JPH11288874A

JPH11288874A - 露光装置および露光方法

Info

Publication number: JPH11288874A
Application number: JP10103435A
Authority: JP
Inventors: Masanori Kato; 正紀加藤; Kazuhiko Hori; 和彦堀
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-03-31
Filing date: 1998-03-31
Publication date: 1999-10-19

Abstract

(57)【要約】【課題】マスクブラインドの減光領域に形成された微
小遮光部からなるパターンおよびマスクブラインドに付
着した異物が感光性基板への転写および露光光量ムラの
原因となり難いように構成された露光装置。【解決手段】照明領域規定手段（９）は、複数のブラ
インド部材（２１、２２）の各々を所定方向に沿って移
動させるための駆動系（２３、２４）とを有する。各ブ
ラインド部材は、透光領域と、遮光領域と、減光領域と
を有する。部分的に重なり合う重複露光領域とそれ以外
の露光領域とで露光光量をほぼ一致させるために、各ブ
ラインド部材の減光領域は所定の透過率分布を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は露光装置および露光
方法に関し、特に半導体素子や液晶表示素子等の製造に
用いられる露光装置であって、感光性基板上において単
位マスクパターンを部分的に重ね合わせることによって
大面積のパターンを形成する露光装置、いわゆる画面合
成を行う露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の露光装置では、露光対象
となる感光性基板の大型化に対処するために、感光性基
板の露光領域を複数の単位露光領域に分割し、各単位露
光領域に対する露光を複数回に亘って繰り返し、最終的
に所望の大面積を有するパターンを合成する手法、すな
わち画面合成の手法が用いられている。画面合成を行う
場合、パターン投影用のマスクの描画誤差、投影光学系
のディストーション、感光性基板を位置決めするステー
ジの位置決め誤差等に起因して、各単位露光領域の境界
位置においてパターンの切れ目が発生し易い。そこで、
パターンの切れ目の発生を防止するために、各単位露光
領域の境界を微少量だけ重ね合わせることによって、換
言すると各単位露光領域を部分的に重ね合わせることに
よって、画面合成のための露光を行っている。

【０００３】しかしながら、各単位露光領域を部分的に
重ね合わせると、重ね合わせた露光領域（以下、「重複
露光領域」という）の露光光量が重複露光領域以外の露
光領域の２倍（４重複露光領域では４倍）になり、感光
剤の特性およびパターン性状によってはパターンの継ぎ
目部分の線幅が大きく変化することになる。また、画面
合成を行うと、隣接する２つの単位露光領域の間の相対
位置ずれによってパターンの継ぎ目部分に段差が発生し
て、製造デバイスの特性が損なわれることがある。さら
に、画面合成された単層のパターンを多層に重ね合わせ
る工程において各層のパターン形成を異なる露光装置に
分担させた場合、各露光装置のレンズディストーション
やステージの位置決め誤差の相違によって、各層におけ
る単位露光領域の重ね合わせ誤差がパターンの継ぎ目部
分で不連続に変化することになる。この場合、特にアク
ティブマトリックス液晶デバイスでは、パターン継ぎ目
部分でコントラストが不連続に変化して、デバイスの品
質が低下することになる。

【０００４】特開平６−２４４０７７号公報および特開
平７−２３５４６６号公報には、以上のような画面合成
上の不都合を解決する露光装置が開示されている。これ
らの公報に記載された露光装置では、マスクとほぼ共役
な位置に配置されてマスクの照明領域を規定するための
マスクブラインドに透過率が１００％から０％まで線形
的に変化する減光領域を数ｍｍの幅に亘って形成してい
る。そして、この減光領域の作用により、重複露光領域
とそれ以外の露光領域とで露光光量がほぼ等しくなるよ
うに構成している。特に上述の特開平７−２３５４６６
号公報に開示された露光装置では、露光装置の限界解像
力以下の大きさのドット状の微小遮光部を所定の密度分
布にしたがって形成することによって減光領域を形成し
ている。すなわち、減光領域における微小遮光部の密度
分布は、透光領域側から遮光領域側へ向かって線形的に
増大するように設定されている。

