JPH11315049A - 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法 - Google Patents

3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法

Info

Publication number
JPH11315049A
JPH11315049A JP13429898A JP13429898A JPH11315049A JP H11315049 A JPH11315049 A JP H11315049A JP 13429898 A JP13429898 A JP 13429898A JP 13429898 A JP13429898 A JP 13429898A JP H11315049 A JPH11315049 A JP H11315049A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
palladium
tellurium
catalyst
solid catalyst
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13429898A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4014287B2 (ja
Inventor
Mitsuji Ono
満司 小野
Yoshiyuki Tsunematsu
義之 恒松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP13429898A priority Critical patent/JP4014287B2/ja
Publication of JPH11315049A publication Critical patent/JPH11315049A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4014287B2 publication Critical patent/JP4014287B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機工業化学品の原料として有用な3−アシ
ロキシシクロヘキセンを、長期間安定的に、かつ固体触
媒成分の液中溶出が大幅に抑制でき、触媒成分の分離が
容易となる簡便な方法で製造する。 【解決手段】 パラジウムとテルルを活性成分として担
持する固体触媒の存在下で、シクロヘキセンとカルボン
酸及び分子状酸素とを液相下で反応させて3−アシロキ
シシクロヘキセンを製造する際に、固体触媒におけるテ
ルルの担持量が、パラジウム1グラム原子に対して0.
05〜0.3グラム原子であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、パラジウムとテル
ルを担持させた固体触媒の存在下、シクロヘキセンとカ
ルボン酸及び分子状酸素とを反応させて3−アシロキシ
シクロヘキセンを製造する方法に関するものである。更
に詳しくは、液相下にテルルの担持量が、パラジウム1
グラム原子に対して0.05〜0.3グラム原子である
固体触媒の存在下、シクロヘキセンとカルボン酸及び分
子状酸素とを反応させて3−アシロキシシクロヘキセン
を製造する方法に関するものである。3−アシロキシシ
クロヘキセンは、香料、医薬、農薬など有機工業化学の
原料として有用な化合物である。さらに通常の方法によ
り加水分解すると3−ヒドロキシシクロヘキセンが得ら
れ、これも有機合成反応の原料として極めて有用な化合
物である。
【0002】
【従来の技術】従来、シクロヘキセンとカルボン酸及び
分子状酸素とを液相下で反応させて3−アシロキシシク
ロヘキセンを製造する方法としては、パラジウム化合
物、塩化リチウム及び硝酸リチウムからなる触媒の存在
下に反応させる方法(特開昭51−8245号公報に記
載の方法)、酢酸パラジウム、p−キノン及びヘテロ
ポリ酸から成る触媒の存在下に反応させる方法(J.Mo
l. Catal.A:Chem.,114,113−1
22(1996))、酢酸パラジウム、p−キノン及
び遷移金属錯体から成る触媒の存在下に反応させる方法
(J.Am.Chem.Soc.,112(13),5
160−66(1990))などが開示されている。
【0003】しかしながら、上記、及びの方法で
は均一系触媒で反応を行うこと、同時に目的生成物であ
る3−アシロキシシクロヘキセンは、シクロヘキセン及
びカルボン酸に対して高い沸点を有することにより反応
後の触媒成分の分離回収、生成物の分離精製工程が煩雑
になる等の問題があった。さらに、シクロアルケンとカ
