JPH1197433A - 常圧ｃｖｄ装置 - Google Patents
常圧ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPH1197433A JPH1197433A JP25364197A JP25364197A JPH1197433A JP H1197433 A JPH1197433 A JP H1197433A JP 25364197 A JP25364197 A JP 25364197A JP 25364197 A JP25364197 A JP 25364197A JP H1197433 A JPH1197433 A JP H1197433A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- tray
- vacuum cleaner
- gas supply
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ガス供給ヘッドのクリーニングが難しく、又ク
リーニングの為にＣＶＤ装置の稼働率が低下する。 【解決手段】ガス供給ヘッド４とヒータとの間に連続的
に搬送されるトレーの１つに、真空掃除機のヘッド内蔵
トレー１１を用い、このヘッド内蔵トレー１１がガス供
給ヘッド４下にきた時、真空掃除機を「オン」としてガ
ス供給ヘッド４の吸引口１２をクリーニングする。
リーニングの為にＣＶＤ装置の稼働率が低下する。 【解決手段】ガス供給ヘッド４とヒータとの間に連続的
に搬送されるトレーの１つに、真空掃除機のヘッド内蔵
トレー１１を用い、このヘッド内蔵トレー１１がガス供
給ヘッド４下にきた時、真空掃除機を「オン」としてガ
ス供給ヘッド４の吸引口１２をクリーニングする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、連続式の常圧Ｃ
ＶＤ装置に関するものである。
ＶＤ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】連続式常圧ＣＶＤ装置は、図４に示すよ
うに、複数枚のウェーハ１を載置できる連結された複数
枚のトレー２を有し、トレー２はチェーン３によって駆
動される。
うに、複数枚のウェーハ１を載置できる連結された複数
枚のトレー２を有し、トレー２はチェーン３によって駆
動される。
【０００３】４はガス供給ヘッドであり、ヒータ５によ
って加熱されたウェーハ上に反応ガス６を吹き付けるこ
とによりウェーハ１上にＣＶＤ膜が形成される。又ガス
供給ヘッド４はダクトに接続された排気カバー７で覆わ
れている。
って加熱されたウェーハ上に反応ガス６を吹き付けるこ
とによりウェーハ１上にＣＶＤ膜が形成される。又ガス
供給ヘッド４はダクトに接続された排気カバー７で覆わ
れている。
【０００４】ウェーハ１はローダー部８からトレー２上
に供給され、トレーが左方向へ水平移動し、ガス供給ヘ
ッド４直下でウェーハにＣＶＤ膜が形成された後、アン
ローダー部９へ回収される。
に供給され、トレーが左方向へ水平移動し、ガス供給ヘ
ッド４直下でウェーハにＣＶＤ膜が形成された後、アン
ローダー部９へ回収される。
【０００５】気相成長に於いては、ウェーハへのＣＶＤ
膜の成長と共に、ガスの吹出口１０にも生成粉が付着す
る。それをそのままにして動作を続けると、反応ガス６
の流れに乱れが生じ、ウェーハの膜特性に悪影響を及ぼ
すので、定期的にガス吹出口１０をクリーニングしなけ
ればならない。
膜の成長と共に、ガスの吹出口１０にも生成粉が付着す
る。それをそのままにして動作を続けると、反応ガス６
の流れに乱れが生じ、ウェーハの膜特性に悪影響を及ぼ
すので、定期的にガス吹出口１０をクリーニングしなけ
ればならない。
【０００６】従来このクリーニング方法は、ダクトに接
続された排気カバー７を外し、図５の様に、ガス供給ヘ
ッド４を立てた状態にしてガス吹出口１０を、真空掃除
機及びブラシを使用して手作業でクリーニングしてい
た。しかし、ガス供給ヘッドは高温度である為クリーニ
ング作業が難しく、又クリーニングの為の時間消費によ
り装置の稼働率が低下したり、粉塵による人体への影響
が心配される等の問題があった。
続された排気カバー７を外し、図５の様に、ガス供給ヘ
ッド４を立てた状態にしてガス吹出口１０を、真空掃除
機及びブラシを使用して手作業でクリーニングしてい
た。しかし、ガス供給ヘッドは高温度である為クリーニ
ング作業が難しく、又クリーニングの為の時間消費によ
り装置の稼働率が低下したり、粉塵による人体への影響
が心配される等の問題があった。
【０００７】又、ガス吹出口のクリーニング方法として
は、特開昭６１−５０３２７号公報に記載されているよ
うに、固定されたサセプター上にガス供給ヘッドが走査
