JPS5827103B2 - 多層コ−テイング反射板 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は金属又は非金属板からなる基板上に樹Ｈ旨層を
設は或いは設けることなく、その上に光を反射する層と
保護層とを設けた、照明セード等の照明用、各種光学機
械器具用、太陽光用等に好適な反射板に関するものであ
る。

従来の光反射板はおよそ次のように分類し得られる。

（１） ステンレス或いはアルミニウム等の金属の表
面をパフ研磨、電解研磨、或いは化学研磨したもの。

（２）鉄或いはアルミニウム等の金属の表面にホーロー
処理を施したもの。

（３）ガラス或いは透明樹脂の表面または裏面に真空蒸
着法でアルミニウム等の金属をコーティングするか、或
いは銀鏡反応によって銀をコーティングしたもの。

（４）前記（１）または（３）の表面に透明樹脂皮膜を
設けたもの。

が代表的なものである。

しかし２、（１）のものは表面研磨を必要とし、パフ研
磨ではその仕上げ表面が粗く、金属表面だけでは正反射
性を出すことは極めて困難である。

また電解研磨または化学研磨では湿式となり、使用する
化学薬品の公害問題があるばかりでなく、その研磨面の
正反射性はよくなく、光輝面を形成するには不十分であ
る欠点を有する。

（２）のものは、ホーロー処理を施した表面は平滑性は
兎も角正反射性は全くなく、殆んどが乱反射或いは分散
光しか得られない。

（３）のものは、その表面が金属であるため、耐薬品性
、耐候性、耐摩耗性が小さく、正反射性はよいが、全反
射性はニッケルやクロム等の金属メッキの場合はよくな
い。

またメッキ湿式であるので使用する化学薬品の公害問題
がある等の欠点がある。

（４）のものは前記のものの欠点を解決せんとしたもの
で、金属表面を保護し、正反射率の高いものとなる点は
優れているが、他方樹脂の耐熱性、耐摩耗性、耐光性、
耐候性、耐薬性が問題となる。

即ち耐光性、耐熱性、耐候性が悪いものは経時使用する
と、表面が着色したり、或いは失透したりすること、表
面を清浄にするため布などで拭くと、摩耗傷が生ずるこ
と、樹脂層が厚くなると、光および熱線の吸収が大きく
なり、表面温度が上昇し、物性の低下を来たすこと等の
欠点を有する。

本発明は従来反射板の欠点を改善し、耐熱性、耐薬品性
、耐候性の優れ、且つ反射性の良好な反射板を提供する
にある。

本発明者はさきに、耐熱性塗着板を作るに当って、特定
のアリール基／（アルキル基＋アリール基）のモル百分
率が６５〜１００％の高アリールシリコン樹脂を使用し
、優れた特性を有する塗着板を得ることに成功した（特
願昭５３−３８４０９号参照）。

更に研究を進めた結果、該高アリールシリコン樹脂を反
射板に使用するときは、優れた反射板が得られることを
究明し得本発明を構成したものである。

本発明は基板上に樹脂層を設は又は設けることなく、そ
の上に真空コーティング金属層を設け、更にその上に光
透過性の樹脂層或いは光透過性の無機物層のいずれか一
方を設は或いは設けない３層又は４層からなる多層コー
ティング反射板において、基板上樹脂層と金属の真空コ
ーティング層上の光透過性樹脂層のいずれか一方又は両
方がアリール基／（アルキル基十アリール基）のモル百
分率が６５〜１００％の高アリールシリコン樹脂を使用
することを要旨とするものである。

高アリールシリコン樹脂とは、先願特許願昭５３−３８
４０９号に述べたアリール基／（アルキル基十アリール
基）のモル百分率が６５〜１００％、重合し得る官能基
の官能基数が２〜３で、且つ炭素数／硅素数が４２５〜
１６であるポリアリールアルキルシロキサンを加熱硬化
したものを示すものである。

前記のモル百分率が６５％より小さいと耐熱性が劣る欠
点を生ずる。

また官能基数が２〜３としたのは、樹脂の塗布を容易に
し、塗布後、加熱により重合させ硬化させるためである
。

従来のアルキル基の多いシリコン樹脂に比べて硬度が高
く、次のような各種優れた性能を有するものである。

（１）従来なかったアリール基含有率の高いシリコン樹
脂。

（２）従来のアルキル基だけ又はアルキル基の多いシリ
コン樹脂に比べて、耐熱性が優れ、２５０℃以下の経時
使用に耐えられ、２５０℃以上〜６００℃未満の高温に
おいても長時間でなげれば耐え得る。

