JPH11296904A - 情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂基板の製造方法 - Google Patents

情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂基板の製造方法

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JPH11296904A
JPH11296904A JP10091422A JP9142298A JPH11296904A JP H11296904 A JPH11296904 A JP H11296904A JP 10091422 A JP10091422 A JP 10091422A JP 9142298 A JP9142298 A JP 9142298A JP H11296904 A JPH11296904 A JP H11296904A
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film
substrate
protective film
recording
mold
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Tadashi Kobayashi
忠 小林
Hisashi Yamada
尚志 山田
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Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録密度を高めても十分なチルトマージンと
機械的強度とを確保し得る情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 エンボスピット又は案内溝が設けられた
記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形
成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜
とを具備する情報記録媒体である。前記保護膜が形成さ
れた側である第１の表面と、この第１の表面に対向する
第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記第
１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度
変化に基づいて記録情報が再生され、前記基板の記録面
から前記第１の表面までの距離は、前記基板の厚さより
小さく、前記第１の表面は平滑であることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体およ
びこれに用いられる樹脂基板の製造方法に係り、特に表
面記録再生用情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂
基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常のＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディ
スクにおいては、１．２ｍｍ厚の透明基板の一方の面上
に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さら
にその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。
こうしたＣＤに記録された情報は、反射膜が設けられた
面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射するこ
とにより再生される。
【０００３】より記録密度が高密度化されたＤＶＤやＤ
ＶＤ−ＲＯＭディスクにおいては、０．６ｍｍ厚の透明
基板の一方の面上にＣＤの場合よりも微細なエンボスピ
ットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射
膜が形成されている。こうしたディスクの記録面に記録
された情報の再生は、ＣＤの場合と同様に反射膜が形成
されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを
照射することにより行なわれる。
【０００４】０．６ｍｍ厚の基板の材料としては、透明
な樹脂材料であるＰＣ（ポリカーボネート）が一般的に
使用されている。０．６ｍｍのＰＣ基板では、機械的特
性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうた
め、記録面が内側となるよう２枚の０．６ｍｍＰＣ基板
を貼り合わせて、合計厚さ１．２ｍｍのディスクとして
機械的特性を確保している。
【０００５】なお、ＤＶＤディスクの基板厚が０．６ｍ
ｍとなったのは、チルトマージンを確保するためであ
る。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディス
クの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしま
う。１．２ｍｍから０．６ｍｍへと基板厚が小さくする
ことによって、チルトマージンは確保することができる
が、機械的強度の低下は避けられない。
【０００６】そこで、基板を薄くして機械的強度を確保
するため、ディスクの中央部を厚くすることにより機械
的強度を確保することが提案されている（特開平９−２
０４６８６号公報）。しかしながら機械的強度を確保す
るためには、信号記録領域の基板厚さは０．６ｍｍが限
界であった。また、透明基板の厚さを０．１ｍｍ〜０．
６ｍｍとすることが報告されている（特開平９−２０４
６８８号公報）が、記録膜を保持する保護基板の厚さ、
反射膜の膜厚等については言及されておらず、実施する
うえでは問題であった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】今後さらに記録密度を
詰めて大容量化を図るためには、基板の厚さをさらに薄
くすることが、チルトマージンの面から有効であるもの
の、基板厚が０．６ｍｍより小さくなると、こうした基
板を２枚貼り合わせても機械的強度を確保することが困
難となる。
【０００８】また、基板を貼り合わせる際には接着剤等
が必要となるのみならず、製造プロセスも煩雑となって
しまう。そこで本発明は、さらに記録密度を高めても十
分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情報記
録媒体を提供することを目的とする。また本発明は、こ
うした情報記録媒体に用いられる樹脂基板の製造方法を
提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明（請求項１）は、エンボスピットまたは案内
溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記
記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形
成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側
である第１の表面と、この第１の表面に対向する第２の
表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表
面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に
基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前
記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前記
基板の厚さより小さく、前記第１の表面は平滑であるこ
とを特徴とする情報記録媒体を提供する。
【００１０】本発明（請求項２）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成
された側である第１の表面と、この第１の表面に対向す
る第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記
第１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
って、前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離
は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは光ビーム
の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
折率である）であり、前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上
１．２ｍｍ以下であり、前記第１の表面の粗さは、λ／
（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
折率である）であることを特徴とする情報記録媒体を提
供する。
【００１１】本発明（請求項３）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成
された側である第１の表面と、この第１の表面に対向す
る第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記
第１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
って、前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離
は、前記基板の厚さより小さく、前記反射膜の膜厚は１
４ｎｍ以上であることを特徴とする情報記録媒体を提供
する。
【００１２】本発明（請求項４）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成
された側である第１の表面と、この第１の表面に対向す
る第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記
第１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
って、前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離
は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは光ビーム
の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
折率である）であり、前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上
１．２ｍｍ以下であり、前記反射膜はアルミニウムを主
成分とする合金膜から構成され、その膜厚が１４ｎｍ以
上であって、光波長４００〜８００ｎｍにおいて反射率
が１５％以上８５％以下であることを特徴とする情報記
録媒体を提供する。
【００１３】本発明（請求項５）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記録
面を有する基板と、この基板の第１の面および第２の記
録面にそれぞれ形成された第１および第２の反射膜と、
この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
第１および第２の保護膜とを具備し、前記第１および第
２の保護膜側からそれぞれ光ビームを照射して、その反
射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記
録媒体であって、前記情報記録媒体の一方の表面から他
方の表面までの距離は、１．２ｍｍ以下であることを特
徴とする情報記録媒体を提供する。
