JPH11502215A - アンスラサイクリン系抗生物質の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 カルボン酸塩を用いたトリフルオロメタンスルホン酸残基の求核置換反応によるダウノサミン残基の４′位の水酸基のエピマー化からなり、該エピマー化は保護された水酸基を有する分子全体について行なわれ、さらに最終生成物への変換が行なわれる、式（Ａ）（式中、Ｒ¹は水素、ＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル基を表わす）で示されるアンスラサイクリンクラスの抗生物質の製造法。

Description

【発明の詳細な説明】 アンスラサイクリン系抗生物質の製造法 本発明は抗腫瘍活性を有する化合物、とくにはアンスラサイクリン系抗生物質 の製造法に関する。 技術分野 エピルビシン（エピドキソルビシン）およびエピダウノマイシンは、抗腫瘍活 性を有するアンスラサイクリンクラスに属する抗生物質である。 これらの化合物は、分子のグリコシド部分のＣ−４′位の水酸基の立体配置に おいて、抗腫瘍性ドキソルビシンおよびダウノルビシンとは異なる。これらの立 体配置はそれぞれ、ドキソルビシンおよびダウノルビシンではアキシアルであり 、エピルビシンおよびエピダウノルビシンではエクアトリアルである。 ドキソルビシンは抗悪性腫瘍の治療において長いあいだ用いられている。総説 については、Arcamone編，“Doxorubicin”，Acad．Press，ニューヨーク 1981 を参照されたい。ドキソルビシンの深刻な副作用としては、しばしば不可逆性で ある心筋症を発症することがあげられる。 エピルビシンはその類似体と比較して同等の抗腫瘍活性を有しながらも副作用 はその類似体のものよりも低いという有利な薬理学的特性を有することが見出さ れた（R．B．Weiss ら，Cancer Chemother．Pharmacol．18，185-97(1986)）。 エピルビシンの最初の合成は、式（Ｂ）： で示されるダウノルビシンのアグリコンとトリフルオロアセトアミドのように保 護されたアコサミン（acosamine）の１−クロロ−誘導体（Arcamone，F．ら，J ．Med．Chem.，18，7，703-707,(1975)）との縮合、それに続く脱保護、および 文献周知の方法を用いる側鎖への働きかけ（working up）を含む。前記方法は、 すでにダウノルビシンをドキソルビシンに変換するために用いられている（E．M ．Acton，J．Med．Chem.，17，65; DE1917874）。 塩化トリフルオロアセチルアコサミニルのＮ，Ｏ誘導体は、かなり複雑で高価 な多数の方法を用いる様々な天然の糖の合成変換によりえられた。 イタリア国特許第１，１６３，００１号公報および、そののちのG．Bonadonna の“Advances in Anthracycline Chemotherapy Epirubicin”，Masson 編，ミラ ノ、イタリア国、１９８４には、Ｎ−トリフルオロアセチルダウノルビシンのグ リコシド全体について行なわれる合成方法が開示されている。この方法はＣ−４ ′位の水酸基をケト基に酸化し、つぎにホウ水素化ナトリウムを用いてそのケト 基を水酸基に立体選択的に還元することからなる。前記酸化反応はきわめて低温 （−70℃）で行なわなければならない。前記ケト誘導体は非常に分解しやすく不 安定である。さらに、ホウ水素化ナトリウムを用いる 還元は、アグリコンのカルボニル基の競争還元を最小化するために低温で行なわ なければならない。前記特許から推論しうる最大の異性化収率は、記載はないが 、約４８％である。 Ｃ−４′位のエピマー化のための別の方法は、B．Barbieri ら，Cancer Rese arch，47,4001（1987）に記載されている。この方法は４′−ハロゲン−ダウノ ルビシンをえ、つぎにエクアトリアル配置からアキシアル配置へのエピマー化、 すなわち本発明において所望されることとは反対の方向におけるエピマー化を達 成する。前記エピマー化反応はハロゲン化テトラブチルアンモニウムを用いるト リフルオロメタンスルホン酸基（triflate group）（エクアトリアル）の求核置 換反応により行なわれる。 発明の開示 そこで、より簡便に制御しうる、とくには反応温度に関する、反応条件下で、 より簡便な精製操作を用いて、アンスラサイクリン系抗生物質分子全体について 、ダウノサミン残基の４′位の水酸基の異性化のための新規な方法を見出した。 