【０００５】上述の２つの公報に記載された露光装置で
は、マスクブラインドをマスクと共役な位置またはその
近傍に配置する必要がある。このため、マスクブライン
ドに所定の大きさ以上の微小異物が付着すると、この微
小異物が感光性基板上に転写されて製造デバイスの欠陥
になるという恐れがある。そこで、特開平７−１３５１
６６号公報では、マスクとほぼ共役な位置に配置された
マスクブラインドに対して光束を照射し、マスクブライ
ンドからの反射光束を検出する異物検査機構を付設した
露光装置を提案している。この露光装置では、簡単な構
成を有する異物検査機構により、マスクブラインドから
の光情報に基づいて異物の検査を定期的に行うことがで
きるので、感光性基板に対する異物の転写を未然に防止
することができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
７−２３５４６６号公報に開示されているように、マス
クブラインドに形成される減光領域の幅は数ｍｍであ
り、この数ｍｍ幅の狭い領域において所定の密度分布に
したがってドット状の微小遮光部を形成することにより
透過率を０％から１００％まで線形的に変化させること
は困難である。また、マスク（ひいては感光性基板）と
ほぼ共役に配置されたマスクブラインドを移動させるこ
となく露光を行うので、減光領域に形成されたドット状
の微小遮光部からなるパターン自体が感光性基板に写り
込んでしまう可能性がある。上述の公報では露光装置の
限界解像力以下の大きさのドット状の微小遮光部を所定
の密度分布にしたがって形成することが提案されている
が、密度の高い領域では互いに近接した微小遮光部から
なるパターン自体の写り込みが起こる可能性があり、ひ
いては照度ムラの原因になる可能性がある。すなわち、
マスクブラインドに形成されたドット状の微小遮光部か
らなるパターンの影響を受け、重複露光領域とそれ以外
の露光領域とで露光光量が実質的に異なってしまうだけ
でなく、部分的に露光光量ムラが起こる可能性がある。

【０００７】さらに、露光装置の限界解像力以下の大き
さのドット状の微小遮光部を所定の密度分布にしたがっ
て形成したとしても、密度の高い領域と密度の低い領域
とでは微小遮光部のピッチの差が大きく、この微小遮光
部のピッチに依存して照明光学系にて取り込める回折光
と取り込めない回析光との差が生じる。その結果、透過
率が０％から１００％まで線形的に変化するようにドッ
ト状の微小遮光部を所定の密度分布にしたがって形成し
た場合であっても、この減光領域を介してマスク（ひい
ては感光性基板）上に形成される照度分布は直線的な分
布から外れてしまう。つまり、露光装置の限界解像力以
下の大きさのドット状の微小遮光部を所定の密度分布に
したがって形成しても、マスクブラインドを移動させる
ことなく露光を行えば、感光性基板の露光領域において
局所的な露光光量ムラが発生することになる。

【０００８】また、特開平７−１３５１６６号公報に開
示されているように、簡単な構成を有する異物検査機構
によりマスクブラインドに付着した異物の検査を定期的
に行うとしても、マスクブラインドがマスクとほぼ共役
な位置に配置される以上、マスクブラインドに所定の大
きさ以上の微小異物が付着すると、この微小異物が感光
性基板上に転写されて製造デバイスの欠陥の原因になっ
てしまうということ自体に変わりは無い。発塵に対して
一般的な考慮をしても感光性基板上に転写され得るよう
な有害な大きさの異物が付着する可能性はある程度高
く、さらに気密性を高めるか吸引等の処置を施したとし
ても有害な大きさの異物の付着を回避することは不可能
である。したがって、上述の特開平７−１３５１６６号
公報に開示された露光装置では、定期的な異物検査にお
いて有害な大きさの異物がある程度頻繁に検出されるこ
とが考えられる。有害な大きさの異物が検出された場合
には、その都度マスクブラインドの清掃を行う必要があ
るため、露光装置の稼働率が低下してしまう。