する形式の常圧ＣＶＤ装置に於いて、ガス供給ヘッドが
別置きのクリーニングユニット上に自動で移動し、クリ
ーニングユニットの真空掃除機やブラシ等で自動的にガ
ス供給ヘッドのガス吹出口をクリーニングする方法があ
る。
は、特開昭６１−５０３２７号公報に記載されているよ
うに、固定されたサセプター上にガス供給ヘッドが走査
する形式の常圧ＣＶＤ装置に於いて、ガス供給ヘッドが
別置きのクリーニングユニット上に自動で移動し、クリ
ーニングユニットの真空掃除機やブラシ等で自動的にガ
ス供給ヘッドのガス吹出口をクリーニングする方法があ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】第１の問題点は、ガス
供給ヘッドは高温度である為、ガス吹出口のクリーニン
グ作業が難しく、又クリーニングの為の時間消費により
装置の稼働率が低下したり、粉塵による人体への影響が
心配される等の問題がある。
供給ヘッドは高温度である為、ガス吹出口のクリーニン
グ作業が難しく、又クリーニングの為の時間消費により
装置の稼働率が低下したり、粉塵による人体への影響が
心配される等の問題がある。
【０００９】ガス吹出口のクリーニングが心配な理由
は、ガスの吹出口に生成粉が付着し、それをそのままに
して動作を続けると、反応ガスの流れに乱れが生じ、ウ
ェーハの膜特性に悪影響を及ぼす為である。
は、ガスの吹出口に生成粉が付着し、それをそのままに
して動作を続けると、反応ガスの流れに乱れが生じ、ウ
ェーハの膜特性に悪影響を及ぼす為である。
【００１０】第２の問題点は、特開昭６１−５０３２７
号公報の方法は、連続式常圧ＣＶＤ装置では実現し難し
い点にある。
号公報の方法は、連続式常圧ＣＶＤ装置では実現し難し
い点にある。
【００１１】同公報における常圧ＣＶＤ装置は、固定さ
れたサセプターに対してガス供給ヘッドが走査する形式
のものであり、ガス供給ヘッドが移動する機構が元々あ
る為、クリーニングユニットにガス供給ヘッドを移動さ
せる機構を実現することは比較的容易である。
れたサセプターに対してガス供給ヘッドが走査する形式
のものであり、ガス供給ヘッドが移動する機構が元々あ
る為、クリーニングユニットにガス供給ヘッドを移動さ
せる機構を実現することは比較的容易である。
【００１２】それに対し、図４に示したような連続的常
圧ＣＶＤ装置の場合は、ガス供給ヘッドが固定された構
造になっている為、クリーニングユニットを別に設けて
ガス供給ヘッドを移動させる方法は実現し難しい。
圧ＣＶＤ装置の場合は、ガス供給ヘッドが固定された構
造になっている為、クリーニングユニットを別に設けて
ガス供給ヘッドを移動させる方法は実現し難しい。
【００１３】本発明の目的は、ガス供給ヘッドのガス吹
出口のクリーニング作業を自動で行うことにより、クリ
ーニングの為の工数を減らし、又クリーニングの為の時
間消費を減らすことにより装置の稼働率を向上させ得る
連続式の常圧ＣＶＤ装置を提供することにある。
出口のクリーニング作業を自動で行うことにより、クリ
ーニングの為の工数を減らし、又クリーニングの為の時
間消費を減らすことにより装置の稼働率を向上させ得る
連続式の常圧ＣＶＤ装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の常圧ＣＶＤ装置
は、ガス吹出口を有するガス供給ヘッドと、このガス供
給ヘッドの下方に設けられたウェーハ加熱用のヒータ
と、ウェーハを載置する連結された複数のトレーを前記
ガス供給ヘッドと前記ヒータとの間に連続的に搬送する
トレー搬送手段とを有する常圧ＣＶＤ装置において、前
記トレーの１つに前記ガス吹出口を掃除する為の真空掃
除機のヘッドを組み込んだことを特徴とするものであ
る。
は、ガス吹出口を有するガス供給ヘッドと、このガス供
給ヘッドの下方に設けられたウェーハ加熱用のヒータ
と、ウェーハを載置する連結された複数のトレーを前記
ガス供給ヘッドと前記ヒータとの間に連続的に搬送する
トレー搬送手段とを有する常圧ＣＶＤ装置において、前
記トレーの１つに前記ガス吹出口を掃除する為の真空掃
除機のヘッドを組み込んだことを特徴とするものであ
る。
【００１５】トレーは装置稼働中は絶えず移動（回転）
している為、トレーが１周する間に１回、真空掃除機の
ヘッド内蔵のトレーがガス供給ヘッドの下を通ることに
なる。この時に反応ガスの供給を一時的に停止すると共
に、真空掃除機を「オン」とし、ガス吹出口の生成粉を
除去する。これにより、トレーが１周する間に１回、装
置を止めることなくガス吹出口の生成粉を除去すること
が出来る。
している為、トレーが１周する間に１回、真空掃除機の
ヘッド内蔵のトレーがガス供給ヘッドの下を通ることに
