JPS58993A - Novel aminoglycoside and its preparation - Google Patents

Abstract

NEW MATERIAL:A compound of formulaI(one of R1 and R2 is H and the other is methyl; R3 is H, aminoacyl; amino or hydroxyl groups may be protected) its acid adduct. EXAMPLE:5-Demethoxy-5-eno-KA-6606 II. USE:Antibiotic: it shows antibiotic acitivity. It also is used as a synthetic intermediate of other antibiotics. PREPARATION:The hydroxyl group in the 5-position of a compound of formula II (R4 is H, aminoacyl) or its derivative with protected amino and hydroxyl in the 3-position is substituted with an electron attractive group. For example, the esterification, halogenation, cyanization or azidation of sulfonic acid is effected to introduce an electron attractive groups. Then, an acidic, basic or neutral salt is made to react with the product to give the compound of formulaI.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 （式中Ｒ１及びＲ２の一方は水素原子、他方はメチル基
、Ｒ３は水素原子又はアミノアシル基を示し、アミン基
及び／又は水酸基は保護されていてもよい）で表わされ
る新規なアミノ配糖体及びその酸付加塩ならびにその製
法に関する。Detailed Description of the Invention The present invention is based on the general formula (wherein one of R1 and R2 is a hydrogen atom, the other is a methyl group, R3 is a hydrogen atom or an aminoacyl group, and the amine group and/or hydroxyl group are protected). The present invention relates to a novel amino glycoside represented by the following formula, an acid addition salt thereof, and a method for producing the same.

本発明者らは先に、サツカロポリスポラ・ヒルスタ・Ｋ
Ｃ−６６０６−株ならびにストレプトミセスｓｐ、、Ｋ
Ｃ−７０３８株の代謝産物として、それぞれ抗生物質と
して有用な数種の化合物（ＫＡ−６６０６物質群ならび
にＫＡ−７０３８物質群）を見い出した。これらの化合
物のうち、ＫＡ−６６０６１〜■及び■、ＫＡ−７，Ｏ
ｎ　ｌ及び■は次の構造式で示される（特開昭５５−１
２７４０１号、同５４−６６６０５号、同５４−１４１
７０１号、及び同５５−１１１４９７号各公報参照）。The present inventors previously reported that Saccharopolyspora hirsuta K.
C-6606-strain and Streptomyces sp., K
Several compounds (KA-6606 substance group and KA-7038 substance group) were found as metabolites of the C-7038 strain, each of which is useful as an antibiotic. Among these compounds, KA-66061~■ and ■, KA-7,O
n l and ■ are shown by the following structural formula (Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-1
No. 27401, No. 54-66605, No. 54-141
No. 701 and No. 55-111497).

１位アミノ基 ＫＡ−６６０６ １ＣＨ，ＨＣ０ＣＨ２ＮＨ２シス ■／／　　　　　Ｉ／　　　　　　）（ｌ／＠　　　　
　ｔｔ　　　　　ｕ　　　　ＣＯＣＨ２ＮＨＣＯＮＨ２
、”ＩＶ　　　　　／／　　　　　／／　　　　Ｃ０Ｃ
Ｈ２ＮＨＣＨＯ／／Ｖｌ　　　　ｕ　　　　ｔｔ　　　
　ＨトランスＫＡ−７０３８ ＩＨＣＨ３ＣＯＣＨ２ＮＩ（２トランスｌ　　　ｕ　　
　　ｕ　　　　　Ｉ（、ｔｔ本発明者らは、これら化合
物の誘導体を合成してその活性を検討したところ、５位
のメチルエーテルを開裂した５−デー０−メチル体が優
れた抗菌作用を有することを見い出した（特開昭５５−
５５１９８号及び同５６−２９９７号各公報径照）。1-position amino group KA-6606 1CH,HC0CH2NH2cis■//I/ )(l/@
tt u COCH2NHCONH2
,”IV // // C0C
H2NHCHO//Vl u tt
H-trans KA-7038 IHCH3COCH2NI (2 trans l u
u I(, ttThe present inventors synthesized derivatives of these compounds and examined their activities, and found that the 5-day-0-methyl compound, which has cleaved the methyl ether at the 5-position, has excellent antibacterial activity. Found out (Japanese Unexamined Patent Publication No. 1973-
55198 and 56-2997).

そして更に研究を進めた結果、前記の５−デー〇−メチ
ル体を５，６位の間で脱水した化合物である５−デメト
キシ−５−エノ体（１）が優れた抗菌作用を示すことを
見い出して本発明に到達した。As a result of further research, it was discovered that 5-demethoxy-5-eno form (1), which is a compound obtained by dehydrating the above-mentioned 5-de-methyl form between the 5 and 6 positions, exhibits excellent antibacterial activity. This discovery led to the present invention.

本発明の化合物（１）は、一般式 （式中Ｒ１及びＲ１は前記の意味を有し、へは水素原子
又はアミノアシル基を示す）で表わされる化合物又はそ
のアミノ基及び６位の水酸基が保護された化合物の５位
の水酸基を電子吸引性の基に置換したのち、酸性、−塩
基性又は中性の塩を作用させることにより製造できる。The compound (1) of the present invention is a compound represented by the general formula (wherein R1 and R1 have the above-mentioned meanings, and represents a hydrogen atom or an aminoacyl group), or the amino group and 6-position hydroxyl group thereof are protected. It can be produced by substituting the hydroxyl group at the 5-position of the obtained compound with an electron-withdrawing group and then reacting with an acidic, basic or neutral salt.

式（１）の化合物を製造するに際しては、まず式（３）
の化合物又はそのアミン基及び３位の水酸基が保護され
た化合物に電子吸引性の基を導入する。When producing the compound of formula (1), first the compound of formula (3)
An electron-withdrawing group is introduced into the compound or a compound in which the amine group and the hydroxyl group at the 3-position are protected.

電子吸引性の置換基としては、トシル基、メシル基、ナ
シル基等の置換スルホン酸エステル基、塩素、臭素、ヨ
ウ素等のハロゲン原子、ニトリル基、アジド基などがあ
げられる。この反応ｉ通常の方法により行われる。例え
ば、スルホン酸エステル化スる場合には、スルホン酸ノ
・・ロゲン化物を溶媒中で式（６）の化合物に作用させ
ることが好ましい。ハロゲン化を行う場合には、ハロゲ
ン化スルフリル、ハロゲン化チオニル等を式（６）の化
合物に作用させる方法、四ハロゲン化炭化水素をトリフ
ェニル７オスフインの存在下に式（６）の化合物に作用
させる方法、前記のスルホン酸エステル誘導体にハロゲ
ン化アルキルを作用させる方法などを用いることができ
る。ニトリル化、アジド化を行う場合には、前記のスル
ホン酸誘導体にシアン化ア□ルカリ、アジ化アルカリ等
を作用させることが好ましい。Examples of electron-withdrawing substituents include substituted sulfonic acid ester groups such as tosyl, mesyl, and nacyl groups, halogen atoms such as chlorine, bromine, and iodine, nitrile groups, and azide groups. This reaction is carried out by conventional methods. For example, in the case of sulfonic acid esterification, it is preferable to allow a sulfonic acid chloride to act on the compound of formula (6) in a solvent. In the case of halogenation, a method in which sulfuryl halide, thionyl halide, etc. is applied to the compound of formula (6), or a tetrahalogenated hydrocarbon is applied to the compound of formula (6) in the presence of triphenyl-7-osphine. A method in which a sulfonic acid ester derivative is reacted with an alkyl halide can be used. When performing nitrification or azidation, it is preferable to allow alkali cyanide, alkali azide, etc. to act on the sulfonic acid derivative.

次いで５位の水酸基が電子吸引性の基で置換された式（
５）の化合物に酸性、塩基性ス（中性の塩を作用させる
と、脱水反応により、目的化合物（１）が得られる。Next, the formula (
When the compound (5) is treated with an acidic or basic salt (neutral salt), the target compound (1) is obtained through a dehydration reaction.

酸性塩としては、炭素数１〜５０アールキル基を有する
テトラアル゛キルアンモニウムハロゲナイド、例えばテ
トラブチルアンモニウムクロリドなどの４級アンモニウ
ム、塩など、塩基性塩としては、酢酸、プロピオン酸、
コハク酸、安息香酸、フタル酸などのアルカリ金属又は
アルカリ土類金属塩など、中性塩としてはフッ化カリウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カルシウムなどがあげられる
。Examples of acidic salts include tetraalkylammonium halogenides having an alkyl group of 1 to 50 carbon atoms, such as quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium chloride; examples of basic salts include acetic acid, propionic acid,
Examples of neutral salts include alkali metal or alkaline earth metal salts such as succinic acid, benzoic acid, and phthalic acid, and potassium fluoride, sodium chloride, and calcium chloride.

