JPS5811696B2 - How to manufacture stylus parts - Google Patents
How to manufacture stylus partsInfo
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- JPS5811696B2 JPS5811696B2 JP50056953A JP5695375A JPS5811696B2 JP S5811696 B2 JPS5811696 B2 JP S5811696B2 JP 50056953 A JP50056953 A JP 50056953A JP 5695375 A JP5695375 A JP 5695375A JP S5811696 B2 JPS5811696 B2 JP S5811696B2
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
- G11B9/06—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using record carriers having variable electrical capacitance; Record carriers therefor
- G11B9/07—Heads for reproducing capacitive information
- G11B9/075—Heads for reproducing capacitive information using mechanical contact with record carrier, e.g. by stylus
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Rotational Drive Of Disk (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、静電方式のビデオディスク装置に用いるスタ
イラス部品の製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method of manufacturing a stylus component used in an electrostatic video disk device.
画像再生装置として静電方式のビデオディスク装置が用
いられている。An electrostatic video disk device is used as an image reproducing device.
このビデオディスク装置は回転可能な円盤状の記録板に
螺旋状の溝を設け、この溝の内部に信号となる複数個の
凸状部を設け、少くとも上記凸状部を有する溝の表面を
導電層電極で被覆し、この導電層電極の表面を誘電体層
で被覆し、上記溝内を追跡し上記複数個の凸状部と選択
的に接触し、静電容量の変化を出力信号として検出する
りオヤモンドスタイラスを備え、このダイヤモンドスタ
イラスの少くとも先端表面部に導電層電極を設けたもの
である。This video disk device has a rotatable disc-shaped recording plate with a spiral groove, and inside this groove is provided a plurality of convex portions that serve as signals, and at least the surface of the groove having the convex portions is provided. A conductive layer electrode is coated, and the surface of the conductive layer electrode is covered with a dielectric layer, which tracks inside the groove and selectively contacts the plurality of convex portions, and changes in capacitance are used as an output signal. The diamond stylus is equipped with a diamond stylus for detection, and a conductive layer electrode is provided on at least the surface of the tip of the diamond stylus.
この種の装−において、従来ダイヤモンドスタイラス先
端表面部に設ける導電層電極は、例え:′4i空蒸着に
よりアルミニウム膜をダイヤモンドスタイラス先端表面
に付着させて形成していたが、耐着性が極めて悪く、は
く離するうえ演奏により摩些消滅する欠点があった。In this type of device, the conductive layer electrode provided on the surface of the tip of the diamond stylus has conventionally been formed by adhering an aluminum film to the surface of the tip of the diamond stylus by, for example, '4i dry deposition, but the adhesion resistance is extremely poor. However, it had the disadvantage that it peeled off and would wear off when played.
本発明はこのような従来の欠点を解消したもので、以下
その一実施例について図面を用いて説明しよう。The present invention eliminates these conventional drawbacks, and one embodiment thereof will be described below with reference to the drawings.
図において1は矢印7方向へ回転可能な円盤状の記録板
であり、表面に螺旋状の溝が形成され、この溝の底面に
は記録すべき信号に応じ間隔が相隣る同士具なる凸状部
6を複数個形成する。In the figure, reference numeral 1 denotes a disc-shaped recording plate that can be rotated in the direction of the arrow 7, and has a spiral groove formed on its surface, and the bottom of this groove has protrusions that are spaced adjacent to each other according to the signal to be recorded. A plurality of shaped portions 6 are formed.
この記録板1の表面あるいは少くとも上記凸状部6を含
む溝の表面には導電層電極4が被覆され、かつこの導電
層電極4の表面には誘電体層5が被覆されている。The surface of the recording plate 1 or at least the surface of the groove including the convex portion 6 is coated with a conductive layer electrode 4, and the surface of the conductive layer electrode 4 is coated with a dielectric layer 5.
