JPH11316552A - 再帰反射部材及び画像表示装置 - Google Patents
再帰反射部材及び画像表示装置Info
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- JPH11316552A JPH11316552A JP12252998A JP12252998A JPH11316552A JP H11316552 A JPH11316552 A JP H11316552A JP 12252998 A JP12252998 A JP 12252998A JP 12252998 A JP12252998 A JP 12252998A JP H11316552 A JPH11316552 A JP H11316552A
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- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 画像表示装置に光源の映り込みが生ずる。
【解決手段】 画像表示装置の表示側に入射した光を再
帰反射させる再帰反射部材1-1であって、少なくとも片
方の面に複数の再帰反射要素を持ち、該再帰反射要素の
単位面積をSs、画像表示装置の一画素の面積をPsし
たときに、Ss/Ps<0.3の条件を満たすようにし
た。
帰反射させる再帰反射部材1-1であって、少なくとも片
方の面に複数の再帰反射要素を持ち、該再帰反射要素の
単位面積をSs、画像表示装置の一画素の面積をPsし
たときに、Ss/Ps<0.3の条件を満たすようにし
た。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は再帰反射部材及び画
像表示装置に係わり、例えばコーナーキューブやガラス
ビーズを使用した再帰反射シートを前面に貼ることによ
り、外光の映り込みを防止する電界放出型ディスプレイ
(電界放出型電子放出素子を用いたディスプレイ)、表
面伝導型ディスプレイ(表面伝導型電子放出素子を用い
たディスプレイ)、MIM型ディスプレイ(MIM型電
子放出素子を用いたディスプレイ)、CRTディスプレ
イ、蛍光表示管ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラ
ズマディスプレイ等の画像表示装置に好適に用いること
ができるものである。
像表示装置に係わり、例えばコーナーキューブやガラス
ビーズを使用した再帰反射シートを前面に貼ることによ
り、外光の映り込みを防止する電界放出型ディスプレイ
(電界放出型電子放出素子を用いたディスプレイ)、表
面伝導型ディスプレイ(表面伝導型電子放出素子を用い
たディスプレイ)、MIM型ディスプレイ(MIM型電
子放出素子を用いたディスプレイ)、CRTディスプレ
イ、蛍光表示管ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラ
ズマディスプレイ等の画像表示装置に好適に用いること
ができるものである。
【0002】
【従来の技術】従来、電子放出素子を利用した画像表示
装置として、冷陰極電子放出素子を多数形成した電子源
基板と、透明電極および蛍光体を具備した陽極基板とを
平行に対向させ、真空に排気した平面型の電子線画像表
示装置が知られている。このような画像表示装置におい
て、電界放出型電子放出素子を用いたものは、例えば、
I.Brodie,“Advanced technology:flat cold-cathode C
RTs",Information Display,1/89,17(1989)に開示された
ものがある。また、表面伝導型電子放出素子を用いたも
のは、例えば、米国特許第5066883号等に開示さ
れている。平面型の電子線画像表示装置は、現在広く用
いられている陰極線管(cathode ray tube:CRT)表示装
置に比べ、軽量化、大画面化を図ることができ、また、
液晶を利用した平面型画像表示装置やプラズマ・ディス
プレイ、エレクトロルミネッセント・ディスプレイ等の
他の平面型画像表示装置に比べて、より高輝度、高品質
な画像を提供することができる。図19,図20,図2
1に、電子放出素子を利用した画像表示装置の一例とし
て、従来の平面型電子線画像表示装置の概略構成図を示
す。ここで、図19は陽極基板と外枠とを示す斜視図、
図20は電子源基板とスペーサとを示す斜視図、図21
は、図20におけるA−A′断面図である。
装置として、冷陰極電子放出素子を多数形成した電子源
基板と、透明電極および蛍光体を具備した陽極基板とを
平行に対向させ、真空に排気した平面型の電子線画像表
示装置が知られている。このような画像表示装置におい
て、電界放出型電子放出素子を用いたものは、例えば、
I.Brodie,“Advanced technology:flat cold-cathode C
RTs",Information Display,1/89,17(1989)に開示された
ものがある。また、表面伝導型電子放出素子を用いたも
のは、例えば、米国特許第5066883号等に開示さ
れている。平面型の電子線画像表示装置は、現在広く用
いられている陰極線管(cathode ray tube:CRT)表示装
置に比べ、軽量化、大画面化を図ることができ、また、
液晶を利用した平面型画像表示装置やプラズマ・ディス
プレイ、エレクトロルミネッセント・ディスプレイ等の
他の平面型画像表示装置に比べて、より高輝度、高品質
な画像を提供することができる。図19,図20,図2
1に、電子放出素子を利用した画像表示装置の一例とし
て、従来の平面型電子線画像表示装置の概略構成図を示
す。ここで、図19は陽極基板と外枠とを示す斜視図、
図20は電子源基板とスペーサとを示す斜視図、図21
は、図20におけるA−A′断面図である。
【0003】図19から図21に示される従来の平面型
電子線画像表示装置の構成について詳述すると、図中、
1は陽極基板であるフェースプレート、2は電子源基板
であるリアプレート、4は外枠であり、これらにより真
空外囲器を構成している。5は電子放出素子であり、6
-1-1および6-2-1は、電子放出素子5に電圧を印加する
ための電極である。6-1(信号電極側)及び6-2(走査
電極側)は電極配線であり、それぞれ、電極6-1-1、6
-2-1に接続されている。1-2はフェースプレートの基体
であるガラス基板、1-3は蛍光体、1-4はアルミ電極で
ある。3はスペーサで、リアプレート2とフェースプレ
ート1を所定間隔に保持するとともに、大気圧に対する
支持部材として配置されている。
電子線画像表示装置の構成について詳述すると、図中、
1は陽極基板であるフェースプレート、2は電子源基板
であるリアプレート、4は外枠であり、これらにより真
空外囲器を構成している。5は電子放出素子であり、6
-1-1および6-2-1は、電子放出素子5に電圧を印加する
ための電極である。6-1(信号電極側)及び6-2(走査
電極側)は電極配線であり、それぞれ、電極6-1-1、6
-2-1に接続されている。1-2はフェースプレートの基体
であるガラス基板、1-3は蛍光体、1-4はアルミ電極で
ある。3はスペーサで、リアプレート2とフェースプレ
ート1を所定間隔に保持するとともに、大気圧に対する
支持部材として配置されている。
【0004】この電子線画像表示装置において画像を形
成するには、マトリックス状に配置された走査配線6-2
と信号配線6-1に所定の電圧を順次印加することで、マ
トリックスの交点に位置する所定の電子放出素子5を選
択的に駆動し、電子放出素子5の電子放出部から放出さ
れた電子を蛍光体1-3に照射して、所定の位置に輝点を
得て、画像を形成する。なお、アルミ電極1-4は、放出
電子を加速してより高い輝度の輝点を得るために、電子
放出素子5に対して正電位となるように高電圧が印加さ
れる。ここで、印加される電圧は、蛍光体の性能にもよ
るが、数百Vから数十kV程度の電圧である。従って、
リアプレート2とフェースプレート1間の距離(正確に
は配線6-1とアルミ電極1-4との距離)dは、この印加
電圧によって真空の絶縁破壊(すなわち放電)が生じな
いようにするため、百μmから数mm程度に設定される
のが一般的である。
成するには、マトリックス状に配置された走査配線6-2
と信号配線6-1に所定の電圧を順次印加することで、マ
トリックスの交点に位置する所定の電子放出素子5を選
択的に駆動し、電子放出素子5の電子放出部から放出さ
れた電子を蛍光体1-3に照射して、所定の位置に輝点を
得て、画像を形成する。なお、アルミ電極1-4は、放出
電子を加速してより高い輝度の輝点を得るために、電子
放出素子5に対して正電位となるように高電圧が印加さ
れる。ここで、印加される電圧は、蛍光体の性能にもよ
るが、数百Vから数十kV程度の電圧である。従って、
リアプレート2とフェースプレート1間の距離(正確に
は配線6-1とアルミ電極1-4との距離)dは、この印加
電圧によって真空の絶縁破壊(すなわち放電)が生じな
