JPS5883328A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS5883328A JPS5883328A JP56181480A JP18148081A JPS5883328A JP S5883328 A JPS5883328 A JP S5883328A JP 56181480 A JP56181480 A JP 56181480A JP 18148081 A JP18148081 A JP 18148081A JP S5883328 A JPS5883328 A JP S5883328A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、強磁性金属薄膜を磁気記録層として備えてな
る磁気記録媒体に関するもので、密着が良好でかつ、耐
久性に優れた磁気記録媒体に関するものでおる。
る磁気記録媒体に関するもので、密着が良好でかつ、耐
久性に優れた磁気記録媒体に関するものでおる。
従来より、磁気記録媒体としては、磁性粉末をバインダ
中に分散させたものを支持体上に塗布し乾燥させたいわ
ゆる塗布型磁気記録体が広く使われてきたつしかしこの
タイプでは原理的にバインダーを除けず、また高密度記
録化に必要な記録媒体の薄層化にも限界がある。
中に分散させたものを支持体上に塗布し乾燥させたいわ
ゆる塗布型磁気記録体が広く使われてきたつしかしこの
タイプでは原理的にバインダーを除けず、また高密度記
録化に必要な記録媒体の薄層化にも限界がある。
近年、高密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着法に
代表さ扛るペーパーデポクッション法、あるいは電気メ
ッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される強磁
性金属薄膜を磁気記録層とするバインダーを使用しない
いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目を浴びてお
り実用化へ多大の努力が傾注されている。
代表さ扛るペーパーデポクッション法、あるいは電気メ
ッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される強磁
性金属薄膜を磁気記録層とするバインダーを使用しない
いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目を浴びてお
り実用化へ多大の努力が傾注されている。
特に真空蒸着による方法はメッキの場合のような排液処
理を必要とせず、製造工程も簡単で膜の析出速度も他の
いずれの方法よりも大きいという利点を有している。
理を必要とせず、製造工程も簡単で膜の析出速度も他の
いずれの方法よりも大きいという利点を有している。
真空蒸着によって作成された強磁性薄膜を磁気記録層と
して設けてなる磁気テープを従来の塗布型の磁気テープ
と比較した時、再生出力は格段に大きくなり、再生出力
の周波数特性も一波長側へ大きく伸びている。真空蒸着
法としては良好な磁気特性を得るために酸素を真空槽に
導入しつつ蒸着を行なう方法が提案されているが、膜の
密着性、耐久性においては不充分である。
して設けてなる磁気テープを従来の塗布型の磁気テープ
と比較した時、再生出力は格段に大きくなり、再生出力
の周波数特性も一波長側へ大きく伸びている。真空蒸着
法としては良好な磁気特性を得るために酸素を真空槽に
導入しつつ蒸着を行なう方法が提案されているが、膜の
密着性、耐久性においては不充分である。
そこで本発明者等は、塗布磁気テープを陵駕する再生出
力をもち密着性にすぐれると共に耐久性の良好な蒸yI
I型磁気テープを得るため鋭意研究を重ねた結果本発明
に至ったものである。
力をもち密着性にすぐれると共に耐久性の良好な蒸yI
I型磁気テープを得るため鋭意研究を重ねた結果本発明
に至ったものである。
すなわち、本発明による磁気記録媒体とは磁気記録層と
して真空中で基体上に蒸着された強磁性金属原子を有し
、その膜中に強磁性金属原子と共に酸素原子が含まれて
おり且つその酸素原子の膜深さ方向の分布が、膜のごく
表面近傍を除き基体に近いほど多く、基体から離れるほ
ど少なくなっていることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
して真空中で基体上に蒸着された強磁性金属原子を有し
、その膜中に強磁性金属原子と共に酸素原子が含まれて
おり且つその酸素原子の膜深さ方向の分布が、膜のごく
表面近傍を除き基体に近いほど多く、基体から離れるほ
ど少なくなっていることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
酸素原子の磁性金属原子に対する比ysF′i、、基体
の近傍でlO−〜≠ops表面近傍(但し、数十Aのご
く透気は除く1でjチル20%であり、好ましくは、基