一方、従来のレコードスタイラスと同様、溝内を追跡す
る一本のダイヤモンドスタイラス2は少くとも先端表面
部にチタンからなる導電層電極3が蒸着で被覆され、こ
の表面はチタン合金膜からなる表面保護層8が蒸着され
る。On the other hand, like a conventional record stylus, the single diamond stylus 2 that tracks inside the groove has at least the tip surface covered with a conductive layer electrode 3 made of titanium by vapor deposition, and this surface is protected by a titanium alloy film. Layer 8 is deposited.
したがって記録板1の回転に従い上記ダイヤモンドスタ
イラス2は溝をトレースし、凸状部6と選択的に接触し
、ダイヤモンドスタイラス2の導電層電極3と記録板1
の導電層電極4との間隔の変化によって生ずる静電容量
の変化を出力信号として検出する。Therefore, as the recording plate 1 rotates, the diamond stylus 2 traces the groove and selectively contacts the convex portion 6, and the conductive layer electrode 3 of the diamond stylus 2 and the recording plate 1
A change in capacitance caused by a change in the distance between the conductive layer electrode 4 and the conductive layer electrode 4 is detected as an output signal.
このような構成のビデオディスク用スタイラス部品は次
のようにして製造される。A video disc stylus component having such a structure is manufactured as follows.
すなわち、まず上記ダイヤモンドスタイラス2上に金属
たとえばチタンを真空蒸着し、その後真空中で800〜
2000℃でたとえば1時簡熱処理を行なう。That is, first, a metal such as titanium is vacuum-deposited on the diamond stylus 2, and then 800~
A simple heat treatment is performed at 2000° C. for, for example, one hour.
すると上記チタンは上記ダイヤモンド中に拡散あるいは
ダイヤモンド表面層でダイヤモンドと化学結合し炭化チ
タンを形成し強固に耐着する。Then, the titanium diffuses into the diamond or chemically bonds with the diamond in the diamond surface layer to form titanium carbide and firmly adheres to the diamond.
その耐着力は5kg/−以上である。Its adhesion resistance is 5 kg/- or more.
これにより、上記導電層電極が形成される。This forms the conductive layer electrode.
この例では導電層電極としてチタンを用いた場合を示し
たが、この種の導電層電極としては、チタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ク
ロム。This example shows the case where titanium is used as the conductive layer electrode, but examples of this type of conductive layer electrode include titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, and chromium.
モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト、
ニッケル、トリウムの一種または数種を用いても同様に
実用出来る。molybdenum, tungsten, manganese, iron, cobalt,
It is also possible to use one or more of nickel and thorium.
この場合、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバル
ト、ニッケルおよびトリウムはチタンと同様抵抗加熱真
空蒸着により上記の導電層電極をダイヤモンド上に形成
する。In this case, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, and thorium are used to form the above conductive layer electrode on the diamond by resistance heating vacuum evaporation, similar to titanium.
またジルコニウム、ハウニウム、ニオブ、タンタル、モ
リブデン、タングステンの如き高融点金属は、スパッタ
リング蒸着あるいは電子ビーム蒸着により上記の導電層
電極をダイヤモンド上に形成する。Further, the above conductive layer electrode is formed on the diamond by sputtering deposition or electron beam deposition of a high melting point metal such as zirconium, haunium, niobium, tantalum, molybdenum, or tungsten.
なおこれらの導電層電極のダイヤモンドへの耐着力を強
めるために、チタンの場合と同じぐたとえば真空中にお
いて800〜2000℃の温度でたとえば1時間熱処理
を行なう。In order to strengthen the adhesion strength of these conductive layer electrodes to diamond, heat treatment is performed at a temperature of 800 DEG to 2000 DEG C. for 1 hour in a vacuum, as in the case of titanium.
これらの場合熱処理雰囲気、温度が重要である。In these cases, the heat treatment atmosphere and temperature are important.
すなわちダイヤモンドスタイラスが熱処理により酸化さ
れないために、雰囲気は非酸化性雰囲気たとえば真空、
アルゴンガス雰囲気でなければならない。In other words, since the diamond stylus is not oxidized by heat treatment, the atmosphere must be non-oxidizing, such as vacuum,
There must be an argon gas atmosphere.