ルボン酸及び分子状酸素とを担持型パラジウム成分及び
含窒素酸化物から成る触媒の存在下に反応させて3−ア
シロキシシクロオレフィンを製造する方法(特開平3−
275648号公報に記載の方法)が開示されている。
この方法においては、反応系における触媒の状態は、均
一であっても、不均一であってもよいことが記載されて
いるが、本発明者らの検討によれば、シクロヘキセンと
酢酸を用いた反応系では、パラジウム成分の液中溶出が
著しく、実質上は上記、及びの均一系触媒の方法
と同様に触媒成分の分離回収の為の煩雑な工程が必要と
なることが分かった。
【0004】一方、C3 〜C6 のオレフィンを低級脂肪
酸の存在下にパラジウム、白金のうちの少なくとも一つ
とテルルまたはビスマスを含有する固体触媒を使用して
酸素により酸化してカルボン酸アルケニルエステルを製
造する方法(特開昭53−90212号公報に記載の方
法)が開示されている。この方法によれば、不均一系触
媒を用いて安定な触媒活性を保持できるとの記載がある
が、安定な触媒活性の保持を証明する記載は無く、さら
に液相系で反応させた際の触媒上の担持金属成分の溶出
挙動に関する例示はなされていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上のごとく、シクロ
ヘキセンとカルボン酸及び分子状酸素とを液相下で反応
させて3−アシロキシシクロヘキセンを製造するに際
し、反応液と触媒成分の分離が容易となる簡便な製造方
法は知られておらず、工業的には担持金属成分の液中溶
出を防止し、かつ3−アシロキシシクロヘキセンを安定
的に製造できる固体触媒を用いた製造方法が望まれると
ころであった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意、検討を重ねた結果、シクロヘキセン
とカルボン酸及び分子状酸素とを液相下で反応させる際
に、パラジウム及びパラジウムに対して限定された比率
範囲のテルルを担持した固体触媒を用いることで、担持
金属の液中溶出を防止し、3−アシロキシシクロヘキセ
ンを安定的に、かつ簡便に製造できることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
【0007】即ち、本発明はパラジウム及びテルルを活
性成分として担持する固体触媒の存在下、シクロヘキセ
ンとカルボン酸及び分子状酸素を液相下で反応させて3
−アシロキシシクロヘキセンを製造する方法において、
固体触媒におけるテルルの担持量が、パラジウム1グラ
ム原子に対して0.05〜0.3グラム原子であること
を特徴とする3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法
である。本発明によれば、通常60%以上、好適には7
0%以上の高い選択率で3−アシロキシシクロヘキセン
を製造することができる。同時に活性成分として担持さ
れるパラジウム及びテルルの液中溶出を大幅に抑制する
ことができる為、反応後の触媒成分の分離回収操作を必
要とせず、長期間、安定的に3−アシロキシシクロヘキ
センを製造することができる。
【0008】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
適用される触媒はパラジウム及びテルルを必須の活性成
分として担体に担持した固体触媒である。触媒の調製法
は特に限定されるものではなく、担体付き金属触媒調製
のためによく知られている方法を用いることができる。
特に、適当なパラジウム化合物及びテルル化合物を担体
に担持させ、周知の適当な方法により還元して調製する
ことができる。例えば、パラジウム及びテルルの金属、
酸化物、水酸化物、塩酸塩、硝酸塩、カルボン酸塩、錯
塩等から選ばれる化合物を適当な溶媒に溶解して固体担
体を浸漬し、公知の含浸法、吸着法、共沈法等の担持法
により触媒成分を担体に担持させた後、気相下にて水素
気流中もしくは還元性化合物を含む気流中で、または液
相下にて公知の還元剤、例えば、ホルマリン、ヒドラジ
ン等で還元して調製される。触媒調製の為に用いられる
パラジウム化合物としては金属パラジウム、酸化パラジ
ウム、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウ
ム及びパラジウムアンミン錯体等が挙げられる。また、
テルル化合物としては金属テルル、酸化テルル、塩化テ
ルル、テルル酸、オルソテルル酸等が挙げられる。パラ
ジウム及びテルルは同時にまたは順次に担体上に担持、
還元せしめることができる。つまり、パラジウムを予め
担持、還元せしめた固体触媒を用いて、テルルを後から
担持、還元せしめる調製方法を用いてもよい。触媒調製
のために用いられる担体としては、活性炭、シリカ、ア
ルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、マグネシア、ゼ
オライト、珪藻土等を用いることができるが、中でも安
定性に優れた活性炭をを用いることが好ましい。活性炭
は市販のものをそのまま使用してもよいが、硝酸等の酸
を用いる通常の洗浄処理を施したものを使用することが
できる。
【0009】本発明の方法は、活性成分として担体に担
持されるパラジウムとテルルの比率が特定の範囲内に保
持、調製された固体触媒を用いることによりその目的を
達成することができる。つまり、シクロヘキセンとカル
ボン酸及び分子状酸素とを液相下で製造する方法におい
て、テルルの担持量を、パラジウム1グラム原子に対し
て0.05〜0.3グラム原子の間に保持されるように
調製した固体触媒を用いた場合にのみ、高い選択率で3
−アシロキシシクロヘキセンが得られると同時にパラジ
ウム及びテルルの両活性成分の液中溶出を大幅に抑制す
ることができる。該固体触媒におけるテルルの担持量が
パラジウム1グラム原子に対して0.05グラム原子未
満では、3−アシロキシシクロヘキセンへの選択率は低
下し、酸化脱水素反応によるベンゼンの生成比が増大す
ると同時にパラジウムの液中溶出を抑制することができ
なくなる。また、テルルの担持量がパラジウム1グラム
原子に対して0.3グラム原子を越えるとシクロヘキセ
ンの転化率が大幅に低下すると同時にテルルの液中溶出
が抑制できなくなる。テルルの担持量がパラジウム1グ
ラム原子に対して0.05〜0.3グラム原子の間に保
持されない場合、パラジウム及びテルルのいずれかの活
性成分の液中溶出を抑制できず、触媒活性及び性能低下
の原因につながる。
【0010】これらの理由は定かではないが、テルルは
触媒調製時において通常の還元処理によりパラジウムと
比較的容易に固溶組成、あるいは金属間化合物組成を形
成し、パラジウム原子に対して特定の比率の範囲にある
テルル原子が、シクロヘキセンを反応基質として用いる
際の酸化的アシロキシ化反応に対して、パラジウム原子
の最適な電子密度を発現するように作用していることが
考えられる。従って、触媒を調製する際には、還元後の
固体触媒上にテルルの担持量がパラジウム1グラム原子
に対して0.05〜0.3グラム原子となるように、実
施する担持方法に合わせて、原料として用いるパラジウ
ム化合物及びテルル化合物の使用量を考慮する必要があ
る。担体へのパラジウム及びテルルの担持量は、特に限
定されず、広い範囲で変化し得るが、パラジウムとテル
ルの合計量が0.1〜20重量%の範囲が適当であり、
より好ましくは0.5〜10重量%の範囲である。
【0011】本発明の方法で、シクロヘキセンと反応さ
せるカルボン酸としては、脂肪族、脂環族、芳香族など
任意のものを用いることができるが、工業的には酢酸、
プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸等の低級脂肪族カルボン
酸を用いることが好ましく、特に好ましいのは酢酸であ
る。本発明の方法で用いられるシクロヘキセンの純度に
は特に制限は無く、例えば若干のシクロヘキサン、ベン
ゼンを含んでいても、また微量の水を含んでいても特に
さしつかえない。
【0012】本発明の方法における酸化的アシロキシ化
反応は、溶媒中あるいは無溶媒下で実施することができ
る。ここで溶媒としては飽和炭化水素、エーテル、エス
テル等の不活性溶剤を使用することができるが、通常は
低級脂肪族カルボン酸、好ましくは原料として用いるカ
ルボン酸を原料兼溶媒として用いる。この際の溶媒を兼
ねる原料カルボン酸とシクロヘキセンの割合は、固体触
媒が存在する反応場に供給される初期濃度の比率とし
て、シクロヘキセン1モル当たり原料カルボン酸が5〜
500モルの範囲が適当であり、より好ましくは6〜3
00モルの範囲である。シクロヘキセンに対してカルボ
ン酸の量が少なくなると、反応速度が低下すると同時
に、酸化脱水素反応によるベンゼンの生成比が増加し3
−アシロキシシクロヘキセンの選択率が低下するので好
ましくない。また、シクロヘキセンに対してカルボン酸
の量が過剰になると単位反応器容量当たりの3−アシロ
キシシクロヘキセンの生産性が低下し工業的製法として
は実用的でない。
【0013】本発明の方法では、上述の原料を分子状酸
素を含有する気体を用いて、液相下で固体触媒と接触さ
せる。ここで分子状酸素を含有する気体とは、純酸素あ
るいは酸素と不活性気体の混合気体を指す。この不活性
気体とは、窒素、アルゴン、ヘリウム等であり、混合気
体としては空気も含まれる。分子状酸素は不活性気体と
任意の混合比率にて、大気圧〜加圧状態として反応系に
供給することができるが、酸素濃度は反応系内で気体が