体の近傍で7!−〜2jチ、表面近傍で!−〜/j−で
ある。このような組成をもつ表面側、すなわち磁気ヘッ
ドに近い側はど大きくなっておりそれが再生出力を低下
させずに、耐久性、密着性向上の原因罠なっていると考
えられる。
の近傍でlO−〜≠ops表面近傍(但し、数十Aのご
く透気は除く1でjチル20%であり、好ましくは、基
体の近傍で7!−〜2jチ、表面近傍で!−〜/j−で
ある。このような組成をもつ表面側、すなわち磁気ヘッ
ドに近い側はど大きくなっておりそれが再生出力を低下
させずに、耐久性、密着性向上の原因罠なっていると考
えられる。
但し、表面のごく近傍(数十A)は空気との接触により
不可避的に酸素分子の吸着が起こり酸素原子に富んだ層
ができている。しかし、この層は一般に数十A程度であ
り記録再生過程にはあまり影響を及はさない。
不可避的に酸素分子の吸着が起こり酸素原子に富んだ層
ができている。しかし、この層は一般に数十A程度であ
り記録再生過程にはあまり影響を及はさない。
さらに本発明による磁気記録媒体は、金属薄膜型磁気テ
ープの欠陥と言われてきた摩耗に対する強度、走行安定
性の上でも改−良がなされ、従来の塗布型テープと比べ
遜色のないものである。
ープの欠陥と言われてきた摩耗に対する強度、走行安定
性の上でも改−良がなされ、従来の塗布型テープと比べ
遜色のないものである。
本発明に用いられる磁性金属材料としてはFe。
Co%Ni等ノ金属あるいはFe−Co、Fe−Ni、
Co−Ni1Fe−Co−Ni、Fe −Bh、pe−
Cu、Co−Cu、Co−Au。
Co−Ni1Fe−Co−Ni、Fe −Bh、pe−
Cu、Co−Cu、Co−Au。
(5o−r、 Go−La、 Co−Pr、 Co−G
d。
d。
Co−8’m%Co−Pt、Ni−Cu、、Mn−13
i%Mn −8b、 Mn−AJ7. F e二cr1
Co−Cr、Ni−0r、Fe−Co−Cr。
i%Mn −8b、 Mn−AJ7. F e二cr1
Co−Cr、Ni−0r、Fe−Co−Cr。
Ni−Co−Cr、pe−Co−Ni−cr等の合金で
ある。特に好ましいのはCoを10重量−以上、あるい
はCOを60重量−以上およびNiを2重量−以上含有
するような合金である。
ある。特に好ましいのはCoを10重量−以上、あるい
はCOを60重量−以上およびNiを2重量−以上含有
するような合金である。
本発明における磁性薄膜は単層で設けてもよいし、2層
以上を積層して設けて奄よいし、基体と磁性薄膜の間、
磁性薄膜間に非磁性層をI在させてもよい。
以上を積層して設けて奄よいし、基体と磁性薄膜の間、
磁性薄膜間に非磁性層をI在させてもよい。
磁性膜中の膜厚方向のH素分布は連続的に変化しても良
いし、ステップ状に変化しても良い。従って積層とする
場合基板に近い第7層の酸素含有量を多く、基板より離
れて第2層、第3層となるに従って酸素含有量を少なく
しても良い。
いし、ステップ状に変化しても良い。従って積層とする
場合基板に近い第7層の酸素含有量を多く、基板より離
れて第2層、第3層となるに従って酸素含有量を少なく
しても良い。
第7図〜・第3図は本発明による磁気記録媒体の数例を
図式的に示している。第1図は単層の例で非磁性支持体
l上に磁性−膜コが形成されている。
図式的に示している。第1図は単層の例で非磁性支持体
l上に磁性−膜コが形成されている。
磁性薄膜λ内の酸素の分布は支持体l近傍では多く支持
体lから遠ざかるに従って連続的に減少している。第2
図及び第3図は積層の例で、磁気記録層は磁性薄膜3%
μあるいは磁性薄膜!、ぶ、7、Iより構成されている
。第2図においては磁性薄膜31参内の酸素分布は、前
記磁性薄膜コと同様に支持体から離れるに従って連続的
に減少している。第3図においては各磁性薄膜j、A、
7、l内での酸素分布はほぼ一定で、支持体lに一番近
い磁性薄膜!の酸素含有量は一番多く、支持体lから遠
ざかるにつれ磁性薄膜7,7、r内の酸素含有量は少な
くなっている。
体lから遠ざかるに従って連続的に減少している。第2
図及び第3図は積層の例で、磁気記録層は磁性薄膜3%
μあるいは磁性薄膜!、ぶ、7、Iより構成されている
。第2図においては磁性薄膜31参内の酸素分布は、前
記磁性薄膜コと同様に支持体から離れるに従って連続的
に減少している。第3図においては各磁性薄膜j、A、
7、l内での酸素分布はほぼ一定で、支持体lに一番近
い磁性薄膜!の酸素含有量は一番多く、支持体lから遠
ざかるにつれ磁性薄膜7,7、r内の酸素含有量は少な
くなっている。
磁性薄膜の総厚は、磁気記録媒体として十分な出力を与
え得る厚さで、かつ高密度記録が十分性なえる薄さを必
要とすることから、一般には約0.02pmからj、0
pWj、好ましくFio 、 。
え得る厚さで、かつ高密度記録が十分性なえる薄さを必
要とすることから、一般には約0.02pmからj、0
pWj、好ましくFio 、 。
35mから2.・0#1Nである。磁性薄膜を積層する