【００１４】本発明（請求項６）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記録
面を有する基板と、この基板の前記第１および第２の記
録面にそれぞれ形成された第１および第２の反射膜と、
この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
第１および第２の保護膜とを具備し、前記第１の保護膜
が形成された側である第１の表面と、前記第２の保護膜
が形成された側である第２の表面との２つの面により表
面が構成され、前記第１の表面側および第２の表面側か
ら、それぞれ光ビームを照射してその反射光の光強度変
化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であっ
て、前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの
距離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表
面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．６ｍｍ以下
（λは光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前
記第１または第２の保護膜の光屈折率である）であり、
前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
り、前記第１の表面から第２の表面までの距離は１．２
ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。
【００１５】本発明（請求項７）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記録
面を有する基板と、この基板の前記第１および第２の記
録面にそれぞれ形成された第１および第２の反射膜と、
この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
第１および第２の保護膜とを具備し、前記第１の保護膜
が形成された側である第１の表面と、前記第２の保護膜
が形成された側である第２の表面との２つの面により表
面が構成され、前記第１の表面側および第２の表面側か
らそれぞれ光ビームを照射して、その反射光の光強度変
化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であっ
て、前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの
距離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表
面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前記第１
および第２の反射膜の膜厚は１４ｎｍ以上であることを
特徴とする情報記録媒体を提供する。
【００１６】本発明（請求項８）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記録
面を有する基板とこの基板の前記第１および第２の記録
面にそれぞれ形成された第１および第２の反射膜と、こ
の第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された第
１および第２の保護膜とを具備し、前記第１の保護膜が
形成された側である第１の表面と、前記第２の保護膜が
形成された側である第２の表面との２つの面により表面
が構成され、前記第１の表面側および第２の表面側から
それぞれ光ビームを照射して、その反射光の光強度変化
に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、
前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの距
離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表面
までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．６ｍｍ以下（λ
は光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記第
１または第２の保護膜の光屈折率である）であり、前記
基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であり、前
記第１および第２の反射膜はアルミニウムを主成分とす
る合金膜から構成され、その膜厚が１４ｎｍ以上であっ
て、光波長４００〜８００ｎｍにおいて反射率が１５％
以上８５％以下であることを特徴とする情報記録媒体を
提供する。
【００１７】本発明（請求項９）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜上
に形成された第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護
膜側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に
基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前
記光ビームの光波長における前記第１の保護膜の屈折率
ｎ1 および前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数式
（１）で表わされる関係を満足する情報記録媒体を提供
する。
【００１８】ｎ1 ≧ｎ2 （１） 本発明（請求項１０）は、エンボスピットまたは案内溝
が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記
録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成
された第１の保護膜と、この第１の保護膜上に形成され
た第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜側から光
ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記
録情報を再生する情報記録媒体であって、前記第１の保
護膜は、誘電体膜または紫外線硬化樹脂からなり、前記
第２の保護膜は、誘電体膜、紫外線硬化樹脂、樹脂フィ
ルムまたは樹脂円盤からなり、前記光ビームの光波長に
おける前記第１の保護膜の屈折率ｎ1 および前記第２の
保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数式（１）で表わされる関
係を満足する情報記録媒体を提供する。
【００１９】ｎ1 ≧ｎ2 （１） 本発明（請求項１１）は、エンボスピットまたは案内溝
が設けられた記録面を対向する２つの側に有する基板
と、この基板の前記２つの記録面にそれぞれ形成された
反射膜と、この反射膜の上にそれぞれ形成された第１の
保護膜と、この第１の保護膜の上にそれぞれ形成された
第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜側から光ビ
ームをそれぞれ照射して、その反射光の光強度変化に基
づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記
光ビームの光波長における前記第１の保護膜の屈折率ｎ
1 および前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数式
（１）で表わされる関係を満足する情報記録媒体を提供
する。
【００２０】ｎ1 ≧ｎ2 （１） 本発明（請求項１２）は、エンボスピットまたは案内溝
が設けられた記録面を対向する２つの側に有する基板
と、この基板の前記２つの記録面上にそれぞれ形成され
た反射膜と、この反射膜の上にそれぞれ形成された第１
の保護膜と、この第１の保護膜の上にそれぞれ形成され
た第２の保護膜とを具備し、前記第２の保護膜側から光
ビームをそれぞれ照射して、その反射光の光強度変化に
基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前
記第１の保護膜は、誘電体膜または紫外線硬化樹脂から
なり、前記第２の保護膜は、誘電体膜、紫外線硬化樹
脂、樹脂フィルムまたは樹脂円盤からなり、前記光ビー
ムの光波長における前記第１の保護膜の屈折率ｎ1 およ
び前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数式（１）で
表わされる関係を満足する情報記録媒体を提供する。
【００２１】ｎ1 ≧ｎ2 （１） 本発明（請求項１３）は、エンボスピットまたは案内溝
が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記
録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成
された第１の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成さ
れた相変化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された
第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３
の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形成された側
である第１の表面と、この第１の表面に対向する第２の
表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表
面側から光ビームを照射してその反射率の光強度変化に
基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前
記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前記
基板の厚さより小さく、前記第１の表面は平滑であるこ
とを特徴とする情報記録媒体を提供する。
【００２２】本発明（請求項１４）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この
基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射
膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜
の上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上
に形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形
成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が
形成された側から光ビームを照射してその反射率の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
って、一方の表面から他方の表面までの距離は１．２ｍ
ｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。
【００２３】本発明（請求項１５）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この
基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射
膜の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜
の上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上
に形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形