また熱処理温度が800℃未満では、上記蒸着金属のダ
イヤモンドへの拡散あるいはダイヤモンド表面層におけ
る化学結合が行なわれず、上記蒸着金属の耐着性が悪い
。If the heat treatment temperature is less than 800° C., the vapor-deposited metal will not diffuse into the diamond or chemically bond in the diamond surface layer, resulting in poor adhesion resistance of the vapor-deposited metal.
また熱処理温度が2000℃を超えると、たとえば極く
微量の酸素ガスが熱処理雰囲気に存在しても、ダイヤモ
ンドスタイラス表面あるいは全体が酸化し、実用に供し
ない。Furthermore, if the heat treatment temperature exceeds 2000° C., even if a very small amount of oxygen gas is present in the heat treatment atmosphere, the surface or the entire diamond stylus will be oxidized, making it unusable.
上記の導電層電極を設けたダイヤモンドスタイラスを表
面保護層8を設けないで使用すると、その実用寿命は1
00時間程度である。If the diamond stylus provided with the above conductive layer electrode is used without providing the surface protective layer 8, its practical life will be 1
It is about 00 hours.
一方、本発明者等は、たとえばチタン合金膜からなる表
面保護層を上記導電層電極の上に積層して多層構造にす
ると、上記ダイヤモンドスタイラスの実用寿命が著るし
く伸長する事を見い出した。On the other hand, the present inventors have found that the practical life of the diamond stylus can be significantly extended by laminating a surface protective layer made of, for example, a titanium alloy film on the conductive layer electrode to form a multilayer structure.
すなわち、上記導電層電極の厚さをo、oi〜0.1μ
m程度にし、T 1−5AI −2Cr −I Feか
らなる0、05〜0.5μm程度の厚さの表面保護層を
たとえばスパッタリング蒸着により上記導電層電極の上
に積層し、これを非酸化性雰囲気たとえば真空中で50
0〜2000℃の温度においてたとえば1時間熱処理す
ると、そのダイヤモンドスタイラスの実用寿命は数10
0時間以上に伸長する事を見い出した。That is, the thickness of the conductive layer electrode is o, oi ~ 0.1μ
A surface protective layer made of T1-5AI-2Cr-I Fe with a thickness of about 0.05 to 0.5 μm is laminated on the conductive layer electrode by sputtering deposition, for example, and this is coated with a non-oxidizing material. Atmosphere, for example, 50
If heat treated for one hour at a temperature of 0 to 2000°C, the practical life of the diamond stylus will be several tens of degrees.
It was found that the time can be extended to more than 0 hours.
この優れた寿命特性は、上記チタン合金スパッタ膜が、
機械的強度、耐熱性共に優れている事に起因している。This excellent lifespan characteristic is due to the above titanium alloy sputtered film.
This is due to its excellent mechanical strength and heat resistance.
この場合、チタン合金としては上記の実施例に限らず、
パラジウム、銅、錫、クロムモリブデン、鉄、バナジウ
ム、マンガンのうちの一種または数種を含むチタンの合
金であれば耐着性、耐摩耗性共に優れている。In this case, the titanium alloy is not limited to the above examples;
A titanium alloy containing one or more of palladium, copper, tin, chromium molybdenum, iron, vanadium, and manganese has excellent adhesion resistance and wear resistance.
すなわち、その組成の具体例を示すと、Ti−0,5p
d 、Ti−5AI −ICu 、 T 1−5AI−
2,58n 、 T 1−1−5AI−2Cr−I 、
Ti−2AI−2Fe 、TiTi−5AI−I 、T
i−6AI−4V、Ti−4AI −4Mn 、Ti−
4AI −3M。That is, to give a specific example of its composition, Ti-0,5p
d, Ti-5AI-ICu, T1-5AI-
2,58n, T1-1-5AI-2Cr-I,
Ti-2AI-2Fe, TiTi-5AI-I, T
i-6AI-4V, Ti-4AI-4Mn, Ti-
4AI-3M.