場合は各磁性薄膜の厚さは等しく設計してもいいし、基
体に最も近い磁性薄膜の士J−04の厚さで設けてもよ
い。
場合は各磁性薄膜の厚さは等しく設計してもいいし、基
体に最も近い磁性薄膜の士J−04の厚さで設けてもよ
い。
本発明における蒸着とは米国特許@J、344コ。
131号の明細書に述べられて(いる通常の真空蒸着の
他、電界、磁界あるいは電子ビーム照射によ ・り蒸気
流のイオン化、加速化等を行なって蒸発粒子の平均自由
行程の大きい雰囲気にて支持体上に薄膜を形成妊せる方
法をも含むものであり、例えば特開昭!/−/11?0
01号明細書に示されているような電界蒸着法、特公昭
1j−//j≠!号、特公昭≠j−20411ZI号、
特公昭≠7−21、j7り号、特公昭≠2−4Aj4A
32号、特開昭≠2−33190号、特開昭lター3参
ダt3号、特開昭≠ター!lλ3j号公報に示されてい
るようなイオン化蒸着法も本発明に用いられる。
他、電界、磁界あるいは電子ビーム照射によ ・り蒸気
流のイオン化、加速化等を行なって蒸発粒子の平均自由
行程の大きい雰囲気にて支持体上に薄膜を形成妊せる方
法をも含むものであり、例えば特開昭!/−/11?0
01号明細書に示されているような電界蒸着法、特公昭
1j−//j≠!号、特公昭≠j−20411ZI号、
特公昭≠7−21、j7り号、特公昭≠2−4Aj4A
32号、特開昭≠2−33190号、特開昭lター3参
ダt3号、特開昭≠ター!lλ3j号公報に示されてい
るようなイオン化蒸着法も本発明に用いられる。
特に好ましいのは米国特許3,3参コ、632号等に述
べられている斜め蒸着法である。
べられている斜め蒸着法である。
磁性薄膜中に酸素を含有せしめるには、従来より知られ
ているように酸素雰囲気中にて磁性金属あるいは合金を
蒸発せしめ非磁性基体上に蒸着せしめる方法が用いられ
る。
ているように酸素雰囲気中にて磁性金属あるいは合金を
蒸発せしめ非磁性基体上に蒸着せしめる方法が用いられ
る。
特に磁性薄膜の厚さ方向に連続的に酸素含有量を変化さ
せる方法としては特許1i8jt−/Jり0り3号に示
されているような方法を用いて4jLい。
せる方法としては特許1i8jt−/Jり0り3号に示
されているような方法を用いて4jLい。
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。
明はこれに限定されるものではない。
実施例1
第一図および第1図に示した巻取式蒸着装置を用い12
μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上にコバ
ルト磁性薄膜を形成させて磁気テープを作製した。第一
図、第3図において真空容器81(一部分のみ図示され
ている)内に配置された円筒状冷却中ヤン//IfC沿
ってテープ状支持体lコが矢印方向/JK移動せしめら
れる。キャンllの下方には磁性材料のチャージされた
蒸発源lダが設置されていてマスクl!を介しで冷却キ
ャンl/に沿って移動する支持体/Uに斜め蒸着が行え
るようになっている。支持体/Jの移動に従い入射角が
amaXから#minへ連続可変されつつ蒸着が行なわ
れる。第一図において酸化性ガス導入部/jは#max
近傍に、第1図において酸化性ガス導入部/1/は真空
容器atの壁に設けられている。
μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上にコバ
ルト磁性薄膜を形成させて磁気テープを作製した。第一
図、第3図において真空容器81(一部分のみ図示され
ている)内に配置された円筒状冷却中ヤン//IfC沿
ってテープ状支持体lコが矢印方向/JK移動せしめら
れる。キャンllの下方には磁性材料のチャージされた
蒸発源lダが設置されていてマスクl!を介しで冷却キ
ャンl/に沿って移動する支持体/Uに斜め蒸着が行え
るようになっている。支持体/Jの移動に従い入射角が
amaXから#minへ連続可変されつつ蒸着が行なわ
れる。第一図において酸化性ガス導入部/jは#max
近傍に、第1図において酸化性ガス導入部/1/は真空
容器atの壁に設けられている。
蒸発源としては電子ビー牟加熱式蒸発:源を使用し、酸
素分圧/ X/ 0−4To r r<−C3着を行な
った。磁性膜の厚さFi/100Aであり抗磁力はり0
0Qeであった。これらの膜の深さ方向の組成をオージ
エスベクトロスコにより調べた結果を第を図に示す。こ
こでサンプルAは第μ図の装置による磁気テープ、サン
プルB#i第3図の装置による磁気テープである。表面
近傍の酸素は、大気中の酸素が吸着したものである。得
られた磁気テープの密着性および耐久性、電磁変換特性
をVH8型VTR[て調べたところ、表1に示すような
特性をもっことがわかったっ表の値は塗布型テープをO
d13として算出しである。
素分圧/ X/ 0−4To r r<−C3着を行な
った。磁性膜の厚さFi/100Aであり抗磁力はり0