この方法にしたがえば、アミノ基が適切に保護されているダウノサミン残基の アキシアル配置からエクアトリアル配置への４′位の水酸基のエピマー化が、強 い離脱基を導入し、ついで４′位の炭素原子の立体配置の反転をともなって、導 入された離脱基をカルボン酸残基（carboxylate group）で置換し、さらに引き 続いてカルボン酸塩を加水分解し、水酸基を再びえて、アミノ保 護基を除去することによりえられる。 エピマー化反応の研究中に、所望のエピマーの収率は、トリフラート脱離基（ triflate leaving group）の置換反応と競争して形成される副生物のためにあま り高くないことが見出された。 驚くべきことに、前記アグリコン部分の水酸基の保護、とくには９位の水酸基 の保護により、副生物を競争的に形成することなく所望のエピマーをえることが 可能となった。 本発明にしたがう方法の目的のためには、前記アグリコン部分の９位の水酸基 を保護することが必須である。６位と１１位の水酸基も保護すると収率を上げる ことができる。 したがって、本発明の目的とするものは、式（Ａ）： （式中、Ｒ¹は水素、ＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は炭素数１〜４のアル キル基を表わす）で示されるアンスラサイクリンクラスの抗生物質の製造法であ り、前記製造法は前記抗生物質分子のアグリコン部分の水酸基を保護して、４′ 位のトリフルオロメタンスルホン酸 残基のカルボン酸残基を用いた求核置換反応によって４′位の水酸基をエピマー 化することからなる。 発明の詳細な説明 本発明の第一の実施態様にしたがえば、製造法は a）式（Ｉ）： （式中、Ｒ¹は水素、ハロゲン、適切に保護された水酸基を表わし、Ｒ₃はアミノ 保護基を表わす）で示されるＮが保護されたダウノルビシンまたはその誘導体を 、トリフルオロメタンスルホン酸（triflic acid）またはその反応性誘導体と反 応させて、式（II）： （式中、Ｒ¹およびＲ₃は前記と同じ）で示される化合物 をえること、 b）９位の水酸基を保護し、任意に６および１１位の水酸基を保護して式（III） ： （式中、Ｔは保護基を表わし、Ｒ¹およびＲ³は前記と同じ）で示される中間体を えること、 c）工程ｂ）でえられた化合物を、式：ＲＣＯＯＨ（式中、Ｒは脂肪族残基、任 意にヘテロ原子により置換されたか中断された脂肪族残基、または任意に置換さ れた芳香族残基を表わす）で示されるカルボン酸と第二級または第三級アミンと の塩で処理して、式（IV）： （式中、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₃およびＴは前記と同じ）で示されるエステルをえること、 d）９位の水酸基を脱保護して式（Ｖ）： （式中、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₃は前記と同じ）で示される中間体をえること、 e）前記エステルを加水分解して式（VI）： （式中、Ｒ¹およびＲ₃は前記と同じ）で示されるＮが保護されたエピダウノルビ シンをえること、 f）要すれば、アミノ保護基を除去すること、 g）式（Ａ）： （式中、Ｒ¹はＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル基 を表わす）で示されるエピルビシンまたはそのエステルへ変換することからなる 。 出発化合物は好ましくはダウノルビシントリフルオロアセトアミド（daunorub icin trifluoroacetamide）、またはその誘導体であり、それらは当該技術分野 において既知であり、いずれにせよダウノルビシンおよびトリフルオロ酢酸無水 物から出発する既知の方法（たとえば、J．Med．Chem.，18，7，703-707,(1975) ）にしたがって製造しうる。 ほかのアミノ保護基、たとえばカルバミン酸フルオレニルメトキシ（Fmoc）な どのカルバミン酸エステル（carbamate esters）も同様に用いることができる。 離脱基としては、トリフラート（トリフルオロメチルスルホン酸の）イオンが ここでは用いられ、これは市販されており、対応する無水物の形態で用いること ができる。前記反応は、たとえばジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホル ム、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベンゼンなどの極性の小さい非プロトン 性の溶媒のような、反応物および最終生成物に影響を及ぼさない適切な 溶媒中で行なう。 前記反応はそれを完了するのに充分な時間、低温（約０℃）で行なう。 結果としてえられた式（II）の中間体化合物はそれを回収することなく、つぎ の工程に直接用いることができる。