JPH11504210A - 化学ライブラリを生成する方法および装置 - Google Patents

化学ライブラリを生成する方法および装置

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JPH11504210A
JPH11504210A JP8531892A JP53189296A JPH11504210A JP H11504210 A JPH11504210 A JP H11504210A JP 8531892 A JP8531892 A JP 8531892A JP 53189296 A JP53189296 A JP 53189296A JP H11504210 A JPH11504210 A JP H11504210A
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Abstract

(57)【要約】 化学ライブラリを生成する方法および装置について説明する。この装置は、交換可能な反応チャンバを支持する反応ブロック(140)を含む。各反応ブロックは、12個の反応チャンバからなる四つのセットを備える。反応チャンバは、ドレンチューブ内へ延びるS字形トラップチューブを備える。反応ブロックは、気体加圧によって反応チャンバがドレンチューブを通じて空になるように気体配管と隔膜シールとを備える。ドレンチューブは、材料を収集できるように標準96ウェルマイクロタイタプレートに直接対合するように構成される。ドッキングステーション(300)は、反応ブロックの位置合わせを固定し、反応ブロック(140)に気体および液体を導入する。頂部シールおよび任意選択の底部シールによって反応ブロック内に不活性雰囲気が維持される。針(20)は、試薬を試薬容器(44)から反応チャンバにピペッティングする。容器ラック(90)は、試薬容器を所定の位置に固定する。

Description

【発明の詳細な説明】 化学ライブラリを生成する方法および装置 発明の分野 本発明は全般的には、組み合わせ合成に関し、詳細には、既知の組成の化学ラ イブラリを生成する方法および装置に関する。 背景 分子の構造と機能との間の関係は、生物学的システムおよびその他の化学ベー スのシステムの研究における基本的な問題である。構造−機能関係は、たとえば 、酵素の機能、細胞コミュニケーション、細胞制御機構およびフィードバック機 構を理解するうえで重要である。ある種の高分子は、特定の三次元空間電子分布 を有する他の分子と相互作用し、そのような分子に結合されることが知られてい る。そのような特異性を有する高分子は、酵素であるか、タンパク質であるか、 糖蛋白質であるか、抗体であるか、それともDNA、RNAなどのオリゴヌクレ オチド配列であるにかかわらず、レセプタとみなすことができる。レセプタが結 合される様々な分子はリガンドとして知られている。 薬剤発見は、構造−機能関係の調査に依存する研究の一種で ある。多くの場合現代において新規な薬剤を見出すことは、生物学的に重要なレ セプタに対して望ましい特異性パターンを有する新規のリガンドを見出すことを 伴う。したがって、新しい薬剤を市場に出すのに必要な時間は、多数のリガンド を迅速に生成し選別できるようにする方法および装置を使用することによって大 幅に短縮することができる。 そのようなリガンドを生成する一般的な方法は、固相樹脂上のリガンドのライ ブラリを合成することである。ペプチドを固相合成する技法はたとえば、Ath ertonおよびSheppard著「Solid Phase Peptide Synthesis: A Pra ctical Approach」(IRL Press at Oxford Univer sity Press、英国オックスフォード、1989年)に記載されている 。オリゴヌクレオチドを固相合成する技法はたとえば、Gait著「Oligonucleo tide Synthesis:A Practical Approach」(IRL Press at Oxfo rd University Press、英国オックスフォード、1984年 )に記載されている。これらの文献はそれぞれ、引用によって本明細書に組み込 まれる。 液相固相複数成分組み合わせ配列合成方式用の技法には、1 994年1月13日に出願され、本出願人に譲渡され、引用によって本明細書に 組み込まれた米国特許出願第08/092862号が含まれる。使用できる他の 合成方式はたとえば、BuninおよびEllman著「A General and Expedi ent Method for the Solid Phase Synthesis of 1,4-Benzodiazepine Der ivatives」(J.Amer.Chem.Soc.114、10997〜1099 8ページ(1992年)、Bunin等著「The Combinatorial Synthesis and Chemical and Biological Evaluation of a 1,4-Benzodiazepine Library」(P roc.Natl.Acad.Sci.91、4708〜4712ページ(19 94年)、1994年2月22日に発行された、「Solid Phase and Combinator ial Synthesis of Benzodiazepine Compounds on a Solid Suppor」と題する 米国特許第5288514号、PCT特許公告WI94/08051号(199 4年4月14日)に記載されている。これらの文献はそれぞれ、引用によって本 明細書に組み込まれる。 ペプチド、オリゴヌクレオチド、その他のポリヌクレオチド用の固相合成方法 が導入されてから、自動技法または手動技法を使用して数千、場合によっては数 百万個の個別のペプチドポ リマーや核酸ポリマーを生成できる、固相方式を使用する新しい方法が開発され ている。このような合成方式は、化合物の科またはライブラリを生成するもので あり、一般に「組み合わせ化学」方式または「組み合わせ合成」方式と呼ばれる 。 組み合わせ化学方式は、当該のレセプタの新規のリガンドを迅速に見つける強 力なツールとなることができる。現在の所、組み合わせライブラリを生成する三 つの一般的な方式、すなわち「空間アドレス可能」方式、「分割ビード」方式、 「組み換え」方式が開発されている。これらの方法は、反応容器設計、ポリマー のタイプおよび組成、時間、温度、雰囲気などの物理変数の制御、生成物の分離 、固相検定法および液相検定法(すなわち、化学分析)、単純混合物または複合 混合物、個別のライブラリメンバーの構造を見つけ、あるいは判定する方法のう ちの一つまたは複数の点で異なる。 これらの一般方式では、いくつかの副方式が開発されている。開発された一つ の空間アドレス可能方式では、標準96ウェルマイクロタイタプレートの寸法に 適合する固定化ピン上でペプチドライブラリが生成される。PCT特許公報第9 1/17271号および第91/19818号を参照されたい。これらの 特許はそれぞれ、引用によって本明細書に組み込まれる。この方法は、不連続エ ピトープを模倣するペプチドを識別し(Geysen等著「Screening Chemical ly Synthesized Peptide Libraries for Biologically Relevant Molecules」( Bioorq.Med.Chem.Lett.3、397〜404ページ(19 93年))、ベンゾジアゼピンライブラリを生成する(1994年2月22日に 発行された、「Solid Phase and Combinatorial Synthesis of Benzodiazepine Compounds on a Solid Support」と題する米国特許第5288514号、および Bunin等著「The Combinatorial Synthesis and Chemical and Biological Evaluation of a 1,4-Benzodiazepine Library」(Proc.Natl.Aca d.Sci.91、4708〜4712ページ(1994年))ために使用され ている。個別のライブラリメンバーの構造は、合成中に実行される(「合成ヒス トグラム」と呼ばれる)反応ステップのシーケンスと共に(マイクロタイタプレ ートの)ピン位置を分析することによって判定することができる。 開発された第二の関連空間アドレス可能方式では、単一の反応装置として構成 された個別の反応容器内でポリマーが固相合 成される。そのような反応装置の一例は標準96ウェルマイクロタイタプレート であり、この場合、プレート全体が反応装置を構成し、各ウェルが単一の反応容 器に対応する。この手法は、従来型の単一コラム(column)固相合成の外挿であ る。 96ウェルプレート反応装置で例示される様に、各反応容器は二次元マトリッ クスによって空間的に規定される。したがって、個別のライブラリメンバー構造 は、各ウェルが受ける反応のシーケンスを分析することによって判定することが できる。 他の空間アドレス可能方式は、「ティーバッグ」(すなわち、小さな多孔性サ ック)を使用して合成樹脂を保持する。各ティーバッグが受ける反応シーケンス が記録される。記録されたこの反応シーケンスによって、各ティーバッグ内で合 成されたオリゴマーの構造が判定される。たとえば、Lam等著「A New Type of Synthetic Peptide Library for Identifying Ligand-Binding Activity」(N ature 354、82〜84ページ(1991年)、Houghton等著 「Generation and Use of Synthetic Peptide Combinatorial Libraries fo r Basic Research and Drug Discovery」(Nature 354、84〜86 ページ(1991年)、Jung等著「Multiple Peptide Synthesis Methods and Their Applications」(Agnew.Chem.Int .Ed.Engl.31、367〜383ページ(1992年)を参照されたい 。これらの文献はそれぞれ、引用によって本明細書に組み込まれる。 他の最近の開発では、フォトリソグラフィ、化学、生物学の技法が組み合わさ れ、基板の表面上でオリゴマーおよびその他の化合物の大きな集合が形成されて いる。米国特許第5143854号ならびにPCT特許公告第90/15070 号および第92/10092号を参照されたい。これらの文献はそれぞれ、引用 によって本明細書に組み込まれる。 オリゴマーの集合を生成する組み換え法も開発されている。PCT特許公告第 91/17271号および第91/19818号を参照されたい。これらの文献 はそれぞれ、引用によって本明細書に組み込まれる。これらの方法を使用して、 組み換え有機体またはファージ中のDNAコーディング配列を判定することによ ってライブラリ中の各オリゴマーを識別することができる。しかし、ライブラリ メンバーが生体内で(すなわち、有機体またはファージ内で)生成されるので、 組み換え法は、合成を細胞内で行うことができるポリマーに限られる。したがっ て、この方法は通常、ペプチドライブラリの構築に制限される。 開発された第三の一般的な方式では、「分割ビード」組み合わせ合成方式が使 用される。Furka等著「General Methods for Rapid Synthesis of Multicom ponent Peptide Mixtures」(Int.J.Pept.Protein Res. 37、487〜493ページ(1991年))を参照されたい。この文献は引用 によって本明細書に組み込まれる。この方法では、ビードがより小さな群として 配分される。これらのより小さな群(「アリコート」と呼ばれる)はそれぞれ、 ビードの総数として均等に分割することができるいくつかのビードを含む。各ア リコートはモノマーにさらされ、ビードは再び共にプールされる。