成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が
形成された側から光ビームを照射してその反射率の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
って、前記第３の保護膜の厚さは、５λ／（４ｎ）以上
０．６ｍｍ以下（λは光ビームの波長であり、ｎは前記
波長λの光の前記第３の保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下で
あり、一方の表面から他方の表面までの距離が１．２ｍ
ｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。
【００２４】本発明（請求項１６）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を対向する２つの側に
有する基板と、この基板の前記２つの記録面にそれぞれ
形成された反射膜と、この反射膜の上にそれぞれ形成さ
れた第１の保護膜と、この保護膜の上にそれぞれ形成さ
れた相変化記録膜と、この相変化記録膜上にそれぞれ形
成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上にそれぞ
れ形成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護
膜側から光ビームをそれぞれ照射してその反射率の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
って、前記基板の記録面からこの上に積層された膜の最
表面までの距離は前記基板の厚さより小さく、前記最表
面は平滑であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。
【００２５】本発明（請求項１７）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を対向する２つの側に
有する基板と、この基板の前記２の記録面にそれぞれ形
成された反射膜と、この反射膜の上にそれぞれ形成され
た第１の保護膜と、この保護膜の上にそれぞれ形成され
た相変化記録膜と、この相変化記録膜上にそれぞれ形成
された第２の保護膜と、この第２の保護膜上にそれぞれ
形成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜
側から光ビームをそれぞれ照射してその反射光の光強度
変化に基づいてから記録情報を再生する情報記録媒体で
あって、一方の表面から他方の表面までの距離は１．２
ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。
【００２６】本発明（請求項１８）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を対向する２つの側に
有する基板と、この基板の前記２つ記録面にそれぞれ形
成された反射膜と、この反射膜の上にそれぞれ形成され
た第１の保護膜と、この保護膜の上にそれぞれ形成され
た相変化記録膜と、この相変化記録膜上にそれぞれ形成
された第２の保護膜と、この第２の保護膜上にそれぞれ
形成された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜
側から光ビームをそれぞれ照射してその反射光の光強度
変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であっ
て、前記第３の保護膜の厚さは、５λ／（４ｎ）以上
０．６ｍｍ以下（λは光ビームの波長であり、ｎは前記
波長λの光の前記第３の保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下で
あり、一方の表面から他方の表面までの距離が１．２ｍ
ｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。
【００２７】本発明（請求項１９）は、エンボスピット
または案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記
録面を有する樹脂基板の製造方法であって、第１の記録
面を形成するための第１のスタンパー盤を第１の金型に
装着する工程と、第２の記録面を形成するための第２の
スタンパー盤を第２の金型に装着する工程と、前記第１
のスタンパー盤と第２のスタンパー盤とを対向させて、
前記第１の金型と第２の金型とを離間して配置する工程
と、前記第１の金型と第２の金型との間に、加熱流動し
た樹脂材料を充填する工程と、前記第１の金型と第２の
金型とを近接させて、これらの間の間隔を所定の距離に
する工程と、前記第１の金型と第２の金型との間に充填
された樹脂材料を冷却固化させることにより、厚さ１．
２ｍｍ以下の両面基板を射出成形する工程とを具備する
樹脂基板の製造方法を提供する。
【００２８】本発明（請求項２０）は、エンボスピット
または案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記
録面を有する樹脂基板の製造方法であって、第１の記録
面を形成するための第１のスタンパー盤の中央部に第１
の貫通穴を形成する工程と、第１の金型の中央部に、第
１の中心を有し前記第１のスタンパー盤の第１の貫通穴
に対応する第１の突起を形成する工程と、第２の記録面
を形成するための第２のスタンパー盤の中央部に第２の
貫通穴を形成する工程と、第２の金型の中央部に、第２
の中心を有し前記第２のスタンパー盤の第２の貫通穴に
対応する第２の突起を形成する工程と、前記第１の金型
の第１の突起に、前記第１のスタンパー盤の中央部に設
けられた第１の貫通穴をはめ込んで、前記第１の金型に
第１のスタンパー盤を装着する工程と、前記第２の金型
の第２の突起に、前記第２のスタンパー盤の中央部に設
けられた第２の貫通穴をはめ込んで、前記第２の金型に
第２のスタンパー盤を装着する工程と、前記第１のスタ
ンパー盤と第２のスタンパー盤とを対向させるととも
に、前記第１の金型の第１の中心と前記第２の金型の第
２の中心とが同心になるよう第１の金型と第２の金型と
を合わせ、これら２つの金型を離間して配置する工程
と、前記第１の金型と第２の金型との間に、加熱流動し
た樹脂材料を充填する工程と、前記第１の金型と第２の
金型とを近接させて、これらの間の間隔を所定の距離に
する工程と、前記第１の金型と第２の金型との間に充填
された樹脂材料を冷却固化させることにより、厚さ１．
２ｍｍ以下の両面基板を射出成形する工程とを具備する
樹脂基板の製造方法を提供する。
【００２９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して詳細に説明する。 （実施例１）図１に、本実施例の光ディスクの一例を模
式的に表わした断面図を示す。
【００３０】図示する光ディスクにおいては、１．２ｍ
ｍ厚ディスク基板１の一方の表面に、記録データに応じ
たエンボスピット２が形成された記録面が設けられてい
る。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上
には、反射膜３が成膜され、さらにその上に保護膜４が
オーバーコートされている。
【００３１】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜４側から入射し、反射膜３からの反射光
の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出
することによって行なわれる。
【００３２】なお従来の光ディスクにおいては、保護膜
側からではなく透明基板側から光ビームを入射して、基
板の光入射面とは反対側の面に形成されているエンボス
データを読み取っていた。そのため、基板の厚さによっ
てチルトマージンの確保が制限されていた。それに対し
て、図１に示したような光ディスク構造であれば、基板
表面のエンボス面から再生するので、保護膜４の膜厚が
従来の基板厚さに相当することになる。
【００３３】本発明の光ディスクにおいては、エンボス
面（記録面）から保護膜４側の表面までの距離は、基板
１の厚さより小さく規定しているので、保護膜の膜厚
は、基板厚より小さくなる。したがって、基板厚による
チルトマージンの制限を受け難くなり、高記録密度化が
容易となる。
【００３４】反射膜３は、反射膜材料を真空蒸着または
スパッタ法により成膜して作製することができる。こう
した反射膜３の上に配置される保護膜４は、例えば、従
来の紫外線硬化樹脂などにより形成することができる。
この保護層４は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコー
ト法により反射膜３の表面に塗布して樹脂膜を成膜し、
紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成され
る。このオーバーコート保護膜４の膜厚としては、実用
上、数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であるこ
とが好ましく、０．０００１〜０．１ｍｍの範囲である
ことがより好ましい。また、反射膜３との光干渉を生じ
ない膜厚であることが望まれる。
【００３５】保護膜４の材質は、紫外線硬化樹脂に限定
されるものではなく、再生に使用される光ビームを透過
して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定され
ず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ2 、
ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔ
ａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料
等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などにより
保護膜４を形成することもできる。
【００３６】なお、反射膜３それ自体が安定な膜であれ
ば、保護膜４を省略することも可能である。本実施例の
光ディスクに用いられる１．２ｍｍ厚ディスク基板１
は、従来のＣＤ、ＤＶＤの製造で採用されている射出成
形法により作製することができる。例えば、予め情報が
記録されたマスター盤を射出成形機の一方の金型側にセ
ットし、完成後の基板厚さが１．２ｍｍとなるように２
つの金型の空間を設定することによって、１．２ｍｍ厚
ディスク基板１が作製される。
【００３７】ここで、片面に記録面を有する１．２ｍｍ
厚ディスク基板１を、射出成形法により作製するための
金型の一例を図２に模式的に示す。まず、ディスクの記
録面をＡ面とすると、従来のマスタリングでＡ面用のス
タンパーを作製し、このＡ面用のスタンパー７の中央に
精度よく中心穴８を形成する。金型９の一方の面の中央
部には、Ａ面用スタンパー７の中心穴８に対応した穴径
精度の突起１０を設けておく。
【００３８】射出成形用の金型９の片面に、Ａ面用スタ
ンパー７を記録面が内側となるように設置して、Ａ面用
スタンパーの中心穴８を金型９に設けられた突起１０に
配設する。その突起１０にスタンパーの中心穴８をはめ
込むことで、Ａ面用スタンパー７の位置合わせができ
る。
【００３９】金型９のＡ面用スタンパー７と対向させて
金型１１を離間して配置し、加熱され溶融状態とした樹
脂を樹脂導入口１２から、これらの間に充填する。次い
で、Ａ面用スタンパー７と金型１１とを近接させて、Ａ
面用スタンパー７と金型１１との間隔を所定の間隔とす
る。具体的には、樹脂が冷却硬化後、できあがった基板
１の厚さが１．２ｍｍとなるようにＡ面用スタンパー面
７と金型面１１との間隔を設定する。
【００４０】以上の工程によって、片面に記録面が形成
された１．２ｍｍ厚のディスク基板１を１回の射出成形
で形成することができる。従来の光ディスクでは、基板
側から光ビームを入射して記録情報を再生していたた
め、基板は、再生に使用される光ビームの波長を透過す