いようにするため、百μmから数mm程度に設定される
のが一般的である。
【0005】また、画像表示装置の表示面積が大きくな
るに従い、外囲器内部の真空と外部の大気圧差による基
板の変形を迎えるために、リヤープレート2およびフェ
ースプレート1を厚くすることが求められる。しかし、
基板を厚くすることは画像表示装置の重量を増加させる
だけでなく、斜め方向から見た時に歪みを生ずる。そこ
で、スペーサ3を配置することにより、基板2,1の強
度負担を軽減でき、軽量化、低コスト化、大画面化が可
能となるので、平面型電子線画像表示装置の利点を十分
に発揮することができるようになる。
るに従い、外囲器内部の真空と外部の大気圧差による基
板の変形を迎えるために、リヤープレート2およびフェ
ースプレート1を厚くすることが求められる。しかし、
基板を厚くすることは画像表示装置の重量を増加させる
だけでなく、斜め方向から見た時に歪みを生ずる。そこ
で、スペーサ3を配置することにより、基板2,1の強
度負担を軽減でき、軽量化、低コスト化、大画面化が可
能となるので、平面型電子線画像表示装置の利点を十分
に発揮することができるようになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】さてこのような画像表
示装置において、室内の蛍光燈等の光源の画像表示装置
への映り込みが生ずる場合がある。その様子を図22に
示す。図22において、13は蛍光燈や電燈、太陽等の
光源、5は画像表示装置の前面で反射した光源13から
の映り込み光を示している。このような映り込み光の対
策として、微細な表面凹凸面を持ったフィルターを画像
表示装置の前面に設置し、外光による画像表示装置前面
での正反射を抑え、これによって防眩性を発揮させる方
法が提案されている(特開昭50−96128号公報、
特開昭55−12107号公報、特開昭59−1166
01号公報、実公昭50−17376号公報及び実開昭
57−70201号公報)。
示装置において、室内の蛍光燈等の光源の画像表示装置
への映り込みが生ずる場合がある。その様子を図22に
示す。図22において、13は蛍光燈や電燈、太陽等の
光源、5は画像表示装置の前面で反射した光源13から
の映り込み光を示している。このような映り込み光の対
策として、微細な表面凹凸面を持ったフィルターを画像
表示装置の前面に設置し、外光による画像表示装置前面
での正反射を抑え、これによって防眩性を発揮させる方
法が提案されている(特開昭50−96128号公報、
特開昭55−12107号公報、特開昭59−1166
01号公報、実公昭50−17376号公報及び実開昭
57−70201号公報)。
【0007】そして、このような凹凸を持った表面を得
る方法として、シリカ粒子などを塗料中に分散させたい
わゆる艶消し塗料で基材表面を塗装する方法、基材表面
に砂を吹き付けたり、砥石、金属繊維等で荒らす方法、
あるいは、予め艶消し加工を施した金属やガラス表面を
転写させる方法などが知られている。さらには、好まし
い表面粗さとして、中心線平均粗さで0.015〜0.
75μmとするもの(特開昭59−114501号公
報)や表面十点平均粗さとして0.1〜2μmとするも
の(特開昭59−116601号公報)が知られてい
る。
る方法として、シリカ粒子などを塗料中に分散させたい
わゆる艶消し塗料で基材表面を塗装する方法、基材表面
に砂を吹き付けたり、砥石、金属繊維等で荒らす方法、
あるいは、予め艶消し加工を施した金属やガラス表面を
転写させる方法などが知られている。さらには、好まし
い表面粗さとして、中心線平均粗さで0.015〜0.
75μmとするもの(特開昭59−114501号公
報)や表面十点平均粗さとして0.1〜2μmとするも
の(特開昭59−116601号公報)が知られてい
る。
【0008】しかしながら、これらの方法で得られた艶
消し面は、外光による正反射を抑える効果を向上させれ
ばさせるほど、透過像の解像度が低下してしまう欠点を
有していた。その為に、防眩性を持つフィルターに使用
した場合、十分な防眩効果を得るためには、表示画像の
解像度をある程度犠牲にしなければならず、逆に十分な
解像度の画像を得た場合には、外光の正反射によってフ
ィルター面上に明瞭な反射像が生じてしまう結果となっ
ていた。
消し面は、外光による正反射を抑える効果を向上させれ
ばさせるほど、透過像の解像度が低下してしまう欠点を
有していた。その為に、防眩性を持つフィルターに使用
した場合、十分な防眩効果を得るためには、表示画像の
解像度をある程度犠牲にしなければならず、逆に十分な
解像度の画像を得た場合には、外光の正反射によってフ
ィルター面上に明瞭な反射像が生じてしまう結果となっ
ていた。
【0009】本発明は、以上のような状況に鑑み、画像
表示装置の解像度を低下させることなく、しかも画像表
示装置の表面における外光の正反射の影響をできるだけ
取り除くことのできるフィルターを提供するものであ
る。
表示装置の解像度を低下させることなく、しかも画像表
示装置の表面における外光の正反射の影響をできるだけ
取り除くことのできるフィルターを提供するものであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の再帰反射部材
は、画像表示装置の表示側に入射した光を再帰反射させ
る再帰反射部材であって、少なくとも片方の面に複数の
再帰反射要素を持ち、該再帰反射要素の単位面積をS
s、画像表示装置の一画素の面積をPsしたときに、 Ss/Ps<0.3 の条件を満たすようにしたことを特徴とする再帰反射部
材である。
は、画像表示装置の表示側に入射した光を再帰反射させ
る再帰反射部材であって、少なくとも片方の面に複数の
再帰反射要素を持ち、該再帰反射要素の単位面積をS
s、画像表示装置の一画素の面積をPsしたときに、 Ss/Ps<0.3 の条件を満たすようにしたことを特徴とする再帰反射部
材である。
【0011】本発明の画像表示装置は、上記の再帰反射
部材を用いたものである。
部材を用いたものである。
【0012】本発明は、画像表示装置の前面に、再帰反
射部材(例えば再帰反射要素層)を設けることにより、
斜め後方の上下左右から入射し画像表示装置に映り込ん
でしまう、蛍光燈等の光源からの光を、解像力の低下な
しにオペレーターの目に入らなくするものである。
射部材(例えば再帰反射要素層)を設けることにより、
斜め後方の上下左右から入射し画像表示装置に映り込ん
でしまう、蛍光燈等の光源からの光を、解像力の低下な
しにオペレーターの目に入らなくするものである。
【0013】上記本発明により、画像表示装置に外光の
映り込みが無くなり、コントラストが向上すると同時
に、これを用いた画像表示装置の性能向上にもつなが
る。
映り込みが無くなり、コントラストが向上すると同時
に、これを用いた画像表示装置の性能向上にもつなが
る。
【0014】なお、再帰反射部材は画像表示装置上に設
けてもよいが、画像表示装置の表示側基板を再帰反射部
材としてもよい。
けてもよいが、画像表示装置の表示側基板を再帰反射部
材としてもよい。
【0015】本発明の画像表示装置は、特に画像表示方
式が限定されず、外光の映り込みが問題となる画像表示
装置全般、例えば、電界放出型ディスプレイ(電界放出
型電子放出素子を用いたディスプレイ)、表面伝導型デ
ィスプレイ(表面伝導型電子放出素子を用いたディスプ
レイ)、MIM型ディスプレイ(MIM型電子放出素子
を用いたディスプレイ)、CRTディスプレイ、蛍光表
示管ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディス
プレイ等の画像表示装置に用いることができる。
式が限定されず、外光の映り込みが問題となる画像表示
装置全般、例えば、電界放出型ディスプレイ(電界放出
型電子放出素子を用いたディスプレイ)、表面伝導型デ
ィスプレイ(表面伝導型電子放出素子を用いたディスプ
レイ)、MIM型ディスプレイ(MIM型電子放出素子
を用いたディスプレイ)、CRTディスプレイ、蛍光表
示管ディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディス
プレイ等の画像表示装置に用いることができる。
【0016】
【実施例】以下、図面に沿って本発明の実施例について
説明する。
説明する。
【0017】(実施例1)図1は画像表示装置の前面に
再帰反射要素層(再帰反射部材)1-1を設置した様子を
示す説明図、図2は、本実施例に用いた画像表示装置の
斜視図であり、図3に示した形状の再帰反射要素層1-1
を用いた。なお、図2では内部構造を示すためにパネル
の1部を切り欠いて示している。サイズは縦横150×
250mmである。
再帰反射要素層(再帰反射部材)1-1を設置した様子を
示す説明図、図2は、本実施例に用いた画像表示装置の
斜視図であり、図3に示した形状の再帰反射要素層1-1
を用いた。なお、図2では内部構造を示すためにパネル
の1部を切り欠いて示している。サイズは縦横150×
250mmである。
【0018】図中、1はフェースプレート、1-2はガラ