−IV、Ti−8ATi−8AI−I、TiTi−7A
I−4゜Ti−8Mn、Ti−13V−11Cr−3A
I等である。-IV, Ti-8ATi-8AI-I, TiTi-7A
I-4゜Ti-8Mn, Ti-13V-11Cr-3A
I etc.
以上の実施例ではチタン合金を示したが、チタン合金以
外にクロム合金、モリブデン合金、タングステン合金、
ニオブ合金、タンタル合金、ジルコニウム合金も有効で
ある。In the above examples, titanium alloy was shown, but in addition to titanium alloy, chromium alloy, molybdenum alloy, tungsten alloy,
Niobium alloys, tantalum alloys, and zirconium alloys are also effective.
すなわちモリブデン鉄、コバルト、チタンのうちの一種
または数種を含むクロム合金、アルミニウム、クロム、
シリコン、ニッケル、硼素のうちの一種または数種を含
むモリブデン合金、モリブデン、ジルコニウム、ニオブ
、ダンタルのうちの一種または数種を含むタングステン
合金、タングステン、チタン、バナジウム、モリブデン
、ジルコニウムの一種または数種を含むニオブ合金、チ
タン、ハフニウム、タングステン、ニオブ、ジルコニウ
ム、クロム、モリブデン、バナジウムのうちの一種また
は数種を含むタンタル合金、錫、鉄、ニッケル、クロム
、ニオブ、銅、モリブデンのうちの一種または数種を含
むジルコニウム合金が有効である。In other words, chromium alloys containing one or more of molybdenum iron, cobalt, and titanium, aluminum, chromium,
Molybdenum alloy containing one or more of silicon, nickel, and boron; tungsten alloy containing one or more of molybdenum, zirconium, niobium, and dantal; one or more of tungsten, titanium, vanadium, molybdenum, and zirconium. niobium alloy containing titanium, hafnium, tungsten, niobium, zirconium, chromium, molybdenum, tantalum alloy containing one or more of vanadium, one or more of tin, iron, nickel, chromium, niobium, copper, molybdenum Zirconium alloys containing several types are effective.
これらの合金膜の形成法は、上記実施例ではスパッタリ
ング蒸着を用いたが、これは合金膜の蒸着が組成の変化
少なく実現出来るためで、これに類似した方法であれば
いずれの方法でもよく、スパッタリング蒸着に限定しな
い。In the above examples, sputtering deposition was used as the method for forming these alloy films, but this is because the alloy films can be deposited with little change in composition, and any similar method may be used. It is not limited to sputtering deposition.
例えばイオンビーム蒸着でも可能である。For example, ion beam evaporation is also possible.
なお、熱処理を上記実施例では真空中で行なったが、炭
化性雰囲気例えばメタンガス中、あるいは窒化性雰囲気
例えばアンモニア中で行なうと、上記合金層の表面が、
それぞれ炭化および窒化し機械的強度がより改良される
。Although the heat treatment was carried out in a vacuum in the above embodiments, if the heat treatment is carried out in a carbonizing atmosphere such as methane gas or a nitriding atmosphere such as ammonia, the surface of the alloy layer becomes
Mechanical strength is further improved by carbonization and nitridation, respectively.
以上のように本発明によれば実用寿命の著るしく長いス
タイラスを提供でき、ビデオディスク装置に用いて犬な
る効果を奏する。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a stylus with a significantly long practical life, and it can be used in a video disk device with great effects.
図は本発明により得られるスタイラス部品を用いたビデ
オディスク装置の一例を示す要部断面図である。
1・・・・・・記録板、2・・・・・・スタイラス、3
・・・・・・導電層電極、4・・・・・・導電層電極、
5・・・・・・誘電体層、6・・・・・・凸状部、8・
・・・・・表面保護層。The figure is a sectional view of essential parts showing an example of a video disc device using a stylus component obtained according to the present invention. 1...recording board, 2...stylus, 3
... Conductive layer electrode, 4... Conductive layer electrode,
5... Dielectric layer, 6... Convex portion, 8...