この−子吸引性の置換基の脱離反応は溶媒中で室温ない
し１００℃で約６０分ないし約２０時間で行われる。溶
媒としては、ベンゼン、アセトニトリル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミＰ、ジメチル
スルホキシドなどがあげられる。゛ 出発物質（６）は、例えば式（２）で表わされる化合物
（ＫＡ−６６０６物質ならびにＫＡ−７０３８物質）に
、特開昭５５−５５１９８号公報に記載の方法により、
鉱酸例えば臭化水素酸、沃化水素酸、弗化水素酸等又は
ルイス酸例えば三塩化硼素、三弗化硼素等、あるいはア
ルカリ金属及びアミンを作用さすて５位のメチルエーテ
ルを開裂することによって製造できる。This elimination reaction of the -child-attracting substituent is carried out in a solvent at room temperature to 100°C for about 60 minutes to about 20 hours. Examples of the solvent include benzene, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylformamide P, and dimethyl sulfoxide. ``The starting material (6) is, for example, a compound represented by formula (2) (KA-6606 substance and KA-7038 substance) by the method described in JP-A-55-55198.
Cleavage of the 5-position methyl ether by the action of a mineral acid such as hydrobromic acid, hydroiodic acid, hydrofluoric acid, etc. or a Lewis acid such as boron trichloride, boron trifluoride, etc., or an alkali metal and an amine. It can be manufactured by

式（６）の化合物の５．６位の間で脱水するためには、
化合物（３）の各アミノ基及び３位の水酸基を保護して
おくことが好ましい。In order to dehydrate between the 5 and 6 positions of the compound of formula (6),
It is preferable to protect each amino group and the 3-position hydroxyl group of compound (3).

アミノ基の保護基としては、従来ペプチド合成において
常用されている公知のアミン保護基を使用することがで
きるが、一般式 （式中Ａはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基
又はアルアルキル基を示す）で表わされる保護基が特に
好ましい。これらの保護基としては、例えば次のものが
あげられる。アルキルオキシカルボニル基例えばエチル
オキシカルボニル基、三級ブチルオキシカルボニル基、
三級アミルオキシカルボニル基等、シクロアルキルオキ
シカルボニル基ｍｌ　ｉｃ　＆’！シクロへキシルオキ
シカルボニル基等、アリールオキシカルボニル基例えば
フェノキシカルボニル基等、アルアルキルオキシカルボ
ニル基例えばベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル基等。As a protecting group for an amino group, a known amine protecting group commonly used in conventional peptide synthesis can be used. Particularly preferred are protecting groups represented by the following. Examples of these protecting groups include the following. Alkyloxycarbonyl groups such as ethyloxycarbonyl group, tertiary butyloxycarbonyl group,
Tertiary amyloxycarbonyl group, etc., cycloalkyloxycarbonyl group ml ic &'! Cyclohexyloxycarbonyl group, etc., aryloxycarbonyl group, such as phenoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, such as benzyloxycarbonyl group, p-methoxybenzyloxycarbonyl group, etc.

保護基の導入は通常の方法で行われるが、一般式 ％式％（４１ （式中のＡは前記の意味を有する）で表わされるカルボ
ン酸又はその反応性誘導体を化合物（６）に作用させる
方法が好ましい。カルボン酸の反応性誘導体としては、
例えば酸ノ＼ロゲニド、酸アジド化合物、酸無水物、活
性エステルなどがあげられる。次いで３位の水酸基のみ
を選択的に保護する。式（６）の化合物には３位の水酸
基に隣接して４位にアミノ基が存在するため、これを利
用して環状カルバメートを形成することにより、３位の
水酸基を４位のアミン基と共に容易に保護することがで
きる。環状カルノ（メートは、テトラ−Ｎ−保護化合物
に好ましくは溶媒中でアルカリを作用させることによっ
て形成される。アルカリとしては、例えば水素化ナトリ
ウム、水酸化バリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カル
シウムなど、溶媒としては、例えばジメチルホルムアミ
ド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、水など又はこれ
らの混合物が用いられる。The introduction of a protecting group is carried out by a conventional method, and the method is as follows: A carboxylic acid represented by the general formula % (41 (A in the formula has the above meaning) or a reactive derivative thereof is allowed to act on the compound (6). The method is preferred.As the reactive derivative of carboxylic acid,
Examples include acid nologenides, acid azide compounds, acid anhydrides, and active esters. Then, only the hydroxyl group at position 3 is selectively protected. Since the compound of formula (6) has an amino group at the 4-position adjacent to the hydroxyl group at the 3-position, by utilizing this to form a cyclic carbamate, the hydroxyl group at the 3-position is combined with the amine group at the 4-position. Can be easily protected. Cyclic carno(mates) are formed by reacting the tetra-N-protected compound with an alkali, preferably in a solvent. As an alkali, examples include sodium hydride, barium hydroxide, sodium hydroxide, calcium hydroxide, etc. As the solvent, for example, dimethylformamide, dioxane, tetrahydrofuran, water, or a mixture thereof is used.

式（３）の化合物の３，４位間に環状カルバメートを形
成すると、置換基へが脱離するため、この化合物を脱水
したのち加水分解すると、Ｒ５が水素原子である式（１
）の化合物が生成し、この化合物の４位のメチルアミノ
基をアンル化すると、Ｒ３がアシル基である式（１）の
化合物が得られる。When a cyclic carbamate is formed between the 3 and 4 positions of the compound of formula (3), the substituent is eliminated. Therefore, when this compound is dehydrated and then hydrolyzed, the compound of formula (1) in which R5 is a hydrogen atom is
) is produced, and when the methylamino group at the 4-position of this compound is annated, a compound of formula (1) in which R3 is an acyl group is obtained.

アシル化を実施するには、まず４位のメチルアミノ基を
遊離させたのちこれをアシル化する。To carry out the acylation, the methylamino group at the 4-position is first released and then acylated.

すなわち、６，４位間の環状カルバメートを加水分解す
ることにより、容易に４位のメチルアミン基を遊離させ
ることができる。この加水分解には通常の酸加水分解又
はアルカリ加水分解を適用することができる。That is, by hydrolyzing the cyclic carbamate between the 6- and 4-positions, the methylamine group at the 4-position can be easily liberated. For this hydrolysis, ordinary acid hydrolysis or alkaline hydrolysis can be applied.

Ｒ３が水素原子でアミノ基が遊離した式（１）化合物の
４位のメチルアミノ基をアシル化する場合は、まず式（
１）の化合物の１位、２′位及び６′位のアミン基を保
護する。この保護反応は前記の化合物（３）のアミン基
の保護反応と同様に行うことができる。このとき４位の
メチルアミン基も同時に保護されるため、アシル化すべ
き４位のメチルアミノ基を遊離させる必要がある。この
ためには、前記と同様にして６位の水酸基と４位のメチ
ルア、、ミイ基との間で環状カルバメートを形成し、次
いでこれを加水分解することにより、容易に４位のメチ
ルアミノ基のみを遊離させることができる。加水分解に
は、通常の酸加水分解又はアルカリ加水分解を適用する
ことができる。When acylating the methylamino group at the 4-position of the compound of formula (1) in which R3 is a hydrogen atom and the amino group is free, first, the formula (
The amine groups at positions 1, 2' and 6' of the compound of 1) are protected. This protection reaction can be carried out in the same manner as the protection reaction of the amine group of compound (3). At this time, since the 4-position methylamine group is also protected at the same time, it is necessary to liberate the 4-position methylamino group to be acylated. For this purpose, a cyclic carbamate is formed between the hydroxyl group at the 6-position and the methylamino group at the 4-position in the same manner as described above, and then this is hydrolyzed to easily form a methylamino group at the 4-position. only can be liberated. For hydrolysis, ordinary acid hydrolysis or alkaline hydrolysis can be applied.

またテトラ−Ｎ−保護化合物に水を含む溶媒中でアルカ
リを作用させると、直接に４位のメチルアミン基のみを
遊離させることができる。Furthermore, when an alkali is applied to the tetra-N-protected compound in a solvent containing water, only the methylamine group at the 4-position can be directly liberated.