【０００９】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、マスクブラインドの減光領域に形成された微
小遮光部からなるパターンおよびマスクブラインドに付
着した異物が感光性基板への転写および露光光量ムラの
原因となり難いように構成された露光装置および露光方
法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の第１発明では、転写用のパターンが形成さ
れたマスクを所定の照明光で照明するための照明光学系
と、該照明光学系の光路中において前記マスクとほぼ共
役な位置に配置されて前記マスクの照明領域を規定する
ための照明領域規定手段とを備え、感光性基板上におい
て部分的に重なり合う複数の単位露光領域に前記マスク
のパターンの像を順次露光する露光装置において、前記
照明領域規定手段は、複数のブラインド部材と、前記複
数の単位露光領域の各々への露光に際して前記複数のブ
ラインド部材の各々を前記照明光学系の光軸を横切る所
定方向に沿って常に移動させるための駆動系とを有し、
各ブラインド部材は、前記照明光を透過させるための透
光領域と、前記照明光の透過を遮るための遮光領域と、
前記透光領域と前記遮光領域との間に形成された減光領
域とを有し、前記複数の単位露光領域において部分的に
重なり合う重複露光領域と該重複露光領域以外の露光領
域とで露光光量をほぼ一致させるために、各ブラインド
部材の減光領域は前記照明光に対して所定の透過率分布
を有することを特徴とする露光装置を提供する。

【００１１】第１発明の好ましい態様によれば、前記照
明領域規定手段は、前記マスクと共役な位置を挟むよう
に前記照明光学系の光軸に沿って所定の間隔を隔てて配
置された２つのブラインド部材を有し、前記駆動系は、
前記感光性基板上における前記重複露光領域の幅に対応
する所定距離だけ前記照明光学系の光軸と直交する第１
方向に沿って各ブラインド部材を駆動し、各ブラインド
部材において、前記減光領域は前記第１方向に沿って矩
形状に延び、前記透光領域と前記遮光領域との境界線は
前記照明光学系の光軸と直交する平面内において前記第
１方向と直交する第２方向に沿って延びている。

【００１２】また、本発明の第２発明では、転写用のパ
ターンが形成されたマスクを所定の照明光で照明する際
に前記マスクとほぼ共役な位置に配置された複数のブラ
インド部材によって前記マスクの照明領域を規定し、前
記マスクの前記照明領域に形成されたパターンの像を感
光性基板上において部分的に重なり合う複数の単位露光
領域に順次露光する露光方法において、前記複数のブラ
インド部材の各々は、前記照明光を透過させるための透
光領域と、前記照明光の透過を遮るための遮光領域と、
前記透光領域と前記遮光領域との間に形成されて前記照
明光に対して所定の透過率分布を有する減光領域とを有
し、前記複数の単位露光領域において部分的に重なり合
う重複露光領域と該重複露光領域以外の露光領域とで露
光光量をほぼ一致させるために、前記複数のブラインド
部材の各々を基準光軸を横切る所定方向に沿って移動さ
せることを特徴とすることを露光方法を提供する。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明では、マスクとほぼ共役な
位置に配置されてマスクの照明領域を規定するための照
明領域規定手段としてのマスクブラインドが、複数のブ
ラインド部材、たとえばマスクと共役な位置を挟むよう
に所定の間隔を隔てて配置された２つのブラインド部材
で構成されている。一対のブラインド部材の各々には、
露光光（照明光）を透過させるための透光領域と、露光
光の透過を遮るための遮光領域と、露光光に対して所定
の透過率分布を有する減光領域とが形成されている。そ
して、感光性基板上において部分的に重なり合う各単位
露光領域への露光に際して、各ブラインド部材を基準光
軸を横切る所定方向に沿って常に移動する。その結果、
感光性基板上の複数の単位露光領域において部分的に重
なり合う重複露光領域とそれ以外の露光領域とで露光光
量がほぼ一致した所望の露光光量分布を得ることができ
る。

【００１４】さらに具体的な形態によれば、減光領域は
各ブラインド部材の移動方向に沿って矩形状に延び、透
光領域と遮光領域との境界線からなるエッジパターンは
移動方向と直交する方向に沿って延びている。ここで、
各ブラインド部材の移動距離に対応する幅の任意の減光
領域において、移動方向に沿って積算された積算透過率
が移動方向と直交する方向に沿って透光領域側から遮光
領域側へほぼ線形的に減少している。各ブラインド部材
は、感光性基板上において重複露光領域の幅に対応する
所定距離だけ互いに異なる向きにほぼ一定の速度で移動
する。その結果、ブラインド部材の減光領域およびマス
クのパターン領域を通過した光により重複露光領域への
露光が行われ、この重複露光領域においてたとえば線形
的に変化する所望の露光光量分布が得られる。