そののち、同じ反応容器内で、そのアグリコ ン部分の９位の、所望であれば、さらに６および１１位の水酸基のための保護基 を提供する適切な試薬を加える。この中間体（III）もさらに引き続く工程に直 接用いることができる。この反応における適切な保護基は当業者に知られている 。トリメチルシリル基が市販価格が安いため好ましいが、ほかのシリル誘導基（ silyl derivating group）も同等に有効である。 そののちの工程において、カルボン酸塩は第二級または第三級アミンとの塩の 形態で加える。その反応はアンモニウム第四級塩（ammonium quaternary salts ）を用いると不充分にしか進行しないことが見出された。 カルボン酸塩の具体例としては、ギ酸塩、酢酸塩、イソ酪酸塩、トリメチルシ リル酢酸塩、ｐ−ニトロ安息香酸塩、トリフルオロ酢酸塩などのハロ酢酸塩があ げられる。前記脂肪族残基もしくは芳香族残基のいずれの置換基も、ＲＣＯＯＨ である酸の脂肪族鎖におけるいずれのヘテロ原子も求核置換反応で干渉されるべ きではない。好ましいアミンはトリエチルアミンである。前記反応は０〜５０℃ の範囲の温度で、好ましくは室温で、それを完了するのに充分な時間行なう。最 後に、式（IV）の生成物を通常の操作にしたがって回収し、つぎに通常の操作で 適切に処理して９位の水酸基を脱保護し、これによ り式（Ｖ）の化合物をえる。 エステルの加水分解は、当業者に周知のアルカリ条件下で行ない、たとえばメ タノールなどの極性溶媒に化合物（Ｖ）を溶解し、たとえば水酸化ナトリウムな どのアルカリまたはアルカリ土類金属の水酸化物で化合物（Ｖ）を処理する。Ｎ が保護されたエピダウノルビシン（VI）をこれによりえ、窒素の保護基を加水分 解したのち、エピダウノルビシン（Ａ；Ｒ¹＝Ｈ）をえ、所望であれば、当該技 術分野において知られている方法（たとえば、A. Suarato ら，Carbohydrate R es.，98，c1-c3(1981)）でエピルビシンまたはそのエステル（Ａ；Ｒ¹＝ＯＨま たはＯＣＯＲ²）に変換する。 本発明の別の実施態様にしたがえば、エピルビシンを式（Ｃ）： で示されるドキソルビシンから出発して製造する。前記方法は a）ドキソルビシンを９および１４位の水酸基のための適切な保護剤と反応させ 、ついで３′位のアミンを保護して、式（VII）： （式中、Ｍ₁は炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、Ｍ₂は水素または炭素数１ 〜４のアルキル基を表わす）で示される化合物をえること、 b）前記中間体（VII）をトリフルオロメタンスルホン酸またはその反応性誘導体 と反応させて、式（VIII）： （式中、Ｍ₁、Ｍ₂およびＲ₃は前記と同じ）で示される化合物をえること、 c）６および１１位の水酸基を保護して式（IX）： （式中、Ｔは保護基を表わし、Ｍ₁、Ｍ₂およびＭ₃は前記と同じ）で示される中 間体をえること、 d）工程ｃ）でえられた化合物を、式：ＲＣＯＯＨ（式中、Ｒは任意にヘテロ原 子により置換されたか中断された脂肪族残基、任意に置換された芳香族残基を表 わす）で示されるカルボン酸と第二級または第三級アミンとの塩で処理して、式 （Ｘ）： （式中、Ｒ、Ｒ₃、Ｍ₁およびＭ₂は前記と同じ）で示されるエステルをえること 、 e）前記エステルを加水分解し、ついで９および１４位の水酸基ならびにアミノ 基の保護基を除去することからなる。 前記出発化合物は常套的に製造する。好ましい具体例は、オルトギ酸トリエチ ル（Ｍ₁＝Ｃ₂Ｈ₅Ｏ、Ｍ₂＝Ｈ）を用いるドキソルビシンの反応である（Arcamone ，前出の文献，p.21参照）。それに続く工程は本発明の第一の実施形態に記載し たように行なう。とくに、工程ｄ）は０〜５０℃の範囲の温度で、好ましくは室 温で行なう。保護基は周知の方法にしたがい除去する。 以下の実施例により本発明をさらに説明する。 実施例１ ０℃に冷却した、ジクロロメタン（500ml）およびピリジン（2.5ml）と化合物 Ｉ（5g）との混合物を、徐々にトリフルオロメタンスルホン酸無水物（2.5ml） のジクロロメタン（125ml）溶液とともに加える。えられた混合物を約１時間反 応させ、トリフラート（化合物II）を形成させる。 Ｎ，Ｏ−ビス−トリメチルシリルアセトアミド（10ml）を加え、室温まで昇温 し、４時間撹拌する。トリスシリラート（tris silylate）（化合物III、Ｔ＝ト リメチルシリル）をイソ酪酸トリエチルアミンのジクロロメタン（500ml）０． １モル溶液とともに加え、室温でさらに１５時間撹拌する。反応混合物を５００ ｍｌの０．２５Ｎ塩酸で洗浄し、つぎに重炭酸ナトリウムの２％溶液で洗浄し、 最後に５００ｍｌの水で二回洗浄する。