一方、Ｒ，＝Ｈである式（１）の化合物のアミノ基を保
護する際に、式（４）のカルボ／酸の反応性誘導体とし
て、活性エステル例えば置換フェニルエステル、Ｎ−オ
キシスクシ／イミドエステル、Ｎ−オキシフタルイミド
エステルなど、特に一般式 （式中又は置換されていてもよいフェニル基、こはく酸
イミジル基又は７タルイミジル基を示す）で表わされる
活性エステルを用いると、１位、２′位及び６′位のア
ミノ基だけを選択的に保護することができる。この反応
の際に金属化合物、例えば酢酸ニッケル、酢酸コバルト
、酢酸銅などを存在させると好ましい結果が得られる。On the other hand, when protecting the amino group of the compound of formula (1) where R,=H, active esters such as substituted phenyl esters, N-oxysucci/imide esters are used as reactive derivatives of the carbo/acid of formula (4). , N-oxyphthalimide ester, etc. In particular, when active esters represented by the general formula (in the formula or optionally substituted phenyl group, succinimidyl group, or 7-thalimidyl group) are used, the 1-position, 2'-position And only the amino group at the 6' position can be selectively protected. Favorable results are obtained when a metal compound such as nickel acetate, cobalt acetate, copper acetate, etc. is present during this reaction.

これらの方法で得られる１位、２′位及び６′位のアミ
ン基が保護された式（１）の化合物（Ｒ，＝Ｈ）の４位
のメチルアミノ基をアシル化すると、アミ７基が保護さ
れた式（１）の化合物が得られる。When the methylamino group at the 4-position of the compound (R,=H) of formula (1) in which the amine groups at the 1-, 2'-, and 6'-positions obtained by these methods are protected, the amine group at the 7-position is acylated. A protected compound of formula (1) is obtained.

−アシル化剤としては、アミノ酸例えばグリシン、アラ
二ノ、バリン等を用いることが好ましい。アミノ酸を用
いてアシル化するためには、通常のペプチド合成法を適
用することができ、Ｎ−保護アミノ酸又はその反応性誘
導体を作用させる。アミノ酸のアミン基の保護基として
は、前記の保護基のいずれを用いてもよ（、また式（１
）の化合物（Ｒ３＝Ｈ）の保護基と同一でも異なっても
よいが、次の工程における脱離反応を容易に行うため、
同じ保護基を用いることが好ましい。そのほかアミノ基
は例えば低級アルキル基、カルバモイル基、ホルミル基
等で置換されていてもよい。アミノ酸の酸反応性誘導体
としては式（４）のカルボン酸の反応性誘導体と同様の
ものを用いることかもきる。- As the acylating agent, it is preferable to use amino acids such as glycine, aranino, valine, etc. For acylation with amino acids, conventional peptide synthesis methods can be applied, and N-protected amino acids or reactive derivatives thereof are acted upon. As a protecting group for the amine group of an amino acid, any of the above-mentioned protecting groups may be used (also, formula (1)
) may be the same or different from the protecting group of the compound (R3=H), but in order to facilitate the elimination reaction in the next step,
Preferably, the same protecting groups are used. In addition, the amino group may be substituted with, for example, a lower alkyl group, a carbamoyl group, a formyl group, or the like. As the acid-reactive derivative of the amino acid, those similar to the carboxylic acid-reactive derivative of formula (4) can be used.

こうして得られるアミン基及び／又は水酸基が保護され
た式（１）の化合物（Ｒ３＝Ｈ又はアシル基）の保護基
を脱離すると、式（１）の遊離化合物が得られる。アミ
ノ基及び水酸基の保護基の脱離には通常の方゛法を適用
することができるが、バーチ還元法及び酸分解を用いる
ことが好ましい。バーチ還元は液体アンモニア中で金属
ナトリウム又は金属リチウムを作用させる方法が好まし
い。酸分解を行う場合は、臭化水素酸−酢酸等を用い０
〜６０℃で０．１〜５時間反応させることが好ましい。When the protecting group of the thus obtained compound of formula (1) in which the amine group and/or hydroxyl group is protected (R3=H or acyl group) is removed, the free compound of formula (1) is obtained. Although conventional methods can be applied to remove the protecting groups for amino groups and hydroxyl groups, Birch reduction method and acid decomposition are preferably used. Birch reduction is preferably carried out by using metallic sodium or metallic lithium in liquid ammonia. When performing acid decomposition, use hydrobromic acid-acetic acid etc.
It is preferable to react at ~60°C for 0.1 to 5 hours.

目的物質である式（１）の化合物ならびにそのアミノ基
及び／又は水酸基が保護された化合物の単離精製は常法
により行われるが、カラ７ムクロマトグラフイーを利用
することが特に好ましい。Isolation and purification of the target substance, the compound of formula (1), and the compound with its amino group and/or hydroxyl group protected, is carried out by conventional methods, but column chromatography is particularly preferably used.

吸着剤としては、例えばＣＭ−セファデックス、アンバ
ーライトＩＲＣ−５０、同ＣＧ−５０、カルボキシメチ
ルセルロース等の陽イオン交換樹脂を用いることが好ま
しい。展開は、アルカリ性水溶液例えばアラモニア水、
義酸アンモニウム水溶液などを展開溶媒として用い、濃
度勾配法又は濃度段階法により行うことができる。溶出
液より活性画分を集め、凍結乾燥すると、目的化合物の
純品を得ることができる。As the adsorbent, it is preferable to use a cation exchange resin such as CM-Sephadex, Amberlite IRC-50, Amberlite CG-50, and carboxymethyl cellulose. The development is carried out using an alkaline aqueous solution such as Alamonia water,
This can be carried out by a concentration gradient method or a concentration step method using an aqueous ammonium dinate solution or the like as a developing solvent. By collecting the active fraction from the eluate and lyophilizing it, a pure product of the target compound can be obtained.

式（１）の化合物は常法に従って酸付加塩に導くことが
できる。酸としては無機酸、例えば硫酸、塩酸、臭化水
素酸、沃化水素酸、燐酸、炭酸、硝酸等ならびに有機酸
例えば酢酸、フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル
酸、コハク酸等が用いられる。The compound of formula (1) can be converted into an acid addition salt according to a conventional method. As acids, inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, phosphoric acid, carbonic acid, nitric acid, etc. and organic acids such as acetic acid, fumaric acid, malic acid, citric acid, mandelic acid, succinic acid, etc. are used. It will be done.

重置廚の化合物（１）及びその酸付加塩は優れた抗菌活
性を有し、抗生物質として人間及び他の動物の医薬とし
て有用である。また他の抗生物質を製造する中間体とし
ても有用である。Compound (1) and its acid addition salts have excellent antibacterial activity and are useful as antibiotics in medicine for humans and other animals. It is also useful as an intermediate for producing other antibiotics.

参考例１ １　Ｔ２’１６’　−）　＋７スーＮ−ベンジルオキシ
カルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー〇
−メチル−ＫＡ−６６０６１の製造 ａ）　次式 で表わされる化合物（５−デーＯ−メチル−ＫＡ−６６
０６ＩＩ　）　Ｉ　Ｐを水１０ｍ１に溶解し、無水炭酸
ナトリウム１．３？及びメタノール４０ｍ１を加えたの
ち、水冷下にカルボベンジルオキシクロリド’１．６ｍ
ｌ、を滴下する。水冷＼下に更に３時間攪拌を続けたの
ち、反応液を濃縮乾固する。Reference Example 1 1 T2'16' -) +7-N-benzyloxycarbonyl-5-0: Production of 4-N-carbonyl-5-de-methyl-KA-66061 a) Compound (5 -deO-methyl-KA-66
06II) Dissolve IP in 10ml of water and add 1.3ml of anhydrous sodium carbonate. After adding 40 ml of methanol, 1.6 ml of carbobenzyloxychloride was added under water cooling.
Drop 1. After continuing stirring for an additional 3 hours under water cooling, the reaction solution was concentrated to dryness.

残査にクロロホルムを加え、水洗後乾燥し、溶媒を留去
すると、無色結晶２゜６？が得られる。Chloroform was added to the residue, washed with water, dried, and the solvent was distilled off to give colorless crystals of 2°6? is obtained.

この結晶をベンゼンから再結晶す／ると、融点１５６〜
１５．４℃の無色針状晶として１．４．２’、６’７テ
トラキスーＮ−ベニｙジルオキシカルボニルー５−デー
０−メチル−ＫＡ−６６０６ＩＩが得られる。When this crystal is recrystallized from benzene, the melting point is 156~
1.4.2',6'7tetrakis-N-benyzyloxycarbonyl-5-de-0-methyl-KA-6606II is obtained as colorless needles at 15.4°C.