【００１５】ところで、従来技術では、マスクブライン
ドが露光中に移動しないため、減光領域に形成するドッ
ト状の微小遮光部が感光性基板上に転写されないよう
に、微小遮光部の大きさを露光装置の限界解像力よりも
小さくする必要があった。これに対して、本発明では、
マスクブラインドが露光中に移動するので、減光領域に
おいて移動幅に対する積算透過率が所定の分布を示して
いれば良く、減光領域に形成すべきドット状の微小遮光
部の大きさを露光装置の限界解像力よりも小さくする必
要はない。換言すると、露光装置の諸条件に依存するこ
となく、描画し易い大きさで且つ各ブラインド部材の移
動幅に対して十分小さいサイズを有する微小遮光部を所
定の密度分布に沿って多数形成することによって、感光
性基板上に転写されることのないパターンを減光領域に
容易に形成することができる。

【００１６】また、従来技術では、マスクブラインドが
露光中に移動しないため、かなり小さな異物がブライン
ド部材に付着しても、感光性基板上での露光光量ムラが
大きく発生してしまう。これに対して、本発明では、マ
スクブラインドが露光中に移動するので、後述の実施例
において具体的に検証しているように、かなり大きな異
物がブラインド部材に付着しても、感光性基板上での露
光光量ムラを小さく抑えることができる。換言すると、
本発明の露光装置では、発塵に対する通常の配慮をすれ
ば、有害なサイズを有する異物のブラインド部材への付
着を十分回避することができ、その結果異物の影響によ
る感光性基板上での露光光量ムラを十分小さく抑えるこ
とができる。

【００１７】以上のように、本発明の露光装置では、マ
スクブラインドの減光領域に形成された微小遮光部から
なるパターンおよびマスクブラインドに付着した異物が
感光性基板への転写および露光光量ムラの原因となり難
いような構成を実現することができる。その結果、本発
明では、感光性基板上で画面合成により形成された大面
積のパターンにおいてパターン継ぎ目に欠陥のない良好
なデバイスを製造することができる。

【００１８】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説
明する。図１は、本発明の実施例にかかる露光装置の構
成を概略的に示す図である。本実施例では、液晶表示素
子の製造に用いられる投影露光装置に本発明を適用して
いる。図１では、投影光学系１４の光軸ＡＸに平行にＺ
軸が、光軸ＡＸに垂直な面内において図１の紙面に平行
にＸ軸が、光軸ＡＸに垂直な面内において図１の紙面に
垂直にＹ軸がそれぞれ設定されている。

【００１９】図１に示す投影露光装置は、たとえば超高
圧水銀ランプからなる光源１を備えている。光源１は、
回転楕円面からなる反射面を有する楕円鏡２の第１焦点
位置に位置決めされている。したがって、光源１から射
出された照明光束は、ミラー３を介して、楕円鏡２の第
２焦点位置Ｐ１に光源像を形成する。楕円鏡２の第２焦
点位置Ｐ１に形成された光源像からの光束は、コレクタ
ーレンズ４によりほぼ平行な光束に変換された後、所望
の波長域の光束のみを透過させる波長選択フィルター５
に入射する。波長選択フィルター５を介して選択された
露光波長の光（たとえばｇ線（４３６ｎｍ）またはｉ線
（３６５ｎｍ）など）は、フライアイインテグレーター
６に入射する。

【００２０】フライアイインテグレーター６は、多数の
正レンズエレメントをその中心軸線が光軸ＡＸに沿って
延びるように縦横に配列することによって構成されてい
る。したがって、フライアイインテグレーター６に入射
した光束は、多数のレンズエレメントにより波面分割さ
れ、フライアイインテグレーター６の後側焦点面（すな
わち射出面の近傍）にレンズエレメントの数と同数の光
源像からなる二次光源を形成する。すなわち、フライア
イインテグレーター６の後側焦点面には、実質的な面光
源が形成される。

【００２１】二次光源からの光束は、フライアイインテ
グレーター６の後側焦点面の近傍に配置された開口絞り
７により制限された後、第１リレーレンズ８に入射す
る。なお、開口絞り７は、後述する投影光学系１４の入
射瞳面と光学的にほぼ共役な位置に配置され、照明に寄
与する二次光源の範囲を規定するための可変開口部を有
する。開口絞り７は、この可変開口部の開口径を変化さ
せることにより、照明条件を決定するσ値（投影光学系
の瞳面の開口径に対するその瞳面上での光源像の口径の
比）を所望の値に設定する。