ス基板、1-3は蛍光体、1-4はメタルバックとしてのア
ノード電極、2はリアプレート、3はスペーサ、4は側
壁であり、フェースプレート1,リアプレート2,側壁
4により画像表示装置の内部を真空に維持するための気
密容器を形成している。気密容器を組み立てるにあたっ
ては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保持させ
るため封着を行なうが、フェースプレート及びリアプレ
ートと外枠の接合部分に接合材として、フリット(低融
点ガラス)を用いた。すなわち、接合材として、接合部
分にフリット(低融点ガラス)を形成・焼成することに
より、接合部分が気密に封着され、内部を真空維持可能
な真空外囲器が作製される。このフリット(低融点ガラ
ス)を用いたガラスの封着は、大気中(常圧)におい
て、例えば400〜500℃での焼成で行なうことがで
きる。
ス基板、1-3は蛍光体、1-4はメタルバックとしてのア
ノード電極、2はリアプレート、3はスペーサ、4は側
壁であり、フェースプレート1,リアプレート2,側壁
4により画像表示装置の内部を真空に維持するための気
密容器を形成している。気密容器を組み立てるにあたっ
ては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保持させ
るため封着を行なうが、フェースプレート及びリアプレ
ートと外枠の接合部分に接合材として、フリット(低融
点ガラス)を用いた。すなわち、接合材として、接合部
分にフリット(低融点ガラス)を形成・焼成することに
より、接合部分が気密に封着され、内部を真空維持可能
な真空外囲器が作製される。このフリット(低融点ガラ
ス)を用いたガラスの封着は、大気中(常圧)におい
て、例えば400〜500℃での焼成で行なうことがで
きる。
【0019】リアプレート2には、直接配線が印刷され
ており配線基板もかねている。該基板上には電子放出素
子5がN×M個形成されている。本実施例ではN=16
0,M=720とした。ここでN,Mは2以上の正の整
数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜設定され
る。たとえば、高品位テレビジョンの表示を目的とした
表示装置においては、N=3000,M=1000以上
の数を設定することが望ましい。
ており配線基板もかねている。該基板上には電子放出素
子5がN×M個形成されている。本実施例ではN=16
0,M=720とした。ここでN,Mは2以上の正の整
数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜設定され
る。たとえば、高品位テレビジョンの表示を目的とした
表示装置においては、N=3000,M=1000以上
の数を設定することが望ましい。
【0020】電子放出素子5は、M本の行方向配線(信
号線6-2)とN本の列方向配線(走査線6-1)により配
線されている。行方向配線(信号線6-2)と列方向配線
(走査線6-1)によって構成される部分をマルチ電子ビ
ーム源と呼ぶ。
号線6-2)とN本の列方向配線(走査線6-1)により配
線されている。行方向配線(信号線6-2)と列方向配線
(走査線6-1)によって構成される部分をマルチ電子ビ
ーム源と呼ぶ。
【0021】また、DOx1〜DOxm及びDOy1〜DOynおよ
びHvは、画像表示装置と不図示の電気回路とを電気的
に接続するために設けた気密構造の電気接続用端子であ
る。DOx1〜DOxmはマルチ電子ビーム源の行方向配線
(信号線6-2)と、DOy1〜DOynはマルチ電子ビーム源
の列方向配線(走査線6-1)と、Hvはフェースプレー
トのアノード電極1-4と電気的に接続している。
びHvは、画像表示装置と不図示の電気回路とを電気的
に接続するために設けた気密構造の電気接続用端子であ
る。DOx1〜DOxmはマルチ電子ビーム源の行方向配線
(信号線6-2)と、DOy1〜DOynはマルチ電子ビーム源
の列方向配線(走査線6-1)と、Hvはフェースプレー
トのアノード電極1-4と電気的に接続している。
【0022】本実施例の電子放出素子5は、特開平7−
45221号公報に記載されている表面伝導型電子放出
素子を用いたが、先端の尖った、円錐状、角錐状あるい
は針状の金属やシリコン、若しくはダイヤモンドを含む
カーボン材料等から成る電界放出型電子放出素子やMI
M型素子等を用いることもできる。
45221号公報に記載されている表面伝導型電子放出
素子を用いたが、先端の尖った、円錐状、角錐状あるい
は針状の金属やシリコン、若しくはダイヤモンドを含む
カーボン材料等から成る電界放出型電子放出素子やMI
M型素子等を用いることもできる。
【0023】上記表面伝導型電子放出素子は、青板ガラ
スや石英ガラス、セラミック等の絶縁基板上にNiやC
r,Au,Mo,W,Pt,Ti,Al,Cu,Pd等
の金属や合金、金属酸化物等の導電性電極対上にPdや
Pt,Ag,Au等の貴金属元素を含む有機化合物を加
熱焼成して得られるPdやPt,Ag,Au,PdO等
の導電性薄膜を形成し、通電フォーミング処理と呼ばれ
る処理を施すことにより該導電性薄膜中に電子放出部を
形成し、さらに真空容器内で活性化処理及び安定化処理
を施して製造される。この表面伝導型電子放出素子は、
行方向配線と列方向配線とが接続された導電性電極対に
走査信号と画像入力信号を印加することにより、電子放
出部から電子線を放出し、フェースプレート側に高電圧
を印加することにより、そのフェースプレート側の蛍光
体に電子線を照射して、蛍光を発光させることで画像表
示を行うことができる。
スや石英ガラス、セラミック等の絶縁基板上にNiやC
r,Au,Mo,W,Pt,Ti,Al,Cu,Pd等
の金属や合金、金属酸化物等の導電性電極対上にPdや
Pt,Ag,Au等の貴金属元素を含む有機化合物を加
熱焼成して得られるPdやPt,Ag,Au,PdO等
の導電性薄膜を形成し、通電フォーミング処理と呼ばれ
る処理を施すことにより該導電性薄膜中に電子放出部を
形成し、さらに真空容器内で活性化処理及び安定化処理
を施して製造される。この表面伝導型電子放出素子は、
行方向配線と列方向配線とが接続された導電性電極対に
走査信号と画像入力信号を印加することにより、電子放
出部から電子線を放出し、フェースプレート側に高電圧
を印加することにより、そのフェースプレート側の蛍光
体に電子線を照射して、蛍光を発光させることで画像表
示を行うことができる。
【0024】図3は図2のA−A′の断面模式図であ
り、各部の番号は図2に対応している。スペーサ3は直
接走査線6-1およびフェースプレート1と接続し、フェ
ースプレート1とリアプレート2が受ける大気圧を支え
ている。6-1-1は走査線電極である。
り、各部の番号は図2に対応している。スペーサ3は直
接走査線6-1およびフェースプレート1と接続し、フェ
ースプレート1とリアプレート2が受ける大気圧を支え
ている。6-1-1は走査線電極である。
【0025】またスペーサの長さと幅は、大気圧を支え
る強度で決定され、本実施例では長さ、70mmの物を
採用した。またスペーサの高さdは1mmである。
る強度で決定され、本実施例では長さ、70mmの物を
採用した。またスペーサの高さdは1mmである。
【0026】またスペーサは両プレートに対し、片方の
みで固定される必要はなく、上部をフェースプレートの
フリット等で固定してもよい。
みで固定される必要はなく、上部をフェースプレートの
フリット等で固定してもよい。
【0027】さらに、ガラス基板1-2の下面には、蛍光
体1-3、メタルバック(アノード電極)1-4が形成され
ている。本実施例はカラー表示装置であるため、蛍光体
1-3の部分にはCRTの分野で用いられる赤、緑、青、
の3原色の蛍光体が塗り分けられている。各色の蛍光体
は、たとえば図4(a)に示すようにストライプ状に塗
り分けられ、蛍光体のストライプの間には黒色の光吸収
体1-6が設けてある。黒色の光吸収体1-6を設ける目的
は、電子ビームの照射位置に多少のずれがあっても表示
色にずれが生じないようにすることや、外光の反射を防
止して表示コントラストの低下を防ぐこと、又、上記黒
色の光吸収体が導電性の場合には、電子ビームによる蛍
光体のチャージアップを防止することなどである。黒色
の光吸収体1-6には、黒鉛を主成分として用いたが、上
記の目的に適するものであればこれ以外の材料を用いて
も良い。
体1-3、メタルバック(アノード電極)1-4が形成され
ている。本実施例はカラー表示装置であるため、蛍光体
1-3の部分にはCRTの分野で用いられる赤、緑、青、
の3原色の蛍光体が塗り分けられている。各色の蛍光体
は、たとえば図4(a)に示すようにストライプ状に塗
り分けられ、蛍光体のストライプの間には黒色の光吸収
体1-6が設けてある。黒色の光吸収体1-6を設ける目的
は、電子ビームの照射位置に多少のずれがあっても表示
色にずれが生じないようにすることや、外光の反射を防
止して表示コントラストの低下を防ぐこと、又、上記黒
