JPS5834941B2 - プログラマブルモノリシツク集積回路 - Google Patents

プログラマブルモノリシツク集積回路

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Publication number
JPS5834941B2
JPS5834941B2 JP50147954A JP14795475A JPS5834941B2 JP S5834941 B2 JPS5834941 B2 JP S5834941B2 JP 50147954 A JP50147954 A JP 50147954A JP 14795475 A JP14795475 A JP 14795475A JP S5834941 B2 JPS5834941 B2 JP S5834941B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
emitter
base
collector
junction
transistor
Prior art date
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Expired
Application number
JP50147954A
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English (en)
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JPS5271992A (en
Inventor
雅則 村田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP50147954A priority Critical patent/JPS5834941B2/ja
Publication of JPS5271992A publication Critical patent/JPS5271992A/ja
Publication of JPS5834941B2 publication Critical patent/JPS5834941B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B69/00Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプログラマブルリードオンリメモリ(以下P−
ROMと記す。
)に関し、特にPN破壊型のモノリシック集積回路用P
−ROMの方式に関するものである。
最近、各種の電子装置が小型軽量化および多様珪化を目
的として、ディジタル方式化を指向する傾向にあるが、
そこにおいて、情報を記憶するためのいわゆるメモリ回
路がますます重要になって来ており、記憶容量の増大と
同時に、多様化も要求される様になった。
特にユーザーの要求どおりの情報が永久的に記憶できる
いわゆるP−ROMは各種の情報産業機器にとって、不
可欠のものとなっており、その方式もいろいろ考案され
ている。
MO8方式のP−ROMはその集積度において優位に立
っているものの、動作速度と、書き込み情報の保持力お
よび、一般に複数電源を必要とする点でバイポーラ方式
に劣り、バイポーラ方式のうち、ヒユーズ方式のものは
通常の製造プロセスの他に、ニクロム等を用いてヒユー
ズを形成するためのプロセスが増えることと、ヒユーズ
溶断による書き込み後の再短絡という信頼性上の問題を
有するという欠点がある。
したがって、現在ではトランジスタやダイオードを半固
定記憶素子として用い、そのPN接合を短絡破壊するこ
とにより情報の書き込みを行なういわゆる接合型P−R
OMが、通常のバイポーラ型の製造プロセスが適用でき
、特にベース開放のトランジスタを記憶素子として用い
、そのエミッタベース接合を短絡破壊する方式は、ベー
ス・コレクタ接合が、そのまま記憶素子アレイの分離用
ダイオードとして使用することができ、しかもコレクタ
領域は行方向に共通にできるため、行方向には絶縁を必
要としないという利点を有するために、モノリシック集
積回路用 用いられているのは周知のとおりである。
第1図は従来の接合型P−ROMの構造を概念的に示す
もので、aは平面図、bは断面図である。
図中、Cはコレクタ領域、Bはベース領域、Eはエミッ
タ領域、n+はコレクタの電極、JBE はベース・エ
ミッタ接合、JBcはベース・コレクタ接合、PEはエ
ミッタ端子、PCはコレクタ端子をそれぞれ示す。
情報の書き込みはエミッタ端子PEよりJBEjJBC
を経て、コレクタ端子PCに適当な大きさの電流を流し
、JBEを降伏させ、そこに発生する熱により、JBE
を短絡破壊することにより行なう。
このときJRCは順方向であり、電圧降下は小さく、発
熱も少ないので接合は破壊されない。
第2図は従来の2×2ビツトの接合型P−ROMの回路
例の結線図で、Q17.Q1□、Q21およびQ22は
記憶素子用トランジスタで、トランジスタQij(1+
J−又は2)のコレクタはj行線Y・に、エミッタは
i列線Xiにそれぞれ接続されている。
QlおよびQ2は読み出し用トランジスタ、R21およ
びR2は抵抗、01および02は出力端子である。
エミッタ接地トランジスタJ(i=1又は2)のベース
は行線Yiに、コレクタは抵抗R・を介して電源端子V
CCに接続されている。
このような回路においては、各行線上のトランジスタは
コレクタが共通のため電気的に絶縁を必要とないことは
明白である。
しかしながら従来の上記の方式は次段を1駆動するため
に読み出し用のトランジスタを必要とし、したがって書
き込まれた情報を読み出すための入力電圧は前述のアレ
イ分離用のダイオードおよび読み出し用トランジスタを
同時に導通させるに十分な大きさが要求されるため、例
えば単体の水銀電池等の低電圧電源のもとで動作する様
なFROMを実現することは不可能であった。
本発明の目的は従来の方式における上記の如き欠点を解
消し、低電源電圧動作が可能で、かつ構成素子数の少な
いP−ROMを提供することである。
第3図は本発明によるP−ROMの構造例を概念的に示
すもので、aは平面図、bは断面図である3図中、El
は第1のエミッタ、R2は第2のエミッタ、JBE+は
第1のベース・エミッタ接合、J BE2は第2のベー
ス・エミッタ接合、PE1は第1のエミッタ端子、PE
2は第2のエミッタ端子を示し他は第1図と共通である
以下これらの図により、本発明の詳細を述べる。
本発明の特徴は第3図に示す如く、記憶素子用のトラン
ジスタのベース領域B内に、情報の書き込み用エミッタ
領域E1とは別に、更に他のエミッタ領域E2を設けた
ことである。
情報の書き込みは従来のP−ROMと同様にして、第1
のエミッタ端子PE1よりコレクタ端子pcに、電流を
流し、JBE+を短絡破壊することにより行なう。
書き込みが行なわれた記憶素子は、従来の方式では単に
JBCがダイオードとしてのみ動作するのに相違し、本
発明においては、第2のエミッタ領域E2があることに
より、PE2.PE1.PCのそれぞれがエミッタ、ベ
ースおよびコレクタ端子となる様なトランジスタが存在
する。
したがって入力信号によりこれが導通すれば、その電流
増幅作用により、次段を7駆動するに十分な電流を流す
ことができる。
このことは、個々の記憶素子がそれぞれ読み出し用のト
ランジスタとして動作することを意味し、もはや余分の
読み出し用のトランジスタは不要となる。
以上のことより明らかな様に、本発明においては情報の
読み出しのために必要とされる入力電圧は単に、トラン
ジスタ1ケを導通させるだけの大きさで良く、前述の如
き低い電源電圧のもとでも十分動作が可能である。
一方、情報の書き込みのない記憶素子に・ついては、従
来の方式と同様に、入力電圧がエミッタ・ベース接合の
逆方向耐圧を越えない限り、読み出し用トランジスタは
導通しない。
第4図は本発明の実施例である2×2ビツトのP−R,
OMの回路結線図を示す。
Q:t t (J2 t Q/2tおよびQ□2は2つ
のエミッタを有する記憶素子用トランジスタで、トラン
ジスタQ’ (r ? J=1−又は2)のコレクタ
はj行線Yiに、エミッタの1つはi列線Xjは出力線
を兼ねている。
1つの入力端子に適当な大きさの入力信号が印加される
とそれに接続されている記憶素子のうち、書き込みの行
なわれているトランジスタが導通し、そのコレクタ端子
に接続されている出力端子は低レベルになる。
一方、書き込みの行なわれていないトランジスタは導通
しないで、それに接続されている出力端子は高レベルの
まま保留される。
以上、本発明はその1つの実施例につき説明されたが、
それは単なる例示的なものであり、ここで説明された実
施例によってのみ前記した本願特許請求の範囲が限定さ
れるものでないことは勿論である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の接合型P−ROMの構造を概念的に示
すものでaは平面図、bは断面図である。 第2図は、従来の2×2ビツトの接合型P−ROMの回
路の結線図、第3図は、本発明によるFROMの構造例
を概念的に示すものでaは平面図すは断面図である。 第4図は、本発明の実施例である2×2ビツトのP−R
OM回路結線図である。 これらの図において、E・・・エミッタ領域、B・・・
ベース領域、C・・・コレクタ領域、n+コレクタ電極
、JBE・・・ベース・エミッタ接合、JRC・・・ベ
ース・コレクタ接合、PC・・・コレクタ端子、PE・
・・エミッタ端子、添数字は、第1と第2の別を示す3
Xl、X2・・・列線、Yl、¥2・・・行線、Qhl
y Q21 。 Q1□、Q22:Q′17.Qつ1 y QB2 to
二2・・・記憶素子用トランジスタ、 刃端子。 1 、R2・・・抵抗、 Ql、Q2・・・出