【００２２】第１リレーレンズ８を介して集光された光
束は、後述するマスク１３の照明領域を規定するために
マスク１３と光学的にほぼ共役な位置に配置されたマス
クブラインド９に入射する。なお、照明領域規定手段と
してのマスクブラインド９の構成および作用については
後述する。マスクブラインド９を介した光束は、ブライ
ンドリレー系（１０、１１）およびブラインドリレー系
の光路中に配置された折り曲げミラー１２を介して、所
定の転写パターンが形成されたマスク１３を重畳的に照
明する。

【００２３】マスク１３を透過した光束は、投影光学系
１４を介して、感光性基板であるプレート１５に達す
る。こうして、プレート１５上の単位露光領域には、マ
スク１３のパターン像が形成される。ここで、上述した
ように開口絞り７と投影光学系１４の入射瞳面とがほぼ
共役に配置されているので、投影光学系１４の入射瞳面
上に二次光源の像が形成され、マスク１３およびプレー
ト１５がいわゆるケーラー照明される。

【００２４】なお、プレート１５は、投影光学系１４の
光軸ＡＸに対して垂直な平面（ＸＹ平面）内において二
次元的に移動可能なプレートステージ１６上に支持され
ている。したがって、プレートステージ１６をひいては
プレート１５を二次元的に移動させながら順次露光を行
うことにより、プレート１５の各単位露光領域にマスク
１３のパターンを逐次転写することができる。

【００２５】図２は、図１のマスクブラインド９の要部
構成を示す拡大斜視図であって、光軸ＡＸに沿って光源
側からマスクブラインド９を構成する一対のブラインド
部材を見た図である。図２に示すように、マスクブライ
ンド９は、ＹＺ平面に平行なプレート状に形成された透
明なガラス基板からなるブラインド部材２１および２２
を備えている。一対のブラインド部材２１および２２
は、マスク１３のパターン面と共役な面と光軸ＡＸとの
交点Ｐ２を中心として光軸ＡＸに沿って等しい間隔を隔
てて配置されている。

【００２６】また、ブラインド部材２１および２２の対
向する面には、遮光領域２１ａおよび２２ａと、減光領
域２１ｂおよび２２ｂとが形成されている。ここで、遮
光領域２１ａおよび２２ａは露光光の透過をほぼ１００
％遮る領域であり、減光領域２１ｂおよび２２ｂは露光
光に対して後述するように所定の透過率分布を有する領
域である。したがって、ブラインド部材２１および２２
の対向する面において遮光領域も減光領域も形成されて
いない領域（図２中白抜きの部分）は、露光光をほぼ１
００％透過させる透光領域２１ｃおよび２２ｃを構成し
ている。

【００２７】ブラインド部材２１では、透光領域２１ｃ
がＹ方向およびＺ方向に沿った矩形状に形成され、遮光
領域２１ａがＺ方向に沿って延びた矩形状部分とＹ方向
に沿って延びた矩形状部分とからなり全体的にＬ字型に
形成されている。なお、遮光領域２１ａは、透光領域２
１ｃの−Ｚ方向側および−Ｙ方向側に形成されている。
そして、透光領域２１ｃと遮光領域２１ａのＹ方向に沿
った矩形状部分との間には、Ｙ方向に沿って延びた矩形
状の減光領域２１ｂが形成されている。また、透光領域
２１ｃと遮光領域２１ａのＺ方向に沿った矩形状部分と
の境界線は、Ｚ方向に沿ったエッジパターン２１ｄを構
成している。一方、ブラインド部材２２は、ブラインド
部材２１と基本的に同じ構成を有するが、遮光領域２２
ａが透光領域２２ｃの＋Ｚ方向側および＋Ｙ方向側に形
成されている点が相違している。

【００２８】図３は、ブラインド部材の減光領域の構成
を示す図であって、光源側のブラインド部材２１の減光
領域２１ｂを光軸ＡＸに沿ってマスク側から見た拡大図
である。図３に示すように、ブラインド部材２１の減光
領域２１ｂには、ドット状の微小遮光部が所定の密度分
布にしたがって形成されている。さらに詳細には、図３
において矩形状の範囲３１で示す領域が１つの単位減光
領域を形成し、この単位減光領域３１のパターンがＹ方
向に沿って同じピッチ（単位減光領域３１の幅）で繰り
返されている。