色の光吸収体が導電性の場合には、電子ビームによる蛍
光体のチャージアップを防止することなどである。黒色
の光吸収体1-6には、黒鉛を主成分として用いたが、上
記の目的に適するものであればこれ以外の材料を用いて
も良い。
【0028】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は図4
(a)に示したストライプ状の配列に限られるものでは
なく、たとえば図4(b)に示すようなデルタ状配列
や、それ以外の配列であってもよい。また図中斜線で示
すPsは、一画素の面積を示す。
(a)に示したストライプ状の配列に限られるものでは
なく、たとえば図4(b)に示すようなデルタ状配列
や、それ以外の配列であってもよい。また図中斜線で示
すPsは、一画素の面積を示す。
【0029】なお、モノクロームの画像表示装置を作成
する場合には、単色の蛍光体材料を蛍光体1-3に用いれ
ばよく、また黒色導電材料は必ずしも用いなくともよ
い。
する場合には、単色の蛍光体材料を蛍光体1-3に用いれ
ばよく、また黒色導電材料は必ずしも用いなくともよ
い。
【0030】また、加速電圧の印加用や蛍光体の導電性
向上を目的として、フェースプレート1と蛍光体1-3と
の間に、たとえばITOを材料とする不図示の透明電極
を設けてもよい。
向上を目的として、フェースプレート1と蛍光体1-3と
の間に、たとえばITOを材料とする不図示の透明電極
を設けてもよい。
【0031】メタルバックを設ける目的は、蛍光体1-3
が発する光の一部を鏡面反射して光利用率を向上させる
ことや、負イオンの衝突から蛍光体1-3を保護すること
や、電子ビーム加速電圧を印加するための電極として作
用させることや、蛍光体1-3を励起した電子の導電路と
して作用させることなどである。メタルバックは、蛍光
体1-3をフェースプレート2上に形成した後、蛍光体表
面を平滑化処理し、その上にアルミを真空蒸着する方法
により形成した。なお、蛍光体1-3に低加速電子線励起
用の蛍光体材料を用いた場合には、メタルバックは用い
ない場合もある。この場合、フェースプレートと蛍光体
との間に透明電極を設けて、透明電極に電子ビーム加速
電圧を印加する。
が発する光の一部を鏡面反射して光利用率を向上させる
ことや、負イオンの衝突から蛍光体1-3を保護すること
や、電子ビーム加速電圧を印加するための電極として作
用させることや、蛍光体1-3を励起した電子の導電路と
して作用させることなどである。メタルバックは、蛍光
体1-3をフェースプレート2上に形成した後、蛍光体表
面を平滑化処理し、その上にアルミを真空蒸着する方法
により形成した。なお、蛍光体1-3に低加速電子線励起
用の蛍光体材料を用いた場合には、メタルバックは用い
ない場合もある。この場合、フェースプレートと蛍光体
との間に透明電極を設けて、透明電極に電子ビーム加速
電圧を印加する。
【0032】また、気密容器内部を真空に排気するに
は、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポ
ンプとを接続し、気密容器内を10-7[Torr]程度
の真空度まで排気する。その後、排気管を封止するが、
気密容器内の真空度を維持するために、封止の直前ある
いは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッター膜(不
図示)を形成する。ゲッター膜とは、たとえばBaを主
成分とするゲッター材料をヒーターもしくは高周波加熱
により加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッター膜
の吸着作用により気密容器内は1×10-5ないしは1×
10-7[Torr]程度の真空度に維持される。
は、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポ
ンプとを接続し、気密容器内を10-7[Torr]程度
の真空度まで排気する。その後、排気管を封止するが、
気密容器内の真空度を維持するために、封止の直前ある
いは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッター膜(不
図示)を形成する。ゲッター膜とは、たとえばBaを主
成分とするゲッター材料をヒーターもしくは高周波加熱
により加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッター膜
の吸着作用により気密容器内は1×10-5ないしは1×
10-7[Torr]程度の真空度に維持される。
【0033】さて上記のような画像表示装置の前面に再
帰反射要素層1-1を設置した様子を図1に示す。1はフ
ェースプレートで、図22と同一構成部材については同
一符号を付して説明を省略する。本実施例では再帰反射
要素層1-1が設けられているので、後方上部からの蛍光
燈等の光源13からの光5は、その光がやって来た方向
へ戻り、オペレーターの眼7に入ることはない。さらに
正面にはオペレーターが居るので、真後ろからの光はオ
ペレーターに遮られ、画像表示装置に入射することはな
く、再帰反射要素層1-1で反射されオペレーターの眼7
に入ることも無い。
帰反射要素層1-1を設置した様子を図1に示す。1はフ
ェースプレートで、図22と同一構成部材については同
一符号を付して説明を省略する。本実施例では再帰反射
要素層1-1が設けられているので、後方上部からの蛍光
燈等の光源13からの光5は、その光がやって来た方向
へ戻り、オペレーターの眼7に入ることはない。さらに
正面にはオペレーターが居るので、真後ろからの光はオ
ペレーターに遮られ、画像表示装置に入射することはな
く、再帰反射要素層1-1で反射されオペレーターの眼7
に入ることも無い。
【0034】以上、本発明の実施例の画像表示装置の基
本構成と製法を説明した。以下、本実施例に用いたコー
ナーキューブについて説明する。
本構成と製法を説明した。以下、本実施例に用いたコー
ナーキューブについて説明する。
【0035】[コーナーキューブの説明] <製造方法>図5に示すように、先端角度が70.52
9度のダイヤモンド又は超合金バイト9を用い、高純度
アルミニウム板8-1の上に交差角がそれぞれ60度で断
面形状がVの字の溝を繰り返しのパターンで三方向から
フライカッティング法によってけがき、アルミニウム板
8-1上に山の高さが50μmの三角錐を形成する。図6
のA,B,Cのラインはそれぞれバイトでけがく角度を
示している。また図5は、D−D′線で分割した時の断
面図を示している。また図中Ssは再帰反射要素一個当
たりの面積を示している。
9度のダイヤモンド又は超合金バイト9を用い、高純度
アルミニウム板8-1の上に交差角がそれぞれ60度で断
面形状がVの字の溝を繰り返しのパターンで三方向から
フライカッティング法によってけがき、アルミニウム板
8-1上に山の高さが50μmの三角錐を形成する。図6
のA,B,Cのラインはそれぞれバイトでけがく角度を
示している。また図5は、D−D′線で分割した時の断
面図を示している。また図中Ssは再帰反射要素一個当
たりの面積を示している。
【0036】この母型を用いて電鋳法により反転された
型を作製し、次いで電鋳法で再度反転して材質がニッケ
ルのコーナーキューブ成形用金型8-2を作製した。図7
に示すように、この成形用金型8-2を成形枠10-1の中
にいれ、上から蓋10-2で密封し、その中にアクリル樹
脂シート「三菱レーヨン(株)製」を成形温度200
度、成形圧力50kg/cm2 の条件下で圧縮成型した
後に30度まで加圧下で急冷して厚さ200μmの樹脂
シートを取りだした。その結果、全体の厚さが200μ
mの透明な再帰反射要素層1-1を得た。また、全体厚さ
は特に限定されないが、数十μmから1.3mm程度の
比較的薄いシートを用いると、屈曲性と適度な剛性があ
り、組立作業中のハンドリングに有利である。 <材料>材料としては透明であればよく、上記材料に限
定されることはない。例えば、メタクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、AS
樹脂、アリル樹脂、セルロース系樹脂等が基材として用
いられる。 <作用>上記のようにして作製された再帰反射要素層1
-1を画像表示装置の前面に配置したときの外光5の進路
を図8に示す。図8において、5は不図示の光源からの
光でオペレーターの後方からやってくる。従来例では点
線のようなルートを通り、オペレーターの眼に入ってし
まっていたが、本実施例では、大部分の光は5-1のルー
トで光源に戻っていってしまう。その結果、オペレータ
ーの眼に入ってくるのは、再帰反射要素層1-1の裏面反
射5-2、フェースプレート表面反射5-3、フエースプレ
ート裏面反射5-4、メタルバック反射5-5等である。こ
れらは、種類は多いが、強度は戻り光5-1に比べれば十
分弱いので、外光の影響は大幅に緩和される。ちなみ
に、あらゆるオフィス環境下で本発明者が測定した所、
外光による輝度は従来の4.0fLに対し、平均で1.