爆発組成とならない範囲が好ましい。また、加圧状態と
して反応系に供給する際には、反応系内の酸素分圧が好
ましくは1〜20kg/cm2 の範囲、より好ましくは
2〜8kg/cm2 の範囲に保持されるように供給気体
の圧力及び酸素濃度を調整するとよい。
【0014】本発明の方法では、反応は通常20〜15
0℃、好ましくは30〜130℃、より好ましくは40
〜120℃の範囲で行われる。150℃を越えて高温に
なると酸化脱水素反応によるベンゼンの生成比率及び高
沸点副生物の生成比率が増加し、3−アシロキシシクロ
ヘキセンへの反応選択性を低下せしめるので好ましくな
い。また20℃未満の低温では、反応速度が低下して好
ましくない。
【0015】本発明の方法では、シクロヘキセンとカル
ボン酸及び分子状酸素とを液相下にテルルの担持量が、
パラジウム1グラム原子に対して0.05〜0.3グラ
ム原子である固体触媒の存在下で反応させることによ
り、担持金属の液中溶出を大幅に抑制させ3−アシロキ
シシクロヘキセンを安定的に、かつ簡便に製造できる。
この場合、反応系における触媒の状態は不均一であっ
て、反応系の状態は液相であるが、反応を行うにあたっ
ては、上述した如く分子状酸素を含有する気体を用いて
反応系に酸素を供給する必要があり、反応系は分子状酸
素含有気体雰囲気下にあることが必要である。また、反
応方式は特に制限はなく回分式、半回分式、連続式など
のいずれでもよい。分子状酸素含有気体の供給方法とし
ては、例えば回分式の混合撹拌槽型反応器を用いる場合
には、反応系内に形成される液相部に直接吹き込んでも
よいし、液相部と接触して存在する気相部に導入しても
よい。この時、液相部に存在する固体触媒が分子状酸素
含有気体と一部接触することは何ら問題がない。
【0016】本発明の方法において、用いる固体触媒は
実施する反応形態、例えば固定床方式、流動床方式、懸
濁触媒方式等に応じて粉末状担体、破砕状担体、粒子状
担体及び柱状担体等にパラジウム及びテルルを担持した
ものを使用することができる。この際、担体の大きさに
ついて特に制限はない。また、該固体触媒の使用量は、
実施する反応形態、用いる担体の形状、固体触媒中のパ
ラジウム及びテルルの担持量等によって任意に選ぶこと
ができ特に制限はないが、例えば回分式反応の場合、シ
クロヘキセン1モルに対して、固体触媒に担持されたパ
ラジウムが0.1グラム原子以下となる量の固体触媒が
用いられる。
【0017】本発明方法によれば、通常60%以上、好
適には70%以上の高い選択率で3−アシロキシシクロ
ヘキセンを製造することができる。同時に活性成分とし
て担持されるパラジウム及びテルルの液中溶出を大幅に
抑制することができる為、反応後の触媒成分の分離回収
操作を必要とせず、長期間、安定的に3−アシロキシシ
クロヘキセンを製造することができる。
【0018】
【実施例】以下実施例をもって、本発明を更に詳述す
る。 (実施例1) 1)固体触媒の調製 市販の5%−パラジウム担持カーボン(和光純薬製)を
40℃にて12時間、真空乾燥処理した。乾燥処理後の
パラジウム担持カーボン5.0gを二酸化テルルの塩酸
溶液(0.0188gの二酸化テルルを20mlの6N
−塩酸溶液に溶解したもの)と共にガラスフラスコに入
れ、ロータリーエバポレーターに設定、ゆっくり撹拌混
合しながら、常圧下に温度90℃のオイルバスに浸し濃
縮乾固した。ガラスフラスコを取り出した後、氷にて冷
却された水浴に浸し、37%ホルムアルデヒド溶液15
mlを約1時間かけて滴下した。続いて、30%水酸化
カリウム水溶液10mlを約1時間かけて滴下した。さ
らに約12時間静置した後に減圧吸引濾過し、濾液が中
性となるまで熱水で繰り返し洗浄した。含水触媒ケーク
を磁性皿に移した後、横置きパイレックスガラス中に保
持し、N2 を100Nml/分で供給しながら、ゆっく
り昇温し、200℃にて2時間乾燥、さらに昇温し40
0℃にて1時間保持した後、N2 を引き続き供給しなが
ら一夜放冷し、室温下で触媒を回収した。この触媒はパ
ラジウムを4.98重量%、テルルを0.30重量%含
有しており、パラジウム1グラム原子に対して0.05
グラム原子のテルルを含有する固体触媒を得た。
【0019】2)シクロヘキセンの酸化的アシロキシ化
反応 ガス自給式撹拌翼及び原料導入ポットを取り付けたSU
S316材質の総容量200mlのオートクレーブに、
酢酸40gを仕込み、1)で得られた固体触媒0.86
gを懸濁させる。さらに原料導入ポットにシクロヘキセ
ン0.82g及び酢酸10gを仕込んだ後、系内を7%
の酸素を含有する窒素の混合ガスを用いて置換し、撹拌
しながら90℃まで昇温した。この後原料ポットより酢
酸に溶解させたシクロヘキセンをオートクレーブ内に瞬
時に供給すると同時に、7%の酸素を含有する窒素の混