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過 し、蒸発乾固する。 ５ｇの化合物ＩＶｃをえる（Ｒ＝（ＣＨ₃）₂ＣＨ、Ｔ＝Ｓｉ（ＣＨ₃）₃、Ｒ₃ ＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例２ 酢酸トリエチルアミンを用いたほかは実施例１に記載の操作にしたがい、５ｇ の化合物ＩＶａをえる（Ｒ＝ＣＨ₃、Ｔ＝Ｓｉ（ＣＨ₃）₃、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例３ ギ酸ジエチルアミンを用いたほかは実施例１に記載の操作にしたがい、５．１ ｇの化合物ＩＶｄをえる（Ｒ＝Ｈ、Ｔ＝Ｓｉ（ＣＨ₃）₃、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ。 実施例４ ｐ−ニトロ安息香酸トリエチルアミンを用いたほかは実施例１に記載の操作に したがい、４．９ｇの化合物ＩＶｅをえる（Ｒ＝ｐ−Ｏ₂ＮＣ₆Ｈ₄、Ｔ＝Ｓｉ（ ＣＨ₃）₃、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例５ 酢酸トリメチルシリルトリエチルアミン（triethylamine trimethylsilyl ace tate）を用いたほかは実施例１に記載の操作にしたがい、５．１ｇの化合物ＩＶ ｂをえる（Ｒ＝（ＣＨ₃）₃ＳｉＣＨ₂、Ｔ＝Ｓｉ（ＣＨ₃）₃、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ） 。 実施例６ 化合物ＩＶｃ（5g）のジクロロメタン（1000ml）溶液 をフッ化カリウムの４８％水溶液（20ml）および１ｇの酢酸トリエチルアミンと ともに加える。えられた混合物を室温で２日間撹拌し、つぎに相を分離する。有 機相を硫酸ナトリウムで乾燥したのち、蒸発乾固する。 残渣をカラム（シリカゲル：溶離液 ジクロロメタン−アセトン 95：５）に 通し精製して４．５ｇの化合物Ｖｃ（Ｒ＝（ＣＨ₃）₂ＣＨ）をえる。 実施例７ ＩＶａ（5g）から出発し、実施例６と同様の操作で、４．２ｇの化合物Ｖａを える（Ｒ＝ＣＨ₃、Ｒ₃＝ＣＦＣＯ）。 実施例８ ＩＶｄ（5.1g）から出発し、実施例６と同様の操作で、４．４ｇの化合物Ｖｄ をえる（Ｒ＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例９ ＩＶｅ（4.9g）から出発し、実施例６と同様の操作で、４．３ｇの化合物Ｖｅ をえる（Ｒ＝ｐ−Ｏ₂ＮＣ₆Ｈ₄、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１０ ＩＶｂ（5.1g）から出発し、実施例６と同様の操作で、３．９ｇの化合物Ｖａ をえる（Ｒ＝ＣＨ₃、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１１ 化合物Ｖｃ（4.5g）のメタノール（270ml）溶液を０．３ｍｌの１０％水酸化 ナトリウム溶液で２時間処理する。えられた混合物を０．１ｍｌの酢酸で中和し 、蒸発乾固する。残渣を２０ｍｌのジクロロメタンおよび０．５ｍｌの水に溶解 する。 えられた溶液を１０時間結晶化させ、３ｇの化合物ＶＩ（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ ＣＯ）をえる。 実施例１２ Ｖａ（4.2g）から出発し、実施例１１の記載と同様の操作で、３．５ｇの化合 物ＶＩをえる（Ｒ¹＝Ｈ）Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１３ Ｖｄ（4.4g）から出発し、実施例１１の記載と同様の操作で、３．９ｇの化合 物ＶＩをえる（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１４ Ｖｅ（4.3g）から出発し、実施例１１の記載と同様の 操作で、２．９ｇの化合物ＶＩをえる（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１５ ジメチルホルムアミド（32ml）とドキソルビシン塩酸塩（1.6g）との混合物を 、オルトギ酸トリエチル（8ml）およびトリフルオロ酢酸（0.8ml）とともに加え る。結果としてえられた溶液を室温で３時間撹拌し、つぎにジクロロメタン（60 ml）で希釈し、Ｎ−メチル−モルホリン（2.5ml）とともに加える。０℃に冷却 したのち、トリフルオロ酢酸無水物（0.8ml）のジクロロメタン（6ml）溶液を加 える。えられた混合物を３時間、０℃で反応させ、つぎに３ｇの重炭酸ナトリウ ムおよび３０ｍｌのメタノールを加える。