JPS5845837B2 - レ−ザカコウソウチ - Google Patents

レ−ザカコウソウチ

Info

Publication number
JPS5845837B2
JPS5845837B2 JP50100730A JP10073075A JPS5845837B2 JP S5845837 B2 JPS5845837 B2 JP S5845837B2 JP 50100730 A JP50100730 A JP 50100730A JP 10073075 A JP10073075 A JP 10073075A JP S5845837 B2 JPS5845837 B2 JP S5845837B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flash lamp
current
laser
capacitor
flash
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP50100730A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5224490A (en
Inventor
憲 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP50100730A priority Critical patent/JPS5845837B2/ja
Publication of JPS5224490A publication Critical patent/JPS5224490A/ja
Publication of JPS5845837B2 publication Critical patent/JPS5845837B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/0915Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light
    • H01S3/092Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by incoherent light of flash lamp
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting
    • B23K26/382Removing material by boring or cutting by boring
    • B23K26/389Removing material by boring or cutting by boring of fluid openings, e.g. nozzles, jets

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光励起形レーザ発振器をフラッシュランプで励
起するようにしたレーザ加工装置に関するものである。
レーザ光線を金属等の被加工物に照射することによって
、穴あけ加工等を行なうレーザ加工装置は、一般に第1
図に示す如く構成されている。
すなわち、直流電源1に充電制御回路2を介してコンデ
ンサ3が接続されており、このコンデンサ3に上記電源
1の直流出力が適時充電されるものとなっている。
上記コンデンサ3の両端には放電波形成形コイル4を介
してキセノランプ等のフラッシュランプ5が接続されて
おり、このフラッシュランプ5のトリガ電極5aにトリ
ガパルス発生器6からのトリガパルスが印加されたとき
、上記フラッシュランプ5が始動点灯するものとなって
いる。
フラッシュランプ5が始動点灯したとき前記コンデンサ
3の充電々荷がコイル4を介してフラッシュランプ5に
放電通流するので、フラッシュランプ5が閃光を発する
この閃光がレーザ発振器7のレーザ物質8に照射される
と、レーザ物質8が励起され、共振器ミラー9,10と
の共働によりレーザ光線りを出力する。
このレーザ光線Pを集光レンズ等により集光して被加工
物に照射すれば穴あけ加工等のレーザ加工がなされるも
のである。
しかるに上記従来の装置には次のような解決すべき問題
がある。
すなわち、フラッシュランプ5の電極には極性があり、
この極性に従って電流を流す必要がある。
そこで従来は第2図に示すように電流波形が一方向性を
有するような電流を流していた。
換言すれば第2図に示すような電流波形となるようにコ
ンデンサ3の容量値と、コイル4のインダクタンス値と
を選定し、電流が零となったところでフラッシュラップ
の放電が停止するようにしていた。
ところで第2図に示すような電流波形の放電電流でレー
ザ物質8を励起し、第3図に示すように被加工物に対し
メクラ穴加工を行なうと、メクラ穴13の断面形状が相
当のバラツキを有し均一な穴の加工を行なうことが困難
であることが判った。
また穴13の周囲に変質を生じる部分が多いことも判っ
た。
なお第3図中、11は集光レンズである。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的はメクラ穴加工等を行なう場合においても加工部
形状を均一なものとなし得ると共に、熱変質の生じるお
それのない、すぐれた加工特性を有するレーザ加工装置
を提供することである。
以下、本発明の詳細を図面に示す実施例によって明らか
にする。
第4図は本発明の一実施例の回路構成図である。
この図において、21は直流電源であり、22は充電制
御回路であり、23は上記充電制御回路22によって前
記直流電源21の出力を充電されるコンデンサである。
このコンデンサ23の両端には放電波形成形コイル24
を介して図示極性のダイオード25とフラッシュランプ
26との直列回路が接続されている。
上記フラッシュランプ26は、例えばキセノンランプ等
の閃光放電電灯であり、そのトリガ電極27にトリガパ
ルス発生器28からトリガパルスを印加されることによ
って始動点灯し閃光を発するものである。
レーザ物質29、共振器ミラー30,31は光励起形レ
ーザ発振器を構成しており、レーザ物質29が前記フラ
ッシュランプ26からの閃光を受けたとき励起され、そ
の発振出力つまりレーザ光線を矢印に示す如く送出する
前記フラッシュランプ26とダイオード25との直列回
路と並列に、抵抗32と図示極性つまり前記コンデンサ
23に対する方向性が前記ダイオード25とは逆向きの
ダイオード33との直列回路が接続されている。
前記コンデンサ23の容量値Cとコイル24のインダク
タンス値りとは次のように設定されている。
すなわち、フラッシュランプ26の抵抗成分をR1とし
たとき、 なる式を満足する回路定数とされる。
つまりコンデンサ23の容量値Cとコイル24のインダ