元素分析値：　Ｃ４６Ｈ５４Ｎ＜ＯｌｇとしてＣ’　　
　　　　　　ＨＮ 計算値（％）　　６４．６２□　　６．３７、　６．５
５実測値（匈　６４．４９　　６．３３６．６１゜比旋
光度：［α］２Ｂ＋４４°（ｃｌ、ＣＨＣｌ３）ｂ）　
　ａ）により得られたＮ−保護化合物１００■をジオキ
サン２　ｍｌに溶解し、０．１Ｍ水酸化バリウム水溶液
１．５　ｍｌを加え、６０℃で１時間攪拌する。反応液
にドライアイスを加えて中和し、不溶物をｒ過し、ｒ液
を濃縮乾固する。残査をプレパラテイプ薄層クロマトグ
ラフィー（クロロホルム−メタノール１５：１）で分離
すると、無色固体として１．２’、６’　−）リス−Ｎ
−ベンジルオキシカルボニル−３−０：４−Ｎ−カルボ
ニル−５−チー　０−メｆｌ−ＫＡ−６６０６ＩＩ　６
８　ｍ９が得られる。Elemental analysis value: C46H54N<C' as Olg
HN Calculated value (%) 64.62□ 6.37, 6.5
5 Actual measurement value (匈 64.49 6.336.61° Specific optical rotation: [α] 2B + 44° (cl, CHCl3) b)
100 ml of the N-protected compound obtained in a) was dissolved in 2 ml of dioxane, 1.5 ml of 0.1M barium hydroxide aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 60°C for 1 hour. Dry ice is added to the reaction solution to neutralize it, insoluble matter is filtered off, and the solution is concentrated to dryness. The residue was separated by preparatape thin layer chromatography (chloroform-methanol 15:1) to give 1.2',6'-)lis-N as a colorless solid.
-benzyloxycarbonyl-3-0:4-N-carbonyl-5-chi 0-methfl-KA-6606II 6
8 m9 is obtained.

元素分析値：　ｃ、Ｑ　Ｈ４６Ｈ４０Ｉ　＋としてＣＨ
Ｎ 計算値（（６）　６２．７２　　６．２１　　７．５０
実測値（（６）　６２．４Ｂ　　　６．１０　　７．２
８比旋光度：〔α）２３＋３３°（ＣＩ、ＣＨＣｌ３）
１７６０（環状カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣＣＤＣｌ５ ｐｐ　７（５Ｈ，ａ、Ｊ＝６　Ｉ（ｚ、ｃ−ＣＨＳ）２
．８７（！ｉＨ，ｓ％Ｎ−ＣＨ５） 参考例２ １．２’ｔ６’　−）　ＩＪスーＮ−ベンジルオキ７カ
ルボニルー３’−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー〇
−メチル−ＫＡ−６６σ６■の製造 ａ）次式 で表わされる化合物（５−デー０−メチル−ＫＡ−６６
０６ＶＴ　）　５００　ＦＱを用い、参考例１（ａ）と
同様に反応処理すると、無色固体のテトラキス−Ｎ−ベ
ンジルオキ７カルポニルー５−デーＯ−メチル−ＫＡ−
４６０６Ｖｌ　７６０　Ｑが得られる。Elemental analysis value: c, Q H46H40I + CH
N Calculated value ((6) 62.72 6.21 7.50
Actual value ((6) 62.4B 6.10 7.2
8 Specific optical rotation: [α) 23 + 33° (CI, CHCl3)
1760 (cyclic carbamate) PMR value: δCDCCDCl5 pp 7 (5H, a, J=6 I(z, c-CHS)2
．． 87 (!iH, s%N-CH5) Reference Example 2 1.2't6' -) IJsuN-benzylox7carbonyl-3'-0:4-N-carbonyl-5-de〇-methyl-KA-66σ6 (2) Production of a) Compound represented by the following formula (5-day-0-methyl-KA-66
06VT) 500 FQ was used in the same manner as in Reference Example 1(a), resulting in a colorless solid of tetrakis-N-benzylox7carponyl-5-deO-methyl-KA-
4606Vl 760Q is obtained.

元素分析値：　Ｃ４６Ｈ５４Ｎ４０１２としてＣＨＮ 計算値（匈　６４．６２　　６．３７　　６．５５実測
値（匈　６４．９０　　６．１８　　６．４８比旋光度
：〔α）２２　＋　５１°（ｃｌ　、　ＣＨＣｌ、　）
ＰＭＲ値：δＣＤ０１３　ｐｐｍ ［１６（３Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６　Ｈｚ、　ｃ−ＣＨ３）
２．８９　（５Ｈ，Ｓ、　Ｎ−ＣＨ，、、）　　　７．
５〜７．４　（２０Ｈ，ｍ、　４ＸＣ，Ｈ５）ｂ）上記
Ｎ−保護化合物５４０〜を用い、参考例ｉ　ｂ）と同様
に操作する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ク
ロロホルム−メタノール２０：１）で分離精製すると、
無色固体の１，２′、６′−トリス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−３−ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
０−メチル−ＫＡ−６６０６Ｖｌ　３８４〜が得られる
。Elemental analysis value: CHN calculated value as C46H54N4012 (匈 64.62 6.37 6.55 Actual value (匈 64.90 6.18 6.48 Specific optical rotation: [α) 22 + 51° (cl, CHCl, )
PMR value: δCD013 ppm [16 (3H, d, J = 6 Hz, c-CH3)
2.89 (5H, S, N-CH,,,) 7.
5-7.4 (20H, m, 4XC, H5) b) Using the above N-protected compound 540-, operate in the same manner as in Reference Example ib). When separated and purified by silica gel column chromatography (chloroform-methanol 20:1),
A colorless solid of 1,2',6'-tris-N-benzyloxycarbonyl-3-o:4-N-carbonyl-5-de-0-methyl-KA-6606Vl 384~ is obtained.

元素分析値：　Ｃ３１１Ｈ４１１Ｎ４０’１１としてｃ
　　　　　　　ＨＮ 計算値（％）　　６２．７２　　６．２１　　７．５０
実測値（（６）　６２．７Ｇ　　　５．９０　　７．３
４比旋光度：〔α）２４　＋　４　Ｂｏ（ｃｌ、ＣＨＣ
Ｌ３）ＣＨＣｌ、　　　−１ ＩＲ値二′ｍａｘ′ｒｎ １７６０ＣＨＩ状カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣ１・ｐｐｍ １．１５　（３Ｈ，ａ、Ｊ＝６Ｈｚ、Ｃ−ＣＨ３）２．
８７　（，３Ｈ％Ｓ、Ｎ−ＣＨ，）参考例３ １．２’、６’　−）　’）ターＮ−ベンジルオキシカ
ルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー０メ
チル−ＫＡ−７０３８１の製造 で表わされる化合物（５−デー０メチル−ＫＡ−７０３
８１）、５３０　ｍ９を用い、参考例１ａ）と同様に操
作すると、無色固体のテトラキス−Ｎ−ベンジルオキ７
カルボニルー５−デーＯ−メチ、ｎ、　−ＫＡ−７０３
８１８２０ｍ９が得られる。Elemental analysis value: C311H411N40'11c
HN Calculated value (%) 62.72 6.21 7.50
Actual value ((6) 62.7G 5.90 7.3
4 Specific optical rotation: [α) 24 + 4 Bo (cl, CHC
L3) CHCl, -1 IR value 2'max'rn 1760 CHI-like carbamate) PMR value: δCDC1·ppm 1.15 (3H, a, J=6Hz, C-CH3)2.
87 (,3H%S,N-CH,)Reference Example 3 1.2',6'-)')ter-N-benzyloxycarbonyl-5-0:4-N-carbonyl-5-de0methyl-KA -70381 (5-day methyl-KA-703
81), 530 m9 and operated in the same manner as in Reference Example 1a), a colorless solid of tetrakis-N-benzyloxy7
Carbonyl-5-deO-methy, n, -KA-703
81820m9 is obtained.

元素分析値：　Ｃ４ａ　Ｈ５４Ｎ４０１２としてＣＨＮ 計算値（匈　６４．６２　　６．３７　　６．５５実測
値（％）　　６４．５９　　６．２１　　６．３８比旋
光度：〔α）　２２　＋６２°（ｃｌ、ＣＨＣｌ３）Ｐ
ＭＦＩ値：δＣＤＣｌ、　ｌ’）Ｉ）ｍ２．８９　（３
Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ５）２．９２　（３Ｈ，ｓ、　Ｎ−
ＣＨ８）ｂ）前記のＮ−保護化合物７９５１ｎ９を用い
、参考例１　ｂ）と同様に操作すると、無色固体の１．
２’、６’−）　ＩＪスーＮ−ベンジルオキシカルボニ
ル−６−ｐ：４−Ｎ−カルボニル−５−デーＯ−メチ＃
　−ＫＡ＝７０３８１５０３Ｉｎ？が得られる。Elemental analysis value: CHN calculated value as C4a H54N4012 (匈 64.62 6.37 6.55 Actual value (%) 64.59 6.21 6.38 Specific optical rotation: [α) 22 +62° (cl, CHCl3) P
MFI value: δCDCl, l') I) m2.89 (3
H, s, N-CH5)2.92 (3H, s, N-
CH8) b) Using the above N-protected compound 7951n9 and operating in the same manner as in Reference Example 1 b), a colorless solid 1.
2', 6'-) IJsu N-benzyloxycarbonyl-6-p:4-N-carbonyl-5-deO-methy#
-KA=70381503In? is obtained.