0Qeであった。これらの膜の深さ方向の組成をオージ
エスベクトロスコにより調べた結果を第を図に示す。こ
こでサンプルAは第μ図の装置による磁気テープ、サン
プルB#i第3図の装置による磁気テープである。表面
近傍の酸素は、大気中の酸素が吸着したものである。得
られた磁気テープの密着性および耐久性、電磁変換特性
をVH8型VTR[て調べたところ、表1に示すような
特性をもっことがわかったっ表の値は塗布型テープをO
d13として算出しである。
密着性はセロテープの剥離テストにより調べた。
実施例2
第1図の装置でlコOOAのコバルト−ニッケル膜(N
i:コ0wt%)を3層積層し、磁気テープを2種作製
した。サンプルCは支持体側から第1層、第2層、第3
層と順次酸素分圧1.≠×10 ’TOrr、/、A
X10 ’Torr。
i:コ0wt%)を3層積層し、磁気テープを2種作製
した。サンプルCは支持体側から第1層、第2層、第3
層と順次酸素分圧1.≠×10 ’TOrr、/、A
X10 ’Torr。
1.0×lOTOrrにて積層蒸着した。サンプルDは
第1層、第一層、第3層共に1.2×in ”r’o
rrで積層蒸着した。オージェ分析により膜厚方向の酸
素分布を調べた゛ところ第7図のようであった。表面付
近の酸素は吸着によるものである。
第1層、第一層、第3層共に1.2×in ”r’o
rrで積層蒸着した。オージェ分析により膜厚方向の酸
素分布を調べた゛ところ第7図のようであった。表面付
近の酸素は吸着によるものである。
表 2
電磁変換特性をvHsa!!v’rRにて測定したとζ
ろ表2に示すような結果であつまた。さらに実施例/と
同様にして密層性を調べたところ、サン゛ルCの方がす
ぐれていた。
ろ表2に示すような結果であつまた。さらに実施例/と
同様にして密層性を調べたところ、サン゛ルCの方がす
ぐれていた。
このように、基体に近いほど酸素原子が多く、基体から
離れるに従い[E原子が減少するようV膜中に酸素原子
が含まれている強磁性薄膜を備jた磁気テープは、再生
出力は十分大きく、短波J領域で従来の塗布型テープを
はるかに凌ぐ特性毛もつことがわかる。また密着性、耐
久性につい1も、塗布型テープと比べ退色のないものが
得らt。
離れるに従い[E原子が減少するようV膜中に酸素原子
が含まれている強磁性薄膜を備jた磁気テープは、再生
出力は十分大きく、短波J領域で従来の塗布型テープを
はるかに凌ぐ特性毛もつことがわかる。また密着性、耐
久性につい1も、塗布型テープと比べ退色のないものが
得らt。
蒸着テープの実用化上、その利点は大きい。
第1図、第2図及び第3図は本発明による磁気記録媒体
の数例を図式的に示している。第μ図、第5図は酸素を
含有する強磁性薄膜を備えた磁気テープを作製するため
の蒸着装置を示している。 第を図は実施例1における磁気記録媒体の深さ方向の酸
素原子の比率を示すグラフである。第7図は実施例コに
おける磁気記録媒体の深さ方向の酸素原子の比率を示す
グラフである。 lは支持体、λ〜tは磁性薄膜である。 第4図 第5図 第7図 手続補正書(賎) 1、事件の表示 昭和j1年特特許1rtuto
号2、発鳴の名称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 脣軒出願人表 補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄 a 補正の内容 明細書筒2113行目の「スペクトロスコ」を「スイク
トロスコピー」とfJ正jる。
の数例を図式的に示している。第μ図、第5図は酸素を
含有する強磁性薄膜を備えた磁気テープを作製するため
の蒸着装置を示している。 第を図は実施例1における磁気記録媒体の深さ方向の酸
素原子の比率を示すグラフである。第7図は実施例コに
おける磁気記録媒体の深さ方向の酸素原子の比率を示す
グラフである。 lは支持体、λ〜tは磁性薄膜である。 第4図 第5図 第7図 手続補正書(賎) 1、事件の表示 昭和j1年特特許1rtuto
号2、発鳴の名称 磁気記録媒体 3、補正をする者 事件との関係 脣軒出願人表 補正の対象
明細書の「発明の詳細な説明」の欄 a 補正の内容 明細書筒2113行目の「スペクトロスコ」を「スイク
トロスコピー」とfJ正jる。
Claims (3)
- (1) 強磁性金属あるいは合金を非磁性基体上に蒸
着してなる磁気記録媒体において磁性蒸着膜に含まれる
酸素原子が、そのごく表面近傍を除き前記基体から遠ざ
かるにつれて漸減するように、酸素原子が含まれてなる
事を特徴とする磁気記録媒体。 - (2)磁性蒸着膜が斜め蒸着法により形成さnてなる事
を特徴とする第7項記載の磁気記録媒体。 - (3) 磁性蒸着膜が主にコバルト、ニッケル、酸素
あるいはコバルト、酸素で構成されることを特徴とする
第2項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56181480A JPS5883328A (ja) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | 磁気記録媒体 |