【００２９】単位減光領域３１では、透光領域２１ｃか
ら遮光領域２１ａへ向かってすなわち−Ｚ方向に沿って
ドット状の微小遮光部の形成密度が増大している。換言
すると、単位減光領域３１において、露光光に対する透
過率は−Ｚ方向に沿って減少している。さらに詳細に
は、単位減光領域３１においてＹ方向に積算した積算透
過率が透光領域２１ｃから遮光領域２１ａへ−Ｚ方向に
沿って１００％から０％まで線形的に減少している。こ
こで、各微小遮光部はたとえばクロムのような遮光性の
薄膜から構成され、その形状は矩形状（正方形状または
長方形状）であっても円形であってもよい。他方のブラ
インド部材２２の減光領域２２ｂも、ブラインド部材２
１の減光領域２１ｂと同様に形成されている。

【００３０】ここで、図１を再び参照すると、マスクブ
ラインド９は、光源側のブラインド部材２１をＹ方向に
沿って移動させるための駆動系２３と、マスク側のブラ
インド部材２２をＹ方向に沿って移動させるための駆動
系２４とを備えている。このように、一対のブラインド
部材２１および２２をそれぞれ機械的に駆動するため
に、一対のブラインド部材２１と２２との間には数百μ
ｍの間隔が確保されている。

【００３１】図４は、４つのパターンを画面合成する場
合におけるプレート１５上の４つの単位露光領域ＥＡ１
〜ＥＡ４の配置およびその重なり合わせを示す図であ
る。また、図５は、プレート１５上の第１単位露光領域
ＥＡ１に露光する際のマスクブラインド９の動作を説明
する図であって、光軸ＡＸに沿って光源側からマスクブ
ラインド９を見た図である。さらに、図６は、マスク１
３のパターン面の構成を示す平面図である。

【００３２】図６に示すように、マスク１３のパターン
面には、転写用のパターンが描かれた矩形状のパターン
領域６１と、この矩形状のパターン領域６１を包囲する
遮光帯６２とが形成されている。遮光帯６２には、露光
光の透過をほぼ１００％遮るように、たとえばクロム膜
が蒸着されている。こうして、パターン領域６１と遮光
帯６２との間には、矩形状の遮光帯エッジ６３が形成さ
れている。以下、図４〜図６を参照して、第１単位露光
領域ＥＡ１、第２単位露光領域ＥＡ２、第３単位露光領
域ＥＡ３、および第４単位露光領域ＥＡ４の順に行う各
露光動作について説明する。

【００３３】まず、第１単位露光領域ＥＡ１への露光で
は、マスク１３に対して一対のブラインド部材２１およ
び２２を図５に示すような位置関係にしたがって初期的
に位置決めする。すなわち、初期状態では、ブラインド
部材２１の減光領域２１ｂおよびエッジパターン２１ｄ
がマスク１３のパターン領域６１（図５では不図示）と
重なり、ブラインド部材２２の減光領域２２ｂおよびエ
ッジパターン２２ｄがマスク１３の遮光帯６２（図５で
は不図示）と重なっている。第１単位露光領域ＥＡ１へ
の露光では、図５において実線で示す初期状態から、駆
動系２３によりブラインド部材２１を−Ｙ方向に、駆動
系２４によりブラインド部材２２を＋Ｙ方向に一定の速
度で移動させる。なお、露光に伴うブラインド部材２１
および２２の移動距離は、ブラインド部材２１（２２）
の減光領域２１ｂ（２１ｂ）の単位減光領域３１の幅
（Ｙ方向の長さ）のＮ倍（Ｎは正の整数：図３ではＮ＝
２と仮定している）となっている。こうして、感光性基
板であるプレート１５上の第１単位露光領域ＥＡ１への
露光が行われる。

【００３４】図７は、プレート１５上の第１単位露光領
域ＥＡ１への露光状態を示す図である。図７に示す第１
単位露光領域ＥＡ１のうち、領域７１はブラインド部材
２１の減光領域２１ｂを通過した光によって露光された
領域であり、領域７２はブラインド部材２１のエッジパ
ターン２１ｄの露光中の通過領域によって規定される露
光領域であり、領域７１および領域７２以外の領域７３
はブラインド部材２１の透光領域２１ｃを通過した光に
よって露光された領域である。ここで、領域７３を画成
する４つの境界線のうち領域７１および領域７２に接し
ない境界線７３ａおよび７３ｂは、マスク１３の遮光帯
エッジ６３によって規定されることはいうまでもない。

