JPS5835579A - 反射型ホログラムの製造方法 - Google Patents
反射型ホログラムの製造方法Info
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- JPS5835579A JPS5835579A JP13498881A JP13498881A JPS5835579A JP S5835579 A JPS5835579 A JP S5835579A JP 13498881 A JP13498881 A JP 13498881A JP 13498881 A JP13498881 A JP 13498881A JP S5835579 A JPS5835579 A JP S5835579A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はホログラムの製造方法に関し、さらに詳しくは
光反射層を有する反射型ホログラムの製造方法に関する
ものである。
光反射層を有する反射型ホログラムの製造方法に関する
ものである。
ホログラムは通常銀塩感材上に作られるが、ホログラム
パターンを凹凸で形成しても得られる、すなわち、フォ
トレジストを塗布した乾板にホログラム像を露光した後
、現像して乾板上に凹凸像を得る。しかるのち、この像
を形成している凹凸面上に銅を蒸着して導電性を付与す
る。続いてこの銅面な負極としてニッケルメッキを施ｆ
０取扱いに耐え得る厚さまでニッケル層を電着した後に
これを感光剤面より剥離し、次いで導電性を与えるため
に蒸着した銅を溶解して取り除き、ニッケルの面を露呈
させ、成形用の型が得られる。銅を除去した型の表面に
は前述の露光・現像により得られた凹凸面が凹凸逆にな
って複製されている。
パターンを凹凸で形成しても得られる、すなわち、フォ
トレジストを塗布した乾板にホログラム像を露光した後
、現像して乾板上に凹凸像を得る。しかるのち、この像
を形成している凹凸面上に銅を蒸着して導電性を付与す
る。続いてこの銅面な負極としてニッケルメッキを施ｆ
０取扱いに耐え得る厚さまでニッケル層を電着した後に
これを感光剤面より剥離し、次いで導電性を与えるため
に蒸着した銅を溶解して取り除き、ニッケルの面を露呈
させ、成形用の型が得られる。銅を除去した型の表面に
は前述の露光・現像により得られた凹凸面が凹凸逆にな
って複製されている。
この面もホログラム像を形成することはもちろんである
。
。
このようにして得られた型のパターンを例えば熱可塑性
合成樹脂或は熱硬化性合成樹脂等の合成樹脂に転写成型
することにより透過型のホログラムを得ることができる
。
合成樹脂或は熱硬化性合成樹脂等の合成樹脂に転写成型
することにより透過型のホログラムを得ることができる
。
このような透過光にて鑑賞する透過型ホログラムのパタ
ーン面に真空蒸着、スパッタリング等の方法によって金
属薄膜を形成すれば、この金属薄膜が光反射層となって
反射型ホログラムが得られることになる。
ーン面に真空蒸着、スパッタリング等の方法によって金
属薄膜を形成すれば、この金属薄膜が光反射層となって
反射型ホログラムが得られることになる。
従来の反射型ホログラムはこの金属薄膜が露出しており
、従ってスクラッチキズに弱く、一旦キズをつけてしま
うと商品としての効果はゼロに等しくなってしまうため
、その取扱いに多大の注意を要するものである。このよ
うなキズを防止するためパターン面である金属薄膜上に
保護層を設けることによりその取扱いのむずかしさは一
挙に解消するのである。
、従ってスクラッチキズに弱く、一旦キズをつけてしま
うと商品としての効果はゼロに等しくなってしまうため
、その取扱いに多大の注意を要するものである。このよ
うなキズを防止するためパターン面である金属薄膜上に
保護層を設けることによりその取扱いのむずかしさは一
挙に解消するのである。
本発明はこのような視点に基づいてなさｊたもので、光
反射層である金属薄膜を良好に保護するとともに両面か
らの鑑賞を可能とする反射型ホログラムの製造方法を提
供するものである。
反射層である金属薄膜を良好に保護するとともに両面か
らの鑑賞を可能とする反射型ホログラムの製造方法を提
供するものである。
以下に本発明を図面の実施例に基づき詳細に説明する。
第１図は本発明方法の模式的説明図であり、第２図は本
発明方法により製造されたホログラムの断面を表す説明
図である。
発明方法により製造されたホログラムの断面を表す説明
図である。
第１図に於いて、（１）は保護層が設けらｔていない従
来の反射型ホログラムであり、これは片面罠パターンが
形成されてなる基層（２）及びこの基層（２）のパター
ン形成面に設けられた金属薄膜よりなる光反射層（３）
とから構成されている。
来の反射型ホログラムであり、これは片面罠パターンが
形成されてなる基層（２）及びこの基層（２）のパター
ン形成面に設けられた金属薄膜よりなる光反射層（３）
とから構成されている。
このような反射型ホログラム（１）の光反射層（３）と
紫外線透過ガラス等よりなる対振（１１１上の保護材シ
ー ） （４）との間に紫外線硬化型樹脂（５）を置く
。
紫外線透過ガラス等よりなる対振（１１１上の保護材シ
ー ） （４）との間に紫外線硬化型樹脂（５）を置く
。
この保護材シートは硬化される紫外線硬化型樹脂との接
着が良く、かつ紫外線吸収の少ない材質例えば塩化ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂等が適しており、更に加えて硬化
した樹脂層とほぼ等しい屈折率をもっているものである
ことが好ましい。なお、保護材シートについては、紫外