US06/439,169 US4661418A (en) | 1981-11-12 | 1982-11-04 | Magnetic recording medium |
GB08232179A GB2112666B (en) | 1981-11-12 | 1982-11-11 | Magnetic recording medium |
DE19823241775 DE3241775A1 (de) | 1981-11-12 | 1982-11-11 | Magnetischer aufzeichnungstraeger |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56181480A JPS5883328A (ja) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5883328A true JPS5883328A (ja) | 1983-05-19 |
JPH0546014B2 JPH0546014B2 (ja) | 1993-07-12 |
Family
ID=16101486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56181480A Granted JPS5883328A (ja) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4661418A (ja) |
JP (1) | JPS5883328A (ja) |
DE (1) | DE3241775A1 (ja) |
GB (1) | GB2112666B (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5958804A (ja) * | 1982-09-28 | 1984-04-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS59201221A (ja) * | 1983-04-29 | 1984-11-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JPS59203238A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS6126925A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS6194220A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-13 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JPH02227815A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体とその製造方法 |
JPH0376018A (ja) * | 1989-08-16 | 1991-04-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 水平記録用磁気記録ディスクおよび製造方法 |
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CA1235485A (en) * | 1984-01-20 | 1988-04-19 | Kenji Yazawa | Magnetic recording medium |
JPH0766507B2 (ja) * | 1984-02-16 | 1995-07-19 | コニカ株式会社 | 磁気記録媒体 |
CA1235808A (en) * | 1984-03-22 | 1988-04-26 | Tetsuo Oka | Vertical magnetic recording medium and process for preparation thereof |
KR890004257B1 (ko) * | 1984-10-29 | 1989-10-28 | 니뽕 빅터 가부시끼가이샤 | 자기 기록매체 및 그 제조법 |
JPS61122925A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 記録媒体の製造方法 |
JPH0610871B2 (ja) * | 1984-12-25 | 1994-02-09 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
JPH0777018B2 (ja) * | 1985-05-27 | 1995-08-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 磁気記録媒体 |