合ガスを気相部に導入し、系内圧力を60kg/cm2
Gまで昇圧した後、2時間反応を行った。
【0020】反応後、固体触媒を濾別した後に、反応液
をガスクロマトグラフィーによって分析したところ、シ
クロヘキセンの転化率は68.4%であり、3−アセト
キシシクロヘキセンの選択率は転化したシクロヘキセン
基準で62.8%であることが確認された。一方、IC
P発光分光分析により反応液中のパラジウム及びテルル
の溶出濃度を測定した。パラジウムの溶出濃度は0.2
ppm、テルルの溶出濃度は0.1ppm以下であっ
た。これらの結果を表1に示す。60%以上の高い選択
率で3−アセトキシシクロヘキセンを得ると同時に活性
成分として担持されるパラジウム及びテルルの液中溶出
を抑制することができた。
【0021】(実施例2)二酸化テルルの塩酸溶液とし
て、0.0375gの二酸化テルルを20mlの6N−
塩酸溶液に溶解したものを用いる他は、実施例1と同様
の方法にて、固体触媒を調製した。この触媒はパラジウ
ムを4.97重量%、テルルを0.60重量%含有して
おり、パラジウム1グラム原子に対して0.10グラム
原子のテルルを含有する固体触媒を得た。この触媒を
0.86g用いて実施例1と同様の方法にて反応を行っ
た。結果を表1に示す。実施例1と同様、高い選択率で
3−アセトキシシクロヘキセンを得ると同時に活性成分
として担持されるパラジウム及びテルルの液中溶出を抑
制することができた。
【0022】(実施例3)二酸化テルルの塩酸溶液とし
て、0.0535gの二酸化テルルを20mlの6N−
塩酸溶液に溶解したものを用いる他は、実施例1と同様
の方法にて、固体触媒を調製した。この触媒はパラジウ
ムを4.96重量%、テルルを0.85重量%含有して
おり、パラジウム1グラム原子に対して0.14グラム
原子のテルルを含有する固体触媒を得た。この触媒を
0.86g用いて実施例1と同様の方法にて反応を行っ
た。結果を表1に示す。実施例1及び2と同様、高い選
択率で3−アセトキシシクロヘキセンを得ると同時に活
性成分として担持されるパラジウム及びテルルの液中溶
出を抑制することができた。
【0023】(実施例4)二酸化テルルの塩酸溶液とし
て、0.0937gの二酸化テルルを20mlの6N−
塩酸溶液に溶解したものを用いる他は、実施例1と同様
の方法にて、固体触媒を調製した。この触媒はパラジウ
ムを4.93重量%、テルルを1.48重量%含有して
おり、パラジウム1グラム原子に対して0.25グラム
原子のテルルを含有する固体触媒を得た。この触媒を
0.86g用いて実施例1と同様の方法にて反応を行っ
た。結果を表1に示す。実施例1、2及び3と同様、高
い選択率で3−アセトキシシクロヘキセンを得ると同時
に活性成分として担持されるパラジウム及びテルルの液
中溶出を抑制することができた。
【0024】(比較例1)二酸化テルルの塩酸溶液とし
て、0.008gの二酸化テルルを20mlの6N−塩
酸溶液に溶解したものを用いる他は、実施例1と同様の
方法にて、固体触媒を調製した。この触媒はパラジウム
を4.99重量%、テルルを0.13重量%含有してお
り、パラジウム1グラム原子に対して0.02グラム原
子のテルルを含有する固体触媒を得た。この触媒を0.
86g用いて実施例1と同様の方法にて反応を行った。
結果を表1に示す。3−アセトキシシクロヘキセンの選
択率は低く、また、活性成分として担持されるパラジウ
ムの液中溶出を抑制することができなかった。
【0025】(比較例2)二酸化テルルの塩酸溶液とし
て、0.150gの二酸化テルルを20mlの6N−塩
酸溶液に溶解したものを用いる他は、実施例1と同様の
方法にて、固体触媒を調製した。この触媒はパラジウム
を4.88重量%、テルルを2.34重量%含有してお
り、パラジウム1グラム原子に対して0.40グラム原
子のテルルを含有する固体触媒を得た。この触媒を0.
86g用いて実施例1と同様の方法にて反応を行った。
結果を表1に示す。シクロヘキセンの転化率は低く、ま
た、活性成分として担持されるテルルの液中溶出を抑制
することができなかった。
【0026】(比較例3)特開昭53−90212号公
報に記載の方法を参考に固体触媒を調製した。16〜3
2メッシュのヤシガラ破砕炭(ツルミコール社製HC−
30Sを分級したもの)20gに15重量%の硝酸水溶
液300mlを加えて、5時間加熱還流を行った後、デ
カンテーションにより硝酸水溶液を除去した。次にイオ
ン交換水を300mlを加えて加熱還流を繰り返し、デ
カンテーションによる水洗操作を液が中性となるまで繰
り返した。その後減圧乾燥を行い、硝酸処理した活性炭
を調製した。
【0027】上記にように処理した活性炭12.0g
を、パラジウムを22.3重量%含有する硝酸溶液1.