又、耐光性、耐候性、耐薬品性、耐水性に優れてＬ・る
。

（３）基板に対する十分な接着性を有する。

（４）金属の真空コーテイング性に優れており、特に高
温度における真空コーティングに関しては殆んど類を見
なＬ・。

（５）ガラス、石英と屈折率が類似しているので、これ
らに塗着した場合、塗着感が少なち−８（６）無色透明
な光透過性のよい塗膜が得られる。

（７）耐曲げ性が極めてよく、折り曲げによる塗膜のひ
び割れや剥離が殆んどなｔ・。

（８）製造に当っての作業性がよく、公害上の問題も殆
んどない。

以上のような特性を有しており、従来のアルキル基含有
率の多いシリコン樹脂では使用することが困難であった
耐熱性用途分野及び各種新分野にも利用し得られる。

本発明における基板としては、金属、非金属のいずれも
使用し得られる。

しかし反射板が使用される用途において受ける応力や熱
等の外部環境条件に耐えることが必要である。

このような基板材料としては、例えば、鉄、ステンレス
、銅、真鍮。

青銅、白銅、アルミニウム、ジュラルミン等の単体金属
またはその合金は勿論、トタン板、ブリキ板の如き金属
で表面コーティングしたものであっても差支えない。

また、例えば、各種の合成高分子材料、ガラス、マイカ
、陶磁器、木材、紙等の非金属板であってもよい。

その上に直接、真空下で金属をコーティングする場合は
真空下において蒸気圧の高い水または低分子量の物質を
含有する材料は使用し得ない。

このような場合樹脂をコーティングすることが必要であ
る。

基板の合成高分子材料の樹脂としては、エポキシ樹脂、
ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、アリル樹脂、シリ
コン樹脂、ポリカーボネート、尿素樹脂が挙げられる。

しかしこれに限定するものではない。

基板上に樹月旨層を設けるに当っては、樹脂を無溶剤で
塗布し熱硬化または焼付硬化するのがよいが、溶剤を使
用し塗布する方法、静電塗装する方法、フィルムを貼り
付ける方法であっても差支えない。

この樹脂としては、光透過性の保護樹脂層に高アリール
シリコン樹脂を使用する場合は前記の各種合成高分子材
料の樹脂でもよいが、その他の場合には高アリールシリ
コン樹脂を使用する。

前記の如き基板上に金属を真空コーティングする方法と
しては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレー
ティング法が適用される。

方法によっては使用する金属も多少異なるが、これらに
使用される金属としては、アルミニウム、ジュラルミン
、銀、ホワイトゴールド、金、ニッケル、クロム、イン
ジュウム、パラジウム、バナジュウム等の光輝性金属が
挙げられる。

しかしこれに限定されるものではなＬ・。

例えば銅等は光輝性はあるが、単体で空気中で使用する
場合、空気中の酸素、炭酸ガス、水素と化合して光輝性
を失うが、その表面を保護膜で保護されるので使用し得
られる。

真空コーティングし得る無機物としては、水晶、石英の
如き酸化硅素類、ナトリウムガラス、カリウムガラス、
鉛ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸ガラス等
のガラス類がまず挙げられる。

これらは真空コーティングしな（・場合は原料が結晶性
又は非晶質であるが、コーテイング膜は多くの場合非晶
質となる。

次に本発明の多層コーティング反射板の製法について述
べる。

ニー５金属を基板に真空コーティングする方法として一
〕−公一 〜珠１、前記した如く、真空蒸着法、スパッタリング法
、イオンブレーティング法がある。

真空蒸着法は最も簡単な方法であるが、平均自山折路内
での金属蒸着粒子の運動エネルギーのみを利用するもの
であるから、多くとも０．１ｅＶ以下のエネルギーしか
なく、被着体への侵入度も１久以下となるので、弱いコ
ーテイング膜しか形成できない。

また被着体と金属膜との接着強度も小さく且つ膜密度も
小さいので、剥離強度が小さい。

該方法における平均自由行路は金属粒子の粒子重量が小
さく、また真空度が高く温度が高い程長くなる。

従って、原子量或いは原子直径の小さＬ・金属がコーテ
ィングしやすく、真空度は少なくとも１０’Ｔｏｒｒ、
望ましくは１Ｏ−５Ｔｏｒｒ以下で行うのがよい。

合金を用いる場合には、互の金層が分子化合物を作る場
合や、平均自由行路や蒸発速度が似通った場合には、真
空蒸着法を用いることができるが、そうでない場合は、
合金を構成している各金属が別々に解離して蒸着するの
で、不均一な膜や強度の弱い膜となるので、スパッタリ
ング法を用いるのがよい。

スパッタリング法は、真空コーティング法よりも高速の
運動エネルギーを持つ励起粒子を被着体に当ててコーテ
ィングする方法であり、運動エネルギーは数１０〜ｌ
ＯＯｅＶ余で被着体に数尺〜数１０久侵入するので、真
空蒸着法に比べて強度および耐久性の高いコーテイング
膜が得られ、金属コーテイング膜の反射性もかなりよい
。