る必要があったが、本発明では保護膜側から再生するた
め、基板は必ずしも透明でなくともよい。このように保
護膜側から光ビームが照射されるので、基板の複屈折も
問題とならない。そのため、基板材料としては、耐環境
性、耐熱性、および加工性に優れた材料であれば特に限
定されず、例えば、ＡＢＳ樹脂、ポリエチレン樹脂、ポ
リスチレン樹脂等、より安価な材料を使用することが可
能である。
【００４１】１．２ｍｍ厚ディスク基板１の記録面の上
には、スパッタ法または真空蒸着法などにより反射膜が
成膜される。図３のグラフには、反射膜の膜厚と反射率
との関係を示す。
【００４２】ここではＡｌ系合金膜により反射膜を形成
し、照射する光ビームの波長は６５０ｎｍとした。こう
した条件の場合には、膜厚を約１４ｎｍとしたときに反
射率は４５％となり、膜厚が４０ｎｍとなると反射率は
ほぼ飽和状態となることが図３のグラフに示されてい
る。このグラフに表わされた反射率には保護膜４表面か
らの表面反射も含まれているので、反射膜表面における
の反射率は表面反射を除いた値となる。具体的には、反
射膜の厚さがゼロのときの反射率が保護膜４の表面反射
に相当するので、図３のグラフに示す場合には、その分
（約５％）を除いた値が反射膜の反射率となる。
【００４３】図４には、反射率が４５％および飽和状態
となるときの反射膜の膜厚の光波長依存性を示す。な
お、反射膜はＡｌ系の合金膜により構成し、光ビームの
波長は４００〜８００ｎｍとした。
【００４４】図４のグラフにおいて、直線ａは反射率４
５％となる膜厚であり、直線ｂは、反射率が飽和状態と
なるときの膜厚である。このグラフに示されるように、
光波長４００ｎｍから８００ｎｍで光波長依存性は小さ
く、この波長範囲内において、反射率４５％となる反射
膜膜厚は１３〜１４ｎｍ、また飽和反射率となる膜厚は
ほぼ４０ｎｍであった。
【００４５】ＤＶＤ−ＲＯＭの規格では、反射率が４５
〜８５％と規定されているので、ＤＶＤ−ＲＯＭとの再
生互換を保持するためには、本発明の光ディスクの反射
膜における反射率を４５％以上とすることが要求され
る。そのためには、反射率の膜厚を１４ｎｍ以上とする
必要があることが図３のグラフに示されている。さら
に、反射膜の膜厚変動を抑制して一定の反射率を得るた
めには、反射率が飽和した膜厚に設定することが製造上
望ましい。そのためには、反射率の膜厚を４０ｎｍ以上
とすることが好ましい。
【００４６】また、こうしたＡｌ系合金膜からなる反射
膜は、光波長依存性が小さいので、将来の緑、青色光ビ
ームを用いた再生にも、上述したような膜厚設定で使用
することが可能である。 （実施例２）図５に、本実施例の光ディスクの一例を模
式的に表わした断面図を示す。
【００４７】図示する光ディスクにおいては、１．２ｍ
ｍ厚ディスク基板１３の表裏の両面に記録データに応じ
たエンボスピット２が形成された記録面が設けられてい
る。こうした両面のエンボスピット２が設けられた記録
面の上には、それぞれ反射膜３が成膜され、さらにその
上にそれぞれ保護膜４がオーバーコートされている。
【００４８】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して両面の保護膜４側からそれぞれ入射し、反射膜
３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録デ
ータとして検出することによって行なわれる。本実施例
の光ディスクは両面に記録面が形成されているので両表
面から再生することができ、単純に単面の場合の２倍の
記録容量を確保することが可能となる。
【００４９】ここで、本実施例の光ディスクに用いられ
る両面に記録面を有する１．２ｍｍ厚ディスク基板１３
を、射出成形法により作製するための金型の一例を図６
に模式的に示す。
【００５０】まず、ディスクの一方の面をＡ面、他方の
面をＢ面とすると、従来のマスタリングでＡ面用のスタ
ンパー７ａおよびＢ面用のスタンパー７ｂをそれぞれ作
製し、Ａ面のスタンパー７ａの中央に精度よく中心穴８
を形成する。Ｂ面のスタンパー７ｂにも、同様にして中
心穴１４を形成する。
【００５１】金型９の一方の面の中央部には、Ａ面用ス
タンパー７ａの中心穴８に対応した穴径精度の突起１６
を設け、金型１５の一方の面の中央部には、Ｂ面用スタ
ンパー７ｂの中心穴１４に対応した穴径精度の突起１７
を設けておく。こうした突起１６，１７を設けることに
より、Ａ面用スタンパー７ａの中心穴８とＢ面用スタン
パー７ｂの中心穴１４とを揃えることができる。
【００５２】射出成形用の金型９の片面にＡ面用スタン
パー７ａを記録面が内側となるように設置し、Ａ面用ス
タンパーの中心穴８を金型９の突起１６に配設する。対
向する他方の金型１５にも、記録面が内側となるようＢ
面用スタンパー７ｂを設置し、Ｂ面用スタンパーの中心
穴１４を金型１５の突起１７に配設する。こうして突起
１６および１７にスタンパーの中心穴８，１４をそれぞ
れはめ込んだ状態で、Ａ面用スタンパー７ａの中心穴８
とＢ面用スタンパー７ｂの中心穴１４とを一致させる。
【００５３】次いで、Ａ面用スタンパー７ａの記録面と
Ｂ面用スタンパー７ｂの記録面とを対向させて配置し、
加熱され溶融状態とした樹脂を樹脂導入口１２から、こ
れらの間に充填する。その後、金型のＡ面用スタンパー
７ａまたはＢ面用スタンパー７ｂを押し出して、金型の
Ａ面用スタンパー７ａとＢ面用スタンパー７ｂとの間隔
を所定の間隔とする。具体的には、樹脂が冷却硬化後で
きあがった基板の厚さが１．２ｍｍとなるように金型の
Ａ面用スタンパー面７ａとＢ面用スタンパー面７ｂとの
間隔を設定する。
【００５４】以上の工程によって、両面に記録面が形成
された１．２ｍｍ厚のディスク基板１３を１回の射出成
形で形成することができる。こうして形成された記録面
上に反射膜３を形成するに当たっては、例えば、反射膜
材料を真空蒸着またはスパッタ法で成膜する方法が用い
られる。ディスクの両側に蒸着源またはスパッタターゲ
ット材を対向して配置し、対向蒸着または対向スパッタ
することによって、２つの記録面上に同時に反射膜を成
膜することができる。あるいは、一方の記録面をマスク
材でマスクして、片面ずつ順次反射膜を成膜することも
できる。
【００５５】保護膜４のオーバーコートは、一方の反射
膜３をマスク材でマスクして、片面ずつ順次スピンコー
トしてＵＶ硬化樹脂を塗布して樹脂膜を成膜した後、Ｕ
Ｖ炉でこれを硬化することで容易に形成することができ
る。あるいは、２つの反射膜３上に同時にオーバーコー
ト保護膜４を形成してもよい。この場合は、まず、治具
を工夫してディスクを支持して回転させ、ディスクの両
側から反射膜上に同時にスピンコートしてＵＶ硬化樹脂
を塗布し樹脂膜を成膜する。次いで、ＵＶランプが対向
して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させて硬化す
る。こうした工程によって、２つの反射膜上に同時にオ
ーバーコート保護膜４を形成することができる。 （実施例３）図７に、本実施例の光ディスクの一例を模
式的に表わした断面図を示す。
【００５６】図示する光ディスクにおいては、１．２ｍ
ｍ厚ディスク基板１の一方の表面に、記録データに応じ
たエンボスピット２が形成された記録面が設けられてい
る。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上
には、反射膜３が成膜され、さらにその上に第１の保護
膜４、および第２の保護膜１８が順次オーバーコートさ
れている。
【００５７】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜１８側から入射し、反射膜３からの反射
光の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検
出することによって行なわれる。
【００５８】本実施例の光ディスクを構成するための
１．２ｍｍ厚ディスク基板１、エンボスピット２、反射
膜３および保護膜４は、前述の実施例１の光ディスクの
場合と同様とすることができる。
【００５９】保護膜４の上に配置される保護膜１８は、
例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成すること
ができる。この保護膜１８は、例えば紫外線硬化樹脂を
スピンコート法により保護膜４の表面に塗布し樹脂膜を
成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより
形成される。このオーバーコート保護膜１８の膜厚は、
実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下である
ことが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の
膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層１８の膜
厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍであることが好
ましい。また、反射膜３との光干渉を生じない膜厚であ
ることが望まれる。
【００６０】保護膜１８の材質は、上述したような紫外
線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使用され
る光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれ
ば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例え
ば、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたは
これらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリ
ング法などにより形成することもできる。
【００６１】また保護膜１８は、使用される光の波長に
対して透明な材料であればよく、上述した材料や形成方
法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．０００
１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料からなるフ
ィルム状、または板状のものを用いることもできる。こ
うした樹脂フィルム等は、保護膜４をスピンコートする
際に保護膜４の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射して硬化さ
せることで、保護膜４の上に接着することができる。
【００６２】ただし、再生に使用する光ビームの波長で
の保護膜１８の屈折率ｎ2 は、再生に使用する光ビーム
の波長での保護膜４の屈折率ｎ1 より小さいか等しい材
料であることが必要である。保護膜１８の光屈折率が保
護膜４の光屈折率より大きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、
保護膜１８と保護膜４との界面における光反射が大きく
なって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してし
まう。
【００６３】したがって、図７に示したような保護膜を
２層積層した構成の光ディスクとする場合には、保護膜
１８としては、その光屈折率ｎ2 が保護膜４の光屈折率
ｎ1よりも小さいか等しく、透明な材料を用いることが
必要である。
【００６４】本実施例の光ディスクにおいては、保護膜
４の上にさらに保護膜１８を配設しているので、ディス
ク表面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り
扱い上の傷等を防止することが可能となった。 （実施例４）図８に、本実施例の光ディスクの一例を模
式的に表わした断面図を示す。
【００６５】図示する光ディスクにおいては、１．２ｍ
ｍ厚ディスク基板１３の表裏の両面に記録データに応じ
たエンボスピット２，２２が形成された記録面がそれぞ
れ設けられている。エンボスピット２が設けられた記録
