JPH11513704A - 酸性ピラゾールの新誘導体、それらの製造方法、それらの薬剤としての用途、それらの新規な用途並びにそれらを含有する製薬組成物 - Google Patents

酸性ピラゾールの新誘導体、それらの製造方法、それらの薬剤としての用途、それらの新規な用途並びにそれらを含有する製薬組成物

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JPH11513704A JP9516342A JP51634297A JPH11513704A JP H11513704 A JPH11513704 A JP H11513704A JP 9516342 A JP9516342 A JP 9516342A JP 51634297 A JP51634297 A JP 51634297A JP H11513704 A JPH11513704 A JP H11513704A
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Abstract

(57)【要約】 本発明の主題は、次式(I) (ここで、A及びBの一方は窒素原子を表し、A及びBの他方はメチン基を表し、Aが特にアルキルにより置換された窒素原子か又は特にフェニル、チエニル若しくはピリジルにより置換されたメチン基のいずれかを表し、Bが特にシクロヘキシルアルキルにより置換された窒素原子か又は特にアルキルチオにより置換されたメチン基のいずれかを表すようなものであり、R1は特にカルボキシを表し、Rは特にハロゲンを表す)の化合物並びに式(I)の化合物の異性体及び塩類である。

Description

【発明の詳細な説明】 酸性ピラゾールの新誘導体、それらの製造方法、それらの薬剤 としての用途、それらの新規な用途並びにそれらを含有する製薬 組成物 本発明は、酸性ピラゾールの新誘導体、それらの製造方法、得られる新規な中 間体、それらの薬剤としての用途、それらを含有する製薬組成物並びに酸性ピラ ゾールの誘導体の新規な用途に関する。 本発明の主題は、次式(I) [ここで、以下に定義するように、A及びBの一方は窒素原子を表し、A及びB の他方はメチン基を表し、 Aは、多くとも10個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のアルキル又はア ルケニル基を表すZNAにより置換された窒素原子か、或いは 3〜7員よりなり、酸素、硫黄及び窒素原子から選択される1個以上の同一又 は異なった複素原子を含有し得る飽和又は不飽和の環状基を表すZCAにより置 換されたメチン基のいずれかを表し、 Bは、5又は6員のシクロアルキル基(これ自体カルボキシ、又は多くとも6 個の炭素原子を含有するアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、カルボキ シアルキル若しくはカルボキシアルコキシアルキル基により置換されていてもよ い)により置換されていてもよい多くとも10個の炭素原子を含有する線状又は 分岐状のアルキル又はアルケニル基を表すZNBにより置換された窒素原子か、 或いは 多くとも10個の炭素原子を含有する線状若しくは分岐状のアルキル、アルケ ニル若しくはアルキルチオ基又は5若しくは6員のシクロアルキルチオ基(これ らの基の全てはカルボキシ基又はフェニル基(これ自体遊離の若しくはエステル 化されたカルボキシ基、又は多くとも4個の炭素原子を含有する線状若しくは分 岐状のアルキル若しくはアルコキシ基により置換されていてもよい)により置換 されていてもよい)を表すZCBにより置換されたメチン基のいずれかを表し、 Rは水素若しくはハロゲン原子、又は多くとも4個の炭素原子を含有する線状 若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、 R1は遊離の、塩形成された若しくはエステル化されたカルボキシ基又は等価 の酸性官能基を表し、 点線はA及びBを有する環が不飽和であることを示す] の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての可能なラセミ、エナンチオマー又 はジアステレオマー異性体の形態にあり得る]並びに式(I)の化合物の無機及 び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩にある。 式(I)の化合物並びに以下の説明において、 ・用語“線状又は分岐状のアルキル基”とは、下記の基:メチル、エチル、プロ ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペン チル、イソペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、またヘプチル、オクチル、ノニ ル及びデシル並びにこれらの線状又は分岐状の位置異性体を表す。 ・用語“線状又は分岐状のアルケニル基”とは、ビニル、アリル、1−プロペニ ル、ブテニル、1−ブテニル、ペンテニル又はヘキセニル並びにこれらの線状又 は分岐状の位置異性体を表す。 ・用語“3〜7員よりなり、酸素、硫黄又は窒素原子から選択される1個以上の 同一又は異なった複素原子を含有し得る飽和又は不飽和の環状基”とは、 一方ではそれ自体が示すシクロアルキル基、特にシクロペンチル及びシクロヘキ シル基、又は酸素、窒素若しくは硫黄原子から選択される1個以上の複素原子に より中断された炭素環式基、特にジオキソラン、ジオキサン、ジチオラン、チオ オキソラン又はチオオキサン基を表し、他方ではフェニル、チエニル、フリル、 ピリジル又はテトラゾリル基を表す。 ・用語“線状又は分岐状のアルコキシ基”とは、下記の基:メトキシ、エトキシ 、 プロポキシ、イソプロポキシ、線状の、sec−若しくはt−ブトキシ、ペント キシ又はヘキソキシ基並びにこれらの線状又は分岐状の位置異性体を表す。 ・用語“アルキルチオ基”とは、アルキル基が上で定義したようなものである基 、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ オ、sec−ブチルチオ、t−ブチルチオ、イソペンチルチオ、イソヘキシルチ オ、またヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ又はデシルチオ、並びにこれ らの線状又は分岐状の位置異性体を表す。 ・用語“シクロアルキルチオ基”とは、特にシクロペンチルチオ及びシクロヘキ シル地オキを表す。 アルコキシアルキル基のうちでは、下記の基:メトキシメチル、エトキシメチ ル、メトキシエチル、エトキシプロピル、プロピルオキシメチル、プロピルオキ シプロピル又はプロピルオキシエチル基が挙げられる。 上で定義したアルキル及びアルコキシアルキル基は、遊離の、塩形成された又 はエステル化されたカルボキシ基により置換されて相当するカルボキシアルキル 及びカルボキシアルコキシアルキル基を与えることができる。 ・用語“ハロゲン原子”とは、好ましくは、塩素原子を表すが、弗素、臭素又は 沃素原子も表すこともできる。 ・用語“酸官能基又は等価の酸性官能基”とは、遊離の、塩形成された若しくは エステル化されたカルボキシ基、遊離の若しくは塩形成されたテトラゾリル基、 又は下記の基: ・SO3H、−PO(OH)2、 ・NHSO2−CF3、 ・NH−SO2−NH−V、 ・NH−SO2−NH−CO−V、 ・NH−CO−V、 ・NH−CO−NH−V、 ・NH−CO−NH−SO2−V、 ・SO2−NH−V、 ・SO2−NH−CO−V、 ・SO2−NH−CO−NH−V、 ・CONH−V、 ・CO−NH−OH、 ・CONH−SO2−V (上記の式において,Vは多くとも6個の炭素原子を含有する線状若しくは分岐 状のアルキル若しくはアルケニル基、又はフェニル、ピリジル、ピリミジニル、 ピペラジニル、チエニル若しくはテトラゾリル基を表し、アルキル、アルケニル 及びフェニル基は、ハロゲン原子及びヒドロキシ、アルコキシ又はフェニル基か ら選択される1個以上の基により置換されていてもよく、フェニル基及びピラジ ニル基の全ては多くとも4個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のアルキル基 により置換されていてもよい) を表す。 式(I)化合物のカルボキシ基は、当業者に知られた種々の基により塩形成又 はエステル化することができる。このような基としては例えば下記のものを挙げ ることができる。 ・塩形成用化合物としては、無機塩基、例えば等価のナトリウム、カリウム、リ チウム、カルシウム、マグネシウム若しくはアンモニウム、又は有機塩基、例え ばメチルアミン、プロピルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエ チルアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、トリス(ヒドロキシメチル) アミノメタン、エタノールアミン、ピリジン、ピコリン、ジシクロヘキシルアミ ン、モルホリン、ベンジルアミン、プロカイン、リジン、アルギニン、ヒスチジ ン、N−メチルグルカミンがある。 ナトリウム又はカリウム塩が好ましい。 ・エステル化用化合物としては、アルキル基であって、アルコキシカルボニル基 、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブチトキシカルボニル 又はベンジルオキシカルボニル基を形成するものがある。これらのアルキル基は 、例えばハロゲン原子、ヒドロキシル、アルコキシ、アシル、アシルオキシ、ア ルキルチオ、アミノ又はアリール基から選択される基により置換されていてもよ く、例えば下記の基:クロルメチル、ヒドロキシプロピル、メトキシメチル、プ ロピ オニルオキシメチル、メチルチオメチル、ジメチルアミノエチル、ベンジル又は フェネチル基におけるようなものである。 容易に解裂できるエステルの残基、例えばメトキシメチル及びエトキシメチル 基、アシルオキシアルキル基、例えばピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキ シエチル、アセトキシメチル又はアセトキシエチル、アルキルオキシカルボニル オキシアルキル基、例えばメトキシカルボニルオキシメチル又はエチル、イソプ ロピルオキシカルボニルメチル又はエチル基により形成される基が挙げられる。 このようなエステル基のリストは例えばヨーロッパ特許EP0,034,53 6号に見いだすことができる。 式(I)の化合物の無機又は有機酸との付加塩は、例えば、次の酸:塩酸、臭 化水素酸、沃化水素酸、硝酸、硫酸、燐酸、プロピオン酸、酢酸、ぎ酸、安息香 酸、マレイン酸、フマル酸、こはく酸、酒石酸、くえん酸、しゅう酸、グリコー ル酸、アスパラギン酸、アスコルビン酸、アルキルモノスルホン酸、例えばメタ ンスルホン酸、エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、アルキルジスルホン酸 、例えばメタンジスルホン酸、α又はβ−エタンスルホン酸、アリールモノスル ホン酸、例えばベンゼンスルホン酸及びアリールジスルホン酸により形成された 塩類であってよい。 さらに特定すれば、例えば塩酸又はメタンスルホン酸により形成された塩類を 挙げることができる。 ここで、立体異性とは、同じ発展された式を有するが、種々の基が空間で、例 えば、シクロヘキサン並びに置換基がアキシャル又はエカトリアル位置にあり得 る一置換シクロヘキサンの舟型及びいす型において異なって配置している化合物 の異性のように並びにエタン誘導体の種々の可能な回転立体配座のように最も広 義に定義することができることに留意されたい。しかし、二重結合又は環上で固 定された置換基の種々の空間配置に起因して別のタイプの立体異性が存在できる 。これは、しばしば幾何異性又はcis−trans−異性と呼ばれる。 従って、本発明の主題は、A、B及びRが上で定義した意味を有し、R1が遊 離の若しくはエステル化されたカルボキシ基又は遊離の若しくはエステル化され たテトラゾリル基を表す式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての 可能なラセミ、エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形態にあり得る] 並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩に ある。 本発明の特定の主題は、 Aが、多くとも4個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のアルキル基により 置換された窒素原子か、或いはフェニル、チエニル又はピリジル基により置換さ れたメチン基のいずれかを表し、 Bが、シクロヘキシル基(これ自体はカルボキシ基又はカルボキシメトキシメ チル基により置換されていてもよい)により置換された多くとも4個の炭素原子 を含有するアルキル基により置換された窒素原子か、或いは多くとも6個の炭素 原子を含有するアルキルチオ基又はシクロヘキシル基(これらの基はカルボキシ 基又はフェニル基(これ自体は多くとも6個の炭素原子を含有するアルコキシ基 により置換されている)により置換されていてもよい)により置換されたメチン 基のいずれかをあらわし、 ただし、A及びBの一方が窒素原子をあらわすときは、A及びBの他方はメチ ン基を表すものとし、これらの基は上記のように置換されているものであり、 R1が遊離の又はエステル化されたカルボキシ基を表し、 Rがハロゲン原子を表す 式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての可能なラセミ、エナンチ オマー又はジアステレオマー異性体の形態にあり得る]並びに式(I)の化合物 の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩にある。 さらに本発明の主題は、 Aがフェニル、チエニル又はピリジル基により置換されたメチン基を表し、 Bがシクロヘキシルメチル基(これ自体はカルボキシ又はカルボキシメチル基 であってそのカルボキシ基が遊離又はエステル化されているものにより置換され ていてもよい)により置換された窒素原子を表し、 R1が遊離の、エステル化された若しくは塩形成されたカルボキシ基又は遊離 の若しくは塩形成されたテトラゾリル基を表し、 Rが水素又はハロゲン原子を表す 式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての可能なラセミ、エナンチ オマー又はジアステレオマー異性体の形態にあり得る]並びに式(I)の化合物 の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩にある。 本発明のさらに特定の主題は、化合物名が下記の通りの式(I)の化合物: ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カルボン 酸、 ・1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル) メチル)−3((5−カルボキシペンチル)チオ)−1H−ピラゾール−4−カ ルボン酸、 ・1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)4−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H−ピラゾー ル−5−カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5− カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾール−5 −カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(3−チエニル)−1H−ピラゾール−5− カルボン酸、 ・1−ブチル−3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5 −((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1H− ピラゾール−4−カルボン酸、 ・3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5−((6−ク ロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H −ピラゾール−4−カルボン酸、 ・1−((ビシクロ[2.2.2]−2−オクチル)メチル)−4−((6−ク ロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H −ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)4−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル)−1H− ピラゾール−5−カルボン酸、 ・cis/trans 1−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)メ チル)−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((2−(カルボキシメトキシ)フェニル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル) −1H−ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロル−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル)−1H −ピラゾール−5−カルボン酸 にある。 また、本発明の主題は、上記の式(I)の化合物の製造方法にあり、これは ・次式(II) ZCA’−CO−CH2−CO−CO2alk (II) (ここで、ZCA’は、ZCAであってその随意の反応性官能基が保護されてい てもよいものについて上で示した意味を有する) の化合物を次式(III) (ここで、R’は、Rであってその随意の反応性官能基が保護されていてもよい ものについて上で示した意味を有し、Halはハロゲン原子を表す) の化合物と反応させて次式(IV) (ここで、R’、ZCA’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物をヒドラジンNH2−NH2と反応させて次式(V) (ここで、R’、ZCA’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物を次式(VI) ZNB’−W (VI) (ここで、ZNB’は、ZNBであってその随意の反応性官能基が保護されてい てもよいものについて上で示した意味を有し、Wはハロゲン原子又はトシル基を 表す) の化合物と反応させて次式(I1の化合物を得るか、或いは ・次式(VII) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を二硫化炭素及び次式(VIII) Rd−Hal (VIII) (ここで、Rdは置換されていてもよいアルキル基を表し、Halはハロゲン原 子を表す) の化合物と反応させて次式(IX) (ここで、R’、alk及びRdは上で示した意味を有し、Sは硫黄原子を表す ) の化合物を得、この化合物を次式(X) ZNA’−NH−NH2 (X) (ここで、ZNA’は、ZNAであってその随意の反応性官能基が保護されてい てもよいものについて上で示した意味を有する) の化合物と反応させて次式(I2(ここで、ZNA’、alk、Rd及びSは上で示した意味を有する) の化合物を得るか、或いは ・次式(XI) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有し、R’1は、R1であってその 随意の反応性官能基が保護されていてもよいものについて上で示した意味を有す る) の化合物を次式 N≡C−(CH22−NH−NH2 のヒドラジン誘導体と反応させて次式(XII) (ここで、R’及びR’1は上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物を次式(XIII) (ここで、Hal、R’及びR’1は上で示した意味を有する) に変換し、この化合物に塩基を作用させ、次いで上で定義したような式(VI)の 化合物を作用させて次式(XIV) (ここで、R’、R’1、ZNB’及びHalは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物のハロゲン原子をボロン酸誘導体又は有機金属化合物 による置換反応に付して次式(I3(ここで、ZCA’、ZNB’、R’及びR’1は上で示した意味を有する) の化合物を得るか、或いは ・上で定義した式(VII)の化合物を次式(XV) (ここで、alk1、alk2、alk3及びalk4は同一であっても異なってい てもよく、アルキル基を表す) の化合物と反応させて次式(XVI) (ここで、R’、alk、alk2及びalk3は上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物をヒドラジンで処理して次式(XVII) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物をハロゲン化剤により処理して次式(XVIII) (ここで、R’、Hal及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物を次式(XIX) ZNA’−Hal (XIX) (ここで、ZNA’及びHalは上で示した意味を有する) の化合物と反応させて次式(XX) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物に次式(XXI) ZCB’−M (XXI) (ここで、ZCB’は上で示した意味を有し、Mは金属又は硼素原子を表す) の化合物を反応させて次式(I4(ここで、R’、alk、ZNA’及びZCB’は上で示した意味を有する) の化合物を得、次いで上記の式(I1)、(I2)、(I3)及び(I4)の化合物 に所望により及び必要ならば下記の転化反応: a)エステル官能基の酸官能基への鹸化反応、 b)カルバモイル基のニトリル基への転化反応、 c)ニトリル基のテトラゾリルへの転化反応、 d)アルキルチオ基の相当するスルホキシド又はスルホンへの酸化反応、次いで 適当ならばスルホキシドの−SH官能基及び適当ならば−S−ZB(ここで、ZB は上で定義したようなアルキル又はシクロアルキル基を表す。その可能な反応性 官能基は保護されていてよい)への転化、 e)カルバメートの尿素への、特にスルホニルカルバメートのスルホニル尿素へ の転化反応、 f)エステル官能基のヒドロキシアルキル又はアルコキシアルキル基への、次い でアルキル基誘導体への転化反応、 g)保護された反応性官能基が有し得る保護基を除去するための反応、 h)無機又は有機塩基により或いは塩基により相当する塩類を得るための塩形成 反応、 i)ラセミ形を分割された生成物に分割するための反応 の一つ以上の反応に付すことを特徴とする、式(I)の化合物[このようにして 得られた式(I)の化合物は全ての可能なラセミ、エナンチオマー又はジアステ レオマー異性体の形態にあり得る]の製造法にある。 ここで、注目されたいのは、置換基をその他の置換基に転化するための上記の ような反応は、出発物質や中間体について行いってから前記の製造法において示 した反応に従う合成を続けることができることである。 本発明を実施するのに好ましい条件下では、上記の方法は、下記の態様で行う ことができる。 式(IV)の化合物を得るための式(II)の化合物に対する式(III)の化合物 の作用は、強塩基又は炭酸塩の存在下に行われる。例えば、操作は、トルエンの ような中性溶媒中で水素化ナトリウム又はナトリウムエチラートの存在下に或い はジメチルホルムアミド中で炭酸ナトリウム又はカリウムの存在下に行うことが できる。 この反応に関する条件は、例えば、J.Org.Chem.Vol.39,N o.22,(1974),p.3271に記載されている。 式(III)の化合物において、Halは好ましくは塩素、臭素又は沃素を表す 。 操作は、特にHalが塩素原子を表すときにアリコート336及び沃化カリウ ムのような触媒の存在下に行うことができる。 式(V)、(I2)、(XII)又は式(XVII)の化合物をそれぞれ得るための(IV )、(IX)、(XI)又は(XIV)の化合物に対するヒドラジン又はその誘導体、特 に式(X)の化合物の作用は、還流下の酢酸のような酸の存在下に又はメタノー ル若しくはエタノールのようなアルコールの存在下に行うことができる。 ヒドラジン誘導体が例えば塩酸塩のようなものであるヒドラジン塩であるとき は、操作は、好ましくは、第一に遊離塩基を得るために苛性ソーダ又は水酸化ア ンモニウムのような塩基の存在下に行われる。 式(XII)の化合物のOH基は、式(XIII)の化合物を生じさせるために例え ば、オキシ塩化又はオキシ臭化燐を作用させることによりハロゲン原子に転化さ れる。 このようにして得られた式(XIII)の化合物と式(VI)の化合物とを反応させ て式(XIV)の化合物を得る反応は、ジメチルホルムアミドのような溶媒中で例え ば水素化ナトリウムのような塩基を予め作用させ、次いでハロゲン原子が特に臭 素原子であるような式(VI)の化合物を作用させることにより行うことができる 。 このようにして得られた式(XIV)の化合物とボロン酸誘導体又は有機金属化合 物とを反応させて式(I3)の化合物を得る反応は、例えばジメチルホルムアミ ド又はトルエンのような溶媒中でパラジウムのような触媒の存在下に行うことが できる。 このような反応の例は、後記の例8、9及び10の製造例において示す。 式(VII)の化合物と式(VIII)の化合物及び二硫化炭素とを反応させて式(IX )の化合物を得るための反応は、弗化カリウムを担持したアルミナの存在下に行 うことができる。 式(VII)の化合物と式(XV)の化合物とを反応させて式(XVI)の化合物を得るた めの反応は、好ましくは加温して二つの化合物を導入するだけで行うことができ る。 式(XVII)の化合物の式(XVIII)の化合物へのハロゲン化は、通常の条件下で例 えば酢酸中で臭素のようなハロゲン化剤により行うことができる。 式(XX)の化合物と式(XXI)の化合物との反応により式(I4)の化合物を得る 反応は、通常の条件下で、例えばテトラキスパラジウムのような触媒の存在下に 例えば有機亜鉛、オルガノスタンナン又は有機ボロン酸のような有機金属化合物 を使用して行うことができる。 式(XXI)の化合物において、Mは好ましくは亜鉛、錫又は硼素原子を表す。こ のような化合物の例としては、例えば、ヨードベンジル亜鉛化合物を挙げること ができる。 式(VI)及び(XIX)の化合物において、Halはハロゲン原子を表すが、トシ ル又はメシルのようなプソイドハロゲンであることもできよう。 式(V)の化合物と式(VI)の化合物とを反応させて式(I1)の化合物を得 るための反応、或いは式(XVIII)の化合物と式(XIX)の化合物を反応させて式(XX )の化合物を得るための反応は、例えばトルエン又はジメチルホルムアミドのよ うな中性溶媒の存在下に加温して例えば沃化メチル又は臭化シクロヘキシルメチ ルのようなハロゲン化アルキルを使用して、或いはまた例えば水素化ナトリウム 又は炭酸ナトリウム若しくはカリウムのような塩基の存在下に1−[(3−トシ ルメチル)シクロヘキシル]カルボン酸エチルを使用することにより行うことが できる。 式(I1)、(I2)、(I3)及び(I4)の化合物は、式(I)の化合物を構 成し、上に示した反応a)〜i)の一つ以上に付すことにより式(I)の他の化 合物に転化することができる。 しかして、上で定義した反応の化合物のいくつかが有し得る種々の反応性官能 基は、必要ならば保護することができる。それは、例えば適当な保護基により保 護できるヒドロキシル、アシル、遊離のカルボキシ基或いはアミノ及びモノアル キルアミノ基に関する。 反応性官能基の保護の例の限定的でないリストを以下に挙げることができる。 ・ヒドロキシル基は、例えばアルキル基、例えばt−ブチル、トリメチルシリル 、t−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、ベンジ ル又はアセチル基により保護することができる。 ・アミノ基は、例えばアセチル、トリチル、ベンジル、t−ブトキシカルボニル 、フタルフタルイミド基又はペプチドの化学において知られた他の基により保護 することができる。 ・ホルミル基のようなアシル基は、例えば、ジメチル若しくはジエチルケタール 若しくはエチレンジオキシケタール、又はジエチルチオケタール若しくはエチレ ンジチオケタールのような環状又は非環状のケタール又はチオケタールの形で保 護することができる。 ・前記した化合物の酸官能基は、所望ならば、例えば1−エチル−3−(ジメチ ルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩の存在下に塩化メチレン中で周囲温度 で第一又は第二アミンによりアミド化することができる。 ・酸官能基は、例えば容易に解裂できるエステル、例えばベンジル若しくはt− ブチルエステル又はペプチドの化学において知られたエステルにより形成された エステルの形で保護することができる。 前記した式(I1)、(I2)、(I3)及び(I4)の化合物が所望により又は 必要ならば受けることができる反応は、以下のように行うことができる。 a)前記した化合物のエステル官能基の酸官能基への場合により行う転化反応は 、所望ならば、当業者に知られた通常の条件下で、特に、例えばメタノールのよ うなアルコール媒体中で苛性ソーダ若しくはカリウムにより又は硫酸若しくは塩 酸による酸又はアルカリ加水分解によって行うことができる。 b)カルバモイル基のニトリル基への転化反応は、当業者に知られた通常の条件 で、例えばケトニトリル及びアミンによる置換を介する経路で行われる(Che m.comm.1971,p.733)。 c)前記の化合物の随意のニトリル官能基は、所望ならば、当業者に知られた通 常の条件で、例えば、以下の文献: J.Organometallic Chemystry 33,337(1 971)、S.小島他 に記載の方法に示されるように、ニトリル官能基への例えばナトリウムアジド又 はトリアルキル錫アジドのような金属アジドの付加環化によりテトラゾリル基に 転化することができる。 d)前記の化合物の随意のアルキルチオ基は、所望ならば、当業者に知られた通 常の条件で、例えば、周囲温度で例えば塩化メチレン又はジオキサンのような溶 媒中で、例えば過酢酸若しくはm−クロル過安息香酸のような過酸又はオゾン、 オキソン、過沃素酸ナトリウムにより、相当するスルホキシド又はスルホンに転 化することができる。 スルホキシド官能基の取得は、アルキルチオ基を含有する化合物と特に過酸の ような反応剤との混合物により促進できる。 スルホキシドのチオールへの転化は、例えば、トリフルオル酢酸無水物の存在 下にプメラー反応を使用して達成される。SH置換基のSZ2への転化は、ハロ ゲン化誘導体Hal−Z2、例えば6−ブロムヘキサン酸エチルを作用させるこ とにより達成することができる。 e)カルバメートの尿素への転化反応、特にスルホニルカルバメートのスルホニ ル尿素への転化は、例えば、適当なアミンの存在下に例えばトルエンのような溶 媒の還流条件下に行うことができる。 f)上記のエステル官能基の転化反応は、当業者に知られた通常の条件下で行う ことができる。 g)保護基、例えば前記したような保護基の除去は、当業者に知られた通常の条 件下で、特に、塩酸、ベンゼンスルホン酸若しくはp−トルエンスルホン酸、ぎ 酸又はトリフルオル酢酸のような酸により行われる酸加水分解により又は接触水 添により行うことができる。 フタルイミド基は、ヒドラジンにより除去することができる。 使用できる種々の保護基のリストは、例えばフランス特許BF2,499,9 95号に見出すことができる。 h)前記の化合物は、所望ならば、当業者に知られた通常の方法に従って、無機 若しくは有機酸又は無機若しくは有機塩基による塩形成反応に付すことができる 。 i)前記の化合物の随意の光学活性化合物は、当業者に知られた通常の方法に従 うラセミ体の分割により製造することができる。 上記のような種々の反応の例を後記の実施例の製造例において示す。 ここで注目できることは、前記した反応、特にb)、c)及びe)の反応が、 R1が上記の種々の意味を表す式(I)の化合物を得るのを可能にすることであ る。 前記した式(I)の化合物並びにそれらの酸又は塩基との付加塩は、有益な薬 理学的性質を有する。 上記の式(I)の化合物は、エンドセリン受容体に対して拮抗性を付与されて おり、従って特にエンドセリンの作用、特にエンドセリンにより誘発される血管 収縮作用及び昇圧作用の阻害剤である。特に、エンドセリンの血管収縮活性を除 去して、抗虚血作用が注目できる。 また、式(I)の化合物は、全ての細胞のタイプ、特に平滑筋細胞、線維芽細 胞、神経細胞及び骨細胞のレベルでエンドセリンの刺激作用に抵抗することがで きる。 これらの性質は、これらの化合物を治療上使用するのを正当化させるものであ り、しかして本発明の主題は上記の式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合 物は全ての可能なラセミ、エナンチオマー又はジアステレオマー異性体の形態に あり得る]並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基と の付加塩からなる薬剤にある。 特に、本発明の主題は、 Aが、多くとも4個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のアルキル基により 置換された窒素原子か、或いはフェニル、チエニル又はピリジル基により置換さ れたメチン基のいずれかを表し、 Bが、シクロヘキシル基(これ自体はカルボキシ基又はカルボキシメトキシメ チル基により置換されていてもよい)により置換された多くとも4個の炭素原子 を含有するアルキル基により置換された窒素原子か、或いは多くとも6個の炭素 原子を含有するアルキルチオ基又はシクロヘキシル基(これらの基はカルボキシ 基又はフェニル基(これ自体は多くとも6個の炭素原子を含有するアルコキシ基 により置換されている)により置換されていてもよい)により置換されたメチン 基のいずれかをあらわし、 ただし、A及びBの一方が窒素原子をあらわすときは、A及びBの他方はメチ ン基を表すものとし、これらの基は上記のように置換されているものであり、 R1が遊離の又はエステル化されたカルボキシ基を表し、 Rがハロゲン原子を表す 式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての可能なラセミ又は光学活 性異性体の形態にあり得る]並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無 機及び無機塩基との付加塩からなる薬剤にある。 特に、本発明の主題は、 Aがフェニル、チエニル又はピリジル基により置換されたメチン基を表し、 Bがシクロヘキシルメチル基(これ自体はカルボキシ又はカルボキシメチル基 であってそのカルボキシ基が遊離又はエステル化されているものにより置換され ていてもよい)により置換された窒素原子を表し、 R1が遊離の、エステル化された若しくは塩形成されたカルボキシ基又は遊離 の若しくは塩形成されたテトラゾリル基を表し、 Rが水素又はハロゲン原子を表す 式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての可能なラセミ又は光学活 性異性体の形態にあり得る]並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無 機及び無機塩基との付加塩からなる薬剤にある。 本発明の特定の主題は、実施例において後記する化合物、特に、化合物名が ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カルボン 酸、 ・1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル) メチル)−3−((5−カルボキシペンチル)チオ)−1H−ピラゾール−4− カルボン酸、 ・1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロル−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H−ピラゾ ール−5−カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル))− 1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5 −カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾール−5 −カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(3−チエニル)−1H−ピラゾール−5− カルボン酸、 ・1−ブチル−3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5 −((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1H− ピラゾール−4−カルボン酸、 ・3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5−((6−ク ロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H −ピラゾール−4−カルボン酸、 ・1−((ビシクロ[2.2.2]−2−オクチル)メチル)−4−((6−ク ロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H −ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロル−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル)−1H −ピラゾール−5−カルボン酸、 ・cis/trans 1−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)メ チル)−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((2−(カルボキシメトキシ)フェニル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル) −1H−ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロル−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル)−1H −ピラゾール−5−カルボン酸 である式(I)の化合物並びにそれらの製薬上許容できる無機若しくは有機酸又 は無機若しくは有機塩基との付加塩にある。 本発明の主題である薬剤は、例えば、全ての血管痙縮の治療、脳出血の治療、 冠状動脈痙縮、末梢血管痙縮の治療並びに腎不全の治療に使用することができる 。また、これらは、心筋梗塞、鬱血性心不全の治療、血管形成術後の狭窄の再発 の予防、心臓及び血管の線維症の予防、アテローム性硬化症及びある種の高血圧 、例えば特に肺動脈高血圧の治療並びに喘息の治療に使用することができる。 本発明の主題である薬剤は、また、骨粗鬆症、前立腺過形成の治療に及びニュ ーロン保護剤として使用することができる。 本発明は、前記した薬剤の少なくとも1種を活性成分として含有する製薬組成 物まで及ぶ。 これらの組成物は、経口的に、直腸経路で、非経口的に或いは皮膚若しくは粘 膜に対する局部的な適用又は静脈内若しくは筋肉内経路による注射によるような 局所経路で投与することができる。 これらの製薬組成物は、固体でも液体でもよく、人の医薬として慣用されてい るあらゆる製剤形状で、例えば無味の若しくは糖衣錠剤、カプセル、顆粒、座薬 、注射用調合剤、軟膏、クリーム、ゲル及びエーロゾル調合剤の形状で提供でき る。それら通常の方法により製造される。活性成分は、これらの製薬組成物に通 常使用される補助剤、例えばタルク、アラビアゴム、ラクトース、でんぷん、ス テアリン酸マグネシウム、ココアバター、水性若しくは非水性のビヒクル、動物 性若しくは植物性の脂肪物質、パラフィン誘導体、グリコール類、各種の湿潤、 分散若しくは乳化剤、保存剤と配合することができる。 通常の薬用量は、使用化合物、治療患者及び疾病によって変わるが、例えば成 人について経口投与で1日当たり1〜300mg又は静脈内経路で1日当たり1 〜100mgであってよい。 式(II)、(III)、(IV)、(VII)、(VIII)、(X)、(XI)、(XV)、 (XIX)及び(XXI)の出発物質は主に商業的に入手でき、又は当業者に知られた通 常の方法により商業的に入手できる化合物から製造することができる。 これらの出発物質の例として、下記のものを挙げることができるが、これらに 限定されない。 ‐式(II)の化合物のうちでは、ベンゾイルピルビン酸エチル又はそのフェニル 基をチエニル又はピリジル基で置き換えた相当する化合物が挙げられる。 ‐式(VII)の化合物のうちでは、R’が水素又はハロゲン原子を表すアセト酢酸 エチルの誘導体が挙げられる。 ‐式(XI)の化合物にうちでは、R'1がエステル化されたカルボキシ基又はテト ラゾリル基を表す化合物が挙げられる。 ‐式(XIX)の化合物のうちでは、臭化シクロヘキシルメチル又はカルボキシシク ロヘキシルメチルが挙げられる。 ‐式(XV)の化合物のうちでは、ジメチルホルムアミドジメチルアセタールが挙 げられる。 ‐式(III)の化合物のうちでは、特に塩化6−クロルピペロニル(これは市販の 物質である)、塩化ピペロニル、塩化3,4−ジクロルベンジル又は臭化3−ク ロルベンジルが挙げられる。 ‐商業的に入手できる式(III)の化合物のうちで、塩化5−クロルピペラニルは 、当業者に知られた通常の方法により製造することができる。 ‐式(VIII)及び(XIX)の化合物としては、沃化メチル、ブチル若しくはシクロ アルキル又は式(XIX)の化合物については塩化ビニルが挙げられる。 ‐式(X)の化合物としては、特に、通常の方法でヒドラジンから製造される塩 酸塩の形のメチル−、ブチル−又はブテニル−ヒドラジンが挙げられる。 ‐式(XXI)の化合物のうちでは、ブチル−又はシクロヘキシルマグネシウムが挙 げられる。 後記の実験の部において示す実施例は、このような出発物質の例示であるが、 これらに限定されない。 最後に、本発明の主題は、新規な工業用化合物としての、R'1がカルボキシと 異なった式(XII)、(XIII)及び(XIV)の化合物並びに式(XX)の化合物にある 。 従って、本発明の特定の主題は、エンドセリン受容体の異常な刺激から生じる 疾病の治療を意図した製薬組成物を製造するための前記の式(I)の化合物の使 用にある。 本発明のさらに特定の主題は、エンドセリンにより誘発される高血圧の治療を 意図した製薬組成物を製造するための前記の式(I)の化合物の使用にある。 本発明の全く特定の主題は、全ての血管痙縮の治療並びに脳出血及び腎不全の 治療を意図した製薬組成物を製造するための前記の式(I)の化合物の使用にあ る。 また、本発明のさらに特定の主題は、心筋梗塞の治療、血管形成術後の狭窄の 再発の予防並びに心臓及び血管の線維症の予防を意図した製薬組成物を製造する ための前記の式(I)の化合物の使用にある。 下記の実施例は本発明を例示するものであって、これを何ら制限するものでは ない。