...Surface protective layer.
Claims (1)
蒸着によりチタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジ
ウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タング
ステン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、トリウム
の一種または数種より成る導電層電極を形成した後、非
酸化性雰囲気において800℃〜2000℃の温度で熱
処理し、その後、この導電層電極の表面に□蒸着により
、パラジウム、銅、錫、クロム、モリブデン、鉄、バナ
ジウム、マンガンのうちの一種または数種を含むチタン
合金、モリブデン、鉄、コバルト、チタンのうちの一種
または数種を含むクロム合金、アルミニウム、クロム、
シリコン、ニッケル、硼素のうちの一種または数種を含
むモリブデン合金、モリブデン、ジルコニウム、ニオブ
、タンタルのうちの一種または数種を含むタングステン
合金、タングステン、チタン、バナジウム、モリブデン
、ジルコニウムの一種または数種を含むニオブ合金、チ
タン、ハフニウム、タングステン、ニオブ、ジルコニウ
ム、クロム、モリブデン、バナジウムのうちの一種また
は数種を含むタンタル合金、錫、鉄、ニッケル、クロム
、ニオブ、銅、モリブデンのうちの一種または数種を含
むジルコニウム合金から選ばれた一種より成る表面保護
層を形成し、更にこれを非酸化性雰囲気において500
〜2000℃の温度の熱処理することを特徴とするスタ
イラス部品の製造方法。1 At least on the tip surface of the diamond stylus,
After forming a conductive layer electrode made of one or more of titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, cobalt, nickel, and thorium by vapor deposition, it was heated to 800 nm in a non-oxidizing atmosphere. A titanium alloy containing one or more of palladium, copper, tin, chromium, molybdenum, iron, vanadium, and manganese is heat-treated at a temperature of ℃ to 2000 ℃, and then □ vapor-deposited on the surface of this conductive layer electrode. Chromium alloys containing one or more of molybdenum, iron, cobalt, titanium, aluminum, chromium,
Molybdenum alloy containing one or more of silicon, nickel, and boron; tungsten alloy containing one or more of molybdenum, zirconium, niobium, and tantalum; one or more of tungsten, titanium, vanadium, molybdenum, and zirconium niobium alloy containing titanium, hafnium, tungsten, niobium, zirconium, chromium, molybdenum, tantalum alloy containing one or more of vanadium, one or more of tin, iron, nickel, chromium, niobium, copper, molybdenum A surface protective layer made of one selected from several types of zirconium alloys is formed, and this is further heated for 500°C in a non-oxidizing atmosphere.
A method for manufacturing a stylus component, characterized by heat treatment at a temperature of ~2000°C.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50056953A JPS5811696B2 (en) | 1975-05-13 | 1975-05-13 | How to manufacture stylus parts |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50056953A JPS5811696B2 (en) | 1975-05-13 | 1975-05-13 | How to manufacture stylus parts |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS51131617A JPS51131617A (en) | 1976-11-16 |
JPS5811696B2 true JPS5811696B2 (en) | 1983-03-04 |
Family
ID=13041897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50056953A Expired JPS5811696B2 (en) | 1975-05-13 | 1975-05-13 | How to manufacture stylus parts |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5811696B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5722835U (en) * | 1980-07-14 | 1982-02-05 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4966102A (en) * | 1972-09-06 | 1974-06-26 | ||
JPS49125008A (en) * | 1973-04-02 | 1974-11-29 |
-
1975
- 1975-05-13 JP JP50056953A patent/JPS5811696B2/en not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4966102A (en) * | 1972-09-06 | 1974-06-26 | ||
JPS49125008A (en) * | 1973-04-02 | 1974-11-29 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS51131617A (en) | 1976-11-16 |
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