また、合金のコーティングの場合、真空蒸着法において
は合金の融溶物の蒸発によって行うに対し、本方法は固
体ターゲットからの昇華によって気体を発生するため成
分解離が起りにくいので、コーティングすることができ
る特長を有する。

しかし、コーティング材料は円板状や円柱状の如き特殊
な形状に成形した所謂ターゲットとして使用しなげれば
ならない不便さと、コーティング速度がおそいので、生
産能率が悪い欠点がある。

イオンブレーティング法は更に数種の方法に別れるが、
コーティング効率のよい方法を用いた場合は、数ＫｅＶ
のエネルギーで、数１００久被着体に侵入したコーテイ
ング膜を得ることができる。

この方法は前記三方法と異なり、中性粒子ではなく、陽
イオン粒子を利用する方法である。

陽イオン粒子は電場をかげた被着体、即ちカソードに向
って電圧加速されて動くので、飛行速度はスパッタリン
グ法よりも更に速くなる。

また粒子が陽イオンであるため粒子径が小さいので、そ
の平均自由行路は同温同圧では真空蒸着法やスパッタリ
ング法よりも長くなる。

イオンブレーティング法の代表的なものを挙げると次の
通りである。

（１）プラズマイオンブレーティング法 １０−２〜１０ ”’ｌ’ｏｒｒの減圧下、数１００
〜数１０００Ｖの電圧を、コーティング材料と被着体と
の間に印加して、グロー放電を行い、生じたプラズマに
よって蒸発中性粒子をイオン化してコーティングする方
法である。

この方法の特徴はイオン化率が数１０％高く強力なコー
テイング膜を形成することができ、且つ電場の電気力線
に沿って粒子が飛行するので、裏面コーティングが可能
であるという利点がある。

しかしカソードの温度上昇が大きく、被着体の耐熱性が
要求されることと平均自由行路が短Ｌ・ため大型の物を
コーティングする場合には工夫が必要である欠点を有す
る。

（２）ＲＦシイオンブレーティング 法発粒子を高周波発振コイルの中を通過させ、イオン化
してコーティングする方法である。

この方法の特徴は、グロー放電を用いないため、１０−
３〜１０ ’Ｔｏｒｒの真空度でもコーティングでき
ることと、カソードの温度上昇が少ない利点を有するが
、反面イオン化率が小さいこと及びＲＦコイルの直径以
上のコーティングが困難であるので、投影面積の広いコ
ーティングが出来にくい欠点がある。

（３）印加電圧法 （１）のプラズマイオンブレーティング法と同様の条件
で、但し減圧度を１０−４〜１０−’Ｔｏｒｒで真空コ
ーティングを行わしめる印加電圧法である。

本方法においては、目に見えるグロー放電はほとんど観
察されないが、カソード電流は十分観察することが出来
、１０’Ｔｏｒｒ程度の真空度より真空度が低く、且つ
電圧勾配が数１０Ｖ／ｃｒｎ以上の場合においてはかな
り効果を有する方法である。

この方法はプラズマイオンブレーティング法と真空蒸着
法との中間の特徴を有する方法である。

（４）イオンガンを使用する方法 第１〜第３の方法は予め抵抗加熱や電子線で蒸発させた
粒子を、電場やプラズマ或（・は高周波でイオン化する
に対し、この方法はガンによつて直接イオン化する方法
である。

この方法の代表的なものとしては、高周波を用（・るｉ
−ガン法とホローカソード法とがある。

いずれもイオン化効率が高く、真空度が高い真空系でも
コーティングが可能である利点を有する。

イオンブレーティング法を行う場合はこれらの特徴を十
分留意してコーティングを行うことが大切である。

さもなければ金属コーティングの場合、鏡面が着色した
り或いは濁ったりして反射率を低下させることになる。

応対性金属をコーティングする場合は、反射性を良好に
するため空気等の反応性ガスを可及的に除去して置く必
要がある。

さもないと、全反射率が落ちたり、或（・は反射面が着
色したりまたは変色することがある。

無機物の真空コーティングを行うには前記の金属を真空
コーティングする装置を使用してコーティングすること
ができる。

しかしながら、金属と無機物との操作は相当異なる。

その第１は無機物の融解又は昇華、蒸発に要するエネル
ギーは金属の場合のエネルギーに比べてはるかニ高いこ
とである。

従って、いずれのコーティング法をとる場合においても
、コーチインク時間は金属の場合に比べて長くなり、ま
た気化やイオン化を行う方法も無機物の場合がより限定
される。

例えば金属の多くは高融点金属を用いた抵抗加熱によっ
て融解し気化することが出来るが、無機物のほとんどは
抵抗加熱を用いることが出来ず電子線やイオン流によっ
て気化しなければならない。