例1 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル) −1−(シクロヘキシルメチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カル ボン酸工程1 :β−ベンゾイル−6−クロル−α−オキソ−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−ブテン酸エチル 12.7gのベンゾイルピルビン酸エチル(刊行物“Tetrahedron Letter”29(1988),3997−4000に記載のように製造) 、100mlのでジメチルホルムアミド及び3gのナトリウムエチラートを導入 し、周囲温度で15分間撹拌し、次いで11.81gの塩化6−クロルピペロニ ル及び8.30gの沃化カリウムを添加する。周囲温度で24時間撹拌し、全体 を100mlの水中に注ぎ入れ、次いで3×50mlの酢酸エチルで抽出し、5 0mlの塩化ナトリウムで洗浄し、乾燥する。このようにして、22.8gの所 期の化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程2 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−カルボン酸エチル 上記工程1で得た22.8gの化合物を114mlのエタノールに溶解してな る溶液に2.8mlのヒドラジン水和物を添加し、反応媒体を4時間加熱還流す る。周囲温度に冷却し、分離し、エタノールで洗浄した後、9.11gの所期の 化合物を得た。Mp=204℃。工程3 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−5−フェニル−1H−ピラゾール−3−カ ルボン酸エチル 上記工程2で得た192mgの化合物を2mlのジメチルホルムアミドに溶解 してなる溶液に25mgの水素化ナトリウムを添加し、次いで周囲温度で15分 間撹拌する。0.087gの1−ブロム(1−シクロヘキシル)メチルを添加し 、20時間撹拌し、反応媒体を水中に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、抽出物を 塩化ナトリウム水溶液により洗浄し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。残留 物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−酢酸エチル:95− 5)し、所期の化合物、即ち138mgの異性体A(Mp=130℃)及び39 mgの異性体B(非晶質)を得た。工程4 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カ ルボン酸 上記工程3で得た120mgの異性体Aを0.46mlの2N苛性ソーダの存 在下に5mlのエタノール中で周囲温度で16時間撹拌する。溶媒を蒸発させ、 残留物を5mlの水で溶解し、次いでろ過し、2N塩酸を添加して中和し、沈殿 をろ別し、水ですすぎ、90mgの所期の化合物を得た。Mp=234℃。IRスペクトル (CHCl3 cm-1) C=O 1686 複素環+芳香族 1600−1520−1504例2 :1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル)メチル)−3−((5−カルボキシペンチル)チオ)−1H−ピラゾール− 4−カルボン酸工程1 :6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−アセトニトリル 1.025gの塩化6−クロルピペロニル、5mlのジメチルホルムアミド及 び330mgのシアン化カリウムを導入し、周囲温度で6時間撹拌し、反応媒体 を50mlの水に注ぎ入れ、3×30mlの酢酸エチルで抽出し、抽出物を30 mlの塩化ナトリウムで洗浄し、乾燥する。5mlの還流イソプロピルエーテル から再結晶し、分離した後、740mgの所期の化合物(白色結晶)を得た。分析 IR(CHCl3 cm-1) CN 2255 芳香族 1625−1505−1481工程2 :6−クロル−β−オキソ−1,3−ベンゾジオキソール−5−ブタン酸 エチル 8.3gの電解亜鉛及び10mlのテトラヒドロフランを導入する。0.2m lのジブロムエタンを添加し、5分間還流して亜鉛を活性化する。冷却した後、 上記工程1で示したように得た5gの化合物と40mlのテトラヒドロフランを 添加し、反応媒体を還流させ、11.4mlのブロム酢酸エチルを1時間で添加 し、再度15分間撹拌還流し、次いで0〜+5℃に冷却し、25mlの塩酸を使 用して加水分解する。30分間撹拌した後、反応媒体を250mlの水に注ぎ入 れ、100+2×50mlの酢酸エチルにより抽出し、抽出物を50mlの塩化 ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥する。96%エタノールから再結晶し、次いでシ リカでクロマトグラフィーし、塩化メチレン−酢酸エチル:95−5で溶離する 。このようにして、885mgの所期の化合物を得た。分析 IR(CHCl3 cm-1) C+O 1741−1720 芳香族 1625−1507−1482工程3 :α−[ビス(メチルチオ)メチレン]−6−クロル−β−オキソ−1, 3−ベンゾジオキソール−5−ブタン酸エチル a)弗化カリウム担持アルミナの製造 20gの弗化カリウムを200mlの水に溶解し、次いで30gの天然活性ア ルミナを添加する。数分間撹拌した後、反応媒体を数回100%エタノール中に 取り込むことにより脱水し、次いで乾燥する。このようにして、50gの弗化カ リウム担持アルミナを得た。 b)ケテンチオアセタールの取得 上記の工程2で得た570mgの化合物、20mlのアセトニトリル、上記の a)で得た1.6gの化合物及び0.12mlの二硫化炭素を導入し、周囲温度 で1時間撹拌し、次いで0.25mlの沃化メチルを導入し、周囲温度で16時 間撹拌する。反応媒体をろ過し、アセトニトリルで3回すすぎ、乾燥し、次いで 20mlの塩化メチレンで溶解し、ろ過し、乾燥する。塩化メチレンを使用して シリカでクロマトグラフィーし、600mgの所期の化合物(黄色固体)を得た 。 Mp=70℃。分析 IR(CHCl3−ヌジョール cm-1) C=O 1704 C=C+芳香族 1627−1526−1505−1482工程4 :1−ブチル−3−((6−クロル−1,3−ジオキソール−5−イル) メチル)−5−(メチルチオ)−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エチル(A )及び1−ブチル−2−((6−クロル−1,3−ジオキソール−5−イル)メ チル)−4−(メチルチオ)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸エチル(B) 上記工程3で得た150mgの化合物、5mlのエタノール及び136mgの ブチルヒドラジンしゅう酸塩を導入し、反応媒体を還流させ、3日間撹拌し、次 いで乾燥する。シリカでクロマトグラフィーし、シクロヘキサン−酢酸エチル: 9−1で溶離する。このようにして、21mgの所期の化合物A(樹脂)及び4 5mgの所期の化合物Bを得た。分析 :化合物A IR(CHCl3 cm-1) C=O 1702 芳香族+複素環 1625−1505−1483工程5 :1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ジオキソール−5−イル) メチル)−3−(メチルスルフィニル)−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エ チル 上記工程4に記載のように得た250mgのエチルエステルを5mlのジクロ ルエタンに溶解し、反応媒体を0℃に冷却し、180mgのm−クロル過安息香 酸を8mlのジクロルメタンに溶解してなる溶液を添加し、45分間撹拌する。 反応媒体を重炭酸ナトリウム溶液により洗浄し、次いでジクロルメタンにより抽 出し、有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。粗生成物を得た。 これをシリカでクロマトグラフィーする(溶離剤:ジクロルメタン−メタノール :97.5−2.5)。178mgの所期の化合物を得た。Mp=82℃。工程6 :1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ジオキソール−5−イル) メチル)−3−メルカプト−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エチル 上記工程5で得た169.3mgの化合物を20mlのジクロルメタンに溶解 し、0.11mlのトリフルオル酢酸無水物を添加する。15分間撹拌し、溶媒 を減圧下に蒸発させ、残留物を2mlのメタノールと0.55mlのトリエチル アミンで溶解し、再度周囲温度で15分間撹拌し、次いでジクロルメタンで抽出 し、有機相を塩化アンモニウム飽和溶液により洗浄し、乾燥し、溶媒を減圧下に 蒸発させ、125mgの所期の化合物を集めた。工程7 :1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ジオキソール−5−イル) メチル)−3−((6−エトキシカルボニルペンチル)チオ)−1H−ピラゾー ル−4−カルボン酸エチル 上記の工程6で得た125mgの化合物を2mlのジメチルホルムアミド中に 含有する溶液に14.4mgの水素化ナトリウムを添加する。15分間撹拌し、 次いで0.056mlの6−ブロムヘキサン酸エチルを添加し、周囲温度で5時 間撹拌する。4mlの水を添加し、次いで酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム 飽和水溶液により洗浄し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。シリカでクロマ トグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−酢酸エチル:95−5)した後、82. 6mgの所期の化合物を得た。工程8 :1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5− イル)メチル)−3−((5−カルボキシペンチル)チオ)−1H−ピラゾール −4−カルボン酸 上記の工程7で得た72.4mgの化合物を0.26mlの2N苛性ソーダ及 び2mlのエタノールと混合する。3時間撹拌還流し、有機溶媒を減圧下に蒸発 させ、4mlの水を添加し、溶液を0.26mlの2N塩酸を使用して酸性化し 、水洗し、40℃で減圧乾燥し、49.2mgの所期の化合物を得た。Mp=1 40℃。例3 :1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イ ル)メチル)−3−(((4−メトキシフェニル)メチル)チオ)−1H−ピラ ゾール−4−カルボン酸 例2の工程7において、6−ブロムヘキサン酸エチルの代わりに1−クロル− ((4−メトキシフェニル)メチル)を使用して、例2におけるように操作を行 い、このようにして所期の化合物を得た。Mp=180.9℃。例4 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル) −1−(2−シクロヘキシルエチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5− カルボン酸 例1の工程3において、1−ブロム(1−シクロヘキシル)メチルの代わりに 1−ブロム(2−シクロヘキシル)エチルを使用して、例1におけるように操作 を行い、次いで例1の工程4におけるように進行させ、このようにして所期の化 合物を得た。Mp〜80℃。例5 :1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロル −1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H−ピ ラゾール−5−カルボン酸 例1の工程3において、1−ブロム(1−シクロヘキシル)メチルの代わりに 以下に示すように製造した1−[(3−トシルメチル)シクロヘキシル]カルボ ン酸エチルを使用して、例1におけるように操作を行い、次いで例1の工程4に おけるように進め、このようにして所期の化合物を得た。Mp〜130℃。 例5で使用したトシレートの製造 ・酸クロリドの形成 5gの1,3−シクロヘキサンジカルボン酸を10mlの塩化チオニル中で3 時間撹拌還流し、過剰の反応体を蒸留し、残留物をトルエンで溶解し、溶媒を蒸 発させ、6.04gの所期の化合物を集めた。 ・エステルの形成 1.69mlのエタノールと50mlのテトラヒドロフランを0℃に冷却し、 18.12mlのn−ブチルリチウムのテトラヒドロフラン溶液(1.6M/l )を30分間で添加し、0℃/+5℃で30分間撹拌する。この溶液を、上で得 た6.04gの酸クロリドを60mlのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液 に10℃以下の温度で30分間にわたり添加する。 ・アルコールへの還元 この温度を保持しながら、58mlのリチウムトリ(t−ブトキシアルミノハ イドライド)を30分間で添加し、1時間撹拌し、反応媒体を1N塩酸中に注ぎ 入れ、次いで酢酸エチルにより抽出し、塩水で洗浄し、乾燥し、減圧下に蒸発さ せ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:CH2Cl2/AcOEt :9−1)し、1.39gのアルコールを得た。 ・トシレートの形成 上で得た1.33gのアルコールを5mlのピリジン中で0℃/+5℃に冷却 し、1.63gの塩化トシルを5mlのジクロルメタンに溶解してなる溶液を2 0分間で添加し、周囲温度で20時間撹拌する。反応媒体を100mlの1N塩 酸中に注ぎ入れ、酢酸エチルにより抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、溶媒を減 圧下に蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:CH2Cl2) し、1.97gの所期のトシレートを得た。