JPS5810003B2 - サ−キユレ−タ - Google Patents

サ−キユレ−タ

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Publication number
JPS5810003B2
JPS5810003B2 JP52122104A JP12210477A JPS5810003B2 JP S5810003 B2 JPS5810003 B2 JP S5810003B2 JP 52122104 A JP52122104 A JP 52122104A JP 12210477 A JP12210477 A JP 12210477A JP S5810003 B2 JPS5810003 B2 JP S5810003B2
Authority
JP
Japan
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substrate
circulator
ferrimagnetic
conductor
ferrimagnetic substrate
Prior art date
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Expired
Application number
JP52122104A
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English (en)
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JPS5455149A (en
Inventor
久崎力
小西弘治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP52122104A priority Critical patent/JPS5810003B2/ja
Publication of JPS5455149A publication Critical patent/JPS5455149A/ja
Publication of JPS5810003B2 publication Critical patent/JPS5810003B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P1/00Auxiliary devices
    • H01P1/32Non-reciprocal transmission devices
    • H01P1/38Circulators
    • H01P1/383Junction circulators, e.g. Y-circulators
    • H01P1/387Strip line circulators

Landscapes

  • Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はサーキュレータに関し、特にマイクロストリッ
プを利用したサーキュレータに関する。
最近、マイクロストリップ回路が多くのマイクロ波回路
にも適用されるになり、サーキュレータにおいても、従
来のトリプレーストリップライン形と同程度の製品がマ
イクロストリップサーキュレータについても得られるよ
うになってきた。
マイクロストリップラインサーキュレータの形式は、い
ろいろ考えられ、マイクロストリップに用いる基板の種
類で分類するとセラミック基板とフェリ磁性体基板を用
いたものとの2種類がある。
最近は、フェリ磁性体の改良、基板製作技術などの進歩
により、フェリ磁性体を基板としたサーキュレータが多
く作られるようになってきた。
第1図および第2図は、従来のフェリ磁性体基板を用い
たマイクロストリップサーキュレータを示す正面図およ
び断面図である。
これらの第1図および第2図において、非可逆素子と基
板の両方の働きをするフェリ磁性体基板1には、円形接
合部2a、伝送線路2b、2dおよび容量性片2Cから
構成される内部導体2が形成されていて、この容量性片
2cは伝送線路2b、2dに突出して設けられていて、
これらの伝送線路2b、2dおよび容量性片2cで分岐
線路が構成されている。
また前記フェリ磁性体基板1には、外部導体3およびフ
ェリ磁性体基板1に垂直に磁気バイアスを加えるだめの
磁石4が取り付けられている。
このようなフェリ磁性体基板1は、金属を蒸着したのち
外部導体3に面する側の金属はそのままで、表面のみを
エツチングして内部導体2を形成している。
次にフェリ磁性体基板1として、イツトリウム・鉄・ガ
ネット(以下rYIGjと略称する)を用いた場合につ
いてさらに構造を説明する。
まず、YIG基板の厚さを一般のマイクロ波集積回路に
多く用いられているセラミック基板と同じ0.635m
mとし、YIG基板の比誘電率εを14として、フェリ
磁性体基板上に設けた50Ωの特性インピーダンス線路
の導体幅をHorizon House発行The m
icrowave englneers hand b
ookand buyer’s guide、1968
.P95のグラフを用いて計算すると約0.35rrな
る。
一般にマイクロ波回路に用いられるストリップラインの
特性インピーダンスは、50Ωであるので、サーキュレ
ータの外部回路との接続個所の特性インピーダンスも接
続が容易にできるように50Ωに選ばれるので、第1図
における内部導体20幅は0.35mmとなる。
第1図のマイクロストリップラインサーキュレータを、
マイクロ波回路に実装して使用する場合に、同軸接栓、
セラミック基板、テフロングラスファイバーを用いた基
板などと接続する必要あるが、前述の如く内部導体幅が
0.35mmと狭いため電気的こ接続部に不連続が起り
安定した電気特性か得られず、また機械的には接続部の
強度が弱くなるとともに半田付けが非常に困難となるな
どの欠点があった。
このような点にかんがみて、第1図のtlをt2まで短
かくして、容量性片2cの位置までフェリ磁性体基板1
の外形を小さくする方法もあるか、このような方法では
フェリ磁性体基板の外形寸法を任意に選べない場合には
実用的ではないという欠点かあった。
本発明の目的は、内部導体の容量性片を外部回路との接
続端を設で上記従来の欠点を除去するようにしたサーキ
ュレータを提供することにある。
本発明は接合部と伝送線路および突出した容量性片で構
成されている分岐線路を有する内部導体が形成されてい
るフェリ磁性体基板と、この基板に取り付けられている
外部導体および磁石からなるサーキュレータにおいて、
前記分岐線路と外部回路との接続端に前記容量性片を配
置したことを特徴とするサーキュレータを提供すること
にある。
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第3図は第1実施例を示し、第3図において、非可逆素
子と基板の両方の働きをするフェリ磁性体基板11には
、円形接合部12a、伝送線路12bおよび容量性片1
2cから構成される内部導体12が形成されていて、こ
の容量性片12cは伝送線路12bに突出して内部導体
2と外部回路との接続端に設けている。
また前記フェリ磁性体基板11には、図示が省略されて