また第２の相違として、金属は熱伝度が大きいため、一
部を加熱すれば全体が均一に熱せられ融解するが、無機
物の場合は加熱された部分およびその近傍のみが融解す
ることが多い。

本発明におち・て用いる無機物は全て化合物の構造を有
しており、このことが又金属とは異なった真空コーティ
ング特性をもっているのでこの点にも留意して真空コー
ティングを行わなければならない。

本発明において光透過性保護樹脂層およびまたは樹脂層
として使用する高アリールシリコン樹脂とは、了り−ル
基／（アルキル基＋アリール基）のモル百分率が６５％
〜１００％、重合し得る官能基の官能基数が２〜３であ
るポリアルキルアリールシロキサンを加熱硬化したもの
を示すものである。

前記のモル百分率が６５％より小さいと耐熱性が劣る欠
点を生ずる。

また官能基数が２〜３としたのは、樹脂の塗布を容易に
し、塗布後、加熱により重合させて硬化させるためであ
る。

水高アリールシリコン樹脂は、それ自身が比較的低粘度
のものである場合は、そのまま使用し得られるが、固体
であったり、高粘度の液体の場合は、これを溶剤で希釈
して使用する。

この溶剤としては例えば、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素；クロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の芳
香族塩化物；塩化メチレン、トリクロルエチレン等の脂
肪族塩化物が挙げられる。

その希釈度は塗布する膜厚が厚Ｌ・場合は高濃度にし、
膜厚が薄い場合は低濃度にするのがよい。

しかし、あまり高濃度にすると、硬化した塗膜から溶剤
が逃散し難くなり、その結果塗膜の性状低下をもたらす
ことが多いので、むしろ適当な希釈度の溶液を用いて数
回塗りを行うことが望ましい。

濃度は５％〜７０％、特に好ましいのは５％〜３０％で
ある。

該樹脂液は無触媒でも使用し得られるが、硬化速度をコ
ントロールするためには、硬化触媒を添加するのが望ま
しい。

硬化触媒としては、酸型硬化剤、塩基型硬化剤、金属塩
硬化剤等、シリコン樹脂の硬化触媒は凡て使用し得られ
る。

酸型硬化剤としては、例えばオクチル酸鉛、リン酸エス
テル、トリクロル酢酸、弗化硼素エーテラート、ジメチ
ル硫酸、フェニルプロピオン酸、五酸化リン、トルエン
スルホン酸、安息香酸、メタクレゾール、フェノール、
リン酸、ポリリン酸、塩化アミン、硫酸、ベンゼンスル
ホン酸、四塩化錫、フェニル酢酸、フェニル酪酸等が挙
げられる。

塩基型硬化剤としては、例えばテトラブチルアンモニウ
ムハイドロオキサイド、テトラブチルホスニウムハイド
ロオキサイド、水酸化リチウム、水酸化カリウム等の有
機および無機塩、エチレンジアミン等が挙げられる。

金属塩硬化剤としては、例えばジプチル錫シラウリレー
ト、スタナスオクトエート、ナフテン酸コバルト、オク
チル酸鉛、テトラブチルチタネート、テトライソプロピ
ルチタネート、鉛ラウレート、亜鉛ステアレート、鉛オ
クトエート、鉛ジベシックオクトエート、ジブチル錫メ
ルカプチド、錫トリベンジルラウレート、トリベンジル
錫ステアレート等が挙げられる。

しかし、表面に亀列が生ずることなく平滑な面を有する
優れた塗膜を容易に得るためには、弱酸である有機酸、
その誘導体、それらの金属塩、および有機酸もしくは加
熱時分解してそれらの化合物を生成するものの単独また
は混合物が好ましい。

有機酸金属塩の金属としては、典型両性元素例えばスズ
、アルミニウム等および遷移金属例えばＦｅ １Ｎｉ、
Ｃｏ等が好ましい。

その代表的なものとしては、例えばオクチル酸、酢酸、
プロピオン酸、安息香酸、メタクレゾール、フェノール
、トリクロル酢酸、過酸化ベンゾイル、クメンハイドロ
パーオキサイド等の有機酸および加熱時分解して有機酸
を生成するもの；エチレンジアミン、テトラブチルアン
モニウムハイドロオキサイド等の有機アミンおよび加熱
時分解して有機アミンを生成するもの；酢酸ニッケル、
オクチル酸鉛、ジメチル錫シラウリレート、ナンテン酸
コバルト等の有機酸金属塩が挙げられる。