例6 :cis−1−[[2−[(カルボキシメトキシ)メチル]シクロヘキシル ]メチル]−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メ チル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 例1の工程3において、1−ブロム(1−シクロヘキシル)メチルの代わりに (1−トシル)−1−[2−((エトキシカルボニルメトキシ)メチル)シクロ ヘキシル]メチルを使用して、例1におけるように操作を行い、次いで例1の工 程4におけるように進行し、このようにして所期の化合物を得た。Mp〜90℃ 。 例6で使用したトシレートの製造 ・エステルの形成 2.23mlのジアゾ酢酸エチルを16mlのジクロルメタンに溶解したなる 溶液を、3.06gのcis−1,2−シクロヘキサンジメタノールを100m lのジクロルメタンに溶解してなる溶液を、数滴の三弗化硼素エチルエテラート の存在下に、周囲温度で1時間にわたり添加する。反応媒体を周囲温度で16時 間撹拌し続け、次いで水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をシリ カでクロマトグラフィー(溶離剤:AcOEt/シクロヘキサン:20−80) し、1.98gの所期の化合物を得た。 ・トシレートの形成 1.01gの上記の化合物を5mlのピリジン中で0℃/+5℃に冷却し、1 .0gの塩化トシルを5mlのジクロルメタンに溶解してなる溶液を30分間で 添加し、周囲温度で16時間撹拌する。反応媒体を100mlの1N塩酸中に注 ぎ 入れ、次いでジクロルメタンで抽出し、水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発さ せ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン/AcOE t:2−8)し、1.38gの所期のトシレートを得た。例7 :1−[[1−[(カルボキシメトキシ)メチル]シクロヘキシル]メチル ]−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)− 3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 例1の工程3において、1−ブロム(1−シクロヘキシル)メチルの代わりに (1−ブロム)−1−[1−((エトキシカルボニルメトキシ)メチル)シクロ ヘキシル]メチルを使用して、例1におけるように操作を行い、次いで例1の工 程4におけるように進行し、このようにして所期の化合物を得た。Mp〜188 ℃。 例7で使用したトシレートの製造 例6で使用したトシレートの製造におけるように、開始時に1.9mlのジア ゾ酢酸エチル及び1.5gの1,1−(シクロヘキサン)ジメタノールを使用し て、操作を行い、840mgの中間体エステルを得た。820mgのこのエステ ルを例6に示したように814mgの塩化トシルと反応させて1.23gの所期 のトシレートを得た。例8 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル) −1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール− 5−カルボン酸工程1 :(E)3−(6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)− 2−プロペン酸エチル 11.6gの水素化ナトリウムを100mlのエチレングリコールジメチルエ ーテルに溶解してなる溶液に60mlのホスホノ酢酸トリエチルを滴下する。5 0分間撹拌し、次いで反応媒体を周囲温度に保持しながら17.37mlの6− クロルピペロナールを370mlのエチレングリコールジメチルエーテルに溶解 してなる溶液を添加し、2時間30分撹拌し、沈殿をろ過し、ろ液を蒸発乾固さ せ、残留物をエタノールから再結晶する。46.33gの所期の化合物を得た。 Mp=121℃。工程2 :6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−プロパン酸エチル 上記工程1で得た43.93gのエステルを900mlのテトラヒドロフラン 及び300mlのエタノールに溶解してなる溶液を0℃に冷却し、次いで25. 61gの塩化第一銅を添加し、次いで30分間で6.52gの水素化硼素ナトリ ウムを添加する。0℃で2時間撹拌し、次いで反応媒体を1リットルの氷冷3% 塩酸水溶液中に注ぎ入れる。周囲温度で16時間撹拌し、次いでろ過し、水洗し 、塩化メチレンで抽出し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をシリカで クロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン−酢酸エチル:8−2)し、25 .21gの所期の化合物を得た。工程3 :2−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−オキソ−1,4−ブタンジ酸ジエチル 上記工程2で得た22.88gの化合物を230mlのトルエン中で18.9 6gのナトリウムエチラートの存在下に80℃で30分間加熱する。18mlの しゅう酸ジエチルを添加し、80℃で1時間撹拌し、反応媒体を0℃に冷却し、 次いで全体を500mlの氷冷塩化アンモニウム飽和溶液中に注ぎ入れ、500 mlの酢酸エチルを添加する。反応媒体を周囲温度に戻し、水性相を酢酸エチル で抽出し、有機相を塩水で洗浄し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物を シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン−酢酸エチル:8−2) し、24.05gの所期の化合物を集めた。工程4 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(2−シアノエチル)−5−ヒドロキシ−1H−ピラゾール−3−カル ボン酸エチル 上記工程3で得た10.06gの化合物を100mlの氷酢酸に溶解してなる 溶液を2−シアノエチルヒドラジンの存在下に7時間加熱還流させる。反応媒体 を周囲温度に戻し、16時間撹拌する。沈殿をろ過し、エタノールで洗浄し、乾 燥する。ろ液を蒸発乾固させ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤: 塩化メチレン−メタノール:9−1)し、残留物と乾燥沈殿を92mlのエタノ ールに還流溶解させる。ろ過し、減圧乾燥した後、5.49gの所期の化合物を 集めた。Mp=192℃。工程5 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(2−シアノエチル)−5−ブロム−1H−ピラゾール−3−カルボン 酸エチル 26.3gのトリブロムホスフェートを導入し、60℃に加熱し、上記の工程 4で得た5.32gの化合物を添加し、60℃で20分間撹拌する。50mlの 酢酸エチルを添加して希釈し、全体を500mlのNH4OH+氷溶液中に注ぎ 入れ、次いで3×200mlの酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム飽和溶液に より洗浄し、乾燥する。シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン −酢酸エチル:5−5)した後、4.84gの所期の化合物(白色固体)を得た 。Mp=116℃。分析 IRスペクトル:CHCl3(cm-1) OHの不存在 CN 2258 C=O 1723 芳香族+複素環 1622−1600−1535−1505−1482工程6 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ブロム)−1H−ピラゾール− 5−カルボン酸エチル 450mgの50%油中水素化ナトリウムと3mlのジメチルホルムアミドを 導入し、反応媒体を0℃にもたらし、次いで上の工程5で得た4.125gの化 合物と8mlのジメチルホルムアミドを10分間で導入する。0℃で3/4時間 撹拌し、次いでさらに9mlのジメチルホルムアミドを添加し、再度3/4時間 撹拌し、次いで3.35mlのブロムメチルシクロヘキサンを徐々に添加し、反 応媒体を周囲温度に戻し、次いで55±5℃で6時間30分加熱し、再度周囲温 度で18時間撹拌する。全体を20mlの塩化アンモニウム飽和溶液中に注ぎ入 れ、3×200mlの酢酸エチルで抽出し、次いで塩化ナトリウム飽和溶液で洗 浄し、乾燥する。シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレンで、次いでシク ロヘキサン−酢酸エチル:9−1で溶離し、2.50gの所期の化合物(白色結 晶)を得た。Mp=116℃。分析 IRスペクトル:CHCl3(cm-1) CNの不存在 C=O 1718 芳香族+複素環 1625−1600−1527−1505−1480工程7 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸エチル 5mlのジメチルホルムアミド(無水)、96mgの2−チオフェンボロン酸 、17mgのPd(Pφ34及び212.3mgのK3PO4、次いで上記工程6 で得た241.9mgの化合物を導入し、反応媒体を100℃に24時間もたら す。 酢酸エチルを添加し、有機相を塩化アンモニウム飽和水溶液により、次いで水 、次いで塩化ナトリウム飽和水溶液により洗浄し、乾燥し、ろ過し、蒸発乾固さ せる。シリカでクロマトグラフィーし、塩化メチレン−シクロヘキサン:1−1 で溶離した後、124.5mgの所期の化合物(油状固体)を得た。分析 IRスペクトル:CHCl3(cm-1) >=O 1714 芳香族+複素環 1555−1520−1504−1480工程8 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸 2.8mlのエタノール、上記工程7で得た114.6mgの化合物を導入し 、284μlの苛性ソーダ(2N)を添加し、媒体を2時間還流させる。エタノ ールを蒸発させ、15mlの蒸留水を添加し、次いでろ過し、次いで284μl の塩酸(2N)で中和する。懸濁液を周囲温度で終夜放置し、50℃で10分間 、超音波の下で5分間放置し、次いでろ過し、水洗し、乾燥する。このようにし て、 90.9mgの所期の化合物を得た。Mp=254℃。分析 微量分析:C2323ClN24S:MW458.97 IRスペクトル:ヌジョール(cm-1) 吸収OH/NH C=O 1686 芳香族+複素環 1518−1500例9 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル) −1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸工程1 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾー ル−5−カルボン酸エチル 10mlのトルエン(無水)、368.4mgの2−(トリブチルスタンニル )ピリジン及び29mgのPd(Pφ34を導入し、次いで例8の工程6で得た 241.9mgの化合物を素早く導入し、媒体を終夜還流させる。 酢酸エチルを添加し、有機相を塩化アンモニウム飽和水、次いで水、次いで塩 化ナトリウム飽和水により洗浄し、乾燥し、ろ過し、蒸発乾固させる。シリカで クロマトグラフィーし、酢酸エチル−塩化メチレン:10−90により溶離した 後、174.7mgの所期の化合物を得た。分析 IRスペクトル:CHCl3(cm-1) >=O 1710 芳香族+複素環 1592−1568−1522−1504−1480工程2 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ピリジニル)−1H−ビラゾー ル−5−カルボン酸 3.4mlのエタノール、上記工程1で得た164mgの化合物を導入し、3 40μlの苛性ソーダ(2N)を導入し、媒体を80℃に2時間もたらす。エタ ノールを除去するように蒸発させ、12mlの蒸留水を添加し、340μlの塩 酸(2N)を添加し、懸濁液を24時間撹拌し、次いで50℃で1時間、超音波 の下で30分間放置し、次いでろ過し、水洗し、乾燥する。このようにして、1 40.8mgの所期の化合物を得た。Mp=238℃。分析 微量分析:C2324ClN34:MW453.93 IRスペクトル:ヌジョール(cm-1) 吸収OH/NH C=O 1688 芳香族+複素環 1591−1568−1526−1500例10 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(3−チエニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸工程1 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(3−チエニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸エチル 5.0mlのジメチルホルムアミド(無水)、96mgの3−チオフェンボロ ン酸、17mgのPd(Pφ34及び212.3mgのK3PO4、例8の工 程6で得た241.9mgの化合物から出発して、例8の工程7におけるように 操作を行い、反応媒体を100℃に16時間もたらす。シリカでクロマトグラフ ィーし、塩化メチレン−シクロヘキサン:1−1で溶離した後、197.5mg の所期の化合物を得た。分析 IRスペクトル:CHCl3(cm-1) >=O 1710 芳香族+複素環 1600−1560−1524−1505−1480工程2 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(3−チエニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸 3.94mlのエタノール、上記の工程1で得た186.9mgの化合物、3 94μlの苛性ソーダ(2N)から出発して、例8の工程8におけるように操作 を行い、次いで媒体を2時間30分還流させる。このようにして、165.3m gの所期の化合物(白色固体)を得た。Mp=250℃。分析 微量分析:C2323ClN24S:MW458.97 IRスペクトル:ヌジョール(cm-1) 吸収OH/NH C=O 1683 芳香族+複素環 1520−1500例11 :1−ブチル−3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ )−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル) −1H−ピラゾール−4−カルボン酸 例2の工程6のようにして得た粗製のメルカプタンピラゾール及び4−ブロム シクロヘキシル酢酸t−ブチルを工程7で使用し、20時間撹拌し続けることに よって、例2におけるように操作を行う。