5fLであった。これを画像表示装置の輝度150fL
と比較するとコントラストで100:1であり、十二分
に効果があることが確認された。
型を作製し、次いで電鋳法で再度反転して材質がニッケ
ルのコーナーキューブ成形用金型8-2を作製した。図7
に示すように、この成形用金型8-2を成形枠10-1の中
にいれ、上から蓋10-2で密封し、その中にアクリル樹
脂シート「三菱レーヨン(株)製」を成形温度200
度、成形圧力50kg/cm2 の条件下で圧縮成型した
後に30度まで加圧下で急冷して厚さ200μmの樹脂
シートを取りだした。その結果、全体の厚さが200μ
mの透明な再帰反射要素層1-1を得た。また、全体厚さ
は特に限定されないが、数十μmから1.3mm程度の
比較的薄いシートを用いると、屈曲性と適度な剛性があ
り、組立作業中のハンドリングに有利である。 <材料>材料としては透明であればよく、上記材料に限
定されることはない。例えば、メタクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、AS
樹脂、アリル樹脂、セルロース系樹脂等が基材として用
いられる。 <作用>上記のようにして作製された再帰反射要素層1
-1を画像表示装置の前面に配置したときの外光5の進路
を図8に示す。図8において、5は不図示の光源からの
光でオペレーターの後方からやってくる。従来例では点
線のようなルートを通り、オペレーターの眼に入ってし
まっていたが、本実施例では、大部分の光は5-1のルー
トで光源に戻っていってしまう。その結果、オペレータ
ーの眼に入ってくるのは、再帰反射要素層1-1の裏面反
射5-2、フェースプレート表面反射5-3、フエースプレ
ート裏面反射5-4、メタルバック反射5-5等である。こ
れらは、種類は多いが、強度は戻り光5-1に比べれば十
分弱いので、外光の影響は大幅に緩和される。ちなみ
に、あらゆるオフィス環境下で本発明者が測定した所、
外光による輝度は従来の4.0fLに対し、平均で1.
5fLであった。これを画像表示装置の輝度150fL
と比較するとコントラストで100:1であり、十二分
に効果があることが確認された。
【0037】次に、従来の艶消しでは、十分な解像度の
画像を得た場合には、外光の正反射によってフィルター
面上に明瞭な反射像が生じていたので、本実施例では再
帰反射要素の単位面積Ss、画像表示装置の一画素の面
積Psを振って、最適条件を求めた。実施例では、コー
ナーキューブの一辺を50,100,150,200,
300μmとした時のそれぞれについて、画像表示装置
のPsを150×400μm2、300×400μm2、
300×900μm2の場合で確認した。表1にSs/
Psの一覧を示す。
画像を得た場合には、外光の正反射によってフィルター
面上に明瞭な反射像が生じていたので、本実施例では再
帰反射要素の単位面積Ss、画像表示装置の一画素の面
積Psを振って、最適条件を求めた。実施例では、コー
ナーキューブの一辺を50,100,150,200,
300μmとした時のそれぞれについて、画像表示装置
のPsを150×400μm2、300×400μm2、
300×900μm2の場合で確認した。表1にSs/
Psの一覧を示す。
【0038】
【表1】 次いで、表1の条件において、画像表示装置(10イン
チ相当)の幅をw、高さをhとした時に、3×hの距離
から視力1.0の人が画像表示装置を見て、再帰反射要
素層の影響が目視で確認できない場合を○、確認できる
場合を×としてまとめた結果を表2に示す。
チ相当)の幅をw、高さをhとした時に、3×hの距離
から視力1.0の人が画像表示装置を見て、再帰反射要
素層の影響が目視で確認できない場合を○、確認できる
場合を×としてまとめた結果を表2に示す。
【0039】
【表2】 この結果、再帰反射要素と一画素の面積比Ss/Psが
0.3以下であれば再帰反射要素層が表示画像をにじま
せないことが明らかになった。また、映り込みに対して
は、再帰反射要素の単位面積Ssを小さくしていって
も、艶消しと異なり、効果が低下することはなかった。
表3の評価は、複数の上記測定者が、映り込みが問題に
成るかならないかで判断した。
0.3以下であれば再帰反射要素層が表示画像をにじま
せないことが明らかになった。また、映り込みに対して
は、再帰反射要素の単位面積Ssを小さくしていって
も、艶消しと異なり、効果が低下することはなかった。
表3の評価は、複数の上記測定者が、映り込みが問題に
成るかならないかで判断した。
【0040】
【表3】 なお、上記表1〜表3において、E+は10の何乗であ
るかを示す。例えば、6.00E+04は6.00×1
04を示す。
るかを示す。例えば、6.00E+04は6.00×1
04を示す。
【0041】図9は再帰反射要素層1-1の表面に保護層
1-7を配置した例である。再帰反射要素層1-1の表面は
外力によって損傷したり、凹部に塵埃が入りやすい。そ
れを防止するために、上記保護層1-7を配置するのであ
る。材料としては架橋ポリマー、シリカ、アルミナ、ア
ンチモン等の微粒子を含む硬化樹脂等公知のいかなる物
であってもよい。図において5-6は保護層1-7で反射さ
れる光を示しているが、再帰反射層で反射される光5-1
が大きいため、十分なコントラストが得られた。その
上、上記の保護効果があるため画像表示装置の長期にわ
たるコントラスト性能維持に効果が認められた。
1-7を配置した例である。再帰反射要素層1-1の表面は
外力によって損傷したり、凹部に塵埃が入りやすい。そ
れを防止するために、上記保護層1-7を配置するのであ
る。材料としては架橋ポリマー、シリカ、アルミナ、ア
ンチモン等の微粒子を含む硬化樹脂等公知のいかなる物
であってもよい。図において5-6は保護層1-7で反射さ
れる光を示しているが、再帰反射層で反射される光5-1
が大きいため、十分なコントラストが得られた。その
上、上記の保護効果があるため画像表示装置の長期にわ
たるコントラスト性能維持に効果が認められた。
【0042】図10に示すように、オスメスの電鋳型で
アクリル樹脂を剪むようにして作製した再帰反射要素層
1-1を画像表示装置の前面に配置する方法もある。この
場合は、再帰反射要素層1-1の裏面反射5-2も再帰反射
に成るので、光源の映り込み防止に更なる効果がある。
また1-5は空気層であるが、再帰反射要素層1-1を固定
するために、紫外線硬化樹脂、エポキシ樹脂、その他の
透明接着樹脂、または粘着樹脂を1-5として用いてもよ
い。
アクリル樹脂を剪むようにして作製した再帰反射要素層
1-1を画像表示装置の前面に配置する方法もある。この
場合は、再帰反射要素層1-1の裏面反射5-2も再帰反射
に成るので、光源の映り込み防止に更なる効果がある。
また1-5は空気層であるが、再帰反射要素層1-1を固定
するために、紫外線硬化樹脂、エポキシ樹脂、その他の
透明接着樹脂、または粘着樹脂を1-5として用いてもよ
い。
【0043】(実施例2)図11はその他の実施例を示
す図である。図11に示すように、先端角度が70.5
29度のダイヤモンド又は超合金バイト9を常に鉛直線
から22.5度傾けた状態で、高純度アルミニウム板8
-1の上に交差角がそれぞれ60度で断面形状がVの字の
溝を繰り返しのパターンで三方向からフライカッティン
グ法によってけがく。そしてアルミニウム板8-1上に山
の高さが50μmの三角錐を形成する。この母型を用い
て電鋳法により反転された型を作製し、次いで電鋳法で
再度反転して材質がニッケルのコーナーキューブ成形用
金型を作製した。この成形用金型を実施例1と同様に、
成形枠10-1の中にいれ、上から蓋10-2で密封し、そ
の中にアクリル樹脂シート「三菱レーヨン(株)製」を
成形温度200度、成形圧力50kg/cm2 の条件下
で圧縮成型した後に30度まで加圧下で急冷して厚さ2
00μmの樹脂シートを取りだした。このようにしてコ
ーナーキューブの高さが50μmで細密状に配置され、
全体の厚さが200μmの透明な再帰反射要素層を得
た。図12はこうして作られた再帰反射要素層1-1-2を
示す。
す図である。図11に示すように、先端角度が70.5
29度のダイヤモンド又は超合金バイト9を常に鉛直線
から22.5度傾けた状態で、高純度アルミニウム板8
-1の上に交差角がそれぞれ60度で断面形状がVの字の
溝を繰り返しのパターンで三方向からフライカッティン
グ法によってけがく。そしてアルミニウム板8-1上に山
の高さが50μmの三角錐を形成する。この母型を用い
て電鋳法により反転された型を作製し、次いで電鋳法で
再度反転して材質がニッケルのコーナーキューブ成形用
金型を作製した。この成形用金型を実施例1と同様に、
成形枠10-1の中にいれ、上から蓋10-2で密封し、そ
の中にアクリル樹脂シート「三菱レーヨン(株)製」を
成形温度200度、成形圧力50kg/cm2 の条件下