特に金属塩および塩基からなる中庸の活性を有する例え
ば、オクチル酸とオクチル酸鉛、エチレンジアミンと酢
酸ニッケル等が好ましい。

硬化剤の添加量は活性の程度によって異なるが、通常５
重量％以下、好ましくは２重量％以下である。

このような硬化剤を添加した高アリールアルキルシロキ
サン液はスプレー、帯塗り法、浸漬法等により塗布され
る。

この硬化は加熱炉内において加熱によって行うことがで
きる。

硬化は３段階で加熱する。第１段階：硬化反応前に溶媒
の逃散乾燥を行う加熱であり、室温以上溶媒の沸点まで
の温度に加熱する。

通常温度は室温〜１ｏｏ℃、好ましくは３０℃〜６０℃
である。

この状態で通常５分〜１００分、好ましくは２０〜４０
分保つ。

第２段階：初期縮合反応を行わしめる加熱であるにの段
階におＬ・て樹脂中の縮合性官能基の多くが反応して多
量の低分子脱離物を生成する。

従ってこの段階で反応温度をあまり高くすると、未だ十
分な強度を保有しない弱い強度被膜が、これら脱離低分
子の逃散抵抗により破壊されるので、ひび割れやピンホ
ールの生成、剥離現象が起こる。

従つて、硬化温度を８０℃〜２３０℃、好ましくは１０
０〜２００℃の温度で、１時間〜２４時間、好ましくは
１〜１０時間保つ。

この段階は従来の了り−ル基を持たないあるいは含有率
の少なち・シリコン樹脂の塗膜硬化ではこのような必要
はないが、アリール基の含有率の高いシリコン樹脂は縮
合速度がおそＬ・ので、硬化温度を早くあげたり、或い
は活性の強い硬化剤を多量ニ使用すると、強度の弱いあ
るＬ・はひび割れのある不良膜しか得られない。

第３段階：残余の縮合性官能基の反応の完結および塗膜
の老成を行う、いわゆるキュア反応を行う加熱である。

２００〜３５０℃、好ましくは２３０〜２８０℃で、１
時間〜２日、好ましくは３時間〜２０時間加熱する。

これによりひび割れもな（・優れた塗膜が得られる。

水高アリールシリコン樹脂は無色透明な光透過性のよい
塗膜であり、従来のアルキル基だけまたはアルキル基の
多いアルキルアリールポリシロキサン樹脂膜に比べて、
耐熱性が優れ、２５０℃以下の経時使用に耐えられ、２
５０〜６００℃未満の高温においても長時間でなげれば
耐え得られ、また耐光性、耐候性、耐薬品性、耐水性お
よび耐湿性に優れ、しかも耐曲げ性が極めてよく、折曲
げによる塗膜のひび割れや剥離が殆んどなく、また基板
や金属膜との接着性が良好である特性を有している。

従って、この高アリールシリコン樹脂を基板上の樹脂層
、またはおよび光透過性の保護樹脂層に使用するので、
反射板の耐光性、耐候性、耐水性、耐湿性、耐薬品性、
耐曲げ性が優れている。

又、保護層が光透過性の無機物を用いた場合には耐油性
、耐溶剤性、耐光性、耐摩耗性の優れた保護膜が得られ
る。

これらは高温に耐え得られるばかりでなく、金属の正反
射性の特性を発揮し得られ、優れた反射性を示し、任意
の反射面曲率との組合せにより極めて鮮明な反射像或い
は精度の高い集光性、配光性を有する反射板が得られる
。

実施例 １ フェニル基／（メチル基＋フェニル基）＝８３．６モル
％の高アリールシリコン樹脂で塗着し、加熱硬化した厚
さ０．１ｃｍ、縦横とも１０Ｃ＋７１のステンレス板を
スパッタリング装置内の基板ホルダーに保持し、一方、
ターゲットとしては板状クロムを用いて、基板とターゲ
ット間の距離を１０ｃｍに設定し、ペルジャー内の減圧
度を６Ｘ１０−６Ｔ ｏｒｒに排気した後アルゴンガス
を導入して３×１０ ”Ｔｏｒｒ に昇圧後シャッ
ターを閉したまま出力ＩＫｗ、周波数１３．５６ ＭＨ
ｚ ノ高周波、コーティング圧力３Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ
の条件下で５分。

間クリニングスパッタリングをし、ターゲット表面の浄
化と放電の安定化を行い、次にシャッターを開キ、１０
分間クロムのスパッタリングを行った。

得られたクロムの反射板を３００℃の恒温槽内におＬ・
て耐熱試験を行った結果、反射率を始め、表面着色等の
変化はなく、高耐熱性の反射板であり、又、水道水に５
日間浸漬しても上記と同様異状な変化はなかった。