所期の化合物を得た。Mp=100℃ 。例12 :3−((5−カルボキシペンチル)チオ)−5−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H−ピラゾー ル−4−カルボン酸工程1 :2−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−4−(メチルチオ)−1H−ピラゾール−3−カルボン酸エチル 例2の工程3で得た500mgの化合物、5mlのエタノール及び0.12m lのヒドラジン水和物を混合し、周囲温度で1時置撹拌し、溶媒及びメチルメル カプタン蒸気を除去し、シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:CH2Cl2−A cOEt:8−2)した後、357mgの粗生成物を集めた。Mp=63℃。工程2 :1−プロピル−3−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)メチル)−5−(メチルチオ)−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エ チル(A)及び1−プロピル−2−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソー ル−5−イル)メチル)−4−(メチルチオ)−1H−ピラゾール−3−カルボ ン酸エチル(B) 上記工程1におけるようにして得た12.85gの化合物、200mlのジメ チルホルムアミド及び1.74gの水素化ナトリウムを混合する。周囲温度で1 5分間撹拌し、8.15mlのブロムプロパンを添加し、16時間撹拌し、全体 を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、溶媒を減圧下に除去し、残留物をシリカ でクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン−エーテル:8−2)し、2. 03gの所期の化合物:異性体A(Mp=50℃)及び8.66gの所期の化合 物:異性体B(Mp=94℃)を得た。工程3 :1−プロピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)メチル)−3−(メチルスルフィニル)−1H−ピラゾール−4−カル ボン酸エチル 出発時に、上記の工程2で得た8.66gの化合物及び6.46gのm−クロ ル過安息香酸を使用して例2の工程5におけるように操作を行う。7.39gの 所期の化合物を得た。これはそのまま次の工程に使用する。工程4 :1−プロピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)メチル)−3−メルカプト−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エチル 出発時に、上記工程3で得た4.25gの化合物を使用して例2の工程6にお けるように操作を行う。4.2gの所期の化合物を得た。工程5 :1−プロピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5 −イル)メチル)−3−((6−エトキシカルボニルペンチル)チオ)−1H− ピラゾール−4−カルボン酸エチル 出発時に、上記の工程4で得た685mgの化合物及び0.96mlの6−ブ ロムヘキサン酸エチルを使用し、20時間撹拌し続けることにより例2の工程7 におけるように操作を行う。250mgの所期の化合物を得た。工程6 :3−((5−カルボキシペンチル)チオ)−5−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H−ピラゾ− ル−4−カルボン酸 出発時に、上記の工程5で製造した250mgのジエステルを使用して例2の 工程8におけるように操作を行う。137mgの所期の化合物を得た。Mp=8 8℃。例13 :3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5−(( 6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル −1H−ピラゾール−4−カルボン酸 例12に記載のようにして、工程5においてt−ブチル 4−ブロムシクロヘ キシルエチレートを1−プロピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキ ソール−5−イル)メチル)−3−メルカプト−1H−ピラゾール−4−カルボ ン酸エチルと反応させることにより操作を行う。所期の化合物を得た。Mp=1 78℃。例14 :3−((3−カルボキシプロピル)チオ)−5−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H−ピラゾー ル−4−カルボン酸エチル 例12に記載のようにして、工程5において4−ブロム酪酸エチルを1−プロ ピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル) −3−メルカプト−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エチルと反応させること により操作を行う。所期の化合物を得た。Mp=110℃。例15 :3−((4−カルボキシブチル)チオ)−5−((6−クロル−1,3 −ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H−ピラゾール −4−カルボン酸 例12に記載のようにして、工程5において4−ブロム吉草酸エチルを1−プ ロピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−メルカプト−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エチルと反応させるこ とにより操作を行う。所期の化合物を得た。Mp=185℃。例16 :3−((6−カルボキシヘキシル)チオ)−5−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H−ピラゾー ル−4−カルボン酸 例12に記載のようにして、工程5において7−ブロムヘプタン酸エチルを1 −プロピル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メ チル)−3−メルカプト−1H−ピラゾール−4−カルボン酸エチルと反応させ ることにより操作を行う。所期の化合物を得た。Mp=180℃。例17 :1−((4−(カルボキシメトキシ)フェニル)メチル)−4−((6 −クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル− 1H−ピラゾール−5−カルボン酸工程A :1−(((4−エトキシカルボニルメチル)フェニル)メチル)−4− ((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェ ニル−1H−ピラゾール−5−カルボン酸エチル及び相当する5−フェニル異性 体 1)ハロゲン化エステルの製造 2gの4−ブロムメチルフェニル酢酸を40mlのエタノールに溶解してなる 溶液に2.44mlの塩化トリメチルシリルをゆっくりと添加し、周囲温度で2 時間撹拌する。溶媒を蒸発させ、残留物をジクロルメタンに溶解し、水洗し、乾 燥し、減圧下に蒸発乾固させる。1.98gの所期の化合物を得た。Mp<45 ℃。 2)カップリング 例1の工程2におけるようにして得た300mgのエステルを3cm3のジメ チルホルムアミドに溶解してなる溶液に40mgの50%水素化ナトリウムを添 加する。15分間撹拌し、次いで218mgの上で得たハロゲン化エステルを添 加する。周囲温度で3時間撹拌した後、反応媒体を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで 抽出し、溶媒を減圧下に蒸発させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶 離剤:CH2Cl2−AcOEt:98−2)し、206mgの所期の化合物を3 −フェニル異性体(Mp≒90℃)として得、また92mgを5−フェニル異性 体として得た。工程B :1−((4−(カルボキシメトキシ)フェニル)メチル)−4−((6 −クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル− 1H−ピラゾール−5−カルボン酸 上記工程Aで得た186mgの3−フェニル異性体から出発して例1における ように操作することにより、154mgの所期の化合物を得た。Mp=250℃ 。例18 :1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H− ピラゾール−5−カルボン酸 ハロゲン化エステルの代わりに1−((4−トシルオキシメチル)シクロヘキ シル)カルボン酸エチルを使用して、例17におけるように操作を行い、所期の 化合物を得た。 トシレートの製造 1gの1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサンを10mlのジメチルホル ムアミドに溶解してなる溶液を0.94gのイミダゾール及び1.8mlの塩化 ジフェニルトリメチルシランの存在下に周囲温度で5時間撹拌し、次いで全体を 塩化アンモニウム飽和水溶液中に注ぎ入れ、次いで酢酸エチルにより抽出し、塩 水で洗浄し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラ フィーする(溶離剤:CH2Cl2−AcOEt:95−5)。1.31gのシ リル化誘導体を得た。上記のようにして製造した13.06gのシリル化誘導体 を45gの重クロム酸ピリジニウムと共に260mlのジメチルホルムアミドに 溶解してなる溶液を周囲温度で40時間撹拌し、次いで減圧下に部分濃縮し、全 体を400mlの氷冷塩酸(1N)中に注ぎ入れ、酢酸エチルにより抽出し、重 炭酸ナトリウム溶液により洗浄し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、13.1 gの粗製の酸を得た。上で得られた12.53gの酸を125mlの100°エ タノールに溶解してなる溶液を10mlのクロルトリメチルシランの存在下に周 囲温度で70時間撹拌し、次いで溶媒を減圧下に蒸発させる。シリカでクロマト グラフィー(溶離剤:CH2Cl2−AcOEt:95−5〜80−20)した後 、3.40gのブロックされていないエステルを得た。 トシレートの形成 3.40gの上記の誘導体を10mlのピリジンに溶解してなる溶液を0℃/ +5℃に冷却し、5.22gの塩化トシルを25mlのジクロルメタンに溶解し てなる溶液を50分間で添加し、周囲温度で20時間撹拌する。反応媒体を20 0mlの1N塩酸中に注ぎ入れ、次いでジクロルメタンで抽出し、水洗し、乾燥 し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤: シクロヘキサン/AcOEt:2−8)し、5.50gの所期の化合物を得た。例19 :(cis/trans)1−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキ シル)メチル)−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル )メチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 ハロゲン化物の代わりに、以下のように製造されるトシレートを使用して例1 7におけるように操作することによって、所期の化合物を得た。 例19の開始時に使用した1−シアノメチル−4−トシルオキシメチルシクロヘ キサンの製造 1)ジトシレートの形成 10gの1,4−シクロヘキサンジメタノールを50mlのピリジン中で0℃ /+5℃に冷却し、32gの塩化トシルを150mlのジクロルメタンに溶解し てなる溶液を1時間で添加し、次いで周囲温度で48時間撹拌する。反応媒体を 500mlの2N塩酸中に注ぎ入れ、次いでジクロルメタンで抽出し、抽出物を 水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下の蒸発させる。残留物をジクロルメタン/酢酸エ チル混合物から再結晶した後、16.28gの所期の化合物を得た。Mp=16 5℃。 2)シアン化化合物の製造 上で製造した4.52gのトシレートを90mlのジメチルホルムアミドに溶 解してなる溶液を490mgのシアン化ナトリウムの存在下に周囲温度で3日間 撹拌する。反応媒体を重炭酸ナトリウムを添加しておいた水中に注ぎ入れ、次い で酢酸エチルで抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。 シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン−CH2Cl2−AcOE t:5−4−1)した後、1.4gの所期の反応体を得た。Mp≒75℃。例20 :1−((ビシクロ[2.2.2]−2−オクチル)メチル)−4−(( 6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル −1H−ピラゾール−5−カルボン酸 ハロゲン化エステルの代わりに、1−トシルオキシメチルビシクロ[2.2. 2]オクタンを使用して、例17におけるように操作を行って、所期の化合物を 得た。Mp=120℃。例21 :1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル) −1H−ピラゾール−5−カルボン酸工程A :α,γ−ジオキソ−2−チオフェンブタン酸エチル 20gのナトリウムエチラートを600mlのエタノールに溶解してなる溶液 を0℃に冷却し、次いで15mlの2−アセチルチオフェンをゆっくりと添加し 、0℃で2時間撹拌し、28mlのしゅう酸ジエチルを25分間で添加し、反応 媒体を周囲温度に戻し、20時間撹拌し、全体を再度0℃に冷却し、次いで50 0mlの塩酸(1N)を添加することにより中和する。周囲温度に戻した後、エ タノールを減圧下に蒸発させ、酢酸エチルで抽出し、抽出物を塩水で洗浄し、乾 燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:CH2 Cl2−AcOEt:100%〜50%)した後に31.3gの所期の化合物を 得た。