元素分析値：　Ｃ５ｏＨ＊ａＮｎＯ’＋＋としてＣＨＮ 計算値（％ｌ　　６２．７２　　６．２１　　７５０実
測値（匈６２．４５　　６．０２　　７．２８比旋光阜
：〔α）　２２　＋４６°（ｃｌ、ＣＨＣｌ、）ＣＨＣ
ｌ３　　　ｒ ＩＲ値ニジｍａｘ　ａｎ− １７６０（環状カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣｌ、ｐｐｍ ２．８１　（６Ｈ％Ｓ、　Ｎ−Ｃ馬） ２．９０　（３Ｈ，ｓ％Ｎ−ＣＨ５） 実施例１ ５−デメトキシ−５−エノー　ＫＡで６６０６Ｉｌの製
造 （ａ）　　１．２’、６’−）リス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−３−ｏ：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
〇−メチルーＫＡ−６６０６川（参考例１）６０Ｏｒｎ
＆をピリジン１０ｍ１に溶解し、トシルクロリド７５０
ｒｎ９を加えて５０℃でτ夜攪拌する。Elemental analysis value: CHN as C5oH*aNnO'++ Calculated value (%l 62.72 6.21 750 Actual value (匈62.45 6.02 7.28 Specific rotation: [α) 22 +46° (cl, CHCl ,)CHC
l3 r IR value rainbow max an- 1760 (cyclic carbamate) PMR value: δCDCl, ppm 2.81 (6H%S, N-C horse) 2.90 (3H, s%N-CH5) Example 1 5-demethoxy -5-eno KA Preparation of 6606Il (a) 1.2',6'-)lis-N-benzyloxycarbonyl-3-o:4-N-carbonyl-5-de-methyl-KA-6606Il ( Reference example 1) 60 Orn
& is dissolved in 10 ml of pyridine, and 750 ml of tosyl chloride is added.
Add rn9 and stir at 50°C overnight.

反応液にメタノールを少量加・えたのち、溶媒を留去し
、残査をクロロホルム’ｌＱｍｌに溶解スる。After adding a small amount of methanol to the reaction solution, the solvent was distilled off and the residue was dissolved in 1Qml of chloroform.

これを炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄しだのち
乾燥し、溶媒を留去してシリカゲルのカラムに付す。ク
ロロホルム−酢酸エチル（７：２）で展開し、目的物を
含む部分を常法により処理すると、無色固体のＬ２’＃
、６’−’　）　ＩＪスーＮ−ベンジルオキシカルボニ
ル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー０−メチル
−５−〇−トシルーＫＡ−６６０６１１６７０□？！ｌ
！−得られる。This is washed with an aqueous sodium bicarbonate solution and water, then dried, the solvent is distilled off, and it is applied to a silica gel column. After developing with chloroform-ethyl acetate (7:2) and treating the part containing the target product in a conventional manner, a colorless solid L2'# was obtained.
, 6'-') IJ-N-benzyloxycarbonyl-5-0:4-N-carbonyl-5-de-0-methyl-5-〇-tosy-KA-660611670□? ! l
! - Obtained.

比旋光度：〔α耀＋６７°（Ｃ１、ＣＨＣｌ、　）１７
７０（カルバメート） １１８０　（−ｏｓｏ、−） ＰＭＲ値ニーδＣＤＣ１１ｐｐ” １．０８　（６Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ、　６’
−Ｃ−ＣＨ３）２−６９’　（５Ｈ，ｓ　４　Ｎ　　Ｃ
Ｈａ　）・元素分析値：　Ｃ＋ａＨｓｇＮ＊０ｔｓＳと
してＣＨＮＢ 計算値（％）　　６１，５２　５．８２　６．２２　３
．５６実測値（％）　　６１．０５　５．５０　６．１
１　３．２８（ｂｌ　　（ａｌで得られるトシル体６７
０■を１０％テトラブチルアンモニウムフロリド−アセ
トニトリル溶液８．、４　ｍｌに溶解し、８０℃で８時
間加熱する。反応液にクロロホルム４０　ｍｌを加え、
水洗及び乾燥したのち、溶媒を留去する。残査をシリカ
ゲルのカラムに付し、クロロホルム−酢酸エチル（５：
２）で展開する。目的物を含む部分を常法により処理す
ると、無色固体の１．２’。Specific optical rotation: [α +67° (C1, CHCl, )17
70 (carbamate) 1180 (-oso, -) PMR value knee δCDC11pp" 1.08 (6H, d, J = 6.5 Hz, 6'
-C-CH3)2-69' (5H,s 4 N C
Ha) Elemental analysis value: CHNB as C+aHsgN*0tsS Calculated value (%) 61,52 5.82 6.22 3
．． 56 Actual value (%) 61.05 5.50 6.1
1 3.28(bl (tosyl body obtained from al67
0■ to 10% tetrabutylammonium fluoride-acetonitrile solution 8. , dissolved in 4 ml and heated at 80°C for 8 hours. Add 40 ml of chloroform to the reaction solution,
After washing with water and drying, the solvent is distilled off. The residue was applied to a silica gel column and chloroform-ethyl acetate (5:
Expand in 2). When the part containing the target compound was treated in a conventional manner, 1.2' was obtained as a colorless solid.

６’−）　ＩＪ　ｘ　−Ｎ　−ヘンシルオキシカルボニ
ル−３−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デメトキシ−５
−エノーＫＡ−６６０６１３２４■が得られる。6'-) IJ x -N-hensyloxycarbonyl-3-0:4-N-carbonyl-5-demethoxy-5
-Enow KA-66061324■ is obtained.

比旋光度：〔α）Ａ４−６４°（ｃｌ、ＣＨＣｌ４　）
ＩＲ値ニジＣＨＣ１ａ　　１ ａｉ０− １７６０（カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤＣＩＩ　ｐｐｍ １．１０　（ＡＨ，ｄ％Ｊ　＝６．５Ｈｚ、　Ｃ−ｃＨ
，）２．８２　（３Ｈ，１ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）５．９１
（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：　ａ、ｅ　Ｈ４４Ｎ４０１ｏとしてＣ’　
　　　　　　ＨＮ 計算値（％）　　６４．２７　６．０９　７．６９実測
値（％）　　６４．５５　６．５３　７．４１（Ｃ）　
　（ｂ）で得られるＮ、Ｏ−保護化合物１１′７■を酢
酸１　ｍｌに溶解し、２５％臭化水素−酢酸溶液２ｍｌ
を加えて室温で２時間放置する。反応液にｎ−ヘキサン
５０　ｍｌを加え、生じた沈殿をＰ取し、これを０．５
規定の水酸化バリ゛ウム水溶液６１ｎｌに溶解し、８０
℃で１時間加熱する。反応液を硫酸で中和し、・水１０
０ｍ１で希釈して、生じる沈殿をｒ去する。Ｐ液をＣＭ
−セファデックスＣ−２５（ＮＨ々型）のカラムに付し
、０．１規定定及び０．５規定のアンモニア水の間で濃
度勾配法により展開する。目的物を含む部分を凍結乾燥
すると、無色粉末の次式で示される５−デメトキシ−５
−二ノーＫＡ−６６０６１１１４１ｎｙが得られる。Specific optical rotation: [α) A4-64° (cl, CHCl4)
IR value Niji CHC1a 1 ai0- 1760 (carbamate) PMR value: δCDCII ppm 1.10 (AH, d%J = 6.5Hz, C-cH
, ) 2.82 (3H, 1s, N-CH3) 5.91
(2H, s, olefin H) Elemental analysis values: a, e C' as H44N401o
HN Calculated value (%) 64.27 6.09 7.69 Actual value (%) 64.55 6.53 7.41 (C)
Dissolve the N,O-protected compound 11'7■ obtained in (b) in 1 ml of acetic acid, and add 2 ml of 25% hydrogen bromide-acetic acid solution.
Add and leave at room temperature for 2 hours. Add 50 ml of n-hexane to the reaction solution, collect the resulting precipitate, and add 0.5
Dissolved in 61 nl of specified barium hydroxide aqueous solution,
Heat at ℃ for 1 hour. Neutralize the reaction solution with sulfuric acid, add 10% water
Dilute with 0 ml and remove the resulting precipitate. CM P liquid
- Apply to a column of Sephadex C-25 (NH type) and develop by concentration gradient method between 0.1N and 0.5N aqueous ammonia. When the part containing the target substance is freeze-dried, a colorless powder of 5-demethoxy-5 shown by the following formula is produced.
-Nino KA-660611141ny is obtained.