面の上には、反射膜３、第１の保護膜４、および第２の
保護膜１８が順次形成されており、他方のエンボスピッ
ト２２が設けられた記録面の上には、反射膜２３、第１
の保護膜２４、および第２の保護膜１９が順次形成され
ている。
【００６６】前述の実施例３では、ディスク基板の片面
のみに記録面を設けたが、本実施例では、ディスク基板
の両面に記録面を設ける以外は前述と同様の構成とした
ものである。したがって、本実施例の光ディスクを構成
するための１．２ｍｍ厚両面ディスク基板１３は、前述
の実施例２の場合と同様とすることができ、エンボスピ
ット２、反射膜３および保護膜４等は、前述の実施例１
の場合と同様とすることができる。
【００６７】第１の保護膜４，２４の上に配置される第
２の保護膜１８，１９は、例えば、従来の紫外線硬化樹
脂などにより形成することがきる。このような保護膜１
８，１９は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法
により保護膜４，２４の表面に塗布して樹脂膜を成膜
し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成
される。
【００６８】第２の保護膜１８，１９を片面ずつ形成す
る場合には、第１の保護膜の一方の面をマスク材でマス
クして、片面ずつ順次スピンコートしてＵＶ硬化樹脂を
塗布して樹脂膜を成膜した後、ＵＶ炉でこれを硬化する
ことにより容易に形成することができる。あるいは、両
面の第１の保護膜上に同時に第２の保護膜を形成しても
よい。この場合は、まず、治具を工夫してディスクを支
持して回転させ、ディスクの両側から同時にスピンコー
トしてＵＶ硬化樹脂を塗布し樹脂膜を成膜する。次い
で、ＵＶランプが対向して設置されたＵＶ炉にディスク
を通過させて硬化する。こうした工程によって、両面の
第１の保護膜４，２４上に同時に第２のオーバーコート
保護膜１８，１９を形成することができる。
【００６９】このオーバーコート保護膜１８，１９の膜
厚は、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下
であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化
樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層１
８，１９の膜厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍで
あることが好ましい。また、反射膜３，２３との光干渉
を生じない膜厚であることが好ましい。
【００７０】保護膜１８，１９の材質は、上述したよう
な紫外線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使
用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料
であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよ
い。例えば、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、
ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2 Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ
またはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパ
ッタリング法などで形成することができる。
【００７１】こうした材料を用いて第２の保護膜１８，
１９を両面に同時に成膜する場合には、ディスクの両側
に蒸着源またはスパッタターゲット材を対向して配置
し、対向蒸着または対向スパッタすればよい。あるい
は、一方の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次成膜
することもできる。
【００７２】また保護膜１８，１９は、使用される光の
波長に対して透明な材料であればよく、上述した材料や
形成方法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．
０００１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料から
なるフィルム状、または板状のものを用いることもでき
る。こうした樹脂フィルム等は、保護膜４，２４をスピ
ンコートする際に保護膜の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射
して硬化させることで保護膜４、２４の上に接着するこ
とができる。
【００７３】こうした樹脂フィルム等を貼り付けて保護
膜１８，１９を形成する場合には、まず、反射膜の一方
の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次ＵＶ硬化樹脂
を塗布して樹脂膜を成膜する。次いで、その上に保護膜
１８，１９を載せてスピンコートする。最後に、ＵＶ炉
で硬化することにより容易に形成することができる。あ
るいは、保護膜１８，１９を同時に形成してもよい。こ
の場合は、まず、治具を工夫してディスクを支持してＵ
Ｖ硬化樹脂を両面に塗布し、その両面上に保護膜１８，
１９を載せスピンコート回転させる。次いで、ＵＶラン
プが対向して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させる
ことで、両面に同時に保護膜１８，１９が形成される。
【００７４】ディスクの両面の保護膜１８，１９を光ビ
ームの作動距離に応じた厚さとし、かつこれら２つの保
護膜をディスクの上下面で同じ厚さとすることで、ディ
スクの両面を同じ作動距離の光学ヘッドで再生すること
ができる。
【００７５】ただし、再生に使用する光ビームの波長で
の第２の保護膜１８，１９の屈折率ｎ2 は、再生に使用
する光ビームの波長での第１の保護膜４，２４の屈折率
ｎ1よりそれぞれ小さいか等しい材料であることが必要
である。例えば、保護膜１８の光屈折率が保護膜４の屈
折率より大きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、保護膜１８と
保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面
からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。保護膜
１９と保護膜２４との間においても、保護膜１９の光屈
折率が保護膜２４の屈折率より大きい場合には、これと
同様の不都合が生じる。
【００７６】したがって、図８に示したような保護膜を
２層積層した構成の光ディスクとする場合には、第２の
保護膜１８，１９としては、その光屈折率ｎ2 が第１の
保護膜４，２４の光屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等
しく、透明な材料を用いることが必要である。
【００７７】本実施例の光ディスクは、第１の保護膜
４，２４の両面上にさらに第２の保護膜１８，１９がそ
れぞれ配設された構成である。前述の実施例３では、一
方の面のみに記録面を形成した片面仕様であったが、本
実施例では、さらにディスクの他方の面にも記録面を設
けて両面仕様としたものである。
【００７８】このように両面仕様としたことで、ディス
クの記録容量の２倍化が容易に可能となる。また、両面
の保護膜４，２４の両面上にさらに保護膜１８，１９を
それぞれ配設しているのでディスク両面の機械的強度を
高めるとともに、ディスクの取り扱い上の傷等を防止す
ることが可能となった。 （実施例５）前述の実施例４では、ディスクの両面の第
２の保護膜１８と１９との膜厚を同じとしたが、ディス
クの上下面に設けられる保護膜１８と１９との膜厚を異
なる厚さとすることも可能である。
【００７９】例えば、図８に示した光ディスクにおい
て、一方の保護膜１８の膜厚を０．０００１〜０．６ｍ
ｍとし、他方の保護膜１９の膜厚を０．６ｍｍとした場
合には、次のような利点が得られる。すなわち、保護膜
１８側の面を、作動距離の短い光ヘッド用の記録再生面
として使用し、保護膜１９側の面は、従来のＤＶＤ仕様
に対応した光ヘッド用の記録再生面として使用すること
が可能となる。 （実施例６）前述の実施例５では、ディスクの両面の第
２の保護膜１８と１９との膜厚を異なる厚さとしたが、
この場合さらに、基板１２の厚さを調整することで、デ
ィスク全体の厚さを１．２ｍｍとすることができる。
【００８０】例えば、図８に示した光ディスクにおい
て、一方の保護膜１８の厚さを０．１ｍｍとし、他方の
保護膜１９の厚さを０．６ｍｍとした場合には、ディス
ク基板１３の厚さを０．５ｍｍとすると、ディスク全体
の厚さが１．２ｍｍとなる。それによって、従来のＣ
Ｄ、ＤＶＤディスクと同等のディスク厚さを実現するこ
とができるので、ディスクの取り扱い上の互換性が保持
できる。 （実施例７）図９には、本実施例の光ディスクの一例を
模式的に表わした断面図を示す。
【００８１】図示する光ディスクにおいては、１．２ｍ
ｍ厚ディスク基板２５の一方の表面に光ビーム５のトラ
ッキング用の案内溝２６が形成され、その上に反射膜２
７、下保護膜２８、記録膜２９、および上保護膜３０が
順次成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコー
トされている。
【００８２】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録
膜２９からの反射光の光強度変化を記録データとして検
出することによって行なわれる。
【００８３】光ディスク基板２５は、安定で経時変化が
少ない材料により構成することができる。用い得る材料
としては、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）のようなアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、スチレン樹脂、ガラス、Ａｌなどの金属、
合金、およびセラミック等が挙げられる。こうした材料
で構成された光ディスク基板２５上には、記録フォーマ
ットに応じて、グループトラック、ランドトラック、プ
リフォーマットマーク等が形成される。
【００８４】反射膜２７は、この上に下保護膜２８を介
して形成される記録膜２９の光学変化を光学的にエンハ
ンスして再生信号を増大させる効果と、記録膜２９の冷
却効果とを有している。この反射膜２７は、Ａｕ、Ａ
ｌ、Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｒ、またはこれらを主成分とした合
金等の金属膜を真空蒸着法やスパッタリング法等などに
より形成することができる。反射膜２７の膜厚は、実用
上、数ｎｍ〜数μｍである。
【００８５】記録膜２９は、光ビームの照射条件によっ
て結晶構造が変化する相変化膜により構成される。この
ような相変化型材料としては、ＧｅＴｅ系、ＴｅＳｅ
系、ＧｅＳｂＳｅ系、ＴｅＯx 系、ＩｎＳｅ系、および
ＧｅＳｂＴｅ系等のカルコゲナイド系アモルファス半導
体材料や、ＩｎＳｂ系、ＧａＳｂ系、およびＩｎＳｂＴ
ｅ系などの化合物半導体材料などを用いることができ
る。
【００８６】上述したような材料を用いて、真空蒸着法
やスパッタリング法等により記録膜２９を形成すること
ができる。この記録膜２９の膜厚は、実用上数ｎｍから
数μｍである。
【００８７】下保護膜２８および上保護膜３０は、記録
膜２９を挟むようにこの上下に配設されており、記録ビ
ームの照射により記録膜２９が飛散したり、穴があいて
しまうことを防止する役割を有している。また記録時に
おける記録膜２９の加熱、冷却の熱拡散を制御する働き
もある。こうした下保護膜２８および上保護膜３０は、
例えばＳｉＯ2 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ2 Ｏ3 、ＺｒＯ