クタンス値とは、前記フラッシュランプ26に流れる放
電々流の電流変化率が電流値零付近で負となる如く設定
される。
一方また、前記抵抗32の値Rrは なる式を満足する如く設定される。
次にこのように構成された装置の動作を説明する。
トリガパルス発生器28からフラッシュランプ26のト
リガ電極27にトリガパルスを印加すると、フラッシュ
ランプ26は始動点灯する。
このとき予め充電状態にあったコンデンサ23の充電々
荷が、コイル24、ダイオード25を介してフラッシュ
ランプ26に放電通流する。
この放電電流の電流波形は第6図に示すような波形とな
る。
すなわち、コンデンサ23の容量値Cとコイル24のイ
ンダクタンス値りとが前述したようなアンダーダンピン
グの条件を与えられているため、最初はMlのように正
方向への電流が流れ、引き続きMlのように負方向への
電流が流れようとする。
つまりこの放電々流は電流値零の付近で電流変化率が零
、換言すれば急峻な立下りを示す。
上記負方向の電流M2は、ダイオード25によって阻止
されるので、抵抗32とダイオード33からなるバイパ
ス回路を介して流れる。
このとき抵抗32の値Rrは前述のように25より大き
く設定されているため、第6図に示す如く、非振動電流
となる。
かかる放電々原波形の電流によって閃光発光するフラッ
シュランプからの光がレーザ物質29に照射されると、
レーザ発振器からレーザ光線Pが送出され、これが集光
レンズ等を介して被加工物に照射され加工が行なわれる
が、その加工はたとえば前述した第3図のようなメクラ
穴あけ加工を行なった場合においても穴形状のバラツキ
が非常に少ないものとなるうえ、熱変質も殆んど生じな
いものとなることが判った。
この原因は明確ではないが、第2図に示したような波形
の放電流では穴が一度形成されたのちにおいても、穴の
内部にピーク出力の低いレーザ”ビームエネルギーが波
形の立下り部分で照射されるため、穴の内部が溶融され
て変形を生じたり、熱変質を起こすものと考えられる。
これに対し本装置のように立下りの急峻な励起波形の場
合は、ピーク値の低いレーザビームの占める割合が全体
からみて十分小さいので穴形状が均一なものになると考
えられる。
また、逆電流成分M2がバイパス回路を介してコンデン
サ23に帰流するので、コンデンサ両端電圧が充電され
ていない状態に速やかに戻る。
したがって、各パルス毎の放電々荷が等しいものとなり
、フラッシュランプ26の発光エネルギーのバラツキ自
体も除去できるためであると考えられる。
なお、パイパス回路を設けたことにより逆流成分M2が
フラッシュランプに流れないので、ランプ寿命を短縮す
るおそれがない。
かくして、本装置は高精度な加工を要し且つ熱変質の発
生をきらう磁性材料、宝石類の穴あけ加工等に適用した
場合、きわめて有用なものとなる。
第5図は本発明の他の実施例である。
この実施例が前記実施例と異なる点はフラッシュランプ
に直列されていたダイオード25を省くと共に、コイル
34とダイオード33とからなるバイパス回路をフラッ
シュランプ26とコイル24の直列回路に並列接続した
点である。
この実施例ではダイオード25がなくても逆電流をコイ
ル34、ダイオード33のバイパス回路を介して流すこ
とができる。
但し、この逆電流が第7図にN3として示す如く、再び
順電流として流れることになるが、この順電流レベルが
レーザ発振のためのスレッショルドレベル以下であれば
実用上支障はない。
なお、第7図のNCH3は第6図のMLM2に対応して
いる。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。
たとえば第4図のダイオード33は、抵抗32の値Rr
とコンデンサ23の容量値Cとの時定数がパルスM1の
幅より十分大きい場合には省略してもよい。
また、バイパス回路としては必らずしも図示したものに
限定されるものではなく、要はフラッシュランプの放電
動作後における逆電流をバイパスして消滅させうるイン
ピーダンス素子であればよい。
以上説明したように本発明によればフラッシュランプに
流れる電流の電流変化率が電流値零付近で負となる如く
コンデンサの容量値と波形成形コイルのインダクタンス
値とを設定し、フラッシュランプの放電動作後における
逆電流をインピーダンス素子を介してバイパスさせるよ
うにしたので、たとえばメクラ穴加工等を行なう場合に
おいても加工部形状を均一なものとなし得ると共に、熱
変質の生じるおそれのない、すぐれた加工性を有するレ
ーザ装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の装置の回路構成図、第2図は第1図の放
電波形図、第3図はレーザ加工の一例を示す図、第4図
は本発明の一実施例の回路構成図、第5図は本発明の他
の実施例の回路構成図、第6図および第7図はそれぞれ
第4図、第5図の放電波形を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 直流電源と、この直流電源からの直流出力で充電制
    御されるコンデンサと、このコンデンサ両端に放電波形
    成形用コイルを介して接続されたフラッシュランプと、
    このフラッシュランプからの閃光により励起されるレー
    ザ発振器と、このレーザ発振器の出力を被加工物に照射
    して加工する加工手段と、前記フラッシュランプに対し
    並列的に接続されたインピーダンス素子とを具備し、前
    記フラッシュランプに流れる電流の電流変化率が電流値
    零付近で負となる如く前記コンデンサの容量値と前記コ
    イルのインダクタンス値とを設定し、前記フラッシュラ
    ンプの放電動作後における逆電流を前記インピーダンス
    素子を介してバイパスさせるようにしたことを特徴とす
    るレーザ加工装置。
JP50100730A 1975-08-20 1975-08-20 レ−ザカコウソウチ Expired JPS5845837B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50100730A JPS5845837B2 (ja) 1975-08-20 1975-08-20 レ−ザカコウソウチ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP50100730A JPS5845837B2 (ja) 1975-08-20 1975-08-20 レ−ザカコウソウチ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5224490A JPS5224490A (en) 1977-02-23
JPS5845837B2 true JPS5845837B2 (ja) 1983-10-12