432g、及び二酸化テルル0.72gを溶解した30
重量%の硝酸水溶液20mlに浸漬後、ロータリーエバ
ポレーターで蒸発乾固させた。担持処理後の触媒を窒素
気流中150℃において2時間乾燥し、続いてこれに
0.5L/分の速度でメタノールを室温で飽和した窒素
気流を通じながら200℃で2時間還元し、次いで40
0℃で1時間還元した。窒素気流下で放冷し、室温下に
て触媒を回収した。この触媒はパラジウムを2.47重
量%、テルルを4.47重量%含有しており、パラジウ
ム1グラム原子に対して1.51グラム原子のテルルを
含有する固体触媒を得た。この触媒を1.723g用い
て実施例1と同様の方法にて反応を行った。結果を表1
に示す。シクロヘキセンの転化率は極めて低く、また、
活性成分として担持されるテルルの液中溶出を抑制する
ことができなかった。
【0028】(比較例4)特開平3−275648号公
報に記載の方法を参考に反応を行った。実施例1と同様
の総容量200mlのオートクレーブに、酢酸40gを
仕込み、市販の5%−パラジウム担持カーボン(和光純
薬製)を0.425g及び硝酸リチウム0.348gを
添加する。さらに原料導入ポットにシクロヘキセン0.
82g及び酢酸10gを仕込んだ後、系内を7%の酸素
を含有する窒素の混合ガスを用いて置換し、撹拌しなが
ら60℃まで昇温した。この後原料ポットより酢酸に溶
解させたシクロヘキセンをオートクレーブ内に瞬時に供
給すると同時に、7%の酸素を含有する窒素の混合ガス
を気相部に導入し、系内圧力を50kg/cm2 Gまで
昇圧した後、2時間反応を行った。
【0029】反応液は、黄褐色を呈したため、固体触媒
を濾別した後に、反応液の一部に水を加え、n−ヘキサ
ンにて抽出後、ガスクロマトグラフィーによって分析し
たところ、シクロヘキセンの転化率は86.8%であ
り、3−アセトキシシクロヘキセンの選択率は転化した
シクロヘキセン基準で79.1%であることが確認され
た。一方、ICP発光分光分析により濾過後の反応液中
のパラジウムの溶出濃度を測定した。パラジウムの溶出
濃度は173ppmであった。これらの結果を表1に示
す。高い選択率で3−アセトキシシクロヘキセンが得ら
れたが、活性成分として担持されるパラジウムは大量に
液中に溶出していた。
【0030】
【表1】
【0031】(実施例5) 1)固体触媒の調製 22〜32メッシュのヤシガラ破砕炭(ツルミコール社
製HC−30Sを分級したもの)100gに15重量%
の硝酸水溶液500mlを加えて、5時間加熱還流を行
った後、デカンテーション及び吸引濾過により硝酸水溶
液を除去した。次にイオン交換水を500mlを加えて
1時間加熱還流を行った後、デカンテーション及び吸引
濾過により洗浄水を除去した。同様の洗浄操作を4回繰
り返した後、80℃の温度下で真空乾燥を行い、硝酸前
処理をした活性炭を調製した。
【0032】上記にように処理した活性炭16.0g
を、パラジウムを22.3重量%含有する硝酸溶液2.
152gと二酸化テルル0.360gを溶解させた30
重量%の硝酸水溶液40gに浸漬した。次いで、3時間
加熱還流を行った後に約15時間室温まで放冷し、吸着
担持処理を実施した。デカンテーション及び吸引濾過を
行った後、次いで150℃の温度下で3時間真空乾燥を
実施した。担持処理後の触媒を縦型石英ガラス管に全量
充填し、窒素気流中200℃において2時間さらに乾燥
させ、次いでメタノールを室温で飽和した窒素気流中2
00℃において2時間、さらにゆっくり昇温し400℃
において2時間還元処理を実施した。次いで窒素気流中
に400℃において2時間保持した後に、窒素気流下で
放冷し、室温下にて触媒を回収した。この触媒はパラジ
ウムを2.63重量%、テルルを0.31重量%含有し
ており、パラジウム1グラム原子に対して0.098グ
ラム原子のテルルを含有する固体触媒を得た。
【0033】2)シクロヘキセンの酸化的アシロキシ化
流通反応 SUS316材質の内容積1000mlのオートクレー
ブを反応器とした槽型流通反応装置を用いた。ガス自給
式撹拌翼の下部に設置されたSUS316材質のワイヤ
ー編み目状ホルダー内に1)で得られた固体触媒7.9
gを封入固定し、シクロヘキセンを2重量%含有する酢
酸溶液250gを仕込み、7%の酸素を含有する窒素の
混合ガスを用いて、系内圧力60kg/cm2 Gを保持
し、撹拌下に90℃にて1.5時間回分反応を行った。
この後、シクロヘキセンを2重量%含有する酢酸溶液を
50g/時で供給すると同時に気相部ガスを12L/時
で系外に排気しながら、排気容量分に相当する7%の酸
素を含有する窒素の混合ガスを供給して連続的に反応を
実施した。反応液は、液面制御抜き出し弁より連続的に
取り出した。流通反応開始から4〜5時間、及び49〜