で圧縮成型した後に30度まで加圧下で急冷して厚さ2
00μmの樹脂シートを取りだした。このようにしてコ
ーナーキューブの高さが50μmで細密状に配置され、
全体の厚さが200μmの透明な再帰反射要素層を得
た。図12はこうして作られた再帰反射要素層1-1-2を
示す。
【0044】コーナーキューブはその特性から、光学軸
(コーナーキューブを構成する互いに90度の角度をも
つ3個の面から等しい距離にある軸)と入射光線とのな
す角度が小さければ小さいほど、良好な再帰反射性を有
し、この角度が大きくなればなるほど再帰反射率は低下
するという特性を持っている。また一般に、画像表示装
置に映り込む蛍光燈等の光源はオペレーターの後方上部
に位置している。そこで、光軸をずらして作製した再帰
反射要素層1-1-2の光軸が後方上部をむくように配置す
れば、光源からの光がより効率的に光源の方向へ戻って
いくので、映り込みをより削減することが可能となっ
た。
(コーナーキューブを構成する互いに90度の角度をも
つ3個の面から等しい距離にある軸)と入射光線とのな
す角度が小さければ小さいほど、良好な再帰反射性を有
し、この角度が大きくなればなるほど再帰反射率は低下
するという特性を持っている。また一般に、画像表示装
置に映り込む蛍光燈等の光源はオペレーターの後方上部
に位置している。そこで、光軸をずらして作製した再帰
反射要素層1-1-2の光軸が後方上部をむくように配置す
れば、光源からの光がより効率的に光源の方向へ戻って
いくので、映り込みをより削減することが可能となっ
た。
【0045】(実施例3)図13は再帰反射要素層のそ
の他の実施例として、コーナーキューブの代わりに、ガ
ラスビーズを使った場合を示す。1-8は直径50μm程
度のガラスビーズであり、フェースプレート1-2の表面
に透明な溶剤揮発型のアクリル樹脂1-9で保持されてい
る。ガラスビーズ1-8は真球状で一層かつ密に配置され
ており、おおむね半球部分をアクリル樹脂に埋め込んだ
状態になっている。Ssは再帰反射要素の面積を示して
いる。このような構成になっているので、光源13から
の光5は図に示すような軌跡を描いて、光源に戻ってい
くのである。その結果、光源13の映り込みは防止され
るのである。
の他の実施例として、コーナーキューブの代わりに、ガ
ラスビーズを使った場合を示す。1-8は直径50μm程
度のガラスビーズであり、フェースプレート1-2の表面
に透明な溶剤揮発型のアクリル樹脂1-9で保持されてい
る。ガラスビーズ1-8は真球状で一層かつ密に配置され
ており、おおむね半球部分をアクリル樹脂に埋め込んだ
状態になっている。Ssは再帰反射要素の面積を示して
いる。このような構成になっているので、光源13から
の光5は図に示すような軌跡を描いて、光源に戻ってい
くのである。その結果、光源13の映り込みは防止され
るのである。
【0046】図14(a)〜図14(e)、および図1
5(f)〜図15(h)を用いて、ガラスビース再帰反
射要素層の製造方法を説明する。
5(f)〜図15(h)を用いて、ガラスビース再帰反
射要素層の製造方法を説明する。
【0047】図14(a)において、1-8は粒径約50
μmの真球なガラスビーズ、11はガラスビーズ部分散
装置、11-3はステンレスでできた500mm×900
mm×100mmのサイズのガラスビーズ分散箱、11
-2は高さが10mmのスペーサ、11-4はガラスビーズ
溜りである。11-1はガラスビーズを均一に分散させる
ためのバイブレーターである。
μmの真球なガラスビーズ、11はガラスビーズ部分散
装置、11-3はステンレスでできた500mm×900
mm×100mmのサイズのガラスビーズ分散箱、11
-2は高さが10mmのスペーサ、11-4はガラスビーズ
溜りである。11-1はガラスビーズを均一に分散させる
ためのバイブレーターである。
【0048】この装置において、バイブレーター11-1
をオンさせながらガラスビーズ1-8をガラスビーズ分散
箱11-3に供給すると、ガラスビーズ上流から下流に向
けて徐々にガラスビーズ分散箱の中に広がっていく。
をオンさせながらガラスビーズ1-8をガラスビーズ分散
箱11-3に供給すると、ガラスビーズ上流から下流に向
けて徐々にガラスビーズ分散箱の中に広がっていく。
【0049】ガラスビーズを十分に分散させ、余分なガ
ラスビーズを溝11-4で受け止める頃にはガラスビーズ
分散箱の斜面には、一層で充分密になったガラスビーズ
層ができている(図14(b))。
ラスビーズを溝11-4で受け止める頃にはガラスビーズ
分散箱の斜面には、一層で充分密になったガラスビーズ
層ができている(図14(b))。
【0050】次いで、この状態になった所でバイブレー
タ11-1を止める。図中12はガラスビーズ仮固定具で
あり、12-1は取っ手、12-2は400mm×800m
m×5mmのアルミ板でその表面に、厚さ100μmの
シート状の粘着ウレタン12-3が粘着してある。これを
静かにガラスビーズ分散箱11-3の斜面に降ろす(図1
4(c))。ガラスビーズが、粘着ウレタン12-3にし
っかりと仮固定されたら(図14(d))、ガラスビー
ズ仮固定具12を引き上げ(図14(e))、これを揮
発性のアクリル樹脂1-9が硬化する前に、それを塗布し
たフェースプレート上にゆっくりと降ろす(図15
(f))。
タ11-1を止める。図中12はガラスビーズ仮固定具で
あり、12-1は取っ手、12-2は400mm×800m
m×5mmのアルミ板でその表面に、厚さ100μmの
シート状の粘着ウレタン12-3が粘着してある。これを
静かにガラスビーズ分散箱11-3の斜面に降ろす(図1
4(c))。ガラスビーズが、粘着ウレタン12-3にし
っかりと仮固定されたら(図14(d))、ガラスビー
ズ仮固定具12を引き上げ(図14(e))、これを揮
発性のアクリル樹脂1-9が硬化する前に、それを塗布し
たフェースプレート上にゆっくりと降ろす(図15
(f))。
【0051】さらに、このままの状態でアクリル樹脂1
-9が硬化するのを待つ(図15(g))。次いで、アク
リル樹脂が十分に硬化した時点で、ガラスビーズ仮固定
具12をひきあげる。すると粘着ウレタン面に仮固定さ
れてたガラスビーズがアクリル樹脂におおむね半球部分
を埋め込んだ状態で定着される(図15(h))。なお
ガラスビーズを粘着ウレタン面から剥離する際に、両者
の間に水を注入しながら行うと粘着ウレタンの粘着力が
失われ剥離しやすくなる。
-9が硬化するのを待つ(図15(g))。次いで、アク
リル樹脂が十分に硬化した時点で、ガラスビーズ仮固定
具12をひきあげる。すると粘着ウレタン面に仮固定さ
れてたガラスビーズがアクリル樹脂におおむね半球部分
を埋め込んだ状態で定着される(図15(h))。なお
ガラスビーズを粘着ウレタン面から剥離する際に、両者
の間に水を注入しながら行うと粘着ウレタンの粘着力が
失われ剥離しやすくなる。
【0052】ガラスビーズ再帰反射要素層を用いた場合
には、上記の効果のほかにも、コーナーキューブに比べ
て製造が簡単であるという利点もある。
には、上記の効果のほかにも、コーナーキューブに比べ
て製造が簡単であるという利点もある。
【0053】図16はガラスビーズ再帰反射要素層の表
面に保護層1-10を配置した例である。ガラスビーズ1-
8は外力によって損傷したり、抜け落ちたり、凹部に塵
埃が入りやすい。それを防止するために、上記保護層1
-10を配置するのである。材料としては架橋ポリマー、
シリカ、アルミナ、アンチモン等の微粒子を含む硬化樹
脂等公知のいかなる物であってもよい。外光は保護層1
-10である程度反射されるが、ガラスビーズ1-8で反射
される光が大きいため、十分なコントラストが得られ
た。その上、上記の保護効果があるため画像表示装置の
長期にわたるコントラスト性能維持に効果が認められ
た。
面に保護層1-10を配置した例である。ガラスビーズ1-
8は外力によって損傷したり、抜け落ちたり、凹部に塵
埃が入りやすい。それを防止するために、上記保護層1
-10を配置するのである。材料としては架橋ポリマー、
シリカ、アルミナ、アンチモン等の微粒子を含む硬化樹
脂等公知のいかなる物であってもよい。外光は保護層1
-10である程度反射されるが、ガラスビーズ1-8で反射
される光が大きいため、十分なコントラストが得られ
た。その上、上記の保護効果があるため画像表示装置の
長期にわたるコントラスト性能維持に効果が認められ
た。
【0054】(実施例4)図17は、頂角が90度の円
錐を多数穿った再帰反射要素層を配置した画像表示装置
の斜視図である。図中1-11は再帰反射要素層である。
円錐の高さは50μm、直径は100μmである。この
ような再帰反射要素層は、コーナーキューブを穿った場
合に比べ再帰反射効率は劣るが、型の製造がエッチング
等でも作製可能なので、より簡単に安価にできるという