約２０分後、反応混合物を５０ｍｌの 水、５０ｍｌの０．２５Ｎ塩酸および５０ｍｌの水で洗浄する。有機相を硫酸ナ トリウムで乾燥し、蒸発乾固する。 残渣（化合物VII、Ｍ₁＝Ｃ₂Ｈ₅Ｏ、Ｍ₂＝Ｈ）を１００ｍｌのジクロロメタン および５ｍｌのピリジンに溶解し、０℃に冷却し、トリフルオロメタンスルホン 酸無水物（0.5ml）のジクロロメタン（20ml）溶液を滴下により加える。えられ た混合物を０℃で約１時間反応させ、トリフラート（化合物VIII、Ｍ₁＝Ｃ₂Ｈ₅ Ｏ、Ｍ₁＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）をえる。 ２ｍｌのビス−トリメチルシリルアセトアミドを加え、室温で４時間温め、ビ スシリラート（bis silylate）（化合物ＩＸ、Ｍ₁＝Ｃ₂Ｈ₅Ｏ、Ｍ₁＝Ｈ、Ｔ＝Ｓ ｉ（ＣＨ₃）₃、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）をえ、つぎにギ酸トリエチルアミンのジクロロ メタン（100ml）の１Ｍ溶液を加える。 えられた混合物を１５時間反応させ、化合物（Ｘ）（Ｒ＝Ｈ、Ｍ₁＝Ｃ₂Ｈ₅Ｏ、 Ｍ₂＝Ｈ）をえる。 １０ｍｌの４８％フッ化カリウム溶液および２０ｍｌのメタノールを加え、２ 日間撹拌する。有機相を１００ｍｌの０．５Ｎ塩酸で洗浄し、つぎに１００ｍｌ の３％重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、最後に１００ｍｌの水で洗浄する。有機 相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発乾固する。残渣を２５０ｍｌの０．１ＭＮａ ＯＨ水溶液を用いて５℃で３時間処理し、つぎに生成物を２５０ｍｌのＣＨＣｌ₃ で４回抽出し、あわせた有機相をＮａ₂ＳＯ₄で乾燥し、蒸発乾固する。 残渣を１００ｍｌのメタノールに溶解し、塩酸でｐＨ２に調整する。 オルトエステルの加水分解は約３０分間で完了する。 えられた混合物を減圧下、室温で蒸発乾固し、残渣をジイソプロピルエーテル を加えて粉末化し、０．５ｇの粗エピルビシン塩酸塩をえる。 精製はイタリア国特許第１，２３７，２０２号公報にしたがって行ない、純粋 なエピルビシン塩酸塩をえる。 実施例１６ ０℃に冷却した、ジクロロメタン（500ml）およびピリジン（2.5ml）と化合物 Ｉ（Ｒ¹＝Ｈ）（５ｇ）との混合物を、徐々にトリフルオロメタンスルホン酸無 水物（2.5ml）のジクロロメタン（125ml）溶液とともに加える。えられた混合物 を約１時間反応させ、トリフラート（化合物II、Ｒ¹＝Ｈ）をえ、つぎにピリジ ン（6ml）およびトリフルオロメタンスルホン酸トリエチルシリル（15ml）を加 え、室温まで温め、４時間撹拌する。 トリスシリラート（化合物III、Ｒ¹＝Ｈ、Ｔ＝（Ｃ₂Ｈ₅）₃Ｓｉ）をギ酸トリ エチルアミンのジクロロメタン（500ml）の０．１Ｍ溶液とともに加え、室温で さらに１５時間撹拌する。 反応混合物を５００ｍｌの０．２５Ｎ塩酸で洗浄し、つぎに２％重炭酸ナトリ ウム溶液で洗浄し、最後に５００ｍｌの水で２回洗浄する。有機相を硫酸ナトリ ウムで乾燥し、ろ過し、蒸発乾固する。 ５．２ｇの化合物ＩＶｆをえる（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ＝Ｈ、Ｒ＝Ｓｉ（ＣＨ₂ＣＨ₃）₃ 、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１７ ＩＶｆ（5.2g）から出発し、実施例６と同様の操作で、４．２ｇの化合物Ｖｄ をえる。 実施例１８ 米国特許第４，０３３，５６６号公報に記載されたようにしてえられた１４５ ｍｇの１４−吉草酸−ｎ−トリフルオロアセチルアドリアマイシン（n-trifluor oacetyladriamycin 14-valerate）（0.2mM）（ＡＤ３２）を、１０ｍｌの無水Ｃ Ｈ₂Ｃｌ₂に溶解し、えられた混合物を５℃に冷却し、４８μｌのピリジンおよび ４９μｌのトリフロオロメタンスルホン酸無水物（0.3mM）を加える。２時間冷 却し、反応が完了したら、４９μｌ（0.2mM）のビス−トリメチルシリルアセト アミドを加え、室温まで昇温し、４時間撹拌する。シリル化した生成物を４５０ μｌ（3.3mM）のトリエチルアミンおよび１２４μｌのギ酸（3.3mM）とともに加 える。えられた混合物を室温でさらに１５時間撹拌し、つぎに２ｍｌのメタノー ルおよび２ｍｌの４８％フッ化カリウム水溶液を加える。２日後、相を分離し、 有機相を１０ｍｌの水で抽出する。有機相を蒸発させ、純粋なジクロロメタンか ら残渣を結晶化する。