なる。この時に反応ガスの供給を一時的に停止すると共
に、真空掃除機を「オン」とし、ガス吹出口の生成粉を
除去する。これにより、トレーが１周する間に１回、装
置を止めることなくガス吹出口の生成粉を除去すること
が出来る。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為のトレー部の斜視図である。以下図４を併用して説
明する。
て説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を説明す
る為のトレー部の斜視図である。以下図４を併用して説
明する。
【００１７】図４、図１を参照すると常圧ＣＶＤ装置
は、ガス吹出口１０を有するガス供給ヘッド４と、この
ガス供給ヘッド４の下方に設けられたウェーハ加熱用の
ヒータ５と、ウェーハ１を載置する連結された複数のト
レー２をガス供給ヘッド４とヒータ５との間に連続的に
搬送するチェーン３やモータ等からなるトレー搬送手段
とから主に構成されるが、特にトレーの１つは真空掃除
機のヘッドを組み込んだ掃除機のヘッド内蔵トレー１１
となっている。
は、ガス吹出口１０を有するガス供給ヘッド４と、この
ガス供給ヘッド４の下方に設けられたウェーハ加熱用の
ヒータ５と、ウェーハ１を載置する連結された複数のト
レー２をガス供給ヘッド４とヒータ５との間に連続的に
搬送するチェーン３やモータ等からなるトレー搬送手段
とから主に構成されるが、特にトレーの１つは真空掃除
機のヘッドを組み込んだ掃除機のヘッド内蔵トレー１１
となっている。
【００１８】ヘッド内蔵トレー１１は図２に示すよう
に、回転及び着脱可能な接続部１４によりホース１３の
一端に接続され、ホースの他端は、例えば工場内の排気
ダクトに接続されている。ヘッド内蔵トレー１１は高温
（約４００℃）に耐える金属、例えばステンレス等から
形成され、内部は吸引口１２と一体的に形成された空洞
となっている。ヘッド内蔵トレー１１は高温となる為、
接続部１４は断熱の役目も担うような素材を用いる。
に、回転及び着脱可能な接続部１４によりホース１３の
一端に接続され、ホースの他端は、例えば工場内の排気
ダクトに接続されている。ヘッド内蔵トレー１１は高温
（約４００℃）に耐える金属、例えばステンレス等から
形成され、内部は吸引口１２と一体的に形成された空洞
となっている。ヘッド内蔵トレー１１は高温となる為、
接続部１４は断熱の役目も担うような素材を用いる。
【００１９】ヘッド内蔵トレー１１にはウェーハ１が載
置されないようにプログラムを組む。又ヘッド内蔵トレ
ー１１がガス供給ヘッド４直下に移動した時に、反応ガ
ス６の供給が一時的に停止し、それと同時に真空掃除機
が「オン」となるように構成する。この時、ヘッド内蔵
トレー１１とガス供給ヘッド４との間隔は約５ｍｍ程度
と非常に狭く、又生成粉はパウダー状である為、真空掃
除機の吸引力のみで生成粉が除去される。ヘッド内蔵ト
レー１１がガス供給ヘッド４下を通過した後、真空掃除
機が「オフ」となり、反応ガスの供給が復帰する。
置されないようにプログラムを組む。又ヘッド内蔵トレ
ー１１がガス供給ヘッド４直下に移動した時に、反応ガ
ス６の供給が一時的に停止し、それと同時に真空掃除機
が「オン」となるように構成する。この時、ヘッド内蔵
トレー１１とガス供給ヘッド４との間隔は約５ｍｍ程度
と非常に狭く、又生成粉はパウダー状である為、真空掃
除機の吸引力のみで生成粉が除去される。ヘッド内蔵ト
レー１１がガス供給ヘッド４下を通過した後、真空掃除
機が「オフ」となり、反応ガスの供給が復帰する。
【００２０】この動作が繰り返されることにより、トレ
ーが１周する間に１回ガス供給ヘッドの吹出口１０の生
成粉の除去が自動的に行なわれる。
ーが１周する間に１回ガス供給ヘッドの吹出口１０の生
成粉の除去が自動的に行なわれる。
【００２１】図３は本発明の第２の実施の形態を説明す
る為の掃除機のヘッド内蔵トレーの斜視図である。
る為の掃除機のヘッド内蔵トレーの斜視図である。
【００２２】生成粉の除去効率を更に向上させる場合、
図２に示したヘッド内蔵トレーにブラシ１５を装備した
ものを使用する。ブラシ付のヘッド内蔵トレー１１Ａの
使用方法は第１の実施の形態と同じであるが、ブラシ１
５が直接ガス吹出口１０に接触して生成粉を除去する
為、第１の実施の形態の場合よりも除去効率の向上が必
要とされる場合に用いる。
図２に示したヘッド内蔵トレーにブラシ１５を装備した
ものを使用する。ブラシ付のヘッド内蔵トレー１１Ａの
使用方法は第１の実施の形態と同じであるが、ブラシ１
５が直接ガス吹出口１０に接触して生成粉を除去する
為、第１の実施の形態の場合よりも除去効率の向上が必
要とされる場合に用いる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ガ