その上、ゴバン目テストで００ は と極めて優れた密着性を示すものであつ００ た。

石油ストーブや赤外線ロスターの輻射熱反射板として好
適である。

実施例 ２ 厚さ０．２ｃｍ、縦横とも２０σのガラス板にン工−／
＋４／（メチル基＋フェニル基）＝８３．６モル％の高
アリールシリコン樹脂を塗布し、加熱硬化せしめた後真
空コーターのペルジャー内に入れ、ハースライナの真上
に平行な２５ｃｍの位置に保持し、真空度を２Ｘ１０
’Ｔｏｒｒにした後窒素ガスを導入して３Ｘ１０−３
Ｔｏｒｒに昇圧後、再び２×１０”ｐｏｒｒに減圧し、
同じ操作を２回繰返した後窒素ガス雰囲気中で表２の２
に示す如き、印加電圧−Ｉ ＫＶ、ＥＢ出力１．５ Ｋ
Ｗ、コーティング圧力２Ｘ１０ ”’ｌ’ｏｒｒの条
件下でグロー放電を起こさせ、基板が常温の状態で電子
ビームを以って金属チタンを加熱蒸発せしめ５分間反応
コーティングを行なった。

得られた金色の窒化チタンを有する３層構造の反射板を
モース硬度計で測定した結果、硬度は２〜３であり、光
輝面をガーゼで強くこすっても傷がつかず、耐摩耗性の
強いものであった。

又、１８０℃の恒温槽中で耐熱テストした結果、異状な
変化はなく、耐熱度の高Ｌ・反射板でした。

この様な高耐摩耗性、耐熱性の反射板は喫茶店、飲食店
、娯楽場建物等の内装材、外装材等として用いる事によ
り美しい黄金のミラーが得られる。

又、置物や灰朋セットの表面加工及び装飾品類の表面処
理等幅広く応用し得られ、又、種々の形状の照明用反射
セードとして用いる格調の高いインテリア照明器具とな
る。

実施例 ３及び４ 基板材料として厚さ０．１ｃｍＸ ５ｃｍＸ １０ｃ１
１Ｎの板ガラス（実施例３）及びアルミニウム板（実施
例４）を選び、これを真空コーターのペルジャー内に入
れ、ハースライナの真上に平行で３０ｃ１１１の距離に
置き、真空度を２Ｘ１０−５Ｔｏｒｒにした後、実施例
３ではアルミニウム、実施例４では砲金を電子ビームに
より、加熱蒸発せしめ、表２の３及び４に示す如き実施
例３では印加電圧−３ＫＶ、ＥＢ出力２ＫＷコーティン
グ圧力６〜７ＸｌＯ−５Ｔ ｏｒｒ、３６秒間、実施例
４では印加電圧−２ＫＶ、ＥＢ出力４Ｋｗコ−フイング
圧力５〜７×１０−５’Ｉ’ｏｒｒ １分間の条件下で
いずれも空気雰囲気中で基板温度が室温の状態でコーテ
ィングを行った。

この様にして得られた反射板をペルジャー内より取り出
し、反射板全体にフェニル基／（メチル基＋フェニル基
）に８３６モル％の高アリールシリコン樹脂を塗布し、
加熱硬化した。

得られた３層構造の反射板を１８０℃の恒温槽中で耐熱
テストを行い、水道水中に５日間浸漬した結果、いずれ
も異状な変化はなく、又、塩酸、硫酸、水酸化ナトリウ
ム等の各々１０％水溶液中に３０分間浸漬しても侵され
ず、耐熱性、耐水性、耐薬品性の優れたものであり、建
物の天井材ミラー、高湿、高温の環境中で使用に耐える
反射板である。

一方、実施例４のような金色の光沢を呈するものはジャ
ンプリア等のインテリア照明器具として最適である。

実施例 ５及び６ 実施例 ５の場合では厚さ０．３ ｃｍ Ｘ幅１０ｃｍ
Ｘ長さ２０ｃＩ１１のアルミナセラミックス板に、実施
例６の場合には厚さ０，１２ＣＩｆ１のステンレス板を
ヘラ絞り加工により最大直径４０ｃｒｒ１高さ２０ｃｍ
の放物面状に成形し現有研摩後、脱脂洗浄し乾燥させた
４００Ｗ用投光器反射面の内面にそれぞれフェニル基／
（メチル基＋フェニル基）＝８３．６モル％の高アリー
ルシリコン樹脂を塗布し加熱硬化せしめ、これらを各々
、真空コーターのペルジャー内に入れ、実施例５の場合
には基板をハースライナの真上に平行で３０ｃＩＩｌの
位置、実施例６の場合には底辺がハースライナの上に平
行で２０閏の距離になる様に保持し、ペルジャー内の真
空度を９×１Ｏ−６Ｔｏｒｒにした後空気雰囲気中で電
子ビームにより、実施例５では基板温度を１５０’Ｃに
してニッケルを、実施例６では基板が室温の状態で銀を
それぞれ加熱蒸発せしめ、表２の５及び６に示す如き実
施例５では印加電圧−３ＫＶ、ＥＢ出力１．５ＫＷ、
コーティング圧力３〜４Ｘ１０−５Ｔｏｒｒ。