ＣＨ。CH.

比旋光度：〔α）言−１４°（ｃｏ、ｓ、Ｈ，Ｏ）”　
　　ＰＭＲ値：δＤ２０１）Ｉ）ｍ　（ＴＭＳ外部標準
）１．５５（５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ、Ｃ−ＣＨ５
）２．８８　（５Ｈ％ｓ、　Ｎ−ＣＨ，）５．５２　（
Ｉ　Ｈ，’　ｄ、　Ｊ　＝４．０　Ｈｚ、’　Ｈ−１’
）６．２４（２Ｈ，ｓ、オレフイ７Ｈ） 元素分析値：　ＣＩ４　Ｈ２８Ｎ４０ｓ・Ｈ２０として
ＣＩＮ 計算値（％）５２．８１　９．５０　１７．６０実測値
（％）　　５２．４８　９．１５　１７．３６実施例２ ５−デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６１の製造 （ａ）　　実施例１で得られた５−デメトキシ−５−エ
ノーＫＡ　−−６６０６ｎ　６０■をメタノール２ｍｌ
に溶解し、酢酸ニッケル（四水塩）１５０■を加え６０
分攪拌したのち、ベンジルオキシカルボニルオキシスク
シンイミド１６０■を加え、３時間室温で攪拌する。次
いで濃アンモニア水１　ｍｌを加え、３０分攪−拌して
溶媒を留去２する。Specific optical rotation: [α) -14° (co, s, H, O)"
PMR value: δD201)I)m (TMS external standard) 1.55 (5H, d, J=6.5Hz, C-CH5
)2.88 (5H%s, N-CH,)5.52 (
I H, ' d, J = 4.0 Hz, 'H-1'
) 6.24 (2H, s, olefin 7H) Elemental analysis value: CI4 CIN as H28N40s/H20 Calculated value (%) 52.81 9.50 17.60 Actual value (%) 52.48 9.15 17.36 Example 2 Production of 5-demethoxy-5-eno KA-66061 (a) 60 ml of 5-demethoxy-5-eno KA--6606n obtained in Example 1 was added to 2 ml of methanol.
Dissolved in nickel acetate (tetrahydrate) and add 150μ of nickel acetate (tetrahydrate)
After stirring for several minutes, 160 μm of benzyloxycarbonyloxysuccinimide was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Next, 1 ml of concentrated aqueous ammonia was added, stirred for 30 minutes, and the solvent was distilled off.

残査をクロロホルム２ｏｍｌに溶解し、３規定のアンモ
ニア水及び水で洗浄したのち乾燥して溶媒を留去する。The residue was dissolved in 2 oml of chloroform, washed with 3N aqueous ammonia and water, dried, and the solvent was distilled off.

残査をジオキサン４　ｍｌに溶解し、′Ｎ−ベンジルオ
キ７カルボニルグリシンのＮ−ヒドロキシスクシンイミ
ドエステル１５０■及びトリエチルアミン０．２　ｒｎ
ｌを加え、６０℃で一夜加熱する。The residue was dissolved in 4 ml of dioxane, and 150 μl of N-hydroxysuccinimide ester of N-benzylox7carbonylglycine and 0.2 rn of triethylamine were dissolved in 4 ml of dioxane.
1 and heated at 60°C overnight.

反応終了後、溶媒を留去し、残置をシリカゲルのカラム
に付してクロロホルム−酢酸エチル（５：２）で展開す
る。目的物を含む部分を常法により処理すると、無色固
体のテトラキス−ＮＴベンジルオキシカルボニル−５−
デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６１８１１ｎ９が
得られる。After the reaction is complete, the solvent is distilled off, and the residue is applied to a silica gel column and developed with chloroform-ethyl acetate (5:2). When the part containing the target compound is treated by a conventional method, a colorless solid of tetrakis-NT benzyloxycarbonyl-5-
Demethoxy-5-eno KA-66061811n9 is obtained.

比旋光度：〔α〕甘せ２１°（ｃｌ、ＣＨＣｌ、　）１
６５０　（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＣＤＣＩＩ　　ｐｐｍ １．０７　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ、　Ｃ−
ＣＨ５）２．８９　（Ｓ　Ｈｌｓ、　Ｎ−ＣＨＬ）元素
分析値：　１０４８Ｈ５１１Ｎ１１０１２としてＣＨＮ 計算値（％）　　６４．４９　６．２０　７．８５実測
値（％）　　６４．２２　　６．０１　７．５６（ｂ）
　　（ａ）で得られたＮ−保護化合物８１〜を用い、実
施例１（Ｃ）と同様に反応処理すると、無色粉末の次式
で示される５−デメトキシ−５−エノ〜ＫＡ−６６０６
１１０Ｔｎ９が得られる。Specific optical rotation: [α] Amase 21° (cl, CHCl, )1
650 (amide I) PMR value: δCDCII ppm 1.07 (3H, d, J = 6.5 Hz, C-
CH5) 2.89 (S Hls, N-CHL) Elemental analysis value: CHN as 1048H511N11012 Calculated value (%) 64.49 6.20 7.85 Actual value (%) 64.22 6.01 7.56 (b )
Using the N-protected compound 81~ obtained in (a), reaction treatment was performed in the same manner as in Example 1(C), resulting in a colorless powder of 5-demethoxy-5-eno~KA-6606 represented by the following formula.
110Tn9 is obtained.

ＣＨ。CH.

１．５６　（６Ｈ１ａ、　Ｊ　＝６．５　Ｈｚ、　Ｃ−
ＣＨ，）３．５２　（３Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）５．５
８　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝３．４　Ｈｚ、　Ｈ−ｉり
元素分析値：　Ｃ＋ａＨｊｔＮａ０４”Ｈｚ０としてＣ
Ｈ・　　Ｎ 計算値（％）　　５１．１８　８．８６　１８．６５実
測値（％）　　５０．９１　　８．５３　１８．５６実
施例６ ５−デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６Ｖｌの製造
（ａ）　　１．２’、６’　　）リス−Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デ
ー〇−メチル−ＫＡ−６６ａ６Ｖｉ（参考例２）１００
〜をビリジｊ７２　ｍｌに溶解し、トシルクロリド２５
６ダを加え６７℃で４０時間加温する。1.56 (6H1a, J = 6.5 Hz, C-
CH,)3.52 (3H,s, N-CH3)5.5
8 (I H, d, J = 3.4 Hz, H-i elemental analysis value: C+aHjtNa04"C as Hz0
H/N Calculated value (%) 51.18 8.86 18.65 Actual value (%) 50.91 8.53 18.56 Example 6 Production of 5-demethoxy-5-eno KA-6606Vl (a) 1 .2', 6') Lis-N-benzyloxycarbonyl-5-0:4-N-carbonyl-5-de〇-methyl-KA-66a6Vi (Reference Example 2) 100
~ was dissolved in 72 ml of viridij, and 25 ml of tosyl chloride was added.
Add 6 dabs and heat at 67°C for 40 hours.

反応液に少量の水を加えたのち溶媒を留去し、残置を実
施例１（ａ）と同様に処理すると、無色固体の１．２’
、６’　−）リス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３
−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー〇−メチル−５−
０−）シル−ＫＡ−６６０６ＶＩ８０■が得られる。After adding a small amount of water to the reaction solution, the solvent was distilled off and the residue was treated in the same manner as in Example 1(a), resulting in a colorless solid of 1.2'
, 6'-)lis-N-benzyloxycarbonyl-3
-0:4-N-carbonyl-5-de〇-methyl-5-
0-) Sil-KA-6606VI80■ is obtained.