ス供給ヘッドのガス吹出口のクリーニング作業を自動で
行うことができる為、クリーニングの為の工数、又クリ
ーニングの為の装置の時間消費を減らすことができる。
この為、常圧ＣＶＤ装置の稼働率を向上させることが出
来る。
ス供給ヘッドのガス吹出口のクリーニング作業を自動で
行うことができる為、クリーニングの為の工数、又クリ
ーニングの為の装置の時間消費を減らすことができる。
この為、常圧ＣＶＤ装置の稼働率を向上させることが出
来る。
【００２４】又、トレーが１周する間に１回ガス供給ヘ
ッドの吹出口の生成粉の除去を自動で行える為、ガス供
給ヘッドのガス吹出口は、常に生成粉がほとんど付着し
ていない状態になり、ウェーハの膜特性が向上する。
ッドの吹出口の生成粉の除去を自動で行える為、ガス供
給ヘッドのガス吹出口は、常に生成粉がほとんど付着し
ていない状態になり、ウェーハの膜特性が向上する。
【図１】本発明の第１の実施の形態を説明する為のトレ
ー部の斜視図。
ー部の斜視図。
【図２】ヘッド内蔵トレーの斜視図。
【図３】本発明の第２の実施の形態を説明する為のヘッ
ド内蔵トレーの斜視図。
ド内蔵トレーの斜視図。
【図４】従来の常圧ＣＶＤ装置の一例の構成図。
【図５】ガス供給ヘッドのクリーニングを説明する為の
斜視図。
斜視図。
１ ウェーハ ２ トレー ３ チェーン ４ ガス供給ヘッド ５ ヒータ ６ 反応ガス ７ 排気カバー ８ ローダー部 ９ アンローダー部 １０ ガス吹出口 １１，１１Ａ ヘッド内蔵トレー １２ 吸引口 １３ ホース １４ 接続部 １５ ブラシ
Claims (3)
- 【請求項１】 ガス吹出口を有するガス供給ヘッドと、
このガス供給ヘッドの下方に設けられたウェーハ加熱用
のヒータと、ウェーハを載置する連結された複数のトレ
ーを前記ガス供給ヘッドと前記ヒータとの間に連続的に
搬送するトレー搬送手段とを有する常圧ＣＶＤ装置にお
いて、前記トレーの１つに前記ガス吹出口を掃除する為
の真空掃除機のヘッドを組み込んだことを特徴とする常
圧ＣＶＤ装置。 - 【請求項２】 真空掃除機のヘッドにはブラシが設けら
れている請求項１記載の常圧ＣＶＤ装置。 - 【請求項３】 真空掃除機のヘッドに接続されるホース
は着脱可能に構成されている請求項１又は請求項２記載
の常圧ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25364197A JPH1197433A (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25364197A JPH1197433A (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1197433A true JPH1197433A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17254164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25364197A Pending JPH1197433A (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1197433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006307329A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-11-09 | Kyocera Corp | プラズマ装置およびそれを用いた太陽電池素子の製造方法 |
| JP2007146292A (ja) * | 2002-04-01 | 2007-06-14 | Ans Inc | 気相有機物の蒸着方法とこれを利用した気相有機物の蒸着装置 |
-
1997
- 1997-09-18 JP JP25364197A patent/JPH1197433A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007146292A (ja) * | 2002-04-01 | 2007-06-14 | Ans Inc | 気相有機物の蒸着方法とこれを利用した気相有機物の蒸着装置 |
| JP2006307329A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-11-09 | Kyocera Corp | プラズマ装置およびそれを用いた太陽電池素子の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001017 |