メリットがある。
錐を多数穿った再帰反射要素層を配置した画像表示装置
の斜視図である。図中1-11は再帰反射要素層である。
円錐の高さは50μm、直径は100μmである。この
ような再帰反射要素層は、コーナーキューブを穿った場
合に比べ再帰反射効率は劣るが、型の製造がエッチング
等でも作製可能なので、より簡単に安価にできるという
メリットがある。
【0055】図18は、画像表示装置において、はしご
型配置の電子源の一例を示す模式図である。図18にお
いて、2は電子源基板、5は電子放出素子である。6-3
のDOx1〜DOx10は、電子放出素子5を接続するための
共通配線である。電子放出素子5は、基板2上に、X方
向に並列に複数個配されている(これを素子行と呼
ぶ)。この素子行が複数個配されて、電子源を構成して
いる。各素子行の共通配線間に駆動電圧を印加すること
で、各素子行を独立に駆動させることができる。即ち、
電子ビームを放出させたい素子行には、電子放出しきい
値以上の電圧を、電子ビームを放出しない素子行には、
電子放出しきい値未満の電圧を印加する。各素子行間の
共通配線DOx2〜DOx9は、隣接する配線、例えばDOx
2,DOx3を同一配線とすることもできる。
型配置の電子源の一例を示す模式図である。図18にお
いて、2は電子源基板、5は電子放出素子である。6-3
のDOx1〜DOx10は、電子放出素子5を接続するための
共通配線である。電子放出素子5は、基板2上に、X方
向に並列に複数個配されている(これを素子行と呼
ぶ)。この素子行が複数個配されて、電子源を構成して
いる。各素子行の共通配線間に駆動電圧を印加すること
で、各素子行を独立に駆動させることができる。即ち、
電子ビームを放出させたい素子行には、電子放出しきい
値以上の電圧を、電子ビームを放出しない素子行には、
電子放出しきい値未満の電圧を印加する。各素子行間の
共通配線DOx2〜DOx9は、隣接する配線、例えばDOx
2,DOx3を同一配線とすることもできる。
【0056】図17は、はしご型配置の電子源を備えた
画像表示装置におけるパネル構造を示しており、図17
において、13-1はグリッド電極、13-2は電子が通過
するため開口、6-3はDOx1〜DOx2、・・・、DOxmより
なる容器外端子である。6-4は、グリッド電極13-1と
接続されたG1、G2、・・・、Gnからなる容器外端子であ
る。図18においては、図17に示した部位と同じ部位
には、これらの図に付したのと同一の符号を付してい
る。
画像表示装置におけるパネル構造を示しており、図17
において、13-1はグリッド電極、13-2は電子が通過
するため開口、6-3はDOx1〜DOx2、・・・、DOxmより
なる容器外端子である。6-4は、グリッド電極13-1と
接続されたG1、G2、・・・、Gnからなる容器外端子であ
る。図18においては、図17に示した部位と同じ部位
には、これらの図に付したのと同一の符号を付してい
る。
【0057】図17において、基板2とフェースプレー
ト1の間には、グリッド電極13-1が設けられている。
グリッド電極13-1は、表面伝導型放出素子から放出さ
れた電子ビームを変調するためのものであり、はしご型
配置の素子行と直交して設けられたストライプ状の電極
に電子ビームを通過させるため、各素子に対応して1個
ずつ円形の開口13-2が設けられている。グリッドの形
状や設置位置は図17に示したものに限定されるもので
はない。例えば、開口としてメッシュ状に多数の通過口
を設けることもでき、グリッドを表面伝導型放出素子の
周囲や近傍に設けることもできる。容器外端子6-3およ
びグリッド容器外端子6-4は、不図示の制御回路と電気
的に接続されている。
ト1の間には、グリッド電極13-1が設けられている。
グリッド電極13-1は、表面伝導型放出素子から放出さ
れた電子ビームを変調するためのものであり、はしご型
配置の素子行と直交して設けられたストライプ状の電極
に電子ビームを通過させるため、各素子に対応して1個
ずつ円形の開口13-2が設けられている。グリッドの形
状や設置位置は図17に示したものに限定されるもので
はない。例えば、開口としてメッシュ状に多数の通過口
を設けることもでき、グリッドを表面伝導型放出素子の
周囲や近傍に設けることもできる。容器外端子6-3およ
びグリッド容器外端子6-4は、不図示の制御回路と電気
的に接続されている。
【0058】本例の画像表示装置では、素子行を1列ず
つ順次駆動(走査)していくのと同期してグリッド電極
列に画像1ライン分の変調信号を同時に印加する。これ
により、各電子ビームの蛍光体への照射を制御し、画像
を1ラインずつ表示することができる。
つ順次駆動(走査)していくのと同期してグリッド電極
列に画像1ライン分の変調信号を同時に印加する。これ
により、各電子ビームの蛍光体への照射を制御し、画像
を1ラインずつ表示することができる。
【0059】(実施例5)実施例1〜4では、ガラス基
板1-2上に再帰反射部材となる再帰反射要素層を形成し
たが、ガラス基板(表示側基板)の表面に、実施例1〜
4で形成したような形状の再帰反射要素を直接形成して
もよい。この場合はガラス基板が再帰反射部材を兼ねる
ことになる。成形型に溶融したガラスを流しこむ、ガラ
ス表面をエッチングすること等で、ガラス基板表面に任
意の形状の複数の再帰反射要素を形成することができ
る。
板1-2上に再帰反射部材となる再帰反射要素層を形成し
たが、ガラス基板(表示側基板)の表面に、実施例1〜
4で形成したような形状の再帰反射要素を直接形成して
もよい。この場合はガラス基板が再帰反射部材を兼ねる
ことになる。成形型に溶融したガラスを流しこむ、ガラ
ス表面をエッチングすること等で、ガラス基板表面に任
意の形状の複数の再帰反射要素を形成することができ
る。
【0060】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による再帰
反射部材を用いることで以下のような効果がある。
反射部材を用いることで以下のような効果がある。
【0061】画像表示装置に外光の映り込みが無くな
り、コントラストが向上しオペレーターの目の疲労が軽
減されると同時に、これを用いた画像表示装置の性能向
上にもつながる。さらに画像表示装置の正面にはオペレ
ーターが居るので、真後ろからの光はオペレーターに遮
られ、画像表示装置に入射することはなく、それ以外の
方向からの光は再帰反射部材で反射されオペレーターの
眼に入ることがなくなる。
り、コントラストが向上しオペレーターの目の疲労が軽
減されると同時に、これを用いた画像表示装置の性能向
上にもつながる。さらに画像表示装置の正面にはオペレ
ーターが居るので、真後ろからの光はオペレーターに遮
られ、画像表示装置に入射することはなく、それ以外の
方向からの光は再帰反射部材で反射されオペレーターの
眼に入ることがなくなる。
【0062】また、凹凸を持った表面の艶消し面は、外
光による正反射を抑える効果を向上させればさせるほ
ど、透過像の解像度が低下してしまうが、再帰反射部材
を用いた場合、十分な防眩効果を得るために、表示画像
の解像度を犠牲にすることがなくなる。
光による正反射を抑える効果を向上させればさせるほ
ど、透過像の解像度が低下してしまうが、再帰反射部材
を用いた場合、十分な防眩効果を得るために、表示画像
の解像度を犠牲にすることがなくなる。
【0063】さらに、埃、傷防止のために、再帰反射部
材の表面に保護層を配置すれば、画像表示装置の長期に
わたるコントラスト性能維持に効果がある。
材の表面に保護層を配置すれば、画像表示装置の長期に
わたるコントラスト性能維持に効果がある。
【0064】また、光軸をずらして作製した再帰反射部
材の光軸が光源を向くように配置すれば、光源からの光
がより効率的に光源の方向へ戻っていくので、映り込み
をより削減できる効果がある。
材の光軸が光源を向くように配置すれば、光源からの光
がより効率的に光源の方向へ戻っていくので、映り込み
をより削減できる効果がある。
【0065】その上、ガラスビーズ再帰反射部材を用い
た場合には、上記の効果のほかにも、コーナーキューブ
に比べて製造が簡単であるという利点もある。
た場合には、上記の効果のほかにも、コーナーキューブ
に比べて製造が簡単であるという利点もある。
【0066】また、円錐形の再帰反射要素からなる再帰
反射部材は、コーナーキューブを穿った場合に比べ再帰
反射効率は劣るが、型の製造がエッチング等でも作製可
能なので、より簡単に安価にできるというメリットがあ
る。
反射部材は、コーナーキューブを穿った場合に比べ再帰
反射効率は劣るが、型の製造がエッチング等でも作製可
能なので、より簡単に安価にできるというメリットがあ
る。
【図1】本発明により、画像表示装置の前面に再帰反射
要素層を設置した様子を示す説明図である。
要素層を設置した様子を示す説明図である。