EP0261240B1 (en) * | 1985-06-21 | 1992-05-06 | Sumitomo Metal Mining Company Limited | Magnetic recording medium |
CA1315612C (en) * | 1986-03-18 | 1993-04-06 | Shogo Nasu | Perpendicular magnetic storage medium |
JPS63152017A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH0654535B2 (ja) * | 1987-03-30 | 1994-07-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
US4904543A (en) * | 1987-04-23 | 1990-02-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Compositionally modulated, nitrided alloy films and method for making the same |
DE3803000A1 (de) * | 1988-02-02 | 1989-08-10 | Basf Ag | Flaechenfoermiges, mehrschichtiges magneto-optisches aufzeichnungsmaterial |
US5316631A (en) * | 1989-02-16 | 1994-05-31 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Method for fabricating a magnetic recording medium |
JP2554277B2 (ja) * | 1989-03-31 | 1996-11-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
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US5062938A (en) * | 1990-01-16 | 1991-11-05 | International Business Machines Corporation | High coercivity low noise cobalt alloy magnetic recording medium and its manufacturing process |
JP2700215B2 (ja) * | 1990-11-24 | 1998-01-19 | 株式会社エース電研 | パチンコゲーム機 |
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US9127365B2 (en) * | 2008-02-16 | 2015-09-08 | HGST Netherlands B.V. | Generation of multilayer structures in a single sputtering module of a multi-station magnetic recording media fabrication tool |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1981
- 1981-11-12 JP JP56181480A patent/JPS5883328A/ja active Granted
-
1982
- 1982-11-04 US US06/439,169 patent/US4661418A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-11-11 DE DE19823241775 patent/DE3241775A1/de active Granted
- 1982-11-11 GB GB08232179A patent/GB2112666B/en not_active Expired
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3241775A1 (de) | 1983-05-19 |
GB2112666A (en) | 1983-07-27 |
GB2112666B (en) | 1985-06-12 |
JPH0546014B2 (ja) | 1993-07-12 |
US4661418A (en) | 1987-04-28 |
DE3241775C2 (ja) | 1992-05-27 |
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