Mp<37℃。工程B :β−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−α,γ−ジオキソ−2−チオフェンブタン酸エチル 工程Aで得た31.11gの化合物を155mlのジメチルホルムアミドに溶 解してなる溶液に10gのナトリウムエチラートを添加し、15分間撹拌し、次 いで28.2gの塩化6−クロルピペロニル及び20.6gの沃化ナトリウムを 添加する。周囲温度で17時間撹拌した後、反応媒体を水中に注ぎ入れ、酢酸エ チルで抽出し、溶媒を減圧下に除去する。工程C :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸エチル 上で得た53.23gの粗製化合物を100mlのエタノールに溶解してなる 溶液を80℃に加熱し、7mlのヒドラジン水和物を添加し、3時間還流撹拌し 、反応媒体を周囲温度に戻し、沈殿をろ過し、エタノールで洗浄し、減圧乾燥し 、エタノールに還流しながら溶解させ。減圧下に濃縮し、7.97gの所期の結 晶化した化合物を集めた。工程D :1−((4−(エトキシカルボキニル)シクロヘキシル)メチル)−4 −((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−( 2−チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸エチル 上記の工程Cで得た700mgの化合物を4.2mlのジメチルホルムアミド に溶解してなる溶液を112mgの50%水素化ナトリウムの存在下に15分間 撹拌する。例18におけるように製造した730mgの1−((4−トシルオキ シメチル)シクロヘキシル)カルボン酸エチルを2mlのジメチルホルムアミド に溶解してなる溶液を周囲温度で添加し、66時間撹拌し、さらに305mgの このトシレートを1mlのジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を添加し、 反応媒体を80℃に3時間加熱し、周囲温度に戻し、塩化アンモニウム飽和水溶 液中に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出し、次いで乾燥し、溶媒を減圧下に除去し、 残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:シクロヘキサン−酢酸エチル: 9−1及び8−2、次いでCH2Cl2−AcOEt:99−1)し、エーテルか ら再結晶した後、467mgの所期の化合物を得た。工程E :1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル) −1H−ピラゾール−5−カルボン酸 上で製造した245mgのジエステルと0.88mlの2N苛性ソーダを使用 して、例2の工程8におけるように操作を行う。124mgの所期の化合物を得 た。Mp=285℃(分解)。例22 :cis/trans 1−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシ ル)メチル)−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル) メチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 トシル化反応体として、例19におけるように製造した1−シアノメチル−4 −トシルオキシメチルシクロヘキサンを使用し、周囲温度で16時間反応させる ことによって、例21の工程D及びEにおけるように操作を行う。所期の化合物 を得た。Mp=240℃。例23 :1−((2−(カルボキシメチル)フェニル)メチル)−4−((6− クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニ ル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 トシル化反応体の代わりに、塩化2−((エトキシカルボニルメトキシ)ベン ジル)を使用して、例21の工程D及びEにおけるように操作を行う。所期の化 合物を得た。Mp>240℃。例24 :1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル) −1H−ピラゾール−5−カルボン酸 トシル化反応体として、例5に記載のように製造した1−((3−トシルオキ シメチル)シクロヘキシル)カルボン酸エチルを使用し、周囲温度で反応させる ことによって、例21の工程D及びEにおけるように操作を行う。所期の化合物 を得た。Mp>260℃。例25 :1−(2−(カルボキシメトキシ)−4−メトキシフェニル)−4−( (6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2− チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 トシル化反応体の代わりに、塩化4−メトキシ−2−((エトキシカルボニル メトキシ)ベンジル)を使用して、例21の工程D及びEにおけるように操作を 行う。所期の化合物を得た。Mp=260℃。例26 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(3−ピリジニル)−1H−ピラゾー ル−5−カルボン酸工程A :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(3−ピリジニル)−1H−ピラゾー ル−5−カルボン酸エチル 例8の工程6に記載のように製造した254mgの臭素化誘導体を10mlの トルエンに溶解してなる溶液を、386mgの3−(トリブチルスタンニル)ピ リジン及び30mgのテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムを含有する 混合物に不活性雰囲気下に添加する。反応媒体を18時間加熱還流し、さらに3 0mgのパラジウム含有反応体を添加し、全体を4時間30分還流し続け、次い で50mlの水中に注ぎ入れる。ジクロルメタンで抽出し、次いで水洗し、乾燥 し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤: シクロヘキサン−AcOEt:7−3)し、エーテル−イソプロピルエーテル混 合物から再結晶した後、144mgの所期の化合物を得た。Mp=135℃。工程B :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(3−ピリジニル)−1H−ピラゾー ル−5−カルボン酸 工程Aで得た130mgの化合物と0.27mlの2N苛性ソーダを使用して 、例1の工程4におけるように操作を行う。98mgの所期の化合物を集めた。 Mp=144℃。例27 :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−1−(シクロヘキシルメチル)−3−(2−フラニル)−1H−ピラゾール −5−カルボン酸 例26の工程A及びBに従い、700mgの臭素化誘導体及び0.70mlの 2−(トリブチルスタンニル)フランを工程Aで使用して操作を行う。436m gのエステルを得た。このエステルの404mgと0.86mlの2N苛性ソー ダを反応させ、339mgの所期の化合物を得た。Mp=248℃。例28 :1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−ピリジニル )−1H−ピラゾール−5−カルボン酸工程A :α,γ−ジオキソ−2−ピリジンブタン酸エチル 3gのナトリウムエチラートを120mlのエタノールに溶解してなる溶液を 0℃に冷却し、6mlの2−アセチルピリジンを添加し、0℃で5分間撹拌し、 次いで12mlのしゅう酸ジエチルを5分間で添加する。反応媒体を0℃で1時 間撹拌し続け、2時間30分で周囲温度に戻し、溶媒を減圧下に蒸発させ、残留 物をエーテルで溶解し、ろ過し、70℃で減圧乾燥する。8.84gの所期の化 合物を得た。Mp=155℃。工程B :β−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−α, γ−ジオキソ−2−ピリジンブタン酸エチル 上記の工程で得た7.71gの化合物を20mlのジメチルホルムアミドと混 合し、次いで6.45gの塩化6−クロルピペロニル及び7gの沃化ナトリウム を40mlのジメチルホルムアミドに溶解してなる溶液を添加する。4時間30 分撹拌し、反応媒体を水中に注ぎ、ジクロルメタンで抽出し、抽出物を水洗し、 乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させ、所期の化合物を得た。これはそのまま次の工 程に使用する。工程C :4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸エチル 工程Bで得た12.58gの化合物及び1.2mlのヒドラジン水和物を使用 して、例21の工程Cにおけるように操作を行い、4.98gの所期の化合物を 得た。工程D :1−(((4−エトキシカルボニル)シクロヘキシル)メチル)−4− ((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2 −ピリジニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸エチル 工程Cで得た638mgの化合物及び例18におけるように製造した1−(( 4−トシルオキシメチル)シクロヘキシル)カルボン酸エチルを使用して、 例21の工程Dにおけるように操作を行う。456mgの所期の化合物を得た。工程E :1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−ピリジニル )−1H−ピラゾール−5−カルボン酸 上で製造した423mgのジエステルと1.53mlの2N苛性ソーダを使用 して、例2の工程8におけるように操作を行う。262mgの所期の化合物を得 た。Mp=261℃。例29 :製薬組成物 下記の処方に相当する錠剤を調製した。 例8の化合物 50mg 補助剤 1錠200mgとするに要する量 (補助剤の詳細:ラクトース、タルク、でんぷん、ステアリン酸マグネシウム)薬理学的結果 1)エンドセリンのA受容体に対する活性の研究 ラットの心臓(心室)から膜調製物を作る。組織をボリトロンにおいて50m Mのトリス緩衝液(pH=7.4)中で粉砕する。 25℃(W.B.)で30分後に、ホモジネートを30,000Gで15分間 遠心分離する(トリス緩衝液(pH=7.4)中で中間で採取して2回遠心分離 する)。 ペレット状物をインキュベーション用緩衝液(25mMのトリス、5μg/m lのペプスタチンA、3μg/mlのアプロチニン、0.1mMのPMSF、3 mMのEDTA、1mMのEGTA、pH=7.4)に再懸濁させる。 その2mlの一定量を溶血試験管に分配し、125Iエンドセリン(ほぼ5,0 00dpm/試験管)及び被検化合物を添加する。(被検化合物はまず3×10-5 Mで3回試験する。)。被検化合物が受容体に特異的に結合している放射能の 50%以上を置き換えたときに、これを7個の濃度の範囲に従って再度試験して 、受容体に特異的に結合している放射能を50%まで抑止する濃度を決定する。 このようにして、50%抑止濃度が決定される。 非特異的な結合は、10-6Mのエンドセリンを添加することによって決定され る(3回)。25℃で60分間インキュベーションし、0℃の水浴に5分間戻し 、減圧下にろ過し、トリス緩衝液(pH=7.4)によりすすいだ後、放射能を シンチレーション用トリトンの存在下にカウントする。 結果は、50%抑止濃度(IC50)として、即ち、被検受容体に結合している 比放射能の50%を置き換えるのに必要な被検化合物の濃度(nMで表される) として直接表される。結果 実施例の化合物について見出されたIC50(ナノモル)を以下の表Iに示す。 2)エンドセリンのB受容体に対する活性の研究 ラットの後部皮質+小脳から膜調製物を作る。組織をポリトロンにおいて50 mMのトリス緩衝液(pH=7.4)中で粉砕する。 25℃(W.B.)で30分後に、ホモジネートを30,000Gで15分間 遠心分離する(トリス緩衝液(pH=7.4)中で中間で採取して2回遠心分離 する)。 ペレット状物をインキュベーション用緩衝液(25mMのトリス、5μg/m lのペプスタチンA、3μg/mlのアプロチニン、0.1mMのPMSF、3 mMのEDTA、1mMのEGTA、pH=7.4)に再懸濁させる。 その2mlの一定量を溶血試験管に分配し、125Iエンドセリン(ほぼ5,0 00dpm/試験管)及び被検化合物を添加する。(被検化合物はまず3×10-5 Mで3回試験する。)。被検化合物が受容体に特異的に結合している放射能の 50%以上を置き換えたときに、これを7個の濃度の範囲に従って再度試験して 、受容体に特異的に結合している放射能を50%まで抑止する濃度を決定する。 このようにして、50%抑止濃度が決定される。 非特異的な結合は、10-6Mのエンドセリンを添加することによって決定され る(3回)。25℃で60分間インキュベーションし、0℃の水浴に5分間戻し 、減圧下にろ過し、トリス緩衝液(pH=7.4)によりすすいだ後、放射能を シンチレーション用トリトンの存在下にカウントする。 結果は、50%抑止濃度(IC50)として、即ち、被検受容体に結合している 比放射能の50%を置き換えるのに必要な被検化合物の濃度(nMで表される) として直接表される。結果 実施例の化合物について見出されたIC50(ナノモル)を以下の表IIに示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/44 613 A61K 31/44 613 C07D 405/14 213 C07D 405/14 213 409/14 231 409/14 231