50時間の反応液を、固体触媒を濾別した後に、ガスク
ロマトグラフィーにより反応液組成を、及び、ICP発
光分光分析により反応液中のパラジウム及びテルルの溶
出濃度を測定した。これらの結果を表2に示す。70%
以上の高い選択率にて、かつ安定的に3−アセトキシシ
クロヘキセンが得られた。同時に活性成分として担持さ
れるパラジウム及びテルルの液中溶出を抑制することが
できた。
【0034】(比較例5)吸着担持に用いる硝酸水溶液
として、二酸化テルルの使用量を0.072gとした他
は、実施例5と同様の方法にて、固体触媒を調製した。
この触媒はパラジウムを2.66重量%、テルルを0.
07重量%含有しており、パラジウム1グラム原子に対
して0.02グラム原子のテルルを含有する固体触媒を
得た。この触媒を7.8g用いて実施例5と同様の方法
にて反応を行った。結果を表2に示す。3−アセトキシ
シクロヘキセンの選択率及びシクロヘキセンの転化率は
経時的に低下し、安定的に3−アセトキシシクロヘキセ
ンを得ることはできなかった。また、活性成分として担
持されるパラジウムの液中溶出を抑制することができな
かった。
【0035】(比較例6)吸着担持に用いる硝酸水溶液
として、二酸化テルルの使用量を1.50gとした他
は、実施例5と同様の方法にて、固体触媒を調製した。
この触媒はパラジウムを2.55重量%、テルルを1.
19重量%含有しており、パラジウム1グラム原子に対
して0.39グラム原子のテルルを含有する固体触媒を
得た。この触媒を8.1g用いて実施例5と同様の方法
にて反応を行った。結果を表2に示す。3−アセトキシ
シクロヘキセンの選択率及びシクロヘキセンの転化率は
経時低下し、安定的に3−アセトキシシクロヘキセンを
得ることはできなかった。また、活性成分として担持さ
れるテルルの液中溶出を抑制することができなかった。
【0036】
【表2】
【0037】
【発明の効果】本発明により、シクロヘキセンとカルボ
ン酸及び分子状酸素とを液相下で反応させて3−アシロ
キシシクロヘキセンを製造するに際し、触媒成分の液中
溶出を防止し、3−アシロキシシクロヘキセンを安定的
に、かつ簡便に製造することができる。これらの実現は
3−アシロキシシクロヘキセンの製造を工業的に実施す
る上で極めて有用となる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パラジウム及びテルルを活性成分として
    担持する固体触媒の存在下、シクロヘキセンとカルボン
    酸及び分子状酸素とを液相下で反応させて3−アシロキ
    シシクロヘキセンを製造する方法において、固体触媒に
    おけるテルルの担持量が、パラジウム1グラム原子に対
    して0.05〜0.3グラム原子であることを特徴とす
    る3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法。
  2. 【請求項2】 カルボン酸が酢酸であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項に記載の製造方法。
  3. 【請求項3】 固体触媒の担体として、活性炭を用いる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項、または第2項
    に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 反応温度20〜150℃の条件で反応を
    行うことを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいず
    れか1項に記載の製造方法。
JP13429898A 1998-04-30 1998-04-30 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法 Expired - Fee Related JP4014287B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13429898A JP4014287B2 (ja) 1998-04-30 1998-04-30 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13429898A JP4014287B2 (ja) 1998-04-30 1998-04-30 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11315049A true JPH11315049A (ja) 1999-11-16
JP4014287B2 JP4014287B2 (ja) 2007-11-28