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 複数のトランジスタのベース領域中に第1および第
    2のエミッタ領域をそれぞれ設け、前記第1のエミッタ
    領域のうち選択されたもののベース・エミッタ接合を破
    壊することにより情報のかきこみを行ない、前記第2の
    エミッタ領域は、前記ベース領域およびコレクタ領域と
    あいまってトランジスタ動作をすることを特徴とするプ
    ログラマブルモノリシック集積回路。
JP50147954A 1975-12-11 1975-12-11 プログラマブルモノリシツク集積回路 Expired JPS5834941B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP50147954A JPS5834941B2 (ja) 1975-12-11 1975-12-11 プログラマブルモノリシツク集積回路

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JP50147954A JPS5834941B2 (ja) 1975-12-11 1975-12-11 プログラマブルモノリシツク集積回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5271992A JPS5271992A (en) 1977-06-15
JPS5834941B2 true JPS5834941B2 (ja) 1983-07-29

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ID=15441826

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JP50147954A Expired JPS5834941B2 (ja) 1975-12-11 1975-12-11 プログラマブルモノリシツク集積回路

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5591164A (en) * 1978-12-28 1980-07-10 Fujitsu Ltd Junction collapsible type programmable rom
CA1188418A (en) * 1982-01-04 1985-06-04 Jay A. Shideler Oxide isolation process for standard ram/prom and lateral pnp cell ram

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JPS5271992A (en) 1977-06-15

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