Family

ID=14281711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50100730A Expired JPS5845837B2 (ja) 1975-08-20 1975-08-20 レ−ザカコウソウチ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5845837B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5858137A (ja) * 1981-10-01 1983-04-06 Denki Kagaku Kogyo Kk 混練方法
JPS628067U (ja) * 1985-07-02 1987-01-19
JPS6285720U (ja) * 1985-11-14 1987-06-01
JP2739171B2 (ja) * 1987-06-29 1998-04-08 イビデン株式会社 ステンレス搬送用ローラー

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5224490A (en) 1977-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS5845837B2 (ja) レ−ザカコウソウチ
JP2647832B2 (ja) レーザ発振器
JPS585754B2 (ja) レ−ザ溶接加工方法
JPH0740615B2 (ja) パルスレ−ザ発振器
US3514669A (en) High repetition rate strobe light
JPS5830717B2 (ja) 放電灯点灯装置
Kim et al. Active two-pulse superposition technique of a pulsed Nd: YAG laser
JPH0116317Y2 (ja)
JPS5855665Y2 (ja) 加工用レ−ザ装置
JPS5845838B2 (ja) パルスレ−ザハツシンソウチ
JPS5917870B2 (ja) パルスレ−ザ装置
JPS5933957B2 (ja) 放電灯点灯装置
JP2721887B2 (ja) レーザ加工装置
JPH0555669A (ja) 固体レーザ装置
JPS5845839B2 (ja) レ−ザ加工装置
JPS6022628Y2 (ja) レ−ザ−電源装置
JPS5849647Y2 (ja) レ−ザ発振装置
JPH0337755B2 (ja)
JPH01114088A (ja) レーザ装置
JPS6028154B2 (ja) レ−ザ発振装置
JPH06315279A (ja) パルスレーザの電源装置
JP2726058B2 (ja) レーザ装置
JPH01241881A (ja) パルス発振レーザー電源装置
JPS6271939A (ja) 高速連続繰り返し発光する閃光発光器の発光起動回路
JPS6026314B2 (ja) レ−ザ装置