実施例６では印加電圧−３ＫＶ、ＥＢ出力２．５ＫＷ、
コーティング圧力１〜２Ｘ１０ ’Ｔｏｒｒの条件下
でそれぞれ１分間コーティングした。

その後、真空度をｌＸｌ０−５Ｔｏｒｒに減圧し、実施
例５および６の場合共に空気雰囲気中で、基板が室温の
状態で印加電圧−０，５ＫＶ、ＥＢ出力０．４〜０．５
ＫＷ。

コーティング圧力４〜６Ｘ１０ ”ｌ’ｏｒｒで酸化
硅素を５分間コーティングした。

得られた４層構造の反射板は、実施例５の場合は水道水
に浸漬しても表面の変色がなかった、従来の公衆浴場等
に設けられた姿見用のガラスミラーに比べて破損しにく
い、若しも割れても鋭利な破片にならず安全性に富むも
のであった。

実施例６の場合は正反射率が極めて優れたもので、配光
設計が容易になり、正確な配光が得られる。

実施例 ７及び８ 実施例７では基板材料として厚さ０．１ｃｍＸ、幅１０
ｃｒｒｌＸ長さ１５ｃｆｒ１のアルミニウム基板上にフ
ェノール樹脂を、実施例８では合成雲母板の基板上ポリ
カーボネート樹脂のキシレン溶液をそれぞれ塗布し、乾
燥硬化せしめ、これらを真空コーターのペルジャー内に
入れ、ハースライナの真上に平行で３０ｃｒｆｌの距離
に保持し、真空度を２５×１０ ”Ｔｏｒｒにした後
空気雰囲気中で電子ビームを以って、アルミニウムを加
熱蒸発せしめ、表２の７及び８に示す如き印加電圧−３
に■、ＦＢ出力１．５〜２ＫＷ、コーティング圧力６〜
８Ｘ１０ ”Ｔｏｒｒの条件下で３０秒間真空コーテ
ィングを行なった。

得られた反射板をペルジャー内より取り出し、フェニル
基／（メチル基＋フェニル基）＝８３．６モル％の高ア
リールシリコン樹脂を塗布して加熱硬化せしめた。

得られた４層構造の反射板に塩酸、硫酸；水酸化ナトリ
ウム、塩化鋼等の各々１０％水溶液を点滴し、３０分間
放置後も異状な変化はなく、又、水道水、雨水中に３日
間浸漬した結果、異状な変化はなかった。

これらの反射板は衝撃により破損する事なく、安全性に
富み、且つ軽量、自己消化性乃至難燃性等の利点を有し
、店舗、ビルのロビー、フロア−、ジョールーム等の内
装材ミラーとして最適である。

又、種々の形状の照明用反射セードとして用Ｌ・ると格
調の豊かなインテリア照明器具が得られた。

実施例 ９及び１０ 基板材料として厚さ０．１ｃｍＸ幅１０ｃｒｒＩ×長さ
１５ｃｒｎのステンレス板（実施例９）と板ガラス（実
施例１０）を選び、各々の基板上にフェニル基／（メチ
ル基＋フェニル基）＝８３．６モル％の高アリールシリ
コン樹脂を塗布し、加熱硬化せしめた後真空コーターの
ペルジャー内に入れ、ハースライナの真上３０ｃＩｎの
位置に平行で保持し、いずれも真空度を２Ｘ１０ ’
Ｔｏｒｒにした後、空気雰囲気中で電子ビームにより、
アルミニウムを加熱蒸発せしめ、表２の９及び１０に示
す如き印加電圧−３ＫＶ、ＥＢ出力１．５〜２にＷ、
３〜５×１０ ’Ｔｏｒｒのコーティング圧力で基
板が室温の状態で３０秒間真空コーティングを行なった
。

得られた反射板をペルジャー内より取り出し、光輝面に
実施例９の場合にはメラミン樹脂を、実施例１０の場合
ではポリカーボネート樹脂のキシレン溶液を塗布し室温
で放置した後恒温槽で加熱乾燥させた。

得られた４層構造の反射板は、従来の化学研摩したアル
ミに湿式法で無水硅酸をコーティングした反射板あるＬ
・はアルマイト加工した反射板に比較して全反射率は若
干優れるのみであるが、正反射率は極めて優れたもので
あった。

又耐薬品性は塩酸、硫酸、各々１０％水溶液を点滴した
後３０分たっても表面状態の変化はなく、耐水性は、雨
水、水道水中に３日間浸漬しても外観的に異状な変化は
なかった。