いるが外部導体およびフェリ磁性体基板11に垂直に磁
気バイアスを加えるだめの磁石が取り付けられている。
上記構成の本発明に係る第1実施例のサーキュレータに
おいては、内部導体12の容量性片12cが、外部回路
との接続端に設けられていて、このような容量性片12
cの幅は、第1図における従来のサーキュレータの伝送
線路2dの導体幅0.35mmよりもはるかに大きいの
で、外部回路との電気的、機械的接続が容易となり、特
に接続点に起因する不安性が除去できる。
このように与えられたフェリ磁性体基板11の側縁に容
量性片12Cを設は整合条件を満足させることができれ
ば、第1図の11からt2まで短かくすることによる不
都合は生じない。
これは、通常のマイクロ波回路の設計に用いられている
手段により容易に整合条件を見いだすことができ、この
方法を等何回路を用いて次に説明する。
サーキュレータの外部接続回路のインピーダンスをZo
、分岐線路と円形接合部12aとの接点より円形接合部
側のインピーダンスをZ2、容量性片12cのキャパシ
タンスをc、伝送線路12bの特性インピーダンスと長
さをそれぞれ21,1とすると、このサーキュレータの
1つの分岐回路の等何回路は第4図のようになる。
この場合、円形接合部側のインピーダンスZ2は、フェ
リ磁性体基板1の飽和磁化4πMs、比誘電率εS、動
作磁界および円形接合部の大きさを適当に選ぶと、約1
0%の比帯域にてリアクタンス成分を非常に小さくでき
る。
このような第4図において、外部回路との接続点Aより
サーキュレータ側のインピーダンスZは、(1)式のよ
うになる。
このサーキュレータと外部回路との整合がとれるだめに
は、次の(2)式が満足されればよい。
2=2o・・・・・・・・・・・・・・・(2)これに
より、Zo=50Ω、Z2=25Ω(前述の如くリアク
タンス成分は小さくなるので、計算を簡単にするだめに
リアクタンス成分は無視した。
)の場合についてZlおよびCを計算すると、となる。
したがって、比誘電率εr−14、厚さt=0.635
のフェリ磁性基板11を用いて、f=10GHzのサー
キュレータの場合には、伝送線路12bの長さtを1m
mに選ぶと波長短縮率が約34%である上式よりZ1=
49.97Ω、C=0.22pFとなる。
このように任意の伝送線路12bの特性インピーダンス
と容量片12Cの寸法が上記計算により求められる。
第5図は第2実施例を示し、第3図の第1実施例と同じ
部分は同じ符号で示しその説明は省略する。
第5図に示す第2実施例と第3図に示す第1実施例との
相違点は、伝送線路12dが蛇行して形成されている。
上記構成の本発明に係る第2実施例のサーキュレータに
おいては、伝送線路12dの特性インピーダンスを高く
して伝送線路12dの長さを短かく出来ない場合に有効
である。
なお、本発明は上記実施例に限定されることなく種々の
応用例および変形例があり、たとえば上記実施例におい
ては比誘電率εが14、フェリ磁性体基板の厚さが0.
635mmの場合について説明したが、比誘電率εがさ
らに大きくて、またフェリ磁性体基板の厚さが薄くなる
場合には伝送線路の幅は0.35mmより小さく々るの
で、本発明の適用がより大きな効果を生じる。
また、本発明はサーキュレータについて概要を述べだが
、サーキュレータの一端子を終端したアイソレークに本
発明の原理を適用して、上述の機能および効果を発揮さ
せることができる。
さらにフェリ磁性体基板にエツチングして内部導体を形
成するほかに、内部導体、伝送線路および容量性片を有
する金属板を基板に取り付けてよく、また基板の材質は
フェリ磁性体基板に限定されるものではなく、適宜の基
板を使用することができる。
本発明は以上説明したように、内部導体の容量性片を外
部回路との接続端に設けて導体幅を大きく構成している
ので、外部回路との半田付けなどによる接続が容易にな
るとともに、接続部の不連続に起因する電気特性が起ら
す安定した特性が得られるなどの効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来のサーキュレータの正面図お
よび断面図、第3図ないし第5図は本発明に係るサーキ
ュレータの実施例を示し、第3図は第1実施例の正面図
、第4図は第3図および第5図の等価回路図、第4図は
第2実施例の正面図である。 11・・・・・・フェリ磁性体基板、12・・・・・・
内部導体、12a・・・・・・接合部、12b、12d
・・・・・・伝導線路、12c・・・・・・容量性片。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 接合部と伝送線路および突出した容量性片で構成さ
    れている分岐線路を有する内部導体が形成されているフ
    ェリ磁性体基板と、このフェリ磁性体基板に取り付けら
    れている外部導体および磁石からなるサーキュレータに
    おいて、前記分岐線路と外部回路との接続端に前記容量
    性片を配置したことを特徴とするサーキュレータ。
JP52122104A 1977-10-11 1977-10-11 サ−キユレ−タ Expired JPS5810003B2 (ja)

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JP52122104A JPS5810003B2 (ja) 1977-10-11 1977-10-11 サ−キユレ−タ

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JPS5455149A JPS5455149A (en) 1979-05-02
JPS5810003B2 true JPS5810003B2 (ja) 1983-02-23

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2671912B1 (fr) * 1991-01-21 1993-08-27 Dev Hyperfrequences Dispositif a ferrite, notamment circulateur, pour systemes a hautes frequences, en particulier a hyperfrequences.

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4910647A (ja) * 1972-05-24 1974-01-30
JPS5219061A (en) * 1975-08-04 1977-01-14 Hitachi Ltd Production method of needle cathode

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JPS4910647A (ja) * 1972-05-24 1974-01-30
JPS5219061A (en) * 1975-08-04 1977-01-14 Hitachi Ltd Production method of needle cathode

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