結晶化したエピアドリアマイシン−１４−吉草酸−３−ト リフルオロアセトアミド（epiadriamycine 14-valerate-3-trifluoroacetamide ）は融点２３０℃をもち、その構造に一致するＮＭＲ（ＤＭＳＯ）およびＭＳを 有する。 回収した生成物は出発化合物ＡＤ３２よりわずかに低いＲｆを有する。 ０．０５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を用いる、１０分 間、５℃での生成物の加水分解により、クロマトグラフィーで分離し、すでに記 載したものと同じであることがわかる、エピルビシンの部分的なフォーメーショ ンが生じる。 実施例１９ ４０ｍｌの無水ジクロロメタン中の１ｇのダウノルビシン塩酸塩を室温で、０ ．４ｍｌのＮ−メチルモルホリンおよび０．６ｇの塩化ＦＭＯＣと反応させる。 １時間後、３ｍｌのメタノールを加え、室温で１２時間放置する。反応混合物を 洗浄し、２０ｍｌの０．２ＭＨＣｌで抽出し、つぎに２０ｍｌの水で抽出し、そ ののち硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発してジイソプロピルエーテルから残渣を結 晶化する。融点１７４〜１７５℃を有する０．５ｇの第一晶（first crop）をえ る。 実施例１８では１５０ｍｇを反応させたが、最後の加水分解は、０．０５Ｍ水 酸化ナトリウムのかわりに、１ｍｌのジメチルホルムアミドおよび０．１５ｍｌ のジエチルアミンを用いて、約１時間、−１０℃で行なう。反応混合物を２０ｍ ｌのエチルエーテル中で沈殿させ、えられたガムをろ過し、水に懸濁する。０． １Ｍ塩酸を充分に加えて残渣を溶解し、ｐＨを３．７に調整する。すでに文献に 記載されたものと同じである純粋なエピダウノルビシンをえるイタリア国特許第 １，２３７，２０２号公報の記載を模倣して、溶液をＲＰ１８で精製する。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９７年２月３日 【補正内容】 （明細書１頁１行〜３頁４行をつぎのとおり補正する。） 明細書 アンスラサイクリン系抗生物質の製造法 本発明はアンスラサイクリン系抗生物質の製造法に関する。 技術分野 エピルビシン（エピドキソルビシン）およびエピダウノマイシンは、抗腫瘍活 性を有するアンスラサイクリンクラスに属する抗生物質である。 これらの化合物は、分子のグリコシド部分のＣ−４′位の水酸基の立体配置に おいて、抗腫瘍性ドキソルビシンおよびダウノルビシンとは異なる。これらの立 体配置はそれぞれ、ドキソルビシンおよびダウノルビシンではアキシアルであり 、エピルビシンおよびエピダウノルビシンではエクアトリアルである。 ドキソルビシンは抗悪性腫瘍の治療において長いあいだ用いられている。総説 については、Arcamone編，“Doxorubicin”，Acad．Press，ニューヨーク 1981 を参照されたい。ドキソルビシンの深刻な副作用としては、しばしば不可逆性で ある心筋症を発症することがあげられる。 エピルビシンはその類似体と比較して同等の抗腫瘍活性を有しながらも副作用 はその類似体のものよりも低いという有利な薬理学的特性を有することが見出さ れた （R．B．Weiss ら Cancer Chemother．Pharmacol．18, 185-97(1986)）。 エピルビシンの最初の合成は、式（Ｂ）： で示されるダウノルビシンのアグリコンとトリフルオロアセトアミドのように保 護されたアコサミン（acosamine）の１−クロロ−誘導体（Arcamone，F．ら，J ．Med．Chem.，18，7，703-707,(1975)）との縮合、それに続く脱保護、および 文献周知の方法を用いる側鎖への働きかけ（working up）を含む。前記方法は、 すでにダウノルビシンをドキソルビシンに変換するために用いられている（E．M ．Acton，J．Med．Chem.，17，65(1974); DE 1917874）。 塩化トリフルオロアセチルアコサミニルのＮ，Ｏ誘導体は、かなり複雑で高価 な多数の方法を用いる様々な天然の糖の合成変換によりえられた。 イタリア国特許第１，１６３，００１号公報および、そののちのG．Bonadonna の“Advances in Anthracycline Chemotherapy Epirubicin”，Masson 編，ミラ ノ、イタリア国、１９８４には、Ｎ−トリフルオロアセチルダウノルビシンのグ リコシド全体について行なわれる合成方法が開示されている。この方法はＣ−４ ′位の水酸基をケト基に酸化し、つぎにホウ水素化ナトリウムを用いてそのケト 基を水酸基に立体選択的に還元することからなる。