2 、ＴｉＯ2 、Ｔａ2Ｏ3 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたは
これらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリ
ングなどで形成することができる。下保護膜２８および
上保護膜３０の膜厚は、実用上数ｎｍ〜数μｍである。
【００８８】上保護膜３０上のオーバーコート保護膜４
は、相変化光ディスクを取り扱ううえでの、傷やほこり
等を防止するために配設されるものであり、通常、紫外
線硬化樹脂などにより形成される。この保護膜４は、例
えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により上保護膜３
０の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化させることに
より形成することができる。オーバーコート保護膜４の
膜厚としては、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６
ｍｍ以下とすることが好ましい。スピンコート法での紫
外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート
保護膜４の膜厚は、０．０００１〜０．１ｍｍとするこ
とが実用上好ましい。さらに、反射膜２７との光干渉を
生じない膜厚であることが望まれる。
【００８９】以上、相変化記録膜の相構成として４層構
成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各
層の多層化等も可能である。 （実施例８）図１０に、本実施例の光ディスクの一例を
模式的に表わした断面図を示す。
【００９０】図示する光ディスクにおいて、ディスクの
一方の面は図９に示したものと同様の構成である。すな
わち、１．２ｍｍ厚ディスク基板３１の一方の表面には
光ビーム５のトラッキング用案内溝２６が形成され、そ
の上に反射膜２７、下保護膜２８、記録膜２９、および
上保護膜３０が順次成膜され、さらにその上に保護膜４
がオーバーコートされている。
【００９１】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録
膜２９からの反射光の光強度変化を記録データとして検
出することによって行なわれる。
【００９２】ディスクの他方の面は、次のような構成で
ある。すなわち、１．２ｍｍ厚ディスク基板３１の表面
に光ビーム３２のトラッキング用の案内溝３４が形成さ
れ、その上に反射膜３５、下保護膜３６、記録膜３７、
上保護膜３８が成膜され、さらにその上に保護膜３９が
オーバーコートされている。
【００９３】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム３２を対物レンズ３
３で集光して保護膜３９側から入射し、記録マークによ
る記録膜３７からの反射光の光強度変化を光記録データ
として検出することによって行なわれる。
【００９４】本実施例の光ディスクを構成するためのデ
ィスク基板の材質および各膜の特性は、前述の実施例７
で述べたものと同様である。両面への反射膜、記録膜、
各保護膜の形成に当たっては、前述の実施例４の場合と
同様の方法を適用することができる。
【００９５】上保護膜３０，３８上のオーバーコート保
護膜４，３９は、相変化光ディスクを取り扱ううえで
の、傷やほこり等を防止するために配設されるものであ
り、通常、紫外線硬化樹脂などにより形成される。この
保護膜４，３９は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコー
ト法により上保護膜３０，３８の表面に塗布し、紫外線
を照射して硬化させることにより形成することができ
る。保護膜４，３９の膜厚としては、実用上数μｍ〜数
ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。
スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮す
ると、オーバーコート保護膜４，３９の膜厚は、０．０
００１〜０．１ｍｍとすることが実用上が好ましい。さ
らに、反射膜２７，３５との光干渉を生じない膜厚であ
ることが望まれる。
【００９６】以上、相変化記録膜の相構成として４層構
成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各
層の多層化等も可能である。 （実施例９）前述の実施例７で説明したような図９に示
される構成の光ディスクにおいて、保護膜４の上にさら
に保護膜を配設して、前述の実施例３で説明したような
図７に示されるものと同様の構成とすることもできる。
【００９７】保護膜４の上にさらに保護膜１８を配設す
ることによって、ディスク表面の機械的強度を高めると
ともに、ディスク取り扱い上の傷等を防止することが可
能となる。
【００９８】この場合、すでに説明したように、再生に
使用する光ビームの波長での保護膜１８の屈折率ｎ2
は、再生に使用する光ビームの波長での保護膜４の屈折
率ｎ1より小さいか等しい材料であることが必要であ
る。保護膜１８の光屈折率が保護膜４の光屈折率より大
きい場合（ｎ2 ＞ｎ1 ）には、保護膜１８と保護膜４と
の界面における光反射が大きくなって記録面からの信号
が低下し、光効率が低下してしまう。
【００９９】したがって、保護膜を２層積層した構成の
光ディスクとする場合には、保護膜１８としては、その
光屈折率ｎ2 が保護膜４の光屈折率ｎ1 よりも小さいか
等しく、透明な材料を用いることが必要である。 （実施例１０）前述の実施例８で説明したような図１０
に示される構成の光ディスクにおいて、保護膜４，３９
の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例４で説明
したような図８に示されるものと同様の構成とすること
もできる。
【０１００】両面の保護膜４，３９の両面上にさらに保
護膜１８，１９を配設することによって、ディスク両面
の機械的強度を高めるとともに、ディスク取り扱い上の
傷等を防止することが可能となる。
【０１０１】この場合、すでに説明したように、再生に
使用する光ビームの波長での第２の保護膜１８，１９の
屈折率ｎ2 は、再生に使用する光ビームの波長での第１
の保護膜４，２４の屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等
しい材料であることが必要である。例えば、保護膜１８
の光屈折率が保護膜４の屈折率より大きい場合（ｎ2＞
ｎ1 ）には、保護膜１８と保護膜４との界面における光
反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率
が低下してしまう。保護膜１９と保護膜２４との間にお
いても、保護膜１９の光屈折率が保護膜２４の屈折率よ
り大きい場合には、これと同様の不都合が生じる。
【０１０２】したがって、保護膜を２層積層した構成の
光ディスクとする場合には、第２の保護膜１８，１９と
しては、その光屈折率ｎ2 が第１の保護膜４，２４の光
屈折率ｎ1 よりそれぞれ小さいか等しく、透明な材料を
用いることが必要である。 （実施例１１）前述の実施例１〜１０で説明した光ディ
スクにおいて、ディスクの表面のうち、光ビームが照射
されて情報の記録再生に使用される側の面は、いずれも
平滑な面とする。ディスクの表面が平滑であればゴミが
あっても付着しにくく、ゴミの付着防止の効果を得るこ
とができる。またディスクの表面が平滑であれば、対物
レンズのディスクへの接触を防止するという効果も得ら
れる。
【０１０３】各図面に示した光ディスク表面の保護膜
４，２４，３９は、その内側、すなわちディスク内側
に、記録エンボスまたはトラッキング用のグルーブによ
る凹凸面を有している。一方、ディスク外側の面は、こ
うした保護膜を厚く形成することで内側の凹凸面を反映
せずに平滑化することができる。
【０１０４】なお、ディスク基板の記録面の凹凸は再生
に使用される光ビームの波長λに対して、λ／（８ｎ）
（ｎは表面保護膜の前記光波長での光屈折率である）前
後の大きさで形成される。ディスク基板の記録面から光
ビームが照射される表面（被照射面）までの距離は、概
してその１０倍以上であることが、表面の平滑化の面か
ら望まれる。したがって、ディスク基板の記録面から光
ビームが照射される表面までの距離は、５λ／（４ｎ）
以上であることが好ましい。
【０１０５】さらに光ビームが照射される面（被照射
面）における光回折現象を低減するために、この被照射
面の表面粗さは、λ／（８ｎ）より小さいことが要求さ
れる。被照射面の表面粗さは、λ／（８ｎ）の１／２以
下であるλ／（１６ｎ）以下であることが望ましい。
【０１０６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度
とを確保し得る情報記録媒体が提供される。また本発明
によれば、こうした情報記録媒体に用いられる樹脂基板
の製造方法が提供される。
【０１０７】本発明の方法により、両面に記録面を有す
る基板を容易に製造することができ、基板の貼り合わせ
が不要となるので、ディスクの製造プロセスが簡略化さ
れる。また貼り合わせのための接着剤等の材料も不要と
なるので、より安価に大容量のディスクを製造すること
ができる。
【０１０８】さらに、本発明の情報記録媒体において
は、表面保護膜を従来の０．６ｍｍより薄くしても機械
的強度を確保することが可能となり、その工業的価値は
絶大である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の情報記録媒体の一例を模式的に表わす
断面図。
【図２】図１に示した情報記録媒体に用いられるディス
ク基板を製造するための金型を模式的に表わす概略図。
【図３】反射膜の膜厚と反射率との関係を表わすグラフ
図。
【図４】反射膜の膜厚の光波長依存性を表わすグラフ
図。
【図５】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わ
す断面図。
【図６】図５に示した情報記録媒体に用いられるディス
ク基板を製造するための金型を模式的に表わす概略図。
【図７】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わ
す断面図。
【図８】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わ
す断面図。
【図９】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わ
す断面図。
【図１０】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表
わす断面図。
【符号の説明】
１…片面光ディスク基板 ２，２２…エンボスピット ３，２３…反射膜 ４，２４…保護膜 ５，２０…光ビーム ６，２１…対物レンズ ７…スタンパー ７ａ…Ａ面用スタンパー ７ｂ…Ｂ面用スタンパー ８，１４…中心穴 ９，１１，１５…金型 １０，１６，１７…突起 １２…樹脂導入口 １３…両面光ディスク基板 １８，１９…第２の保護膜 ２５…片面光ディスク基板 ２６，３４…トラッキング用案内溝 ２７，３５…反射膜 ２８，３６…下保護膜 ２９，３７…記録膜 ３０，３８…上保護膜 ３１…両面光ディスク基板 ３２…光ビーム ３３…対物レンズ ３９…オーバーコート保護膜

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
    た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
    膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第１の
    表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つ