比旋光度：〔α）習＋、１５°（Ｃ２、ＣＨＣｌ５）１
７７０　（カルバメート） １１７５　（−０ＳＯ，−） ＰＭＲ値：δＣＤＣ１４ｐｐｍ １０３（５Ｈ，ａ、　Ｊ＝６Ｈ２，ｃ−ｃ５Ｊ−２，７
０（６Ｈ，ｓ、Ｎ−ＣＨ，） 元素分析値：　Ｃ４６Ｈ５１１Ｎ４０＋３８としてＣＨ
ＮＳ 計算値（％）　　６１．５２　５．８２　６．２２　５
．５６実測値（％）　　６０．９Ｂ　　５．９１　６．
０３５．５２（ｂ）　　（ａ）で得られ“るトシル体６
０ｍｇを７％テトラブチルアンモニウムフロリド−ベン
ゼン溶液１゜５　ｍｌに溶解し、４５℃で５時間加温す
る。次いで反応液を実施例１四と同様に処理すると、無
色固体の１ｍ２’ｍ６’　−）　’）クーＮ−ベンジル
オキシカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−
デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６ＶＩ２８即が得
られる。Specific optical rotation: [α) +, 15° (C2, CHCl5) 1
770 (Carbamate) 1175 (-0SO,-) PMR value: δCDC14ppm 103 (5H, a, J=6H2, c-c5J-2,7
0(6H,s,N-CH,) Elemental analysis value: CH as C46H511N40+38
NS Calculated value (%) 61.52 5.82 6.22 5
．． 56 Actual value (%) 60.9B 5.91 6.
035.52(b) Tosyl body 6 obtained in (a)
0 mg was dissolved in 1.5 ml of 7% tetrabutylammonium fluoride-benzene solution and heated at 45°C for 5 hours. The reaction solution was then treated in the same manner as in Example 14, resulting in a colorless solid of 1m2'm6'-)')CuN-benzyloxycarbonyl-5-0:4-N-carbonyl-5-
Demethoxy-5-eno KA-6606VI28 is obtained.

比旋光度：〔α〕２３＋２５°（ｃｌ、ＣＭＣＩ、　）
１７６５（カルバメート） ＰＭＲ値：δ−ＣＤＣ１ｘ　ｐｌ）ｍ ｌ、０８　（Ｓ　Ｈ，ｄ、　Ｊ−！６Ｈｚ、　Ｃ−ＣＨ
３）２．８３　（ｊＨ，ｓ、Ｎ−ＣＨ３） ５．８９（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：　Ｃ３ｇ　Ｈ４４Ｎ４０１ｇとしてＣ、Ｈ
Ｎ 計算値（％）　　６４．２７　６．０９　７．６９実測
値（％）　　６４．３１　６．２５　７．５８（Ｃ）（
ｂ）で得られるＮ、Ｏ−保護化合物１８９■を用い、実
施例１（Ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の次
式の５−デメトキシ−５−エノーＫＡ−６６０６ＶＴ　
５１■が得られる。Specific optical rotation: [α] 23 + 25° (cl, CMCI, )
1765 (carbamate) PMR value: δ-CDC1x pl) ml, 08 (S H, d, J-!6Hz, C-CH
3) 2.83 (jH, s, N-CH3) 5.89 (2H, s, olefin H) Elemental analysis value: C3g C, H as 401g of H44N
N Calculated value (%) 64.27 6.09 7.69 Actual value (%) 64.31 6.25 7.58 (C)
By using the N,O-protected compound 189■ obtained in b) and reacting and treating in the same manner as in Example 1(C), a colorless powder of 5-demethoxy-5-eno KA-6606VT of the following formula was obtained.
51■ is obtained.

ＰＭＲ値：δＤ２０　　ｐｐｍ １．５４　（３Ｈ，ａ、　Ｊ　＝６．５　Ｈ２，ｃ−ｃ
４　）２．８６（５Ｈ％ｓ、　Ｎ−ＣＨ，） ５．５４　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝＝３．５Ｈｚ、　Ｈ−
１’）６．２２（２Ｈ，８，オレフィンＨ） 元素分析値：　”＋４　Ｈｕ　Ｎ４ＯＡ　’　Ｈ２０と
してＣＨ 計算値（％）　　５２．８１　９．５０　１７．６０実
測値（％）　　５２．５５　９．５４　１７．２２実施
例４ ５−デメトキシ−５−エフ−４−Ｎ−グリシル−ＫＡ−
６６０６Ｖ１の製造 （ａ）　　実施例３で得られる５−デメトキシ−５−！
／−ＫＡ−６６０６ＶＩ　４５１ｖを用い、実施例２（
ａ）と同様に反応、処理すると、無色固体の１．２’、
６’−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−４−捷
−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシル）−５−デ
メトキシ−５−エノーＫＡ−６６’０６■７３即が得ら
れる。PMR value: δD20 ppm 1.54 (3H, a, J = 6.5 H2, c-c
4) 2.86 (5H%s, N-CH,) 5.54 (I H, d, J==3.5Hz, H-
1') 6.22 (2H, 8, Olefin H) Elemental analysis value: ``+4 Hu N4OA ' CH as H20 Calculated value (%) 52.81 9.50 17.60 Actual value (%) 52.55 9. 54 17.22 Example 4 5-demethoxy-5-F-4-N-glycyl-KA-
Production of 6606V1 (a) 5-demethoxy-5-! obtained in Example 3.
Example 2 (using /-KA-6606VI 451v)
When reacted and treated in the same manner as in a), colorless solid 1.2',
6'-Tris-N-benzyloxycarbonyl-4-(N-benzyloxycarbonylglycyl)-5-demethoxy-5-eno KA-66'0673 is obtained.

比旋光度：〔α）、；”＋５５°（ｃｌ、ＣＨＣ’ｌ、
　）ＩＲ値：　ｖ　ＣＨＣ”　ｃｍ−” ａｘ １６４０　（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＣＤＣ’ｌ、　ｐｐｍ １．０６　（５ｆ（、ｄ、　Ｊ＝６１（Ｚ、　Ｃ−ＣＨ
，）２．９５　（５Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ，）元素分析値
：０４８Ｈ閣Ｎ５０１２としてＣ，Ｈ’Ｎ 計算値（％）６４．４９　６゜２０　７．８３実測値（
％）　　６４．５３　５．９２　７．４４（ｂ）　　（
ａ）で得られるＮ−保護化合物６６■を用い、実施例１
（ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の次式の５
−デメトキシ−１５−エノー４−Ｎ−グリシル−ＫＡ−
６６０６■１５■が得られる。Specific optical rotation: [α), ;”+55° (cl, CHC'l,
) IR value: v CHC"cm-" ax 1640 (amide I) PMR value: δCDC'l, ppm 1.06 (5f(, d, J=61(Z, C-CH
,) 2.95 (5H, s, N-CH,) Elemental analysis value: C, H'N calculated value (%) as 048H N5012 64.49 6°20 7.83 Actual measurement value (
%) 64.53 5.92 7.44(b) (
Using the N-protected compound 66■ obtained in a), Example 1
When reacted and treated in the same manner as in (c), a colorless powder of the following formula 5 is obtained.
-demethoxy-15-eno-4-N-glycyl-KA-
6606■15■ is obtained.

ＰＭＲ値：δＤ２０　ｐｐｍ １．５　’６　（５Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５　ＨｚｌＣ−
ＣＨｓ　）３．４９　（５Ｈ％Ｓ、　Ｎ−ＣＨ，）５．
４５　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝３．５　Ｈｚ、　Ｈ−１
’）元素分析値＠　Ｃ１６Ｈａ１Ｎ５０４　”　Ｈ２Ｃ
Ｏ１＠Ｈ２０としてＣＨＮ 計算値（％）　　４６．６７　　Ｂ、０６　１６．０１
実測値（％）　　４６．８１　　８．Ｎ　　１５．６Ｂ
実施例５　゛ ５−デメトキシ−５−ｘ　／　−Ｋ　Ａ　−７０５８１
（Ｄ製造 （ａ）　　１．２’、６’−）リス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−３−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
０−１ｆｋ−ＫＡ−７０５８１（参考例３）１００■を
用い曳、実施例６（ａ）と同様に反応、処理すると、無
色固体の１．２’、６’　−トリス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デー
０−メチル−５−ｏ−トシル−ＫＡ−７０３８１９２１
１１＆が得られる。PMR value: δD20 ppm 1.5'6 (5H, d, J=6.5 HzlC-
CHs)3.49 (5H%S, N-CH,)5.
45 (I H, d, J = 3.5 Hz, H-1
') Elemental analysis value @ C16Ha1N504 ” H2C
CHN calculated value (%) as O1@H20 46.67 B, 06 16.01
Actual value (%) 46.81 8. N 15.6B
Example 5 5-demethoxy-5-x/-KA-70581
(Production D (a) 1.2',6'-)Lis-N-benzyloxycarbonyl-3-0:4-N-carbonyl-5-de0-1fk-KA-70581 (Reference Example 3) 100■ When reacted and treated in the same manner as in Example 6(a), a colorless solid of 1.2',6'-tris-N-benzyloxycarbonyl-5-0:4-N-carbonyl-5-de 0-Methyl-5-o-tosyl-KA-70381921
11& is obtained.