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 次式(I) [ここで、以下に定義するように、A及びBの一方は窒素原子を表し、A及びB の他方はメチン基を表し、 Aは、多くとも10個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のアルキル又はア ルケニル基を表すZNAにより置換された窒素原子か、或いは 3〜7員よりなり、酸素、硫黄及び窒素原子から選択される1個以上の同一又 は異なった複素原子を含有し得る飽和又は不飽和の環状基を表すZCAにより置 換されたメチン基のいずれかを表し、 Bは、5又は6員のシクロアルキル基(これ自体カルボキシ、又は多くとも6 個の炭素原子を含有するアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、カルボキ シアルキル若しくはカルボキシアルコキシアルキル基により置換されていてもよ い)により置換されていてもよい多くとも10個の炭素原子を含有する線状又は 分岐状のアルキル又はアルケニル基を表すZNBにより置換された窒素原子か、 或いは 多くとも10個の炭素原子を含有する線状若しくは分岐状のアルキル、アルケ ニル若しくはアルキルチオ基又は5若しくは6員のシクロアルキルチオ基(これ らの基の全てはカルボキシ基又はフェニル基(これ自体遊離の若しくはエステル 化されたカルボキシ基、又は多くとも4個の炭素原子を含有する線状若しくは分 岐状のアルキル若しくはアルコキシ基により置換されていてもよい)により置換 されていてもよい)を表すZCBによって置換されたメチン基のいずれかを表し 、 Rは水素若しくはハロゲン原子、又は多くとも4個の炭素原子を含有する線状 若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、 R1は遊離の、塩形成された若しくはエステル化されたカルボキシ基又は等価 の酸性官能基を表し、 点線はA及びBを有する環が不飽和であることを示す] の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての可能なラセミ、エナンチオマー又 はジアステレオマー異性体の形態にあり得る]並びに式(I)の化合物の無機及 び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩。 2. A、B及びRが請求項1で定義した意味を有し、R1が遊離の若しくはエ ステル化されたカルボキシ基又は遊離の若しくはエステル化されたテトラゾリル 基を表す請求項1に記載の式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全て の可能なラセミ、エナンチオマー及びジアステレオマー異性体の形態にあり得る ]並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩 。 3. Aが、多くとも4個の炭素原子を含有する線状又は分岐状のアルキル基に より置換された窒素原子か、或いはフェニル、チエニル又はピリジル基により置 換されたメチン基のいずれかを表し、 Bが、シクロヘキシル基(これ自体はカルボキシ基又はカルボキシメトキシメ チル基により置換されていてもよい)により置換された多くとも4個の炭素原子 を含有するアルキル基により置換された窒素原子か、或いは多くとも6個の炭素 原子を含有するアルキルチオ基又はシクロヘキシル基(これらの基はカルボキシ 基又はフェニル基(これ自体は多くとも6個の炭素原子を含有するアルコキシ基 により置換されている)により置換されていてもよい)により置換されたメチン 基のいずれかをあらわし、 ただし、A及びBの一方が窒素原子をあらわすときは、A及びBの他方はメチ ン基を表すものとし、これらの基は上記のように置換されているものであり、 R1が遊離の又はエステル化されたカルボキシ基を表し、 Rがハロゲン原子を表す 請求項1又は2に記載の式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての 可能なラセミ、エナンチオマー又はジアステレオマー異性体の形態にあり得る] 並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩。 4. Aがフェニル、チエニル又はピリジル基により置換されたメチン基を表し 、 Bがシクロヘキシルメチル基(これ自体はカルボキシ又はカルボキシメチル基 であってそのカルボキシ基が遊離又はエステル化されているものにより置換され ていてもよい)により置換された窒素原子を表し、 R1が遊離の、エステル化された若しくは塩形成されたカルボキシ基又は遊離 の若しくは塩形成されたテトラゾリル基を表し、 Rが水素又はハロゲン原子を表す 請求項1又は2に記載の式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての 可能なラセミ、エナンチオマー又はジアステレオマー異性体の形態にあり得る] 並びに式(I)の化合物の無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩。 5. 化合物名が ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−フェニル−1H−ピラゾール−5−カルボン 酸、 ・1−ブチル−5−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル) メチル)−3((5−カルボキシペンチル)チオ)−1H−ピラゾール−4−カ ルボン酸、 ・1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)4−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H−ピラゾー ル−5−カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5− カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(2−ピリジニル)−1H−ピラゾール−5 −カルボン酸、 ・4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1 −(シクロヘキシルメチル)−3−(3−チエニル)−1H−ピラゾール−5− カルボン酸、 ・1−ブチル−3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5 −((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1H− ピラゾール−4−カルボン酸、 ・3−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)チオ)−5−((6−ク ロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−1−プロピル−1H −ピラゾール−4−カルボン酸、 ・1−((ビシクロ[2.2.2]−2−オクチル)メチル)−4−((6−ク ロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−フェニル−1H −ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((4−カルボキシシクロヘキシル)メチル)4−((6−クロル−1, 3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル)−1H− ピラゾール−5−カルボン酸、 ・cis/trans 1−((4−(カルボキシメチル)シクロヘキシル)メ チル)−4−((6−クロル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル )−3−(2−チエニル)−1H−ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((2−(カルボキシメトキシ)フェニル)メチル)−4−((6−クロ ル−1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル) −1H−ピラゾール−5−カルボン酸、 ・1−((3−カルボキシシクロヘキシル)メチル)−4−((6−クロル−1 ,3−ベンゾジオキソール−5−イル)メチル)−3−(2−チエニル)−1H −ピラゾール−5−カルボン酸 である請求項1〜3のいずれかに記載の式(I)の化合物。 6. 請求項1に記載の式(I)の化合物を製造するにあたり、 ・次式(II) ZCA’−CO−CH2−CO−CO2alk (II) (ここで、ZCA’は、ZCAであってその随意の反応性官能基が保護されてい てもよいものについて請求項1で示した意味を有する) の化合物を次式(III) (ここで、R’は、Rであってその随意の反応性官能基が保護されていてもよい ものについて請求項1で示した意味を有し、Halはハロゲン原子を表す) の化合物と反応させて次式(IV) (ここで、R’、ZCA’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物をヒドラジンNH2−NH2と反応させて次式(V) (ここで、R’、ZCA’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物を次式(VI) ZNB’−W (VI) (ここで、ZNB’は、ZNBであってその随意の反応性官能基が保護されてい てもよいものについて請求項1で示した意味を有し、Wはハロゲン原子又はトシ ル基を表す) の化合物と反応させて次式(I1の化合物を得るか、或いは ・次式(VII) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を二硫化炭素及び次式(VIII) Rd−Hal (VIII) (ここで、Rdは置換されていてもよいアルキル基を表し、Halはハロゲン原 子を表す) の化合物と反応させて次式(IX) (ここで、R’、alk及びRdは上で示した意味を有し、Sは硫黄原子を表す ) の化合物を得、この化合物を次式(X) ZNA’−NH−NH2 (X) (ここで、ZNA’は、ZNAであってその随意の反応性官能基が保護されてい てもよいものについて請求項1で示した意味を有する) の化合物と反応させて次式(I2(ここで、ZNA’、alk、Rd及びSは上で示した意味を有する) の化合物を得るか、或いは ・次式(XI) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有し、R’1は、R1であってその 随意の反応性官能基が保護されていてもよいものについて請求項1で示した意味 を有する) の化合物を次式 N≡C−(CH22−NH−NH2 のヒドラジン誘導体と反応させて次式(XII) (ここで、R’及びR’1は上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物を次式(XIII) (ここで、Hal、R’及びR’1は上で示した意味を有する) に変換し、この化合物に塩基を作用させ、次いで上で定義したような式(VI)の 化合物を作用させて次式(XIV) (ここで、R’、R’1、ZNB’及びHalは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物のハロゲン原子をボロン酸誘導体又は有機金属化合物 による置換反応に付して次式(I3(ここで、ZCA’、ZNB’、R’及びR’1は上で示した意味を有する) の化合物を得るか、或いは ・上で定義した式(VII)の化合物を次式(XV) (ここで、alk1、alk2、alk3及びalk4は同一であっても異なってい てもよく、アルキル基を表す) の化合物と反応させて次式(XVI) (ここで、R’、alk、alk2及びalk3は上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物をヒドラジンで処理して次式(XVII) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物をハロゲン化剤により処理して次式(XVIII) (ここで、R’、Hal及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物を次式(XIX) ZNA’−Hal (XIX) (ここで、ZNA’及びHalは上で示した意味を有する) の化合物と反応させて次式(XX) (ここで、R’及びalkは上で示した意味を有する) の化合物を得、この化合物に次式(XXI) ZCB’−M (XXI) (ここで、ZCB’は上で示した意味を有し、Mは金属又は硼素原子を表す) の化合物を反応させて次式(I4(ここで、R’、alk、ZNA’及びZCB’は上で示した意味を有する) の化合物を得、次いで上記の式(I1)、(I2)、(I3)及び(I4)の化合物 に所望により及び必要ならば下記の転化反応: a)エステル官能基の酸官能基へのけん化反応、 b)カルバモイル基のニトリル基への転化反応、 c)ニトリル基のテトラゾリルへの転化反応、 d)アルキルチオ基の相当するスルホキシド又はスルホンへの酸化反応、次いで 適当ならばスルホキシドの−SH官能基及び適当ならば−S−ZB(ここで、ZB は上で定義したようなアルキル又はシクロアルキル基を表す。その可能な反応 性官能基は保護されていてよい)への転化、 e)カルバメートの尿素への、特にスルホニルカルバメートのスルホニル尿素へ の転化反応、 f)エステル官能基のヒドロキシアルキル又はアルコキシアルキル基への、次い でアルキル基誘導体への転化反応、 g)保護された反応性官能基が有し得る保護基を除去するための反応、 h)無機又は有機塩基により或いは塩基により相当する塩類を得るための塩形成 反応、 i)ラセミ形を分割された生成物に分割するための反応 の一つ以上の反応に付すことを特徴とする、式(I)の化合物[このようにして 得られた式(I)の化合物は全ての可能なラセミ、エナンチオマー又はジアステ レオマー異性体の形態にあり得る]の製造法。 7. 請求項1に記載の式(I)の化合物[ここで、式(I)の化合物は全ての 可能なラセミ、エナンチオマー又はジアステレオマー異性体の形態にあり得る] 並びに式(I)の化合物の製薬上許容できる無機及び有機酸或いは無機及び無機 塩基との付加塩からなる薬剤。 8. 請求項2〜5のいずれかに記載の式(I)の化合物並びに式(I)の化合 物の製薬上許容できる無機及び有機酸或いは無機及び無機塩基との付加塩からな る薬剤。 9. 請求項7又は8のいずれかに記載の薬剤の少なくとも1種を活性成分とし て含有する薬剤組成物。 10. 新規な工業用化合物としての、R'1がカルボキシと異なるものであると きの式(XII)、(XIII)及び(XIV)の化合物並びに式(XX)の化合物。 11. エンドセリン受容体の異常な刺激から生じる疾病の治療を意図した製薬 組成物の製造のための、請求項1〜5のいずれかに記載の式(I)の化合物の用 途。
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