この様な反射板はビルのロビー、フロア−、ジョールー
ム等の内装材ミラーに用いること室内を明るくひろびろ
とインテリア効果を高める。

又、正反射性を必要とする照明反射セードとして最適で
ある。

実施例 １１及び１２ 厚さ０．ＩＣＴＩＸ幅１０ｃｍ×長さ１５ｃＩｒＩのア
ルミニウム板（実施例１１）と硅素板（実施例１２）に
フェニル基／（メチル基＋フェニル基）＝８３．６モル
％の高アリールシリコン樹脂を塗布し加熱硬化せしめ、
これらを真空コーターのペルジャー内に入れ、ハースラ
イナの真上に平行で３０ｃｒｆ１の位置に保持し、（・
ずれの場合も真空度を９Ｘ１０ ’Ｔｏｒｒにした後
、空気雰囲気中で実施例１１ではアルミニウムを、実施
例１２では銀をそれぞれ電子ビームにより、加熱蒸発せ
しめ、表２の１１及び１２に示す如き印加電圧−３ＫＶ
、アルミニウムはＥＢ出力１．５〜１．７ ＫＷ、コー
ティング圧力３〜４ Ｘ １０−５Ｔｏｒｒ、銀はＥＢ
出力２．５ ＫＷ、コーティング圧力１〜２Ｘ１０
’Ｔｏｒｒで基板温度が室温の状態でアルミニウムは３
０秒間、銀は１分間真空コーティングした。

得られた反射板をペルジャーより取り出し、上述した高
アリールシリコン樹脂を塗布し、加熱硬ψ★化せしめた
４層構造の反射板は従来の化学研磨したアルミに湿式法
で無水硅酸をコーティングした反射板或いはアルマイト
加工した反射板に比較して全反射率は若干優れるのみで
あるが、正反射率は極めて優れ、実施例１２ではこの点
特に顕著であった。

耐薬品性は硫酸、塩酸、及び水酸化ナトリウム等容々の
１０％水溶液を点滴し、３０分間放置した結果、表面に
異状な変化はなく、化学薬品生産工場、銅イオンを含む
環境、銅鉱山、銅製錬場等の事業所の照明器具の反射板
として腐食される事なく最適なものである。

表１は本発明の実施態様を表記したものであり、表２は
本発明の各実施例における実施条件を表記したものであ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基板上に樹脂層を設けあるいは設けることなく、そ
   の上に金属の真空コーティング層を設け、更にその上に
   光透過性の樹脂層或いは光透過性の無機物層のいずれか
   一方を設けあるいは設けない３層または４層からなる多
   層コーティング反射板において、基板上樹脂層と金属の
   真空コーティング層上の光透過性樹脂層のいずれか一方
   または両方がアリール基／（アルキル基十アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％である高アリールシリコ
   ン樹脂である多層コーティング反射板。 ２ 基板上にアリール基／（アルキル基十アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％の高アリールシリコン樹
   脂層を設け、その上に金属の真空コーティング層を設け
   た特許請求の範囲第１項記載の多層コーティング反射板
   。 ３ 基板上に金属の真空コーティング層を設け、更にそ
   の上に光透過性のアリール基／（アルキル基十アリール
   基）のモル百分率が６５〜１００％の高アリールシリコ
   ン樹脂層を設けた特許請求の範囲第１項記載の多層コー
   ティング反射板。 ４ 基板上に、アリール基／アルキル基十アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％の高アリールシリコン樹
   脂層を設け、その上に金属の真空コーティング層を設け
   、更にその上に光透過性の無機層を設けた特許請求の範
   囲第１項記載の多層コーティング反射板。 ５ 基板上に樹Ｈ旨層を設け、その上に金属の真空コー
   ティング層を設け、更にその上に光透過性の樹脂層を設
   けた特許請求の範囲第１項記載の多層コーティング反射
   板。 ６ 基板上に樹脂層を設け、その上に金属の真空コーテ
   ィング層を設け、更にその上に光透過性のアリール基／
   （アルキル基＋アリール基）のモル百分率が６５〜１０
   ０％の高アリールシリコン樹脂を設けた特許請求の範囲
   第１項記載の多層コーティング反射板。 ７ 基板上にアリール基／（アルキル基十アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％の高アリールシリコン樹
   脂層を設け、その上に金属の真空コーティング層を設け
   、更にその上に光透過性の樹脂層を設けた特許請求の範
   囲第１項記載の多層コーティング反射板。 ８ 基板上にアリール基／（アルキル基十アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％の高アリールシリコン樹
   脂層を設け、その上に金属の真空コーティング層を設け
   、更にその上に光透過性の同様の高アリールシリコン樹
   脂を設けた特許請求の範囲第１項記載の多層コーティン
   グ反射板。 ９ 樹脂層がアリール基／（アルキル基＋アリール基）
   のモル百分率が６５〜１００％、重合し得る官能基の官
   能基数が２〜３で、且つ炭素数／硅素数が４２５〜１６
   であるポリアリールアルキルシロキサンである特許請求
   の範囲第１項記載の多層コーティング反射板。