比旋光度：〔α片＋２８°　（’Ｃ１、ＣＨＣ’１１）
ＣＨＣＩ、　　　　　−亀 ＩＲ値ニジｍａｘ　　傭 １７６５（カルバメート）゛ １１７５　（−０ＳＯ，−）　　　　　　　’ＰＭＲ値
：δＣＤ０１４　　ｐｐｍ ２．４６（５Ｈ，ｓ　、　ｕＣＨｓ　）２．８８．２．
７２（各３Ｈ１ｓ％Ｎ−ＣＨ５）元素分析値：　Ｃ４６
）１５２Ｎ４ｏ１ｆｉｓとしてＣＨＮ　　　　Ｓ 計算値（％）　　６１．Ｈ１２５，８２６，２２５，５
６実測値（％）　　６１．２８　５．６２　５．９６　
３．２２（ｂｌ　　（ａｔで得られるトシル体８０■を
用（・、実施例６（ｂ）と同様に反応、処理すると、無
色固体のＬ２’＃６’　−）　ＩＪスーＮ−ベンジルオ
キシカルボニル−５−０：４−Ｎ−カルボニル−５−デ
メトキシ−５−工／−ＫＡ−７０３８１３３ｍ９カー得
られる。Specific optical rotation: [α piece + 28° ('C1, CHC'11)
CHCI, - IR value max 1765 (carbamate) 1175 (-0SO, -) 'PMR value: δCD014 ppm 2.46 (5H, s, uCHs) 2.88.2.
72 (each 3H1s%N-CH5) Elemental analysis value: C46
)152N4o1fis CHN S Calculated value (%) 61. H125,826,225,5
6 Actual value (%) 61.28 5.62 5.96
3.22(bl (using the tosyl form 80■ obtained with at(.), when reacted and treated in the same manner as in Example 6(b), a colorless solid L2'#6' -) IJ-N-benzyloxycarbonyl -5-0: 4-N-carbonyl-5-demethoxy-5-engine/-KA-7038133m9 car is obtained.

比旋光度：〔６片＋６１°（ｃ　ｉ、　ｃｕｃｉ、　）
１７６５（カルバメート） ＰＭＲ値：δＣＤ０１３　ｐｐｍ ２．９１．２．８３（各６Ｈ，ｓ％Ｎ−ＣＨ，）５．９
０（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：Ｃ３゜Ｈ４４Ｎ、Ｏ，。としてＨＮ 計算値（％）　　６４．２７　６．０９　７．６９実測
値（％）　　６４．２１　５．９５　７．５６（Ｃ）　
　（ｂ）で得られるＮ、Ｏ−保護化合物６２■を用い、
実施例３（ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の
次式の５−デメトキシ−５−エン−ＫＡ−７０３８１９
〜が得られる。Specific optical rotation: [6 pieces + 61° (ci, cuci, )
1765 (carbamate) PMR value: δCD013 ppm 2.91.2.83 (each 6H, s%N-CH,) 5.9
0 (2H, s, olefin H) Elemental analysis value: C3°H44N, O,. As HN Calculated value (%) 64.27 6.09 7.69 Actual value (%) 64.21 5.95 7.56 (C)
Using the N, O-protected compound 62■ obtained in (b),
When reacted and treated in the same manner as in Example 3(c), a colorless powder of 5-demethoxy-5-ene-KA-703819 of the following formula was obtained.
~ is obtained.

ＰＭＲ値：δＤ２０　ｐｐｍ ２．８７．２．９０（各３Ｈ，ｓ％Ｎ−ＣＨ８）５．５
５　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝５．５Ｈｚ、　Ｈ−１’）
６．２５（２Ｈ，ｓ、オレフィンＨ） 元素分析値：　Ｃ１４Ｈ，Ｎ４０３・Ｈ２０としてＣＨ
Ｎ 計算値（％）　　５２．８１　９．５０　１７．６０実
測値（％）　　５３．１２　９．５８　１７．３８実施
例６ ５−デメトキシ−５−エン−ＫＡ−７０５８１の製造 ｆａ）　　実施例５で得られる５−デメトキシ−５−ｘ
　／　−ＫＡ　−７０５８＠　１８１１１４／を用い、
実施例２（ａ）と同様に反応、処理すると、無色固体の
テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−５−デメ
）　＋シー５−工／−ＫＡ−７０３８１３２１ｖが得ら
れる。PMR value: δD20 ppm 2.87.2.90 (each 3H, s%N-CH8) 5.5
5 (I H, d, J = 5.5Hz, H-1')
6.25 (2H, s, olefin H) Elemental analysis value: CH as C14H, N403/H20
N Calculated value (%) 52.81 9.50 17.60 Actual value (%) 53.12 9.58 17.38 Example 6 Production of 5-demethoxy-5-ene-KA-70581 fa) Example 5 5-demethoxy-5-x obtained with
/ -KA-7058@181114/ using
When the reaction and treatment are carried out in the same manner as in Example 2(a), a colorless solid tetrakis-N-benzyloxycarbonyl-5-deme)+C5-E/-KA-70381321v is obtained.

比旋光度：〔α）２２＋５９°（ｃｌ、ｃＨｃｌｓ　）
１６３５（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＣＤＣｌ３　ｐｐｍ ２．９１　（６Ｈ，ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）元素分析値：　
Ｃ４８Ｈ５５Ｎ＋１　ｏｎとして実測値（％）　　６４
．２Ｂ　　５．９９　７．５５（ｂｌ　　（ａｌで得ら
れ１Ｎ−保護化合物２９ダを用い。Specific optical rotation: [α) 22 + 59° (cl, cHcls)
1635 (Amide I) PMR value: δCDCl3 ppm 2.91 (6H,s, N-CH3) Elemental analysis value:
Actual value (%) as C48H55N+1 on 64
．． 2B 5.99 7.55 (bl (using the 1N-protected compound 29 da obtained in al).

実施例１（ｃ）と同様に反応、処理すると、無色粉末の
次式の５−デメトキシ−５−エン−”　ＫＡ　−７０３
８１７即が得ら）る。When reacted and treated in the same manner as in Example 1(c), a colorless powder of 5-demethoxy-5-ene-''KA-703 of the following formula was obtained.
817 instant is obtained).

Ｈ２ １６３５（アミドＩ） ＰＭＲ値：δＤ＋１０　ｐｐｍ ３．５０．２．９０（各６Ｈ１ｓ、　Ｎ−ＣＨ３）５．
５１　（Ｉ　Ｈ，ｄｌ、Ｔ　＝３．５　Ｈｚ、Ｈ−１’
）元素分析値：　ｃ１６Ｈ３１Ｎｌｌｏ４　”　Ｈ２Ｏ
としてＣ−ＨＮH2 1635 (amide I) PMR value: δD+10 ppm 3.50.2.90 (6H1s each, N-CH3)5.
51 (I H, dl, T = 3.5 Hz, H-1'
) Elemental analysis value: c16H31Nllo4 ”H2O
as C-HN

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、一般式 （式中Ｒ，及びＲ２の一方は水素原子、他方はメチル基
、Ｒ３は水素原子又はアミノアシル基を示し、アミノ基
及び／又は水酸基は保護されていてもよい）で表わされ
る化合物又はその酸付加塩。 ２、一般式 （式中ＲＩＸ及びＲ２の一方は水素原子、他方はメチル
基、へは水素原子又はアミノアシル基を示す）で表わさ
れる化合物又はそのアミン基及び３位の水酸基が保護さ
れた化合物の５位の水酸基を電子吸引性の基で置換した
のち、酸性、塩基とすることを特徴とする、一般式 （式中Ｒ，及びＲ２は前記の意味を有し、Ｒ８は水素原
子又はアミノアシル−基を示し、アミノ基及び／又は水
酸基は保護されていてもよい）で表わされる化合物又は
その酸付加塩の製法。[Claims] 1. General formula (in the formula, one of R and R2 is a hydrogen atom, the other is a methyl group, R3 is a hydrogen atom or an aminoacyl group, and the amino group and/or hydroxyl group may be protected) (good) or its acid addition salt. 2. Compounds represented by the general formula (in the formula, one of RIX and R2 is a hydrogen atom, the other is a methyl group, and R2 is a hydrogen atom or an aminoacyl group) or a compound whose amine group and hydroxyl group at the 3-position are protected. A general formula (wherein R and R2 have the above-mentioned meanings, R8 is a hydrogen atom or aminoacyl- (the amino group and/or hydroxyl group may be protected) or an acid addition salt thereof.