    の面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビ
    ームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録
    情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前
    記基板の厚さより小さく、前記第１の表面は平滑である
    ことを特徴とする情報記録媒体。
  2. 【請求項２】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
    た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
    膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第１の
    表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つ
    の面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビ
    ームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録
    情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、５
    λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは光ビームの波長
    であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率で
    ある）であり、 前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
    り、 前記第１の表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記
    波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であること
    を特徴とする情報記録媒体。
  3. 【請求項３】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
    た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
    膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第１の
    表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つ
    の面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビ
    ームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録
    情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前
    記基板の厚さより小さく、前記反射膜の膜厚は１４ｎｍ
    以上であることを特徴とする情報記録媒体。
  4. 【請求項４】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
    た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
    膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第１の
    表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つ
    の面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビ
    ームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録
    情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、５
    λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは光ビームの波長
    であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率で
    ある）であり、 前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
    り、 前記反射膜はアルミニウムを主成分とする合金膜から構
    成され、その膜厚が１４ｎｍ以上であって、光波長４０
    ０〜８００ｎｍにおいて反射率が１５％以上８５％以下
    であることを特徴とする情報記録媒体。
  5. 【請求項５】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れ、対向する第１および第２の記録面を有する基板と、 この基板の第１の面および第２の記録面にそれぞれ形成
    された第１および第２の反射膜と、 この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
    第１および第２の保護膜とを具備し、 前記第１および第２の保護膜側からそれぞれ光ビームを
    照射して、その反射光の光強度変化に基づいて記録情報
    を再生する情報記録媒体であって、 前記情報記録媒体の一方の表面から他方の表面までの距
    離は、１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録
    媒体。
  6. 【請求項６】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れ、対向する第１および第２の記録面を有する基板と、 この基板の前記第１および第２の記録面にそれぞれ形成
    された第１および第２の反射膜と、 この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
    第１および第２の保護膜とを具備し、 前記第１の保護膜が形成された側である第１の表面と、
    前記第２の保護膜が形成された側である第２の表面との
    ２つの面により表面が構成され、 前記第１の表面側および第２の表面側から、それぞれ光
    ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記
    録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの距
    離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表面
    までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．６ｍｍ以下（λ
    は光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記第
    １または第２の保護膜の光屈折率である）であり、 前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
    り、 前記第１の表面から第２の表面までの距離は１．２ｍｍ
    以下であることを特徴とする情報記録媒体。
  7. 【請求項７】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れ、対向する第１および第２の記録面を有する基板と、 この基板の前記第１および第２の記録面にそれぞれ形成
    された第１および第２の反射膜と、 この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
    第１および第２の保護膜とを具備し、 前記第１の保護膜が形成された側である第１の表面と、
    前記第２の保護膜が形成された側である第２の表面との
    ２つの面により表面が構成され、 前記第１の表面側および第２の表面側からそれぞれ光ビ
    ームを照射して、その反射光の光強度変化に基づいて記
    録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの距
    離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表面
    までの距離は、前記基板の厚さより小さく、 前記第１および第２の反射膜の膜厚は１４ｎｍ以上であ
    ることを特徴とする情報記録媒体。
  8. 【請求項８】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れ、対向する第１および第２の記録面を有する基板とこ
    の基板の前記第１および第２の記録面にそれぞれ形成さ
    れた第１および第２の反射膜と、 この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された
    第１および第２の保護膜とを具備し、 前記第１の保護膜が形成された側である第１の表面と、
    前記第２の保護膜が形成された側である第２の表面との
    ２つの面により表面が構成され、 前記第１の表面側および第２の表面側からそれぞれ光ビ
    ームを照射して、その反射光の光強度変化に基づいて記
    録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの距
    離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表面
    までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．６ｍｍ以下（λ
    は光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記第
    １または第２の保護膜の光屈折率である）であり、 前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
    り、 前記第１および第２の反射膜はアルミニウムを主成分と
    する合金膜から構成され、その膜厚が１４ｎｍ以上であ
    って、光波長４００〜８００ｎｍにおいて反射率が１５
    ％以上８５％以下であることを特徴とする情報記録媒
    体。
  9. 【請求項９】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
    た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１
    の保護膜と、この第１の保護膜上に形成された第２の保
    護膜とを具備し、前記第２の保護膜側から光ビームを照
    射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再
    生する情報記録媒体であって、 前記光ビームの光波長における前記第１の保護膜の屈折
    率ｎ1 および前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数
    式（１）で表わされる関係を満足する情報記録媒体。 ｎ1 ≧ｎ2 （１）
  10. 【請求項１０】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第
    １の保護膜と、この第１の保護膜上に形成された第２の
    保護膜とを具備し、前記第２の保護膜側から光ビームを
    照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を
    再生する情報記録媒体であって、 前記第１の保護膜は、誘電体膜または紫外線硬化樹脂か