線を透過させることが前提となるが、着色してあっても
差支えない。この場合、特殊な効果を求めることもでき
る。
着が良く、かつ紫外線吸収の少ない材質例えば塩化ビニ
ル樹脂、アクリル樹脂等が適しており、更に加えて硬化
した樹脂層とほぼ等しい屈折率をもっているものである
ことが好ましい。なお、保護材シートについては、紫外
線を透過させることが前提となるが、着色してあっても
差支えない。この場合、特殊な効果を求めることもでき
る。
次に紫外線硬化型樹脂について説明すると、その構成は
、ラジカル重合性の不飽和基を有するプレポリマーとエ
チレン性の不飽和基をもつモノマーを主成分とし、それ
に若干の重合開始剤と助剤を加えた構成で２５０〜３８
０ｎｍの領域、特に３６０ｎｒｒ）付近の紫外光を照射
することによりモノマーが線状ポリマー間を架橋して三
次元の網目構造を形成するものである。このようなプレ
ポリマーとしては、例えばエポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート等があり、モノマーの例としては、ｎ
−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート等
がある。
、ラジカル重合性の不飽和基を有するプレポリマーとエ
チレン性の不飽和基をもつモノマーを主成分とし、それ
に若干の重合開始剤と助剤を加えた構成で２５０〜３８
０ｎｍの領域、特に３６０ｎｒｒ）付近の紫外光を照射
することによりモノマーが線状ポリマー間を架橋して三
次元の網目構造を形成するものである。このようなプレ
ポリマーとしては、例えばエポキシアクリレート、ウレ
タンアクリレート等があり、モノマーの例としては、ｎ
−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタアクリレート等
がある。
この様な紫外線硬化型樹脂を第１図に示す様に配置し、
反射型ホログラム（１）を下降又は対振αυ及び保護材
シート（４）を上昇させつつ、反射型ホログラム（１）
と保護材シート（４）の間に紫外線硬化型樹脂（５）を
はさみつける形で押圧する。流動性の高い紫外線硬化型
樹脂（５）は保護材シート上面に拡がってうずく延ばさ
れると同時に、上側の反射型ホログラム（１）ツバター
ン面（５）に満たされてい（。
反射型ホログラム（１）を下降又は対振αυ及び保護材
シート（４）を上昇させつつ、反射型ホログラム（１）
と保護材シート（４）の間に紫外線硬化型樹脂（５）を
はさみつける形で押圧する。流動性の高い紫外線硬化型
樹脂（５）は保護材シート上面に拡がってうずく延ばさ
れると同時に、上側の反射型ホログラム（１）ツバター
ン面（５）に満たされてい（。
紫外線硬化型樹脂が十分に薄く拡がった時点で、対振（
１１１の下側に配設した超高圧水銀灯等の紫外線ランプ
αのより紫外光を照射する。紫外線硬化型樹脂層の厚み
は１〜７１μｍとし、好ましくは２５μｍ以下である。
１１１の下側に配設した超高圧水銀灯等の紫外線ランプ
αのより紫外光を照射する。紫外線硬化型樹脂層の厚み
は１〜７１μｍとし、好ましくは２５μｍ以下である。
これは単に樹脂の節約だけでなく、より本質的には成形
後の変形を避けるためであり、又、紫外光の照射時間、
言い換えれば樹脂層の硬化時間が長くならないようにす
る為でもある。紫外光の照射は２ＫＷの超高圧水銀灯で
照射距離２５ｃｍの場合、２〜５秒で良く、より強力な
紫外光であれば１秒又はそれ以下にすることも可能であ
る。
後の変形を避けるためであり、又、紫外光の照射時間、
言い換えれば樹脂層の硬化時間が長くならないようにす
る為でもある。紫外光の照射は２ＫＷの超高圧水銀灯で
照射距離２５ｃｍの場合、２〜５秒で良く、より強力な
紫外光であれば１秒又はそれ以下にすることも可能であ
る。
紫外線硬化型樹脂が完全に硬化した時点で対置ａＩｌ上
から取り出すことにより第２図に示されるような金属薄
膜よりなる光反射層（３）を中心に、その両側に基層（
２）、紫外−硬化型樹脂層（５）及び保護材シート層（
４）が配された反射型ホログラムを得ることができる。
から取り出すことにより第２図に示されるような金属薄
膜よりなる光反射層（３）を中心に、その両側に基層（
２）、紫外−硬化型樹脂層（５）及び保護材シート層（
４）が配された反射型ホログラムを得ることができる。
このように光反射層（３）の両面に樹脂層が配されるこ
とにより光反射層（３）を良好に保護でき、また表裏ど
ちら側からでも鑑賞可能となる。
とにより光反射層（３）を良好に保護でき、また表裏ど
ちら側からでも鑑賞可能となる。
以上に述べたように、本発明によれば露出している金属
薄膜（光反射層）面に紫外線硬化型樹脂を配し、紫外線
を照射するだけでの極めて短時間で金属薄膜を被覆した
反射型ホログラムを得ることができ、また保護材シート
を用いたことにより比較的高価な紫外線硬化型樹脂を必
要最小限におさえることができ、コスト的にも十分見合
うものである。さらに紫外線硬化型樹脂は１１０１当り
１０００〜６０００本という様な極微細な金属薄膜面に
もよくなじみ、成型ムラが生じることはなく、従って鑑
賞時にパターンの乱れ等の不備が生じることもない。
薄膜（光反射層）面に紫外線硬化型樹脂を配し、紫外線
を照射するだけでの極めて短時間で金属薄膜を被覆した
反射型ホログラムを得ることができ、また保護材シート
を用いたことにより比較的高価な紫外線硬化型樹脂を必
要最小限におさえることができ、コスト的にも十分見合
うものである。さらに紫外線硬化型樹脂は１１０１当り
１０００〜６０００本という様な極微細な金属薄膜面に
もよくなじみ、成型ムラが生じることはなく、従って鑑
賞時にパターンの乱れ等の不備が生じることもない。
なお、上記実施例では保画材シートは硬化した紫外線硬
化型樹脂と密着の良いものを選んだが、硬化した紫外線
硬化型樹脂から容易に剥離するような材質、例えばポリ
エステル、ポリプロピレン。
化型樹脂と密着の良いものを選んだが、硬化した紫外線
硬化型樹脂から容易に剥離するような材質、例えばポリ
エステル、ポリプロピレン。
等を使用した場合には、硬化後これを剥離することによ
り紫外線硬化型樹脂単体からなる保護層とすることも可
能である。
り紫外線硬化型樹脂単体からなる保護層とすることも可
能である。
なお、本方法により保護層を設ける際の基材配置構成は
前述の構成と全く逆にしてもよいことはもちろんである
。この場合、紫外線照射は上側からとなる。
前述の構成と全く逆にしてもよいことはもちろんである
。この場合、紫外線照射は上側からとなる。
図面は本発明の一実施例を示すものであり、第１図は本
発明方法の模式的説明図、第２図は本発明方法により得
られた反射型ホログラムの断面を示す説明図である。 （１）・・・反射型ホログラム （２）・・・基層 （
３）・・・光反射層 （４）・・・保護材シート（５）
・・・紫外線硬化型樹脂（１１１・・・対語 鰺・・・
紫外光源特許出願人 凸版印刷株式会社
発明方法の模式的説明図、第２図は本発明方法により得
られた反射型ホログラムの断面を示す説明図である。 （１）・・・反射型ホログラム （２）・・・基層 （
３）・・・光反射層 （４）・・・保護材シート（５）
・・・紫外線硬化型樹脂（１１１・・・対語 鰺・・・
紫外光源特許出願人 凸版印刷株式会社
Claims (1)
- 凹凸パターンを有する光反射層が露出する反射型ホログ
ラムと保護材シートの間に紫外線硬化型樹脂を置き、前
記反射型ホログラムの光反射層を保護材シートに対面せ
しめて前記反射型ホログラムと基材シートとを近接せし
め、紫外線硬化型樹脂をはさみつけつつ両面から押圧し
、光反射層と保護材シートの間に紫外線硬化型樹脂が十
分に拡がった時点で保護材シートを通して紫外線を照射
して紫外線硬化型樹脂を硬化せしめてなる反射型ホログ
ラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13498881A JPS5835579A (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 反射型ホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13498881A JPS5835579A (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 反射型ホログラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5835579A true JPS5835579A (ja) | 1983-03-02 |
Family
ID=15141299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13498881A Pending JPS5835579A (ja) | 1981-08-28 | 1981-08-28 | 反射型ホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5835579A (ja) |
Cited By (6)
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| EP0145481A2 (en) * | 1983-12-12 | 1985-06-19 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Improved holographic image transfer process |
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| US4758296A (en) * | 1983-06-20 | 1988-07-19 | Mcgrew Stephen P | Method of fabricating surface relief holograms |
| US4906315A (en) * | 1983-06-20 | 1990-03-06 | Mcgrew Stephen P | Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same |
| JPH03111949U (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-15 | ||
| WO1994018609A1 (de) * | 1991-09-30 | 1994-08-18 | Matthiesen, Gerda | Verfahren, bedruckstoff und einrichtung zur vervielfältigung von holographischen feinstrukturen und anderen beugungsgittern auf printprodukte |
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-
1981
- 1981-08-28 JP JP13498881A patent/JPS5835579A/ja active Pending
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