Family

ID=15125023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13429898A Expired - Fee Related JP4014287B2 (ja) 1998-04-30 1998-04-30 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4014287B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005013800A (ja) * 2003-06-24 2005-01-20 Mitsubishi Chemicals Corp 固体触媒及びこれを用いた酸化的付加生成物の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005013800A (ja) * 2003-06-24 2005-01-20 Mitsubishi Chemicals Corp 固体触媒及びこれを用いた酸化的付加生成物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4014287B2 (ja) 2007-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10306047A (ja) 1,6−ヘキサンジオールの製造方法
KR20010109490A (ko) 과산화수소의 직접 합성용 촉매 및 방법
JP7291142B2 (ja) 1-アシルオキシ-2-メチル-2-プロペンの製造方法
JPS6357417B2 (ja)
US4121039A (en) Process for producing an unsaturated glycol diester using a catalyst comprising palladium containing thorium as a promotor
JPS6230180B2 (ja)
JP4014287B2 (ja) 3−アシロキシシクロヘキセンの製造方法
CN111068668B (zh) 双金属催化剂及其用于制备含叔醇结构羰基化合物的方法
JPS5941974B2 (ja) α,β−不飽和アルデヒド類の水素添加方法
JP4014288B2 (ja) 3−アシロキシシクロヘキセンの製造法
US6855662B2 (en) Catalyst for preparing fluorine-containing alcohol compound and a process for preparation of fluorine-containing alcohol compound
KR870000522B1 (ko) 연속공정에 의한 인돌의 공업적 제조방법
WO2000006528A1 (fr) Procede de production d'acide adipique
JPS6033370B2 (ja) 2−アリ−ルエタノ−ルの製造法
EP0031530B1 (en) Process for producing pyrogallol
JP3769312B2 (ja) コハク酸の製造方法
JP7168565B2 (ja) ビスアシルオキシ化エキソメチレン化合物の製造方法
JPH06157416A (ja) グリオキシル酸エステルの製造方法
JPH06329567A (ja) 1,6−ヘキサンジオールの製造方法
JPH0635414B2 (ja) グリコ−ルアルデヒドの製造方法
JP3796042B2 (ja) アミド架橋白金錯体を用いる有機化合物を酸化する方法
JP2550473B2 (ja) アセタールおよびヘミアセタールエステルの製造方法
JP2005539078A (ja) 光学的に純粋な(S)−β−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンの連続製造方法
JPH06157399A (ja) グリオキシル酸の製造方法
JPH04297443A (ja) 炭酸ジエステルの製造法

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20031203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040217

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040218

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070419

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070911

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070911

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100921

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110921

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120921

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130921

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees