ−４−Ｎ−グリシル−ＫＡ−
６６０６Ｖ１の製造 （ａ）　　実施例３で得られる５−デメトキシ−５−！
／−ＫＡ−６６０６ＶＩ　４５１ｖを用い、実施例２（
ａ）と同様に反応、処理すると、無色固体の１．２’、
６’−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−４−捷
−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシル）−５−デ
メトキシ−５−エノーＫＡ−６６’０６■７３即が得ら
れる。

比旋光度：〔α）、；”＋５５°（ｃｌ、ＣＨＣ’ｌ、
　）ＩＲ値：　ｖ　ＣＨＣ”　ｃｍ−” ａｘ １６４０　（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＣＤＣ’ｌ、　ｐｐｍ １．０６　（５ｆ（、ｄ、　Ｊ＝６１（Ｚ、　Ｃ−ＣＨ
，）２．９５　（５Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ，）元素分析値
：０４８Ｈ閣Ｎ５０１２としてＣ，Ｈ’Ｎ 計算値（％）６４．４９　６゜２０　７．８３実測値（
％）　　６４．５３　５．９２　７．４４（ｂ）　　（
ａ）で得られるＮ−保護化合物６６■を用い、実施例１
（ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の次式の５
−デメトキシ−１５−エノー４−Ｎ−グリシル−ＫＡ−
６６０６■１５■が得られる。

ＰＭＲ値：δＤ２０　ｐｐｍ １．５　’６　（５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５　ＨｚｌＣ−
ＣＨｓ　）３．４９　（５Ｈ％Ｓ、　Ｎ−ＣＨ，）５．
４５　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝３．５　Ｈｚ、　Ｈ−１
’）元素分析値＠　Ｃ１６Ｈａ１Ｎ５０４　”　Ｈ２Ｃ
Ｏ１＠Ｈ２０としてＣＨＮ 計算値（％）　　４６．６７　　Ｂ、０６　１６．０１
実測値（％）　　４６．８１　　８．Ｎ　　１５．６Ｂ
実施例５　゛ ５−デメトキシ−５−ｘ　／　−Ｋ　Ａ　−７０５８１
（Ｄ製造 （ａ）　　１．２’、６’−）リス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−３−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
０−１ｆｋ−ＫＡ−７０５８１（参考例３）１００■を
用い曳、実施例６（ａ）と同様に反応、処理すると、無
色固体の１．２’、６’　−トリス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
０−メチル−５−ｏ−トシル−ＫＡ−７０３８１９２１
１１＆が得られる。

比旋光度：〔α片＋２８°　（’Ｃ１、ＣＨＣ’１１）
ＣＨＣＩ、　　　　　−亀 ＩＲ値ニジｍａｘ　　傭 １７６５（カルバメート）゛ １１７５　（−０ＳＯ，−）　　　　　　　’ＰＭＲ値
：δＣＤ０１４　　ｐｐｍ ２．４６（５Ｈ，ｓ　、　ｕＣＨｓ　）２．８８．２．
７２（各３Ｈ１ｓ％Ｎ−ＣＨ５）元素分析値：　Ｃ４６
）１５２Ｎ４ｏ１ｆｉｓとしてＣＨＮ　　　　Ｓ 計算値（％）　　６１．Ｈ１２５，８２６，２２５，５
６実測値（％）　　６１．２８　５．６２　５．９６　
３．２２（ｂｌ　　（ａｔで得られるトシル体８０■を
用（・、実施例６（ｂ）と同様に反応、処理すると、無
色固体のＬ２’＃６’　−）　ＩＪスーＮ−ベンジルオ
キシカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デ
メトキシ−５−工／−ＫＡ−７０３８１３３ｍ９カー得
られる。

比旋光度：〔６片＋６１°（ｃ　ｉ、　ｃｕｃｉ、　）
１７６５（カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤ０１３　ｐｐｍ ２．９１．２．８３（各６Ｈ，ｓ％Ｎ−ＣＨ，）５．９
０（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：Ｃ３゜Ｈ４４Ｎ、Ｏ，。としてＨＮ 計算値（％）　　６４．２７　６．０９　７．６９実測
値（％）　　６４．２１　５．９５　７．５６（Ｃ）　
　（ｂ）で得られるＮ、Ｏ−保護化合物６２■を用い、
実施例３（ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の
次式の５−デメトキシ−５−エン−ＫＡ−７０３８１９
〜が得られる。

ＰＭＲ値：δＤ２０　ｐｐｍ ２．８７．２．９０（各３Ｈ，ｓ％Ｎ−ＣＨ８）５．５
５　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５．５Ｈｚ、　Ｈ−１’）
６．２５（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：　Ｃ１４Ｈ，Ｎ４０３・Ｈ２０としてＣＨ
Ｎ 計算値（％）　　５２．８１　９．５０　１７．６０実
測値（％）　　５３．１２　９．５８　１７．３８実施
例６ ５−デメトキシ−５−エン−ＫＡ−７０５８１の製造 ｆａ）　　実施例５で得られる５−デメトキシ−５−ｘ
　／　−ＫＡ　−７０５８＠　１８１１１４／を用い、
実施例２（ａ）と同様に反応、処理すると、無色固体の
テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−５−デメ
）　＋シー５−工／−ＫＡ−７０３８１３２１ｖが得ら
れる。

比旋光度：〔α）２２＋５９°（ｃｌ、ｃＨｃｌｓ　）
１６３５（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＣＤＣｌ３　ｐｐｍ ２．９１　（６Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）元素分析値：　
Ｃ４８Ｈ５５Ｎ＋１　ｏｎとして実測値（％）　　６４
．２Ｂ　　５．９９　７．５５（ｂｌ　　（ａｌで得ら
れ１Ｎ−保護化合物２９ダを用い。

実施例１（ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の
次式の５−デメトキシ−５−エン−”　ＫＡ　−７０３
８１７即が得ら）る。

Ｈ２ １６３５（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＤ＋１０　ｐｐｍ ３．５０．２．９０（各６Ｈ１ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）５．
５１　（Ｉ　Ｈ，ｄｌ、Ｔ　＝３．５　Ｈｚ、Ｈ−１’
）元素分析値：　ｃ１６Ｈ３１Ｎｌｌｏ４　”　Ｈ２Ｏ
としてＣ−ＨＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 （式中Ｒ，及びＲ２の一方は水素原子、他方はメチル基
   、Ｒ３は水素原子又はアミノアシル基を示し、アミノ基
   及び／又は水酸基は保護されていてもよい）で表わされ
   る化合物又はその酸付加塩。 ２、一般式 （式中ＲＩＸ及びＲ２の一方は水素原子、他方はメチル
   基、へは水素原子又はアミノアシル基を示す）で表わさ
   れる化合物又はそのアミン基及び３位の水酸基が保護さ
   れた化合物の５位の水酸基を電子吸引性の基で置換した
   のち、酸性、塩基とすることを特徴とする、一般式 （式中Ｒ，及びＲ２は前記の意味を有し、Ｒ８は水素原
   子又はアミノアシル−基を示し、アミノ基及び／又は水
   酸基は保護されていてもよい）で表わされる化合物又は
   その酸付加塩の製法。