【図2】本発明の画像表示装置の実施例1の構成を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図3】図2のA−A′線断面を示す断面図である。
【図4】上記実施例1の画像表示装置に用いる蛍光体を
示す図である。
示す図である。
【図5】上記実施例1のコーナーキューブの作成方法を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図6】上記実施例1のコーナーキューブの構成を示す
平面図である。
平面図である。
【図7】上記実施例1のコーナーキューブの作成方法を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図8】上記実施例1における、再帰反射要素層を画像
表示装置の前面に配置したときの外光の進路を示す図で
ある。
表示装置の前面に配置したときの外光の進路を示す図で
ある。
【図9】上記実施例1の他の実施形態における、再帰反
射要素層を画像表示装置の前面に配置したときの外光の
進路を示す図である。
射要素層を画像表示装置の前面に配置したときの外光の
進路を示す図である。
【図10】上記実施例1の他の実施形態における、再帰
反射要素層を画像表示装置の前面に配置したときの外光
の進路を示す図である。
反射要素層を画像表示装置の前面に配置したときの外光
の進路を示す図である。
【図11】本発明の実施例2のコーナーキューブの作成
方法を示す断面図であり、光軸をずらした再帰反射要素
層を示すものである。
方法を示す断面図であり、光軸をずらした再帰反射要素
層を示すものである。
【図12】上記実施例2の光軸をずらした再帰反射要素
層を示す平面図である。
層を示す平面図である。
【図13】本発明の画像表示装置の実施例3のガラスビ
ーズ再帰反射要素層を有するフェイスプレートを示す図
である。
ーズ再帰反射要素層を有するフェイスプレートを示す図
である。
【図14】上記ガラスビーズ再帰反射要素層の作成方法
を示す図である。
を示す図である。
【図15】上記ガラスビーズ再帰反射要素層の作成方法
を示す図である。
を示す図である。
【図16】本発明の画像表示装置の実施例3の他の実施
形態のガラスビーズ再帰反射要素層を有するフェイスプ
レートを示す図である。
形態のガラスビーズ再帰反射要素層を有するフェイスプ
レートを示す図である。
【図17】本発明の画像表示装置の実施例4の梯子型電
子源を有する画像表示装置を示す図である。
子源を有する画像表示装置を示す図である。
【図18】本発明の実施例4の梯子型電子源を示す図で
ある。
ある。
【図19】従来の平面型電子線画像表示装置の陽極基板
と外枠とを示す斜視図である。
と外枠とを示す斜視図である。
【図20】従来の平面型電子線画像表示装置の電子源基
板とスペーサとを示す斜視図である。
板とスペーサとを示す斜視図である。
【図21】図20におけるA−A′断面図である。
【図22】画像表示装置への映り込みが生ずる場合を示
す図である。
す図である。
1 フェースプレート 2 リヤープレート 3 スペーサ 4 外枠 5 電子放出素子 6 配線 7 眼 8 型 9 バイト 10 型枠 11 ガラスビーズ分散装置 12 ガラスビーズ仮固定具 13 光源
Claims (9)
- 【請求項1】 画像表示装置の表示側に入射した光を再
帰反射させる再帰反射部材であって、 少なくとも片方の面に複数の再帰反射要素を持ち、該再
帰反射要素の単位面積をSs、画像表示装置の一画素の
面積をPsしたときに、 Ss/Ps<0.3 の条件を満たすようにしたことを特徴とする再帰反射部
材。 - 【請求項2】 請求項1に記載の再帰反射部材におい
て、前記再帰反射部材は画像表示装置の表示面上に配置
されていることを特徴とする再帰反射部材。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の再帰反
射部材において、前記再帰反射部材は両面に複数の再帰
反射要素が設けられていることを特徴とする再帰反射部
材。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかの請求項に記載
の再帰反射部材において、前記再帰反射部材上に保護層
が設けられていることを特徴とする再帰反射部材。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかの請求項に記載
の再帰反射部材において、再帰反射部材の光学軸を画像
表示装置に入射する光の方向に向けたことを特徴とする
再帰反射部材。 - 【請求項6】 請求項1、4、5のいずれかの請求項に
記載の再帰反射部材は表示側基板である画像表示装置。 - 【請求項7】 複数の冷陰極型電子放出素子を形成した
第1の基板と、該冷陰極型電子放出素子から放出される
電子線の照射により画像形成する画像形成部材を有する
第2の基板と、該第1の基板と該第2の基板との間に設
けられたスペーサーと、を備える画像表示装置におい
て、 前記第2の基板の表示側の面上に、請求項1、3、4、
5のいずれかの請求項に記載の再帰反射部材を配置した
ことを特徴とする画像表示装置。 - 【請求項8】 複数の冷陰極型電子放出素子を形成した
第1の基板と、該冷陰極型電子放出素子から放出される
電子線の照射により画像形成する画像形成部材を有する
第2の基板と、該第1の基板と該第2の基板との間に設
けられたスペーサーと、を備える画像表示装置におい
て、 請求項1、4、5のいずれかの請求項に記載の再帰反射
部材は前記第2の基板であることを特徴とする画像表示
装置。 - 【請求項9】 請求項7または請求項8に記載の表示装
置において、前記冷陰極型電子放出素子が表面伝導型電
子放出素子であることを特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12252998A JPH11316552A (ja) | 1998-05-01 | 1998-05-01 | 再帰反射部材及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12252998A JPH11316552A (ja) | 1998-05-01 | 1998-05-01 | 再帰反射部材及び画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11316552A true JPH11316552A (ja) | 1999-11-16 |
Family
ID=14838116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12252998A Pending JPH11316552A (ja) | 1998-05-01 | 1998-05-01 | 再帰反射部材及び画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11316552A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003109487A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Canon Inc | 電子励起発光体および画像表示装置 |
JP2007514975A (ja) * | 2003-12-17 | 2007-06-07 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | ディスプレイ装置 |
JP2008058682A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Optrex Corp | 表示装置 |
-
1998
- 1998-05-01 JP JP12252998A patent/JPH11316552A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003109487A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-11 | Canon Inc | 電子励起発光体および画像表示装置 |
JP2007514975A (ja) * | 2003-12-17 | 2007-06-07 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | ディスプレイ装置 |
JP2008058682A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Optrex Corp | 表示装置 |
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