ビードは、混 合され、アリコートとして再配分され、第二のモノマーにさらされる。このプロ セスは、所望のライブラリが生成されるまで繰り返される。 標識化された組み合わせ化学ライブラリを合成する技法は、1995年2月2 日に出願され、本出願人に譲渡され、引用によって本明細書に組み込まれた「Me thods and Apparatus for Synthesizing Labeled Combinatorial Chemical Libr aries」と題する同時係属米国特許出願第08/383776号に記載さ れている。この発明の好ましい実施の形態では、合成された各化合物は、固有の 識別子タグに関連付けられる。識別子タグは、電磁放射を用いる励起時に信号を 検出器に関係付ける。 組み合わせ化学ライブラリの生成を助けるために、そのようなライブラリを生 成するのに必要な多数のステップまたはすべてのステップを自動的に実行できる 科学機器が生産されている。自動組み合わせ化学ライブラリシンセサイザの一例 として、ケンタッキー州ルイズビルのアドバンストケムテック社(Advanc ed ChemTech,Inc.(「ACT」))によって製造されているモ デル(Model)396MPS全自動複数ペプチドシンセサイザが挙げられる 。 モデル396MPSは、単一のランで最大96個の異なるペプチドまたはその 他の小さな分子を生成することができる。合成は同時に行われ、一つのアミノ酸 が、成長する各ポリペプチド鎖に添加され、その後、次の連続アミノ酸が任意の ポリペプチド鎖に添加される。したがって、成長する各ポリペプチド鎖は、各合 成サイクルの終わりに同じ数のアミノ酸残留物を含む。 合成は、96個の反応チャンバを有するACT独自のプラスチック製反応ブロ ック内で行われる。ACT反応ブロックは所 期の目的のために動作するが、いくつかの欠点を有する。 第一に、ACT反応ブロックは、単一のプラスチック片から機械加工される。 したがって、ACT反応ブロックは極めて精密な機械加工を必要とし、製造費が かなり高価である。さらに、ACT反応ブロックは単一の装置の形態をしている ので、ブロックの一部が何らかの理由で損傷または汚染された場合、反応ブロッ ク全体を廃棄する必要がある。ACTブロックの個別の部分を交換することはで きない。 プラスチック製ACT反応ブロックの他の欠点は、加熱または冷却を必要とす る化学反応を助けるそのような加熱または冷却を効率的に行うことができないこ とである。 ある種のプロセスおよび薬品は、化学試薬(反応物でも、あるいは溶媒でも、 あるいは溶媒に融解された反応物でもよい)を不活性雰囲気または無水雰囲気下 に維持し、反応群が分子酸素、水蒸気、または一般に雰囲気中に存在するその他 の作因に反応するのを妨げる必要がある。雰囲気または水分に敏感な薬品の例と して、ペプチド化合物、核酸化合物、有機金属化合物、複素環式化合物、組み合 わせ化学ライブラリを構築するために一般に使用される薬品が挙げられる。した がって、そのような 試薬は、アルゴンや、窒素や、その他の気体や、それら気体の混合物など、無水 雰囲気または不活性雰囲気下で貯蔵し使用しなければならない。通常、そのよう な試薬の容器(およびこのような試薬を使用する反応が起こる容器)は、気体不 浸透隔膜によって外気から密閉される。試薬は、隔膜を貫通する非コアリングピ ペット針を介して、隔膜で密閉された容器から除去することも、あるいは容器に 導入することもできる。 隔膜の組成は、使用される化合物に依存するが、一般的な材料には、熱可塑性 ゴム(TPR)、天然ゴム、テフロン(通常は内張りとして使用される)、EP DMが含まれる。 ACT反応ブロックは、モデル396MPSの作業ステーション上の所定の位 置にロックされると不活性雰囲気を維持することができるが、いったんACT反 応ブロックが作業ステーションから取り外されると、不活性雰囲気を維持するこ とはできない。したがって、反応ブロックは、合成サイクル全体にわたって作業 ステーションに固定されなければならない。多くの反応物が反応するのに数時間 かかるため、モデル396MPSピペッティングステーションが反応期間にわた ってアイドル状態のままになるので、上記のことはモデル396MPSピペッテ ィングステーションに対する著しいダウンタイムを意味する。 また、ブロックの設計のために、ACT反応ブロック内に不活性雰囲気を維持 する有効なシールを作製することは困難である。そのようなシールを作製するた めに、6本の止めネジを使用して、ゴム製ガスケットを取り付けられた頂部プレ ートが、反応チャンバにクランプ止めされる。これらのネジが手で締め付けられ シールが形成される。ブロックの頂部は、***したリムまたはビードが96個の 反応チャンバを、それぞれ、24個の反応チャンバからなる、四つのセクション に分割するように機械加工される。したがって、24個の反応チャンバからなる 群内の個別のチャンバは、***したビードを用いて密閉されるのではなく、隔膜 と機械加工された高分子反応ブロックの平坦な頂部との間の平坦な接合部を用い て密閉される。この設計では、シールが劣悪であり、反応チャンバからの溶媒が 隔膜材料の下側に沿って流れ、あるいは反応ブロックの頂部に機械加工された気 体通路に沿って流れることによって、24個の反応チャンバからなる各群内の反 応チャンバをクロス汚染する恐れがある。(有効なシールを形成するために)四 つのセクションのそれぞれを横切って均等に圧力が分散するようにネジを適切に 調整するには慎重な操作が必要であり、これは常に首尾良く行えるわけではない 。 不適切に形成されたシールは、試薬のクロス汚染に関する問題をもたらす恐れ もある。ガスケットが各反応チャンバの周りを均等に密封しない場合、試薬は一 つの反応容器から別の反応容器に染み込む可能性がある。 ACT反応ブロックは96個の反応チャンバを含むが、反応チャンバの出口間 の距離が大きすぎるので、ACT反応ブロック内で生成される化合物を直接、標 準96ウェルマイクロタイタプレートへ移送することはできない。各反応チャン バが反応を実行するのに必要な体積を有するには、必然的に、96反応チャンバ ACT反応ブロックが標準96ウェルマイクロタイタプレートに対合できないほ ど大きくなければならない。反応が完了すると、ユーザは、反応チャンバの内容 物を、プラスチック製フレームに支持された96個の平底ガラス製バイアルのア レイへ移送しなければならない。ユーザは次いで、流体を、次の分析のために手 動でガラス製バイアルからマイクロタイタプレートにピペッティングしなければ ならない。この構成はいくつかの欠点を有する。第一に、ガラス製バイアルは使 用ごとに 清掃しなければならず、そのため、汚染が発生する可能性が増加する。さらに、 移送作業の緊張した特質により、エラーの発生する可能性が増加する。最後に、 この工程は、容易に自動化することができない。 モデル396MPSの試薬吐出システムは制限も有する。反応物がくみ出され る隔膜密閉試薬容器は不活性雰囲気または無水雰囲気下で密閉できるが、取り出 される試薬の体積が同量またはそれ以上の体積の不活性気体で置き換えられるこ とはない。試薬容器から試薬が抜き取られる際、容器内に部分的な真空が生成さ れる。容器内部と外気との間の圧力差が十分な大きさである場合、外気が、前に 隔膜に形成された針穴を通じて容器に進入する恐れがある。 モデル396MPSは、試薬ビン内の流体液面高さを判定することができる容 量検出器も使用している。モデル396MPSの動作時には、ちょうど試薬−雰 囲気界面にある試薬が抜き取られるようにピペッティング針を流体液面のすぐ下 に挿入することによって、試薬ビンから流体が除去される。この動作では、汚染 される可能性があるのはピペッティング針の先端だけであるが、外気にさらされ た試薬が抜き取られる恐れもある。 最後に、前述のMPS検出器が動作できるのは、極性試薬が使用される場合だ けである。したがって、モデル396MPSは、非極性試薬を使用する薬品に適 合することはできない。 したがって、当技術分野では、交換可能な部品を有する反応ブロックを比較的 廉価にかつ容易に製造する必要がある。当技術分野では、有効に加熱し冷却する ことができ、不活性雰囲気を維持しながら必要に応じて移動することができ、標 準96ウェルマイクロタイタプレートに直接対合することができる反応ブロック も必要である。当技術分野では、各反応チャンバを容易にかつ有効に密封し、反 応チャンバ間の試薬のクロス汚染を低減させる反応ブロックも必要である。当技 術分野では、ロボットによって操作できる反応ブロックも必要である。 当技術分野では、試薬ビンの底部の、試薬−雰囲気界面から離れた位置から試 薬を抜き取るように動作することができ、非極性試薬と共に使用することができ るピペッティング作業ステーションも必要である。 さらに、当技術分野では、ピペッティング針と隔膜シールとの間の摩擦によっ て生じる隔膜密閉試薬ビンの移動を防止するこれらのビン用のホルダが必要であ る。 概要 好ましい実施の形態は、ブロック内に支持された交換可能な反応チャンバを使 用する反応ブロックを提供することによってこれらの要件を満たす。各反応ブロ ックは、12個の反応チャンバからなるセットを四セット備え、ロボットの操作 を容易にする取り付け具を有する。 反応チャンバは、フリット(frit)を備えることが好ましい。S字形トラップ チューブが各反応チャンバの底部上で取り付け具にスナップ止めされる。トラッ プチューブはドレンチューブ内へ延びる。 反応ブロックは、気体の加圧によって反応チャンバがドレンチューブを通じて 空になるように、気体(好ましくは窒素)配管と隔膜シールとを備える。ドレン チューブは、材料を収集できるように標準96ウェルマイクロタイタプレートに 直接対合するように構成される。 反応ブロックは、好ましくは高熱安定性を有し、好ましくは加熱または冷却用 の気体配管または液体配管を備える。 ドッキングステーションによって、反応ブロックを確実に位置合わせすること ができ、気体および液体を反応ブロックに導 入することができる。反応ブロック内の不活性雰囲気は、頂部シールおよび(任 意選択の)底部シールによって維持される。適当な隔膜貫通針アセンブリを用い て、固定された隔膜を通じて合成担体をスラリまたは粉末として導入することが できる。別法として、頂部を取り外した状態で、合成担体をスラリまたは粉末と して各反応チャンバに導入し、添加後に頂部を固定することができる。針によっ て、試薬が試薬容器のアレイから反応チャンバにピペッティングされ、不活性雰 囲気が維持される。ロッキング試薬容器ラックによって、容器が所定の位置に固 定される。 図面の簡単な説明 第1図は、好ましい実施の形態によるピペッティング作業ステーションの平面 図である。 第2図は、好ましい実施の形態による反応チャンバの側面図および平面図であ る。 第3図は、さらに、トラップチューブとドレンチューブとを含む、第2図に示 した反応チャンバの側面断面図である。 第4図は、好ましい実施の形態による反応ブロックおよびそれに結合する金具 の等角図である。 第5図は、第4図に示した反応ブロックの平面図である。 第6図は、第4図に示した反応ブロックの側面断面図である。 第7図は、取り外し可能な底部シールを含む、第4図に示した反応ブロックの 側面断面図である。 第8図は、マイクロタイタプレートを含む、第4図に示した反応ブロックの側 面断面図である。 第9図は、第4図に示した反応ブロックの底面図である。 第10図は、第4図に示した反応ブロックの底面平面図である。 第11図は、好ましい実施の形態によるロッキング試薬容器ラックの平面図で ある。 第12図は、第11図に示したロッキング試薬容器ラックの側面図である。 第13図は、好ましい実施の形態によるドッキングステーションの平面図であ る。 第14図は、第4図に示した反応ブロックのポートに挿入された、第13図に 示したドッキングステーション内のコネクタの断面図である。 第15図は、第4図に示した反応ブロックにおける開放され た弁を有するポートに挿入された、第13図に示したドッキングステーション内 のコネクタの断面図である。 第16図は、第4図に示した反応ブロックにおける閉鎖された弁を有するポー トに挿入された、第13図に示したドッキングステーション内のコネクタの断面 図である。 詳細な説明 好ましい実施の形態の構造および機能は、図面を参照することによって最も良 く理解することができる。同じ参照符号が複数の図に現れることに留意されたい 。この場合、符号は、それらの図における同じ構造または対応する構造を指す。 一般的な動作 第1図は、好ましい実施の形態で使用できる自動ピペッティング作業ステーシ ョン250の一部を示す平面図である。自動ピペッティング作業ステーション2 50は、一つまたは複数のピペッティングアーム252を有する(TECAN AG(Feldbachstrasse 80,CH-8634 Hombrechtikon,Switzerland製造)TEC AN5032自動ピペッティング作業ステーションでよい。ピペッティングアー ム252は、針アセンブリ20に取り付けられる。針アセンブリ20は、本出願 人に譲渡され 引用によって本明細書に組み込まれた「Pipetting Needle for Fluid Transfer Under Inert Atmosphere Operations」と題する同時係属の米国特許出願第08 /423142号(弁理士ドケット番号8140−010)で開示されたタイプ の同軸針アセンブリであることが好ましい。同軸針アセンブリ20は、針22と 、気体入口ポート30とを含み、電気接続部31を含むこともできる。作業ステ ーション250は、好ましくは、本出願人に譲渡され引用によって本明細書に組 み込まれた「Pipetting Needle Rinse Station」と題する同時係属の米国特許出 願第08/423141号(弁理士ドケット番号8140−011)で開示され たタイプの、ピペッティング針洗浄ステーション70を含むこともできる。 ロッキング試薬容器ラック90は、隔膜シール46を用いて外気から密封され た試薬のいくつかの容器44を保持する。ラック90は、作業ステーションデッ キ254の左側に配置することが好ましい。作業ステーションデッキ254の右 側には、二つの反応ブロック140を受容するドッキングステーション300が ある。各反応ブロック140は、48個の反応チャンバ110(たとえば、第4 図を参照されたい)からなるアレイ を含む。反応チャンバ110から生成物を除去するときは、反応ブロック140 の下方に標準96ウェルマイクロタイタプレート302を取り付けることができ る。 反応チャンバ 次に、第2図を参照すると、好ましい実施の形態による反応チャンバ110が 示されている。反応チャンバ110は、ポリプロピレンなど、射出成形または押 し出し成形されたポリマーで構成することが好ましい。ただし、ポリエチレンや 、テフロンや、ガラスや、反応チャンバ110がさらされる温度環境、圧力環境 、化学環境に耐えることができるその他の不活性材料を使用することもできる。 反応チャンバ110はまた、内部容積が約2mlであることが好ましい。 反応チャンバ110は、第一の直径のほぼ円筒形の本体部112と、本体部1 12と同軸であり本体部112よりも直径の小さなほぼ円筒形の下部本体部11 4とを含む。本体部112は、円錐台またはテーパ付きセクション116によっ てほぼ円筒形の下部本体部114に接続される。本体部112は、好ましくは、 隔膜に対する密閉を容易にするために丸い頂面120を有する、頂部開口部11 8を有する。本体112は、頂面1 20の下方に配置された気体入口ポート122を有する。気体入口ポート122 は、反応ブロック140の廃棄物ベイスン(basin)160(第4図および第5 図参照)の底部の上方に配置されるように位置決めされる。後述のように、この 位置決めにより、ポートからポートへ、あるいはポートから隔膜への直接的な流 路を遮断することによって薬品の可能なクロス汚染が防止される。 反応チャンバ110は、キーイング突起(keying protrusion)128も含む ことが好ましい。キーイング突起128は、反応チャンバ110が所定の向きで ないかぎり、反応チャンバ110が反応ブロック140に挿入されるのを妨げる 。この機能については下記で詳しく論じる。 反応チャンバ110の下部114は、フリット124を受容することができる 。フリット124は、固相樹脂など、ある量の合成担体(図示せず)を支持する ことが好ましい。フリット124は、70ミクロンのポリエチレンフリットであ ることが好ましい。ただし、実行すべき化学分析のタイプに応じて、焼結ガラス 、焼結金属、焼結セラミクスなど、他のタイプのフリットを使用することができ る。 フリット124は、下部114に圧入することが好ましい。下部114は、本 体112の内面を損傷せずにフリット124を下部114に挿入できるように本 体112よりも小さな直径を有する。下部114は、所定の位置に押し込まれた ときにフリット124を保持するように環状ビード126も含むことが好ましい 。 反応チャンバ110は、下部114のすぐ下およびフリット124の下方に漏 斗形部分130も含む。漏斗形部分130によって、フリット124の下面に対 する全面積の露出が可能になり、反応チャンバ110からの液体の排出が向上す る。 漏斗部分130のすぐ下にほぼ円筒形のドレンチューブ132がある。ドレン チューブ132は、下部本体部114と同軸であり下部本体部114よりも直径 が小さい。ドレンチューブ132は、S字形トラップチューブ136(第3図参 照)の外側に対するシールを形成するために環状密閉ビード134を含む。この シールは、S字形トラップチューブ136を環状密閉ビード134に溶接(ある いはその他の方法で固定)することによって補強される。 トラップチューブ136の目的は、液体用の出口の水準を反 応チャンバ110の通常の液面よりも上にすることによって(反応チャンバ11 0が加圧されていないときに)反応チャンバ110からの液体の損失を防止する ことである。トラップチューブ136は、ドレンチューブ138に接続される。 反応チャンバ110が加圧されると、液体は、トラップチューブ136内を流れ 、ドレンチューブ138から排出される。後述のように、ドレンチューブ138 は、標準96ウェルマイクロタイタプレートのウェルに液体を堆積するように位 置決めされる。 トラップチューブ136およびドレンチューブ138は、ポリプロピレンなど 、射出成形または押し出し成形されたポリマーで構成することが好ましい。ただ し、ポリエチレンや、テフロンや、トラップチューブ136およびドレンチュー ブ138がさらされる温度環境、圧力環境、化学環境に耐えることができるその 他の不活性材料を使用することもできる。 反応ブロック 次に第4図を参照すると、好ましい実施の形態による反応ブロック140(お よびそれに結合する金具)の等角図が示されている。反応ブロック140は、6 061アルミニウム(容易に機械加工することができ、良好な耐食性を有する) を機械加 工し、次いでさらに腐食防止を施すために陽極酸化したものであることが好まし い。反応ブロック140は、ハードコート陽極酸化し、次いでテフロンを含浸さ せることもできる。反応ブロック140は、適当な金属、またはエンジニアリン グプラスチック、または充填プラスチック、または結晶プラスチック、またはセ ラミックス、または機械加工可能なセラミックス、または反応ブロック140が さらされる温度環境、圧力環境、化学環境に耐えることができるその他の材料を 機械加工または成形して製作することもできる。非金属材料を使用する場合、マ イクロ波を印加することによって生成物の反応を高めることができる。紫外線( UV)光を透過する材料を使用する場合、UV光を使用して、酸も塩基も付与せ ずに、生成物を合成担体からクリーブすることができる。 反応ブロック140の各端部は、ロボットグリッパ(図示せず)による操作を 容易にするために2本のピン178を備えることが好ましい。反応ブロック14 0の各側面は、反応ブロック140のドッキングステーション300への固定を 容易にするために1本のピン180を備えることが好ましい。反応ブロック14 0をロボット操作することによって、合成プロセス全 体を自動化することができる。たとえば、ピペッティング作業ステーション25 0のドッキングステーション300上に反応ブロック140をロックする際に反 応チャンバ110に試薬を導入することができる。次いで、独立のドッキングス テーション300、あるいは渦流振動テーブル、あるいは加熱チャンバまたは冷 却チャンバ、あるいは合成または材料の収集時に有用なその他の位置または装置 (図示せず)へ反応ブロック140を移動することができる。 好ましい実施の形態では、96ウェルマイクロタイタプレートに直接対合でき る2種類の反応ブロックが構想される。第一のタイプの(または「A」)ブロッ クの48個の反応チャンバ110(およびドレンチューブ138)位置は、第二 のタイプの(または「B」)ブロックの48個の反応チャンバ位置およびドレン チューブ位置からずれ、それによってタイプ「A」およびタイプ「B」ブロック は、標準96ウェルマイクロタイタプレートのあらゆる位置を充填することがで きる。96ウェルマイクロタイタプレートに直接材料を堆積できるので、上記で ACT反応ブロックに関して論じた起こりうる汚染および人的なエラーの問題が 解消される。 反応ブロック140は、容易に識別できるようにカラーコード化することがで き、反応ブロック140の側面に識別番号320を機械加工または印刷すること ができ、機械によって識別されるバーコード322を側面に印刷することもでき る。 次に第5図を参照すると、反応ブロック140の頂部142が示されている。 頂部142は、千鳥格子状に構成された円形開口部144のアレイを有すること が好ましい。好ましい実施の形態では、反応ブロック140は、48個の円形開 口部144を有する。開口部144はまた、反応チャンバ110上でキーイング 突起128と協働し開口部144に挿入されたときに反応チャンバ110を所定 の向きにする必要があるキーイングノッチ145(第4図参照)を含むことが好 ましい。 48個の開口部144は、それぞれ、12個の開口部144からなる、四つの チャンバ146Aから146Dに分割される。チャンバ146AからDは、*** した複数のビード148によって互いに分離され、ビード148は、頂部142 に機械加工されることが好ましい。 頂部142は、四つの気体入口ポート150Aから150Dも含む。気体は、 気体入口ポート150AからDから、それぞ れ気体入口チャンバ152Aから152D(***した密閉ビード148によって 規定される)に流れ込む。気体は次いで、それぞれチャンバ出口ポート154A ないし154Dから、それぞれチャンバ146Aから146Dに流れ込む。各チ ャンバ146への気体流は、個別に制御することができる。たとえば、チャンバ 146Aおよび146Cは、チャンバ146Bおよび146Dを加圧せずに加圧 することができる。 反応チャンバ110を開口部144に挿入し所定の位置にロックすると、反応 チャンバ110の頂部120は、***した密閉ビード148の頂部とほぼ同じ平 面になる。 反応チャンバ110の頂面120および***した密閉ビード148は、隔膜材 料シート153(第4図参照)によって密閉される。隔膜153は、1/10” 熱可塑性ゴム(TPR)シートで製造することが好ましい。隔膜153は、隔膜 リテーナプレート155によって保持され、隔膜リテーナプレート155は、開 口部157に取り付けられた六つのキャプティブ(captive)ネジ型ファスナ15 6を用いて固定することが好ましい。ファスナ156は、隔膜153の開口部1 59を通過し、機械加工済みファスナ開口部158にねじ込まれる。 反応ブロック140は、底部シール220を用いて下面から密閉することがで きる。Oリングまたはクワッドリング221(第7図参照)を使用して、気密シ ールを確保することができる。底部シール220は、圧力を調節できるように一 方向弁222を含むことができる。底部シール220は、ネジ型ファスナ224 を用いて反応ブロック140に取り付けることが好ましい。第4図で分かるよう に、ファスナ224は、プレート155の開口部226を通過し、隔膜153の 開口部228を通過し、反応ブロック140の開口部228を通過し、底部シー ル220の開口部232に入る。底部シール220によって、反応ブロック14 0内に所望の雰囲気または圧力を維持することができ、そのような雰囲気や圧力 を失わずに反応ブロック140をある位置から他の位置(独立の振動テーブルな ど(図示せず))へ移動することができる。これは、反応を起こすのに長時間を 必要とする薬品で特に有用であることがある。このような状況では、そのような 反応がピペッティング作業ステーションから離れた位置で起こり、そのため、ピ ペッティング作業ステーションを他の目的に使用することができる。 好ましい実施の形態では、隔膜リテーナプレート155は、 6061アルミニウムを機械加工し陽極酸化して製作される。しかし、リテーナ プレート155は、エンジニアリングプラスチック、またはセラミックス、また はリテーナプレート155がさらされる温度環境、圧力環境、化学環境に耐える ことができるその他の材料を機械加工または成形して製作することもできる。 また、プレート155を、48個の開口部162の位置を反応ブロック140 の開口部144(したがって、反応チャンバ110の開口部118)に合致させ た状態で機械加工し、反応チャンバ110の頂部120とプレート155との間 の隔膜153の圧縮を厳密に制御することが好ましい。 チャンバ146AからDはそれぞれ、凹状廃棄物ベイスン160AないしDを 含み、廃棄物ベイスン160AからDは、頂部142のチャンバ出口ポート15 4AからDのレベルの下方に機械加工される。これによって、流体が廃棄物ベイ スン160AないしDからチャンバ出口ポート154AからDへ逆流するのが防 止される。 前述のように、反応チャンバ110および開口部144はそれぞれ、キーイン グ突起128およびキーイングノッチ145 を用いて「位置案内される」ことが好ましい。これによって、反応チャンバ11 0は、所定の固有の向きにならないかぎり、開口部144に完全に挿入されるの を防止される。好ましい実施の形態では、反応チャンバ110は、気体入口ポー ト122がチャンバ出口ポート154AからDとは別の方向を向くように配向さ れる。これによって、液体が反応チャンバ110からチャンバ出口ポート154 AからDへ逆流するのが防止される。また、反応チャンバ110の気体入口ポー ト122は、一つの反応チャンバ110からの液体の逆流が、隣接する反応チャ ンバ110の気体入口ポート122に直接進入するのが防止されるように配向さ れる。 次に第6図を参照すると、反応ブロック140の側面断面図が示されている。 反応チャンバ110は、機械加工済み環状ステップ170(開口部171を規定 する)および機械加工済み環状ビード172によって所定の位置に保持される。 S字形トラップチューブ136およびドレンチューブ138は、壁174および 開口部176(第9図および第10図参照)に対する摩擦ばめによって所定の位 置に保持される。 ステップ177は、反応ブロック140が直接、標準96ウ ェルマイクロタイタプレート302(たとえば、第1図および第8図を参照され たい)に対合できるようにするために反応ブロック140の底部に機械加工され る。ステップ177によって、底部シール220(第4図および第7図参照)と の対合および密閉も可能になる。 次に第9図および第10図を参照すると、反応ブロック140の平面図および 底面図が示されている。反応ブロック140の下面は、前述の複数の開口部17 1および176を含むほぼ平坦な表面190を含む。開口部176は、ドレンチ ューブ138を収容する比較的大きな部分192と、S字形トラップチューブ1 36を収容する比較的小さな部分194とを含む。 反応ブロック140の下面は、底面198上に配置された四つの気体ポート1 96Aから196Dも含む。ポート196AからDはそれぞれ、反応ブロック1 40の機械加工済みトンネル(図示せず)を通じて気体入口ポート150Aから D(第5図参照)に接続される。 底面198上には、機械加工済みトンネル(図示せず)を介して気体出口ポー ト201に接続される気体入口ポート200も含まれる。これによって、反応ブ ロック140が底部シール 220(第4図および第7図参照)によって密閉されたときに反応ブロック14 0の下面上の圧力を独立に制御することができる。 底面198は、二つの気体ポートまたは液体ポート202Aおよび202Bも 含む。反応ブロック140の内側は、必要に応じて加熱気体または加熱液体ある いは冷却気体または冷却液体が流れることができる通路を含むように機械加工す ることが好ましい。気体または液体は、ポート202Aに進入し、ポート202 Bから出ることができ、この逆も同様である。反応ブロック140が、6061 アルミニウムなど、熱安定性または熱質量の高い材料からなる場合、この構成で は、迅速で効率的な加熱または冷却を必要とする薬品のために反応ブロック14 0にそのような加熱または冷却を加えることができる。 ポート196AからD、200、202は、反応ブロック140をドッキング ステーション300(第1図および第13図参照)上に適切に位置決めする案内 ピン穴として働くこともできる。 最後に、表面198と同一平面になるように棒磁石204を取り付けることが できる。棒磁石204は、ドッキングステー ション300(第13図参照)に取り付けられた磁気リードスイッチ314を作 動させるように働く。後述のように、一つまたは複数のリードスイッチは、一つ または複数の反応ブロック140が所定の位置に適切に配置されないかぎり、作 業ステーション250の動作を防止する。 ドッキングステーション 次に第1図、第13図、第14図を参照すると、好ましい実施の形態によるド ッキングステーション300が示されている。ドッキングステーション300は 、それぞれ、前述のタイプ「A」およびタイプ「B」の反応ブロック140を受 容する二つのステーション306Aおよび306Bを含むことが好ましい。当業 者には知られているように、ドッキングステーション300は、固有のモータ、 歯車、ドッキングステーション300が渦流シェーカ、好ましくは容積が一定で 速度が可変である渦流シェーカとして働くのに必要なその他の要素(図示せず) を備えることもできる。 ドッキングステーション300は、反応ブロック140上のピン180上にロ ックするための三つのロッキングリンケージ304を含むことが好ましい。各ス テーション306は、それ ぞれ、反応ブロック140(第9図参照)のポート196Aから196Dに接続 される、気体出口コネクタ308Aから308Dを含む。各ステーション306 は、二つのクーラントまたは加熱流体(すなわち、気体または液体)コネクタ3 10Aおよび310Bも含む。第1図は、それぞれ、コネクタ310Aおよび3 10Bに取り付けられた、流体配管320Aおよび320Bを示す。第1図およ び第13図には示していないが、ドッキングステーション300内に示した各コ ネクタには、独立に制御できる流体配管が取り付けられる。コネクタ310Aお よび310Bはそれぞれ、反応ブロック140(第9図参照)のポート202A および202Bに接続される。反応ブロック140の気体入口ポート200に接 続される気体出口コネクタ312も各ステーション306に含められる。 最後に、ステーション306Aおよび306Bはそれぞれ、反応ブロック14 0上の磁石204の存在を検知する、磁気リードスイッチ314Aおよび314 Bを含む。ステーション306A、具体的にはポート312の配置は、タイプ「 A」の反応ブロック140のみが完全に挿入され所定の位置にロックされるよう に構成される。同様に、ステーション306B、具体 的にはポート312の配置は、タイプ「B」の反応ブロック140のみが完全に 挿入され所定の位置にロックされるように構成される。 次に第14図を参照すると、反応ブロック140のポート196Aに挿入され たコネクタ308Aの断面図が示されている。コネクタ308Aとコネクタ19 6Aとの間の界面のみについて論じるが、反応ブロック140とドッキングステ ーション300との間の他の接続部にも同様な界面が含まれることが好ましいこ とが理解されよう。好ましい実施の形態では、コネクタ308Aはポート196 Aに挿入される。このように、コネクタ308Aは案内ピンとして働き、反応ブ ロック140とステーション306Aを適切に位置合わせする。コネクタ308 Aとポート196Aとの間の気密シールは、クワッドリング330によって形成 することが好ましい。クワッドリングの方が標準Oリングよりも好ましいのは、 クワッドリングは、コネクタ308Aがポート196Aから取り外されたときに 表面に付着する傾向が弱いからである。 次に第15図および第16図を参照すると、ポート196Aの代替実施の形態 が示されている。不活性雰囲気またはその他 の雰囲気を維持しなければならない動作では、Schraeder弁360など 、通常は閉鎖される弁をポート196Aに配置することができる。Schrae der弁360は、二方向弾性弁と交換することができる。動作時には、コネク タ308Aがポート196Aに挿入され、Schraeder弁360のピン3 62に係合する。コネクタ308Aは、クワッドリング330に対するシールも 形成する。気体は、開口部364から出てSchraeder弁360内を流れ る。 コネクタ308Aをポート196Aから取り外すと、Schraeder弁3 60のピン362が下向きに移動し、気密シールを形成する。この場合も、所望 の雰囲気を維持しながら、反応ブロック140をある場所から他の場所へ移動す ることができる。 ピペッティング作業ステーション250(第1図参照)は、磁気リードスイッ チ314Aおよび314Bが一方または両方の反応ブロック140の存在を検出 しないかぎり、作業ステーションが動作できないように構成することが好ましい 。すなわち、ピペッティング作業ステーション250は、ステーション306A および306Bに反応ブロック140が適切に取り付 けられないかぎり動作しない。 ロッキング試薬容器ラック 前述のように、組み合わせライブラリの合成時には多くの場合、不活性雰囲気 の下で試薬をピペッティングすることが必須である。しかし、比較的軽量の隔膜 密閉容器から試薬をピペッティングする際、ピペッティング針と隔膜との間の摩 擦が、容器を静止位置から持ち上げるのに十分な大きさになることがある。容器 およびその他の機器が移動し、それらが損傷する恐れがあるので、これが望まし くないことは自明である。次に第1図、第11図、第12図を参照すると、不活 性雰囲気の下でピペッティングを行うロッキング試薬容器ラック90の好ましい 実施の形態が示されている。ラック90は、好ましくはゴムまたは軟性材料層9 4を被覆された底部プレートまたは格子92を含む。ラック90は、一つまたは 複数の水平支持プレート96を含むことができ、複数の垂直支持部材98を含む 。水平プレート96は、容器44を挿入できる48個の円形開口部97を含むこ とが好ましい。ラック90は、隔膜密閉容器44を4×8アレイとして構成でき るように構成することが好ましい。 頂部プレート100は、垂直支持部材98頂部上に、容器4 4にきちんと接触して静止する。頂部プレート100は、容器44の頂部を挿入 できる48個の円形開口部102を含むことが好ましい。容器44を保護するた めに各開口部102をゴム製リング104で囲むことが好ましい。 プレート100は、それ自体を垂直支持部材98に固定し、それによって容器 44を所定の位置に維持する一つまたは複数のファスナ(直角ウイングナット型 ファスナなど)も含む。ロッキングラック90自体を作業表面(作業ステーショ ンデッキ254など)に固定することができる。ただし、ラック90および容器 44の重量はおそらく、ピペッティング針と隔膜との間の摩擦によって生じる運 動を妨げるのに十分なものである。 操作の一例 前述の好ましい実施の形態の多数の特徴は、化学ライブラリを比較的迅速にか つ効率的に生成するのを容易にする。下記の議論では、タイプ「A」反応ブロッ ク140を伴う合成操作について論じる。しかし、下記の議論がタイプ「B」ブ ロックにも同様に適用されることが理解されよう。 通常の操作では、反応チャンバ110内の各フリット124上に固相樹脂など の合成担体を堆積させる。次いで、反応ブロ ック140を第4図に示したように組み立てる。所望の雰囲気または圧力を維持 しながら反応ブロック140をある場所から他の場所へ移動しなければならない 場合、底部シール220を取り付けることができる。 次いで、手動またはロボットによって、作業ステーション250(第1図およ び第13図参照)上のドッキングステーション300のステーション306Aに 反応ブロック140を挿入する。この点では、マイクロタイタプレート302は ステーション306Aには配置されていない。次いで、ロッキングリンケージ3 04がピン180を把持し、反応ブロック140を所定の位置にロックする。同 時に、タイプ「B」反応ブロックをステーション306Bに取り付けることがで きる。 次いで、ピペッティング作業ステーション250が、コンピュータ制御の下で 、試薬の選択された組合せを反応チャンバ110に供給するように動作する。具 体的には、(ピペッティングアーム252によって制御された)ピペッティング 針22を使用して、試薬が、隔膜46で密閉された容器44から、隔膜253で 密閉された反応チャンバ110へ移送される。ピペッティング針22の外部およ び内部は、必要に応じて洗浄ステー ション70で清掃することができる。反応ブロック140は、ステーション30 6Aに取り付けられているときはいつでも、前述のように、加熱または冷却する ことも、あるいは不活性気体で加圧することも、あるいは渦流させることもでき る。 かなり時間のかかる反応では、反応が行われている間に、反応ブロック140 を手動またはロボットによって他のドッキングステーション300へ移動するこ とも、あるいは他の位置へ移動することもできる。所望の生成物の合成が完了し た後、適当な試薬を使用して生成物を合成担体からクリーブすることができる。 この試薬は、作業ステーション250で付与することも、あるいはロボットによ って他の位置で付与することもできる。底部シール220が取り付けられている 場合、底部シール220を取り外し、ステーション306A内のマイクロタイタ プレート302上に反応ブロック140を取り付ける。次いで、反応チャンバ1 10を加圧し、生成物をドレンチューブ138からマイクロタイタプレート30 2の別のウェルに押し込む。次いで、マイクロタイタプレート302をステーシ ョン306Bへ移動する。マイクロタイタプレート302上にタイプ「B」反応ブ ロック140を取り付け、次いで、前述のようにマイク ロタイタプレート302の別の空のウェルに生成物を堆積させる。この場合も、 このプロセスによって、中間ステップの必要なしに標準マイクロタイタプレート のウェルに直接生成物を堆積させることができる。 本発明を好ましい実施の形態に関して説明した。しかし、本発明は、図示し説明 した実施の形態に限らない。本発明の範囲は添付の請求の範囲によって定義され る。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1997年7月31日 【補正内容】 請求の範囲 1.反応チャンバであって、 隔膜に対する密閉を容易にするための丸い縁部を有する頂部開口部と、内面と 、外面と、内径とを有するほぼ円筒形の上部本体と、 上部本体と同軸であり、内面と、外面と、上部本体の内径よりも小さな内径と を有しているほぼ円筒形の下部本体であって、直径が下部本体部分の内径よりも 小さい圧入フリットを有している下部本体と、 上部本体を下部本体に接続するテーパ付きセクションと、 内面を有し、漏斗形セクションを用いて下部本体に接続されたドレンチューブ とを備える反応チャンバ。 2.上部本体が、上部本体の内面を上部本体の外面に接続するポートを含む請 求の範囲第1項に記載の反応チャンバ。 3.ポートが、気体入口ポートである請求の範囲第2項に記載の反応チャンバ 。 4.ドレンチューブが、入口開口部と出口開口部とを有するS字形トラップチ ューブに接続される請求の範囲第1項に記載 の反応チャンバ。 5.ドレンチューブが、S字形トラップチューブの入口開口部に対する密閉を 容易にするために内面上に環状ビードを有する請求の範囲第4項に記載の反応チ ャンバ。 6.S字形トラップチューブが、ドレンチューブに溶接される請求の範囲第5 項に記載の反応チャンバ。 7.S字形トラップチューブが、上向きに上部本体の長さに沿って延びる請求 の範囲第4項に記載の反応チャンバ。 8.S字形トラップチューブの出口ポートが下向きである請求の範囲第7項に 記載の反応チャンバ。 9.S字形トラップチューブの出口が、第二の円筒形ドレンチューブに接続さ れる請求の範囲第8項に記載の反応チャンバ。 10.第二の円筒形ドレンチューブが、トラップチューブの直径よりも大きな 直径を有する請求の範囲第9項に記載の反応チャンバ。 11.S字形トラップチューブおよび第二の円筒形ドレンチューブが、押し出 し成形されたポリプロピレンまたはテフロンで構成される請求の範囲第10項に 記載の反応チャンバ。 12.上部本体の体積が約2mlである請求の範囲第1項に 記載の反応チャンバ。 13.反応チャンバであって、 隔膜に対する密閉を容易にするための丸い縁部を有する頂部開口部と、内面と 、外面と、内径とを有するほぼ円筒形の上部本体と、 上部本体と同軸であり、内面と、外面と、上部本体の内径よりも小さな内径と を有しているほぼ円筒形の下部本体と、 上部本体を下部本体に接続する手段であって、テーパ付きセクションである手 段と、 内面を有するドレンチューブと、 ドレンチューブを下部本体に接続する手段であって、漏斗形セクションである 手段とを備える反応チャンバ。 14.上部本体が、上部本体の内面を上部本体の外面に接続する手段を含む請 求の範囲第13項に記載の反応チャンバ。 15.上部本体の内面を上部本体の外面に接続する手段が、気体入口ポートで ある請求の範囲第14項に記載の反応チャンバ。 16.ドレンチューブが、入口開口部と出口開口部とを有するS字形トラップ チューブに接続される請求の範囲第13項に 記載の反応チャンバ。 17.ドレンチューブが、S字形トラップチューブの入口開口部に対する密閉 を容易にするために内面上に環状ビードを有する請求の範囲第16項に記載の反 応チャンバ。 18.S字形トラップチューブが、ドレンチューブに溶接される請求の範囲第 17項に記載の反応チャンバ。 19.S字形トラップチューブが、上向きに上部本体の長さに沿って延びる請 求の範囲第16項に記載の反応チャンバ。 20.S字形トラップチューブの出口ポートが下向きである請求の範囲第19 項に記載の反応チャンバ。 21.S字形トラップチューブの出口ポートが、第二の円筒形ドレンチューブ に接続される請求の範囲第20項に記載の反応チャンバ。 22.第二の円筒形ドレンチューブが、トラップチューブの直径よりも大きな 直径を有する請求の範囲第21項に記載の反応チャンバ。 23.S字形トラップチューブおよび第二の円筒形ドレンチューブが、押し出 し成形されたポリプロピレンまたはテフロンで構成される請求の範囲第22項に 記載の反応チャンバ。 24.上部本体の体積が約2mlである請求の範囲第13項に記載の反応チャ ンバ。 25.反応チャンバであって、 隔膜に対する密閉を容易にするために丸い縁部を有する頂部開口部と、内面と 、外面と、内面を外面に接続する気体ポートと、内径とを有するほぼ円筒形の上 部本体と、 上部本体と同軸であり、フリットを保持する環状ビードを含む内面と、外面と 、上部本体の内径よりも小さな内径とを有するほぼ円筒形の下部本体と、 上部本体を下部本体に接続するテーパ付きセクションと、 内面を有するドレンチューブと、 ドレンチューブを下部本体に接続する漏斗形セクションとを備える反応チャン バ。 26.それぞれ、第一の幅と第一の高さとを有する、第一の側壁および第二の 側壁と、 それぞれ、第一の幅よりも狭い第二の幅と第一の高さとを有する、第一の端壁 および第二の端壁と、 第一の側壁および第二の側壁ならびに第一の端壁および第二の端壁を境界とす る頂面とを備えた反応ブロックであって、該 頂面が、 それぞれ、円形開口部と頂面とを有する複数の反応チャンバを取り外し可能に 受容するための複数のほぼ円形の開口部と、気体ポートと、複数のチャンバの縁 部を規定し、反応チャンバの頂面とほぼ同じ平面にある頂面を有する、***した 複数のビードとを有し、反応ブロックがさらに、 反応チャンバの頂面および***したビードの頂面を密閉する可とう性隔膜と、 隔膜を覆うリテーナプレートとを備える反応ブロック。 27.リテーナプレートが、反応チャンバの開口部に空間的に対応する複数の 開口部を有する請求の範囲第26項に記載の反応ブロック。 28.リテーナプレートが複数のファスナを用いて隔膜および反応ブロックに 接触して保持固定される請求の範囲第27項に記載の反応ブロック。 29.頂面が、別々に制御することができる、第一の気体入口ポートと、第二 の気体入口ポートと、第三の気体入口ポートと、第四の気体入口ポートとを含み 、***したビードが、第一の加圧チャンバと、第二の加圧チャンバと、第三の加 圧チャン バと、第四の加圧チャンバとを規定する請求の範囲第26項に記載の反応ブロッ ク。 30.各加圧チャンバが、等しい数の反応チャンバを含む請求の範囲第29項 に記載の反応ブロック。 31.各加圧チャンバが12個の反応チャンバを含む請求の範囲第29項に記 載の反応ブロック。 32.別々に制御することができる、第一の気体入口ポート、第二の気体入口 ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポートがそれぞれ、第一の加圧 チャンバ、第二の加圧チャンバ、第三の加圧チャンバ、第四の加圧チャンバと連 通する請求の範囲第29項に記載の反応ブロック。 33.各加圧チャンバが、反応チャンバの頂面のレベルの下方に凹状に設けら れた廃棄物ベイスンを含む請求の範囲第30項に記載の反応ブロック。 34.四つの加圧チャンバがそれぞれ、12個の反応チャンバを有する請求の 範囲第33項に記載の反応ブロック。 35.頂面上のほぼ円形の開口部がそれぞれ、キーイングノッチを有し、各反 応チャンバが、キーイングノッチを有する請求の範囲第26項に記載の反応ブロ ック。 36.反応ブロックがアルミニウムで構成される請求の範囲第26項に記載の 反応ブロック。 37.反応ブロックが6061アルミニウムで構成される請求の範囲第36項 に記載の反応ブロック。 38.アルミニウムが陽極酸化される請求の範囲第36項に記載の反応ブロッ ク。 39.反応ブロックがカラーコード化される請求の範囲第26項に記載の反応 ブロック。 40.反応ブロックが識別番号を有する請求の範囲第26項に記載の反応ブロ ック。 41.隔膜が熱可塑性ゴムで構成される請求の範囲第26項に記載の反応ブロ ック。 42.隔膜に、六つの位置合わせ穴および四つのアクセス穴が打ち抜かれる請 求の範囲第41項に記載の反応ブロック。 43.第一の側壁および第二の側壁が、ブロックの作業ステーションへの固定 を容易にするために、それぞれ1本のピンを備える請求の範囲第26項に記載の 反応ブロック。 44.第一の端壁および第二の端壁が、ロボットグリッパによる操作を容易に するために、それぞれ2本のピンを備える請 求の範囲第26項に記載の反応ブロック。 45.さらに、第一の側壁の底縁部および第二の側壁の底縁部ならびに第一の 端壁の底縁部および第二の端壁の底縁部で規定される底面を含み、前記底面が、 頂面に平行である請求の範囲第26項に記載の反応ブロック。 46.さらに、それぞれ、頂面の第一の気体出口ポート、第二の気体出口ポー ト、第三の気体出口ポート、第四の気体出口ポートに連通する、第一の気体入口 ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポート を含む請求の範囲第26項に記載の反応ブロック。 47.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート 、第四の気体入口ポートが底面にある請求の範囲第46項に記載の反応ブロック 。 48.さらに、加熱流体または冷却流体を受容するための入力ポートを含む請 求の範囲第26項に記載の反応ブロック。 49.加熱流体または冷却流体を受容するための入力ポートが底面内にある請 求の範囲第48項に記載の反応ブロック。 50.さらに、加熱流体または冷却流体を排出するための出力ポートを含む請 求の範囲第48項に記載の反応ブロック。 51.加熱流体または冷却流体を排出するための出力ポートが底面上にある請 求の範囲第50項に記載の反応ブロック。 52.さらに、加熱流体または冷却流体を受容するための入力ポートを、加熱 流体または冷却流体を排出するための出力ポートに接続する複数の通路を含む請 求の範囲第51項に記載の反応ブロック。 53.底面が磁石を含む請求の範囲第45項に記載の反応ブロック。 54.磁石が棒磁石である請求の範囲第53項に記載の反応ブロック。 55.各反応チャンバがドレンチューブを含む請求の範囲第45項に記載の反 応ブロック。 56.さらに、上向きに底面から中央表面へ延びるキャビティを含み、中央表 面が、頂面および底面に平行である請求の範囲第55項に記載の反応ブロック。 57.中央表面が、ドレンチューブを受容するための開口部を有する請求の範 囲第56項に記載の反応ブロック。 58.キャビティが、マイクロタイタプレートとの対合を容易にするために機 械加工済みステップを含む請求の範囲第57 項に記載の反応ブロック。 59.キャビティが、底部シールとの対合を容易にするために第二の機械加工 済みステップを含む請求の範囲第58項に記載の反応ブロック。 60.底部シールが、第二の機械加工済みステップを密閉するOリングを含む 請求の範囲第59項に記載の反応ブロック。 61.底部シールが一方向圧力弁を含む請求の範囲第59項に記載の反応ブロ ック。 62.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート 、第四の気体入口ポートがクワッドリングシールを含む請求の範囲第46項に記 載の反応ブロック。 63.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート 、第四の気体入口ポートが弁を含む請求の範囲第46項に記載の反応ブロック。 64.弁がSchraeder弁である請求の範囲第63項に記載の反応ブロ ック。 65.弁が二方向弾性弁である請求の範囲第63項に記載の反応ブロック。 66.それぞれ、第一の幅と第一の高さとを有する、第一の 側壁および第二の側壁と、 それぞれ、第一の幅よりも狭い第二の幅と第一の高さとを有する、第一の端壁 および第二の端壁と、 第一の側壁および第二の側壁ならびに第一の端壁および第二の端壁を境界とす る頂面とを備えた反応ブロックであって、該頂面が、 それぞれ、円形開口部と頂面とを有する、複数の反応チャンバを取り外し可能 に受容するためのほぼ円形の複数の開口部と、気体ポートと、複数のチャンバの 縁部を規定し、反応チャンバの頂面とほぼ同じ平面にある頂面を有する、***し た複数のビードとを有し、前記反応ブロックがさらに、 反応チャンバの頂面および***したビードを密閉する手段と、 密閉手段を覆うリテーナプレートとを備える反応ブロック。 67.リテーナプレートが、反応チャンバの開口部に空間的に対応する複数の 開口部を有する請求の範囲第66項に記載の反応ブロック。 68.さらに、反応ブロックを密閉する手段にリテーナプレートを固定する手 段を含む請求の範囲第67項に記載の反応ブロック。 69.頂面が、別々に制御することができる、第一の気体入口ポート、第二の 気体入口ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポートを含み、***し たビードが、第一の加圧チャンバ、第二の加圧チャンバ、第三の加圧チャンバ、 第四の加圧チャンバを規定する請求の範囲第66項に記載の反応ブロック。 70.四つの加圧チャンバがそれぞれ、等しい数の反応チャンバを含む請求の 範囲第69項に記載の反応ブロック。 71.別々に制御することができる、第一の気体入口ポート、第二の気体入口 ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポートがそれぞれ、第一の加圧 チャンバ、第二の加圧チャンバ、第三の加圧チャンバ、第四の加圧チャンバに連 通する請求の範囲第70項に記載の反応ブロック。 72.四つの加圧チャンバがそれぞれ、反応チャンバの頂面のレベルの下方に 凹状に設けられた廃棄物ベイスンを含む請求の範囲第70項に記載の反応ブロッ ク。 73.四つの加圧チャンバがそれぞれ、12個の反応チャンバを有する請求の 範囲第70項に記載の反応ブロック。 74.頂面上のほぼ円形の開口部がそれぞれ、キーイングノ ッチを有し、各反応チャンバが、キーイングノッチを有する請求の範囲第66項 に記載の反応ブロック。 75.反応ブロックがアルミニウムで構成される請求の範囲第66項に記載の 反応ブロック。 76.反応ブロックが6061アルミニウムで構成される請求の範囲第75項 に記載の反応ブロック。 77.アルミニウムが陽極酸化される請求の範囲第75項に記載の反応ブロッ ク。 78.反応ブロックがカラーコード化される請求の範囲第66項に記載の反応 ブロック。 79.反応ブロックが識別番号を有する請求の範囲第66項に記載の反応ブロ ック。 80.反応ブロックがバーコードを有する請求の範囲第66項に記載の反応ブ ロック。 81.密閉手段が隔膜である請求の範囲第66項に記載の反応ブロック。 82.隔膜が熱可塑性ゴムで構成される請求の範囲第81項に記載の反応ブロ ック。 83.隔膜に、六つの位置合わせ穴および四つのアクセス穴 が打ち抜かれる請求の範囲第82項に記載の反応ブロック。 84.第一の側壁および第二の側壁が、ブロックの作業ステーションへの固定 を容易にするために、それぞれ1本のピンを備える請求の範囲第66項に記載の 反応ブロック。 85.第一の端壁および第二の端壁が、ロボットグリッパによる操作を容易に するために、それぞれ2本のピンを備える請求の範囲第66項に記載の反応ブロ ック。 86.さらに、第一の側壁の底縁部および第二の側壁の底縁部ならびに第一の 端壁の底縁部および第二の端壁の底縁部で規定された底面を含み、該底面が、頂 面に平行である請求の範囲第66項に記載の反応ブロック。 87.さらに、それぞれ、頂面の第一の気体出口ポート、第二の気体出口ポー ト、第三の気体出口ポート、第四の気体出口ポートに連通する、第一の気体入口 ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポート を含む請求の範囲第66項に記載の反応ブロック。 88.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート 、第四の気体入口ポートが底面にある請求の範囲第87項に記載の反応ブロック 。 89.さらに、加熱流体または冷却流体を受容するための入力ポートを含む請 求の範囲第66項に記載の反応ブロック。 90.加熱流体または冷却流体を受容するための入力ポートが底面内にある請 求の範囲第89項に記載の反応ブロック。 91.さらに、加熱流体または冷却流体を排出する出力ポートを含む請求の範 囲第89項に記載の反応ブロック。 92.加熱流体または冷却流体を排出するための出力ポートが底面上にある請 求の範囲第91項に記載の反応ブロック。 93.さらに、加熱流体または冷却流体を受容するための入力ポートを、加熱 流体または冷却流体を排出するための出力ポートに接続する複数の通路を含む請 求の範囲第92項に記載の反応ブロック。 94.底面が磁石を含む請求の範囲第86項に記載の反応ブロック。 95.磁石が棒磁石である請求の範囲第94項に記載の反応ブロック。 96.各反応チャンバがドレンチューブを含む請求の範囲第86項に記載の反 応ブロック。 97.さらに、上向きに底面から中央表面へ延びるキャビテ ィを含み、中央表面が、頂面および底面に平行である請求の範囲第96項に記載 の反応ブロック。 98.中央表面が、ドレンチューブを受容するための開口部を有する請求の範 囲第97項に記載の反応ブロック。 99.キャビティが、マイクロタイタプレートとの対合を容易にするために機 械加工済みステップを含む請求の範囲第98項に記載の反応ブロック。 100.キャビティが、底部シールとの対合を容易にするために第二の機械加 工済みステップを含む請求の範囲第99項に記載の反応ブロック。 101.底部シールが、第二の機械加工済みステップを密閉するOリングを含 む請求の範囲第100項に記載の反応ブロック。 102.底部シールが一方向圧力弁を含む請求の範囲第100項に記載の反応 ブロック。 103.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポー ト、第四の気体入口ポートがクワッドリングシールを含む請求の範囲第87項に 記載の反応ブロック。 104.隔膜が弾性材料で構成される請求の範囲第81項に 記載の反応ブロック。 105.隔膜が、テフロンを被覆された弾性材料で構成される請求の範囲第8 1項に記載の反応ブロック。 106.ピペッティング作業ステーションで使用される容器ラックであって、 複数の隔膜密閉試薬容器を支持する底面と、 容器を受容するための複数の円形穴を有する水平プレートと、 水平プレートの円形穴に位置合わせされる複数の円形穴と、少なくとも一つの ファスナとを有するロッキング頂部プレートと、 ロッキング頂部プレートおよび水平プレートを支持する複数の垂直支持部材と 、 頂部プレートを垂直支持部材に固定する手段とを備えるラック。 107.頂部プレートの円形開口部に、軟性材料が内張りされる請求の範囲第 106項に記載のラック。 108.軟性材料がゴムである請求の範囲第107項に記載のラック。 109.複数の気体入口ポートを有する反応ブロックを受容 するドッキングステーションであって、 反応ブロックを取り外し可能に受容するキャビティを含むプラットフォームと 、 反応ブロックの気体入口ポートに結合された複数の気体出口コネクタと、 反応ブロックの存在を検出するリードスイッチと、 反応ブロックをキャビティ内にロックするリンケージとを備えるドッキングス テーション。 110.反応ブロックが棒磁石を含み、リードスイッチが棒磁石の存在を検出 する請求の範囲第109項に記載のドッキングステーション。 111.さらに、反応ブロック上の加熱流体入口ポートまたは冷却流体入口ポ ートに結合された加熱流体出口コネクタまたは冷却流体出口コネクタを含む請求 の範囲第109項に記載のドッキングステーション。 112.プラットフォームが、第一のタイプの第一の反応ブロックを受容する ための第一のタイプの第一のキャビティと、第二のタイプの第二の反応ブロック を受容するための第二のタイプの第二のキャビティとを含む請求の範囲第109 項に記載 のドッキングステーション。 113.気体出口コネクタが、反応ブロックの気体入口ポートにはまる請求の 範囲第110項に記載のドッキングステーション。 114.気体出口コネクタが、クワッドリングによって気体入口ポートに対し て密閉される請求の範囲第111項に記載のドッキングステーション。 115.前記プラットフォームが渦流シェーカとして働く請求の範囲第109 項に記載のドッキングステーション。 116.複数の気体入口ポートを有する反応ブロックを受容するためのドッキ ングステーションであって、 反応ブロックを取り外し可能に受容する手段を含むプラットフォームと、 反応ブロックの気体入口ポートにガス供給を接続する手段と、 反応ブロックの存在を検出する手段と、 反応ブロックを取り外し可能に受容する手段内に反応ブロックをロックする手 段とを備えるドッキングステーション。 117.反応ブロックが棒磁石を含み、検出する手段が棒磁石の存在を検出す る請求の範囲第116項に記載のドッキング ステーション。 118.さらに、反応ブロック上の加熱流体入口ポートまたは冷却流体入口ポ ートに加熱流体源または冷却流体源を接続する手段を含む請求の範囲第116項 に記載のドッキングステーション。 119.プラットフォームが、第一のタイプの第一の反応ブロックを受容する 第一の手段と、第二のタイプの第二の反応ブロックを受容する第二の手段とを含 む請求の範囲第116項に記載のドッキングステーション。 120.前記プラットフォームが渦流シェーカとして働く請求の範囲第116 項に記載のドッキングステーション。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.反応チャンバであって、 頂部開口部と、内面と、外面と、内径とを有するほぼ円筒形の上部本体と、 上部本体と同軸であり、内面と、外面と、上部本体の内径よりも小さな内径と を有する、ほぼ円筒形の下部本体と、 上部本体を下部本体に接続するテーパ付きセクションと、 内面を有し下部本体に接続されたドレンチューブとを備える反応チャンバ。 2.ドレンチューブが、漏斗形セクションを用いて下部本体に接続される請求 の範囲第1項に記載の反応チャンバ。 3.上部本体の頂部開口部が、隔膜に対する密閉を容易にするために丸い縁部 を有する請求の範囲第1項に記載の反応チャンバ。 4.上部本体が、上部本体の内面を上部本体の外面に接続するポートを含む請 求の範囲第1項に記載の反応チャンバ。 5.ポートが、気体入口ポートである請求の範囲第4項に記載の反応チャンバ 。 6.ドレンチューブが、入口開口部と出口開口部とを有するS字形トラップチ ューブに接続される請求の範囲第1項に記載の反応チャンバ。 7.ドレンチューブが、S字形トラップチューブの入口開口部に対する密閉を 容易にするために内面上に環状ビードを有する請求の範囲第6項に記載の反応チ ャンバ。 8.S字形トラップチューブが、ドレンチューブに溶接される請求の範囲第7 項に記載の反応チャンバ。 9.S字形トラップチューブが、上向きに上部本体の長さに沿って延びる請求 の範囲第6項に記載の反応チャンバ。 10.S字形トラップチューブの出口ポートが下向きである請求の範囲第9項 に記載の反応チャンバ。 11.S字形トラップチューブの出口が、第二の円筒形ドレンチューブに接続 される請求の範囲第10項に記載の反応チャンバ。 12.第二の円筒形ドレンチューブが、トラップチューブの直径よりも大きな 直径を有する請求の範囲第11項に記載の反応チャンバ。 13.S字形トラップチューブおよび第二の円筒形ドレンチ ューブが、押し出し成形されたポリプロピレンまたはテフロンで構成される請求 の範囲第12項に記載の反応チャンバ。 14.上部本体、下部本体、テーパ付きセクション、漏斗形セクション、ドレ ンチューブが、射出成形された単一のポリマー片で構成される請求の範囲第1項 に記載の反応チャンバ。 15.ポリマーがポリプロピレンまたはテフロンである請求の範囲第14項に 記載の反応チャンバ。 16.上部本体の体積が約2mlである請求の範囲第1項に記載の反応チャン バ。 17.上部本体がさらに、外面上にキーイング突起を含む請求の範囲第1項に 記載の反応チャンバ。 18.下部本体がさらに、下部本体の内径よりも小さな直径を有するフリット を含む請求の範囲第1項に記載の反応チャンバ。 19.フリットが下部本体に圧入される請求の範囲第18項に記載の反応チャ ンバ。 20.フリットがポリエチレンで構成される請求の範囲第19項に記載の反応 チャンバ。 21.反応チャンバであって、 頂部開口部と、内面と、外面と、内径とを有するほぼ円筒形の上部本体と、 上部本体と同軸であり、内面と、外面と、上部本体の内径よりも小さな内径と を有するほぼ円筒形の下部本体と、 上部本体を下部本体に接続する手段と、 内面を有するドレンチューブと、 ドレンチューブを下部本体に接続する手段とを備える反応チャンバ。 22.ドレンチューブを下部本体に接続する手段が、漏斗形セクションである 請求の範囲第21項に記載の反応チャンバ。 23.上部本体を下部本体に接続する手段が、テーパ付きセクションである請 求の範囲第21項に記載の反応チャンバ。 24.上部本体の頂部開口部が、隔膜に対する密閉を容易にするために丸い縁 部を有する請求の範囲第21項に記載の反応チャンバ。 25.上部本体が、上部本体の内面を上部本体の外面に接続する手段を含む請 求の範囲第21項に記載の反応チャンバ。 26.上部本体の内面を上部本体の外面に接続する手段が、気体入口ポートで ある請求の範囲第25項に記載の反応チャン バ。 27.ドレンチューブが、入口開口部と出口開口部とを有するS字形トラップ チューブに接続される請求の範囲第21項に記載の反応チャンバ。 28.ドレンチューブが、S字形トラップチューブの入口開口部に対する密閉 を容易にするために内面上に環状ビードを有する請求の範囲第27項に記載の反 応チャンバ。 29.S字形トラップチューブが、ドレンチューブに溶接される請求の範囲第 28項に記載の反応チャンバ。 30.S字形トラップチューブが、上向きに上部本体の長さに沿って延びる請 求の範囲第27項に記載の反応チャンバ。 31.S字形トラップチューブの出口ポートが下向きである請求の範囲第30 項に記載の反応チャンバ。 32.S字形トラップチューブの出口が、第二の円筒形ドレンチューブに接続 される請求の範囲第31項に記載の反応チャンバ。 33.第二の円筒形ドレンチューブが、トラップチューブの直径よりも大きな 直径を有する請求の範囲第32項に記載の反応チャンバ。 34.S字形トラップチューブおよび第二の円筒形ドレンチューブが、押し出 し成形されたポリプロピレンまたはテフロンで構成される請求の範囲第33項に 記載の反応チャンバ。 35.上部本体、下部本体、テーパ付きセクション、漏斗形セクション、ドレ ンチューブが、射出成形された単一のポリマー片で構成される請求の範囲第21 項に記載の反応チャンバ。 36.ポリマーがポリプロピレンまたはテフロンである請求の範囲第35項に 記載の反応チャンバ。 37.上部本体の体積が約2mlである請求の範囲第21項に記載の反応チャ ンバ。 38.上部本体がさらに、外面上にキーイング突起を含む請求の範囲第21項 に記載の反応チャンバ。 39.下部本体がさらに、フリットを保持する手段を含む請求の範囲第21項 に記載の反応チャンバ。 40.フリットが下部本体に圧入される請求の範囲第39項に記載の反応チャ ンバ。 41.フリットがポリエチレンで構成される請求の範囲第40項に記載の反応 チャンバ。 42.反応チャンバであって、 隔膜に対する密閉を容易にするために丸い縁部を有する頂部開口部と、内面と 、外面と、内面を外面に接続する気体ポートと、内径とを有するほぼ円筒形の上 部本体と、 上部本体と同軸であり、フリットを保持する環状ビードを含む内面と、外面と 、上部本体の内径よりも小さな内径とを有するほぼ円筒形の下部本体と、 上部本体を下部本体に接続するテーパ付きセクションと、 内面を有するドレンチューブと、 ドレンチューブを下部本体に接続する漏斗形セクションとを備える反応チャン バ。 43.それぞれ、第一の幅と第一の高さとを有する、第一の側壁および第二の 側壁と、 それぞれ、第一の幅よりも狭い第二の幅と第一の高さとを有する、第一の端壁 および第二の端壁と、 第一の側壁および第二の側壁ならびに第一の端壁および第二の端壁を境界とす る頂面とを備えた反応ブロックであって、前記頂面が、 それぞれ、円形開口部と頂面とを有する複数の反応チャンバを取り外し可能に 受容する、複数のほぼ円形の開口部と、気体 ポートと、複数のチャンバの縁部を規定し、反応チャンバの頂面とほぼ同じ平面 にある頂面を有する、***した複数のビードとを有し、前記反応ブロックがさら に、 反応チャンバの頂面および***したビードの頂面を密閉する可とう性隔膜と、 隔膜を覆うリテーナプレートとを備える反応ブロック。 44.リテーナプレートが、反応チャンバの開口部に空間的に対応する複数の 開口部を有する請求の範囲第43項に記載の反応ブロック。 45.リテーナプレートが複数のファスナを用いて隔膜および反応ブロックに 接触して保持固定される請求の範囲第44項に記載の反応ブロック。 46.頂面が、別々に制御することができる、第一の気体入口ポートと、第二 の気体入口ポートと、第三の気体入口ポートと、第四の気体入口ポートとを含み 、***したビードが、第一の加圧チャンバと、第二の加圧チャンバと、第三の加 圧チャンバと、第四の加圧チャンバとを規定する請求の範囲第43項に記載の反 応ブロック。 47.各加圧チャンバが、等しい数の反応チャンバを含む請 求の範囲第46項に記載の反応ブロック。 48.各加圧チャンバが12個の反応チャンバを含む請求の範囲第46項に記 載の反応ブロック。 49.別々に制御することができる、第一の気体入口ポート、第二の気体入口 ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポートがそれぞれ、第一の加圧 チャンバ、第二の加圧チャンバ、第三の加圧チャンバ、第四の加圧チャンバと連 通する請求の範囲第46項に記載の反応ブロック。 50.各加圧チャンバが、反応チャンバの頂面のレベルの下方に凹状に設けら れた廃棄物ベイスンを含む請求の範囲第47項に記載の反応ブロック。 51.四つの加圧チャンバがそれぞれ、12個の反応チャンバを有する請求の 範囲第50項に記載の反応ブロック。 52.頂面上のほぼ円形の開口部がそれぞれ、キーイングノッチを有し、各反 応チャンバが、キーイング突起を有する請求の範囲第43項に記載の反応ブロッ ク。 53.反応ブロックがアルミニウムで構成される請求の範囲第43項に記載の 反応ブロック。 54.反応ブロックが6061アルミニウムで構成される請 求の範囲第53項に記載の反応ブロック。 55.アルミニウムが陽極酸化される請求の範囲第53項に記載の反応ブロッ ク。 56.反応ブロックがカラーコード化される請求の範囲第43項に記載の反応 ブロック。 57.反応ブロックが識別番号を有する請求の範囲第43項に記載の反応ブロ ック。 58.隔膜が熱可塑性ゴムで構成される請求の範囲第43項に記載の反応ブロ ック。 59.隔膜に、六つの位置合わせ穴および四つのアクセス穴が打ち抜かれる請 求の範囲第58項に記載の反応ブロック。 60.第一の側壁および第二の側壁が、ブロックの作業ステーションへの固定 を容易にするために、それぞれ1本のピンを備える請求の範囲第43項に記載の 反応ブロック。 61.第一の端壁および第二の端壁が、ロボットグリッパによる操作を容易に するために、それぞれ2本のピンを備える請求の範囲第43項に記載の反応ブロ ック。 62.さらに、第一の側壁の底縁部および第二の側壁の底縁部ならびに第一の 端壁の底縁部および第二の端壁の底縁部で規 定される底面を含み、底面が、頂面に平行である請求の範囲第43項に記載の反 応ブロック。 63.さらに、それぞれ、頂面の第一の気体出口ポート、第二の気体出口ポー ト、第三の気体出口ポート、第四の気体出口ポートに連通する、第一の気体入口 ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポート を含む請求の範囲第43項に記載の反応ブロック。 64.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート 、第四の気体入口ポートが底面にある請求の範囲第63項に記載の反応ブロック 。 65.さらに、加熱流体または冷却流体を受容する入力ポートを含む請求の範 囲第43項に記載の反応ブロック。 66.加熱流体または冷却流体を受容する入力ポートが底面内にある請求の範 囲第65項に記載の反応ブロック。 67.さらに、加熱流体または冷却流体を排出する出力ポートを含む請求の範 囲第65項に記載の反応ブロック。 68.加熱流体または冷却流体を排出する出力ポートが底面上にある請求の範 囲第67項に記載の反応ブロック。 69.さらに、加熱流体または冷却流体を受容する入力ポー トを、加熱流体または冷却流体を排出する出力ポートに接続する複数の通路を含 む請求の範囲第68項に記載の反応ブロック。 70.底面が磁石を含む請求の範囲第62項に記載の反応ブロック。 71.磁石が棒磁石である請求の範囲第70項に記載の反応ブロック。 72.各反応チャンバがドレンチューブを含む請求の範囲第62項に記載の反 応ブロック。 73.さらに、上向きに底面から中央表面へ延びるキャビティを含み、中央表 面が、頂面および底面に平行である請求の範囲第72項に記載の反応ブロック。 74.中央表面が、ドレンチューブを受容する開口部を有する請求の範囲第7 3項に記載の反応ブロック。 75.キャビティが、マイクロタイタプレートとの対合を容易にするために機 械加工済みステップを含む請求の範囲第74項に記載の反応ブロック。 76.キャビティが、底部シールとの対合を容易にするために第二の機械加工 済みステップを含む請求の範囲第75項に記載の反応ブロック。 77.底部シールが、第二の機械加工済みステップを密閉するOリングを含む 請求の範囲第76項に記載の反応ブロック。 78.底部シールが一方向圧力弁を含む請求の範囲第76項に記載の反応ブロ ック。 79.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート 、第四の気体入口ポートが弁を含む請求の範囲第63項に記載の反応ブロック。 80.弁がSchraeder弁である請求の範囲第80項に記載の反応ブロ ック。 81.弁が二方向弾性弁である請求の範囲第80項に記載の反応ブロック。 82.反応ブロックであって、 それぞれ、第一の幅と第一の高さとを有する、第一の側壁および第二の側壁と 、 それぞれ、第一の幅よりも狭い第二の幅と第一の高さとを有する、第一の端壁 および第二の端壁と、 第一の側壁および第二の側壁ならびに第一の端壁および第二の端壁を境界とす る頂面とを備えた反応ブロックであって、前記頂面が、 それぞれ、円形開口部と頂面とを有する、複数の反応チャンバを取り外し可能 に受容するほぼ円形の複数の開口部と、気体ポートと、複数のチャンバの縁部を 規定し、反応チャンバの頂面とほぼ同じ平面にある頂面を有する、***した複数 のビードとを有し、前記反応ブロックがさらに、 反応チャンバの頂面および***したビードを密閉する手段と、 密閉する手段を覆うリテーナプレートとを備える反応ブロック。 83.リテーナプレートが、反応チャンバの開口部に空間的に対応する複数の 開口部を有する請求の範囲第83項に記載の反応ブロック。 84.さらに、反応ブロックを密閉する手段にリテーナプレートを固定する手 段を含む請求の範囲第84項に記載の反応ブロック。 85.頂面が、別々に制御することができる、第一の気体入口ポート、第二の 気体入口ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポートを含み、***し たビードが、第一の加圧チャンバ、第二の加圧チャンバ、第三の加圧チャンバ、 第四の加圧チャンバを規定する請求の範囲第83項に記載の反応ブロッ ク。 86.四つの加圧チャンバがそれぞれ、等しい数の反応チャンバを含む請求の 範囲第86項に記載の反応ブロック。 87.別々に制御することができる、第一の気体入口ポート、第二の気体入口 ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポートがそれぞれ、第一の加圧 チャンバ、第二の加圧チャンバ、第三の加圧チャンバ、第四の加圧チャンバに連 通する請求の範囲第87項に記載の反応ブロック。 88.四つの加圧チャンバがそれぞれ、反応チャンバの頂面のレベルの下方に 凹状に設けられた廃棄物ベイスンを含む請求の範囲第87項に記載の反応ブロッ ク。 89.四つの加圧チャンバがそれぞれ、12個の反応チャンバを有する請求の 範囲第87項に記載の反応ブロック。 90.頂面上のほぼ円形の開口部がそれぞれ、キーイングノッチを有し、各反 応チャンバが、キーイング突起を有する請求の範囲第83項に記載の反応ブロッ ク。 91.反応ブロックがアルミニウムで構成される請求の範囲第83項に記載の 反応ブロック。 92.反応ブロックが6061アルミニウムで構成される請 求の範囲第92項に記載の反応ブロック。 93.アルミニウムが陽極酸化される請求の範囲第92項に記載の反応ブロッ ク。 94.反応ブロックがカラーコード化される請求の範囲第83項に記載の反応 ブロック。 95.反応ブロックが識別番号を有する請求の範囲第83項に記載の反応ブロ ック。 96.反応ブロックがバーコードを有する請求の範囲第83項に記載の反応ブ ロック。 97.密閉手段が隔膜である請求の範囲第83項に記載の反応ブロック。 98.隔膜が熱可塑性ゴムで構成される請求の範囲第98項に記載の反応ブロ ック。 99.隔膜に、六つの位置合わせ穴および四つのアクセス穴が打ち抜かれる請 求の範囲第99項に記載の反応ブロック。 100.第一の側壁および第二の側壁が、ブロックの作業ステーションへの固 定を容易にするために、それぞれ1本のピンを備える請求の範囲第83項に記載 の反応ブロック。 101.第一の端壁および第二の端壁が、ロボットグリッパ による操作を容易にするために、それぞれ2本のピンを備える請求の範囲第83 項に記載の反応ブロック。 102.さらに、第一の側壁の底縁部および第二の側壁の底縁部ならびに第一 の端壁の底縁部および第二の端壁の底縁部で規定された底面を含み、底面が、頂 面に平行である請求の範囲第83項に記載の反応ブロック。 103.さらに、それぞれ、頂面の第一の気体出口ポート、第二の気体出口ポ ート、第三の気体出口ポート、第四の気体出口ポートに連通する、第一の気体入 口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポート、第四の気体入口ポー トを含む請求の範囲第83項に記載の反応ブロック。 104.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポー ト、第四の気体入口ポートが底面にある請求の範囲第104項に記載の反応ブロ ック。 105.さらに、加熱流体または冷却流体を受容する入力ポートを含む請求の 範囲第83項に記載の反応ブロック。 106.加熱流体または冷却流体を受容する入力ポートが底面内にある請求の 範囲第106項に記載の反応ブロック。 107.さらに、加熱流体または冷却流体を排出する出力ポ ートを含む請求の範囲第106項に記載の反応ブロック。 108.加熱流体または冷却流体を排出する出力ポートが底面上にある請求の 範囲第108項に記載の反応ブロック。 109.さらに、加熱流体または冷却流体を受容する入力ポートを、加熱流体 または冷却流体を排出する出力ポートに接続する複数の通路を含む請求の範囲第 109項に記載の反応ブロック。 110.底面が磁石を含む請求の範囲第103項に記載の反応ブロック。 111.磁石が棒磁石である請求の範囲第111項に記載の反応ブロック。 112.各反応チャンバがドレンチューブを含む請求の範囲第103項に記載 の反応ブロック。 113.さらに、上向きに底面から中央表面へ延びるキャビティを含み、中央 表面が、頂面および底面に平行である請求の範囲第113項に記載の反応ブロッ ク。 114.中央表面が、ドレンチューブを受容する開口部を有する請求の範囲第 114項に記載の反応ブロック。 115.キャビティが、マイクロタイタプレートとの対合を 容易にするために機械加工済みステップを含む請求の範囲第115項に記載の反 応ブロック。 116.キャビティが、底部シールとの対合を容易にするために第二の機械加 工済みステップを含む請求の範囲第116項に記載の反応ブロック。 117.底部シールが、第二の機械加工済みステップを密閉するOリングを含 む請求の範囲第117項に記載の反応ブロック。 118.底部シールが一方向圧力弁を含む請求の範囲第117項に記載の反応 ブロック。 119.第一の気体入口ポート、第二の気体入口ポート、第三の気体入口ポー ト、第四の気体入口ポートがクワッドリングシールを含む請求の範囲第104項 に記載の反応ブロック。 120.隔膜が弾性材料で構成される請求の範囲第98項に記載の反応ブロッ ク。 121.隔膜が、テフロンを被覆された弾性材料で構成される請求の範囲第9 8項に記載の反応ブロック。 122.ピペッティング作業ステーションで使用される容器ラックであって、 複数の隔膜密閉試薬容器を支持する底面と、 容器を受容する複数の円形穴を有する水平プレートと、 水平プレートの円形穴に位置合わせされる複数の円形穴と、少なくとも一つの ファスナとを有するロッキング頂部プレートと、 ロッキング頂部プレートおよび水平プレートを支持する複数の垂直支持部材と 、 頂部プレートを垂直支持部材に固定する手段とを備えるラック。 123.頂部プレートの円形開口部に、軟性材料が内張りされる請求の範囲第 123項に記載のラック。 124.軟性材料がゴムである請求の範囲第124項に記載のラック。 125.複数の気体入口ポートを有する反応ブロックを受容するドッキングス テーションであって、 反応ブロックを取り外し可能に受容するキャビティを含むプラットフォームと 、 反応ブロックの気体入口ポートに結合された複数の気体出口コネクタと、 反応ブロックの存在を検出するリードスイッチと、 反応ブロックをキャビティ内にロックするリンケージとを備えるドッキングス テーション。 126.反応ブロックが棒磁石を含み、リードスイッチが棒磁石の存在を検出 する請求の範囲第126項に記載のドッキングステーション。 127.さらに、反応ブロック上の加熱流体入口ポートまたは冷却流体入口ポ ートに結合された加熱流体出口コネクタまたは冷却流体出口コネクタを含む請求 の範囲第126項に記載のドッキングステーション。 128.プラットフォームが、第一のタイプの第一の反応ブロックを受容する 第一のタイプの第一のキャビティと、第二のタイプの第二の反応ブロックを受容 する第二のタイプの第二のキャビティとを含む請求の範囲第126項に記載のド ッキングステーション。 129.気体出口コネクタが、反応ブロックの気体入口ポートにはまる請求の 範囲第127項に記載のドッキングステーション。 130.気体出口コネクタが、クワッドリングによって気体 入口ポートに対して密閉される請求の範囲第128項に記載のドッキングステー ション。 131.前記プラットフォームが渦流シェーカとして働く請求の範囲第126 項に記載のドッキングステーション。 132.複数の気体入口ポートを有する反応ブロックを受容するドッキングス テーションであって、 反応ブロックを取り外し可能に受容する手段を含むプラットフォームと、 反応ブロックの気体入口ポートにガス供給を接続する手段と、 反応ブロックの存在を検出する手段と、 反応ブロックを取り外し可能に受容する手段内に反応ブロックをロックする手 段とを備えるドッキングステーション。 133.反応ブロックが棒磁石を含み、検出手段が棒磁石の存在を検出する請 求の範囲第133項に記載のドッキングステーション。 134.さらに、反応ブロック上の加熱流体入口ポートまたは冷却流体入口ポ ートに加熱流体源または冷却流体源を接続する手段を含む請求の範囲第133項 に記載のドッキングステーション。 135.プラットフォームが、第一のタイプの第一の反応ブロックを受容する 第一の手段と、第二のタイプの第二の反応ブロックを受容する第二の手段とを含 む請求の範囲第133項に記載のドッキングステーション。 136.前記プラットフォームが渦流シェーカとして働く請求の範囲第133 項に記載のドッキングステーション。
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