前記酸化反応はきわめて低温 （−70℃）で行なわな ければならない。前記ケト誘導体は非常に分解しやすく不安定である。さらに、 ホウ水素化ナトリウムを用いる還元は、アグリコンのカルボニル基の競争還元を 最小化するために低温で行なわなければならない。前記特許から推論しうる最大 の異性化収率は、記載はないが、約４８％である。 （明細書９頁４行〜１０頁１行をつぎのとおり補正する。） 結果としてえられた式（II）の中間体化合物はそれを回収することなく、つぎ の工程に直接用いることができる。そののち、同じ反応容器内で、そのアグリコ ン部分の９位の、所望であれば、さらに６および１１位の水酸基のための保護基 を提供する適切な試薬を加える。この中間体（III）もさらに引き続く工程に直 接用いることができる。この反応における適切な保護基は当業者に知られている 。トリメチルシリル基が市販価格が安いため好ましいが、ほかのシリル誘導基（ silyl derivating group）も同等に有効である。 そののちの工程において、カルボン酸塩は第二級または第三級アミンとの塩の 形態で加える。その反応はアンモニウム第四級塩（ammonium quaternary salts ）を用いると不充分にしか進行しないことが見出された。 カルボン酸塩の具体例としては、ギ酸塩、酢酸塩、イソ酪酸塩、トリメチルシ リル酢酸塩、ｐ−ニトロ安息香酸塩、トリフルオロ酢酸塩などのハロ酢酸塩があ げられる。前記脂肪族残基もしくは芳香族残基のいずれの置換基も、ＲＣＯＯＨ である酸の脂肪族鎖におけるいずれのヘテロ原子も求核置換反応で干渉されるべ きではない。好ましいアミンはトリエチルアミンである。前記反応は０〜５０℃ の範囲の温度で、好ましくは室温で、それを完了するのに充分な時間行なう。最 後に、式（IV）の生成物を通常の操作にしたがって回収し、つぎに通常の操作で 適切に処理して９位の水酸基を脱保護し、これにより式（Ｖ）の化合物をえる。 （明細書１６頁４行〜１７頁３行をつぎのとおり補正する。） 実施例１１ 化合物Ｖｃ（4.5g）のメタノール（270ml）溶液を０．３ｍｌの１０％水酸化 ナトリウム溶液で２時間処理する。えられた混合物を０．１ｍｌの酢酸で中和し 、蒸発乾固する。残渣を２０ｍｌのジクロロメタンおよび０．５ｍｌの水に溶解 する。 えられた溶液を１０時間結晶化させ、３ｇの化合物ＶＩ（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ ＣＯ）をえる。 実施例１２ Ｖａ（4.2g）から出発し、実施例１１の記載と同様の操作で、３．５ｇの化合 物ＶＩをえる（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１３ Ｖｄ（4.4g）から出発し、実施例１１の記載と同様の操作で、３．９ｇの化合 物ＶＩをえる（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１４ Ｖｅ（4.3g）から出発し、実施例１１の記載と同様の 操作で、２．９ｇの化合物ＶＩをえる（Ｒ¹＝Ｈ、Ｒ₃＝ＣＦ₃ＣＯ）。 実施例１５ 請求の範囲 （請求の範囲第１項、第２項および第３項をつぎのように補正する。） １．a）式（Ｉ）： （式中、Ｒ¹は水素、ハロゲン、適切に保護された水酸基を表わし、Ｒ₃はアミ ノ保護基を表わす）で示されるＮが保護されたダウノルビシンまたはその誘導体 を、トリフルオロメタンスルホン酸またはその反応性誘導体と反応させて、式（ II）： （式中、Ｒ¹およびＲ₃は前記と同じ）で示される化合物をえること、 b）９位の水酸基を保護し、任意に６および１１位の水酸基を保護して式（III ）： （式中、Ｔは保護基を表わし、Ｒ¹は前記と向じ）で示される中間体をえるこ と、 c）工程ｂ）でえられた化合物を、式：ＲＣＯＯＨ（式中、Ｒは脂肪族残基、 任意にヘテロ原子により置換されたか中断された脂肪族残基、または任意に置換 された芳香族残基を表わす）で示されるカルボン酸と第二級または第三級アミン との塩で処理して、式（IV）： （式中、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₃およびＴは前記と同じ）で示されるエステルをえること 、 d）９位の水酸基を脱保護して式（Ｖ）： （式中、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₃は前記と同じ）で示される中間体をえること、 e）前記エステルを加水分解して式（VI）： （式中、Ｒ¹およびＲ₃は前記と同じ）で示されるＮが保護されたエピダウノル ビシンをえること、 f）要すれば、アミノ保護基を除去すること、 g）式（Ａ）： （式中、Ｒ¹はＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル 基を表わす）で示されるエピルビシンまたはそのエステルへ変換すること からなる、式（Ａ）： （式中、Ｒ¹は水素、ＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は前記と同じ）で示 される化合物の製造法。 ２．該カルボン酸塩がトリエチルアミン塩である請求の範囲第１項記載の製造法 。 ３．該酸がギ酸、酢酸、イソ酪酸、トリメチルシリル酢酸、ｐ−ニトロ安息香酸 からなる群より選ばれる請求 の範囲第１項または第２項記載の製造法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．a）式（Ｉ）： （式中、Ｒ¹は水素、ハロゲン、適切に保護された水酸基を表わし、Ｒ₃はアミ ノ保護基を表わす）で示されるＮが保護されたダウノルビシンまたはその誘導体 を、トリフルオロメタンスルホン酸またはその反応性誘導体と反応させて、式（ II）： （式中、Ｒ¹およびＲ₃は前記と同じ）で示される化合物をえること、 b）９位の水酸基を保護し、任意に６および１１位の 水酸基を保護して式（III）： （式中、Ｔは保護基を表わし、Ｒ¹は前記と同じ）で示される中間体をえるこ と、 c）工程ｂ）でえられた化合物を、式：ＲＣＯＯＨ（式中、Ｒは脂肪族残基、 任意にヘテロ原子により置換されたか中断された脂肪族残基、または任意に置換 された芳香族残基を表わす）で示されるカルボン酸と第二級または第三級アミン との塩で処理して、式（IV）： （式中、Ｒ、Ｒ₁、Ｒ₃、およびＴは前記と同じ）で示されるエステルをえるこ と、 d）９位の水酸基を脱保護して式（Ｖ）： （式中、Ｒ、Ｒ₁およびＲ₃は前記と同じ）で示される中間体をえること、 e）前記エステルを加水分解して式（VI）： （式中、Ｒ¹およびＲ₃は前記と同じ）で示されるＮが保護されたエピダウノル ビシンをえること、 f）要すれば、アミノ保護基を除去すること、 g）式（Ａ）： （式中、Ｒ¹はＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル 基を表わす）で示されるエピルビシンまたはそのエステルヘ変換すること からなる、式（Ａ）： （式中、Ｒ¹は水素、ＯＨまたはＯＣＯＲ²を表わし、Ｒ²は前記と同じ）で示 される化合物の製造法。 ２．該カルボン酸塩がトリエチルアミン塩である請求の範囲第１項記載の製造法 。 ３．該酸がギ酸、酢酸、イソ酪酸、トリメチルシリル酢酸、ｐ−ニトロ安息香酸 からなる群より選ばれる請求 の範囲第１項または第２項記載の製造法。 ４．工程ｃ）が０〜５０℃の温度で行なわれる請求の範囲第１項、第２項または 第３項記載の製造法。 ５．６、９および１１位の水酸基がトリアルキルシリル基で保護される請求の範 囲第１項、第２項、第３項または第４項記載の製造法。 ６．Ｒ₃がトリフルオロアセチルである請求の範囲第１項、第２項、第３項、第 ４項または第５項記載の製造法。 ７．a）ドキソルビシンを９および１４位の水酸基のための適切な保護剤と反応 させ、ついで３′位のアミンを保護して、式（VII）： （式中、Ｍ₁は炭素数１〜４のアルコキシ基を表わし、Ｍ₂は水素または炭素数 １〜４のアルキル基を表わす） で示される化合物をえること、 b）前記中間体（VII）をトリフルオロメタンスルホン酸またはその反応性誘導 体と反応させて、式（VIII）： （式中、Ｍ₁、Ｍ₂およびＲ₃は前記と同じ）で示される化合物をえること、 c）６および１１位の水酸基を保護して式（IX）： （式中、Ｔは保護基を表わし、Ｍ₁、Ｍ₂およびＭ₃は前記と同じ）で示される 中間体をえること、 d）工程ｃ）でえられた化合物を、式：ＲＣＯＯＨ （式中、Ｒは任意にヘテロ原子により置換されたか中断された脂肪族残基、任 意に置換された芳香族残基を表わす）で示されるカルボン酸と第二級または第三 級アミンとの塩で処理して、式（Ｘ）： （式中、Ｒ、Ｒ₃、Ｍ₁およびＭ₂は前記と同じ）で示されるエステルをえるこ と、 e）前記エステルを加水分解し、ついで９および１４位の水酸基ならびにアミ ノ基の保護基を除去することからなる、式： で示されるエピルビシンの製造法。 ８．該カルボン酸塩がトリエチルアミン塩である請求の範囲第７項記載の製造法 。 ９．該酸がギ酸、酢酸、イソ酪酸、トリメチルシリル酢酸、ｐ−ニトロ安息香酸 からなる群より選ばれる請求の範囲第７項または第８項記載の製造法。 10．工程ｄ）が０〜５０℃の温度で行なわれる請求の範囲第７項、第８項または 第９項記載の製造法。 11．Ｒ₃がトリフルオロアセチルである請求の範囲第７項、第８項、第９項また は第１０項記載の製造法。