    らなり、 前記第２の保護膜は、誘電体膜、紫外線硬化樹脂、樹脂
    フィルムまたは樹脂円盤からなり、 前記光ビームの光波長における前記第１の保護膜の屈折
    率ｎ1 および前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数
    式（１）で表わされる関係を満足する情報記録媒体。 ｎ1 ≧ｎ2 （１）
  11. 【請求項１１】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を対向する２つの側に有する基板と、 この基板の前記２つの記録面にそれぞれ形成された反射
    膜と、 この反射膜の上にそれぞれ形成された第１の保護膜と、 この第１の保護膜の上にそれぞれ形成された第２の保護
    膜とを具備し、 前記第２の保護膜側から光ビームをそれぞれ照射して、
    その反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する
    情報記録媒体であって、 前記光ビームの光波長における前記第１の保護膜の屈折
    率ｎ1 および前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数
    式（１）で表わされる関係を満足する情報記録媒体。 ｎ1 ≧ｎ2 （１）
  12. 【請求項１２】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を対向する２つの側に有する基板と、 この基板の前記２つの記録面上にそれぞれ形成された反
    射膜と、 この反射膜の上にそれぞれ形成された第１の保護膜と、 この第１の保護膜の上にそれぞれ形成された第２の保護
    膜とを具備し、 前記第２の保護膜側から光ビームをそれぞれ照射して、
    その反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する
    情報記録媒体であって、 前記第１の保護膜は、誘電体膜または紫外線硬化樹脂か
    らなり、 前記第２の保護膜は、誘電体膜、紫外線硬化樹脂、樹脂
    フィルムまたは樹脂円盤からなり、 前記光ビームの光波長における前記第１の保護膜の屈折
    率ｎ1 および前記第２の保護膜の屈折率ｎ2 は、下記数
    式（１）で表わされる関係を満足する情報記録媒体。 ｎ1 ≧ｎ2 （１）
  13. 【請求項１３】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第
    １の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変
    化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保
    護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜
    とを具備し、 この第３の保護膜が形成された側である第１の表面と、
    この第１の表面に対向する第２の表面との２つの面によ
    り表面が構成され、前記第１の表面側から光ビームを照
    射してその反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再
    生する情報記録媒体であって、 前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前
    記基板の厚さより小さく、前記第１の表面は平滑である
    ことを特徴とする情報記録媒体。
  14. 【請求項１４】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第
    １の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変
    化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保
    護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜
    とを具備し、 この第３の保護膜が形成された側から光ビームを照射し
    てその反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生す
    る情報記録媒体であって、 一方の表面から他方の表面までの距離は１．２ｍｍ以下
    であることを特徴とする情報記録媒体。
  15. 【請求項１５】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第
    １の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変
    化記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保
    護膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜
    とを具備し、 この第３の保護膜が形成された側から光ビームを照射し
    てその反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再生す
    る情報記録媒体であって、 前記第３の保護膜の厚さは、５λ／（４ｎ）以上０．６
    ｍｍ以下（λは光ビームの波長であり、ｎは前記波長λ
    の光の前記第３の保護膜の光屈折率である）であり、 前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
    り、 一方の表面から他方の表面までの距離が１．２ｍｍ以下
    であることを特徴とする情報記録媒体。
  16. 【請求項１６】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を対向する２つの側に有する基板と、この基
    板の前記２つの記録面にそれぞれ形成された反射膜と、
    この反射膜の上にそれぞれ形成された第１の保護膜と、
    この保護膜の上にそれぞれ形成された相変化記録膜と、
    この相変化記録膜上にそれぞれ形成された第２の保護膜
    と、この第２の保護膜上にそれぞれ形成された第３の保
    護膜とを具備し、この第３の保護膜側から光ビームをそ
    れぞれ照射してその反射率の光強度変化に基づいて記録
    情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の記録面からこの上に積層された膜の最表面ま
    での距離は前記基板の厚さより小さく、前記最表面は平
    滑であることを特徴とする情報記録媒体。
  17. 【請求項１７】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を対向する２つの側に有する基板と、この基
    板の前記２の記録面にそれぞれ形成された反射膜と、こ
    の反射膜の上にそれぞれ形成された第１の保護膜と、こ
    の保護膜の上にそれぞれ形成された相変化記録膜と、こ
    の相変化記録膜上にそれぞれ形成された第２の保護膜
    と、この第２の保護膜上にそれぞれ形成された第３の保
    護膜とを具備し、この第３の保護膜側から光ビームをそ
    れぞれ照射してその反射光の光強度変化に基づいてから
    記録情報を再生する情報記録媒体であって、 一方の表面から他方の表面までの距離は１．２ｍｍ以下
    であることを特徴とする情報記録媒体。
  18. 【請求項１８】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を対向する２つの側に有する基板と、この基
    板の前記２つ記録面にそれぞれ形成された反射膜と、こ
    の反射膜の上にそれぞれ形成された第１の保護膜と、こ
    の保護膜の上にそれぞれ形成された相変化記録膜と、こ
    の相変化記録膜上にそれぞれ形成された第２の保護膜
    と、この第２の保護膜上にそれぞれ形成された第３の保
    護膜とを具備し、この第３の保護膜側から光ビームをそ
    れぞれ照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録
    情報を再生する情報記録媒体であって、 前記第３の保護膜の厚さは、５λ／（４ｎ）以上０．６
    ｍｍ以下（λは光ビームの波長であり、ｎは前記波長λ
    の光の前記第３の保護膜の光屈折率である）であり、 前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であ
    り、 一方の表面から他方の表面までの距離が１．２ｍｍ以下
    であることを特徴とする情報記録媒体。
  19. 【請求項１９】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れ、対向する第１および第２の記録面を有する樹脂基板
    の製造方法であって、 第１の記録面を形成するための第１のスタンパー盤を第
    １の金型に装着する工程と、 第２の記録面を形成するための第２のスタンパー盤を第
    ２の金型に装着する工程と、 前記第１のスタンパー盤と第２のスタンパー盤とを対向
    させて、前記第１の金型と第２の金型とを離間して配置
    する工程と、 前記第１の金型と第２の金型との間に、加熱流動した樹
    脂材料を充填する工程と、 前記第１の金型と第２の金型とを近接させて、これらの
    間の間隔を所定の距離にする工程と、 前記第１の金型と第２の金型との間に充填された樹脂材
    料を冷却固化させることにより、厚さ１．２ｍｍ以下の
    両面基板を射出成形する工程とを具備する樹脂基板の製
    造方法。
  20. 【請求項２０】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れ、対向する第１および第２の記録面を有する樹脂基板
    の製造方法であって、 第１の記録面を形成するための第１のスタンパー盤の中
    央部に第１の貫通穴を形成する工程と、 第１の金型の中央部に、第１の中心を有し前記第１のス
    タンパー盤の第１の貫通穴に対応する第１の突起を形成
    する工程と、 第２の記録面を形成するための第２のスタンパー盤の中
    央部に第２の貫通穴を形成する工程と、 第２の金型の中央部に、第２の中心を有し前記第２のス
    タンパー盤の第２の貫通穴に対応する第２の突起を形成
    する工程と、 前記第１の金型の第１の突起に、前記第１のスタンパー
    盤の中央部に設けられた第１の貫通穴をはめ込んで、前
    記第１の金型に第１のスタンパー盤を装着する工程と、 前記第２の金型の第２の突起に、前記第２のスタンパー
    盤の中央部に設けられた第２の貫通穴をはめ込んで、前
    記第２の金型に第２のスタンパー盤を装着する工程と、 前記第１のスタンパー盤と第２のスタンパー盤とを対向
    させるとともに、前記第１の金型の第１の中心と前記第
    ２の金型の第２の中心とが同心になるよう第１の金型と
    第２の金型とを合わせ、これら２つの金型を離間して配
    置する工程と、 前記第１の金型と第２の金型との間に、加熱流動した樹
    脂材料を充填する工程と、 前記第１の金型と第２の金型とを近接させて、これらの
    間の間隔を所定の距離にする工程と、 前記第１の金型と第２の金型との間に充填された樹脂材
    料を冷却固化させることにより、厚さ１．２ｍｍ以下の
    両面基板を射出成形する工程とを具備する樹脂基板の製
    造方法。
JP10091422A 1998-04-03 1998-04-03 情報記録媒体およびこれに用いられる樹脂基板の製造方法 Pending JPH11296904A (ja)

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