【００３５】したがって、図７において線７４および７
５で示すように、露光領域７３における露光光量は一定
である。また、露光領域７２における露光光量は、エッ
ジパターン２１ｄが一定の速度で移動するため、露光領
域７３との境界から外縁に向かって線形的に減少する。
さらに、露光領域７１における露光光量も、減光領域２
１ｂが単位減光領域３１の幅の整数倍（この場合は２
倍）だけ移動するため、露光領域７３との境界から外縁
に向かって線形的に減少する。これは、単位減光領域３
１における積算透過率が線形的に変化しているため、単
位減光領域３１の幅の整数倍の移動中における露光領域
７１の積算露光光量も線形的に変化するからである。

【００３６】次いで、プレートステージ１６を、ひいて
はプレート１５を移動させた後、第２単位露光領域ＥＡ
２への露光を行う。第２単位露光領域ＥＡ２への露光の
初期状態では、ブラインド部材２１の減光領域２１ｂお
よびブラインド部材２２のエッジパターン２２ｄがマス
ク１３のパターン領域６１と重なり、ブラインド部材２
２の減光領域２２ｂおよびブラインド部材２１のエッジ
パターン２１ｄがマスク１３の遮光帯６２と重なってい
る。そして、駆動系２３によりブラインド部材２１を−
Ｙ方向に、駆動系２４によりブラインド部材２２を＋Ｙ
方向に一定の速度で移動させる。なお、露光に伴うブラ
インド部材２１および２２の移動距離は、第１単位露光
領域ＥＡ１への露光と同様である。

【００３７】さらに、プレート１５を移動させた後、第
３単位露光領域ＥＡ３への露光を行う。第３単位露光領
域ＥＡ３への露光の初期状態では、ブラインド部材２２
の減光領域２２ｂおよびエッジパターン２２ｄがマスク
１３のパターン領域６１と重なり、ブラインド部材２１
の減光領域２１ｂおよびエッジパターン２１ｄがマスク
１３の遮光帯６２と重なっている。そして、駆動系２３
によりブラインド部材２１を−Ｙ方向に、駆動系２４に
よりブラインド部材２２を＋Ｙ方向に一定の速度で移動
させる。なお、露光に伴うブラインド部材２１および２
２の移動距離は、第１単位露光領域ＥＡ１および第２単
位露光領域ＥＡ２への露光と同様である。

【００３８】最後に、プレート１５をさらに移動させた
後、第４単位露光領域ＥＡ４への露光を行う。第４単位
露光領域ＥＡ４への露光の初期状態では、ブラインド部
材２２の減光領域２２ｂおよびブラインド部材２１のエ
ッジパターン２１ｄがマスク１３のパターン領域６１と
重なり、ブラインド部材２１の減光領域２１ｂおよびブ
ラインド部材２２のエッジパターン２２ｄがマスク１３
の遮光帯６２と重なっている。そして、駆動系２３によ
りブラインド部材２１を−Ｙ方向に、駆動系２４により
ブラインド部材２２を＋Ｙ方向に一定の速度で移動させ
る。なお、露光に伴うブラインド部材２１および２２の
移動距離は、第１単位露光領域ＥＡ１〜第３単位露光領
域ＥＡ３への露光と同様である。

【００３９】こうして、プレート１５を二次元的に移動
させながら順次露光を行うことにより、プレート１５上
の４つの単位露光領域ＥＡ１〜ＥＡ４において、ほぼ一
定の露光光量を得ることができる。すなわち、重複露光
領域（図４中斜線で示す領域）４１〜４４とそれ以外の
露光領域（図４中白抜きで示す領域）とでほぼ一致した
露光光量を得ることができる。

【００４０】上述の実施例では、図４の４つの重複露光
領域４１〜４４が重なり合う領域４５において４回の露
光が行われる。以下、この４重複露光領域４５の露光光
量分布について検討する。各ブラインド部材の減光領域
の単位減光領域の幅を各ブラインド部材の露光移動量の
１／２に設定している場合、第１回目の露光（すなわち
第１単位露光領域ＥＡ１への露光）により、４重複露光
領域４５の図中右半分の領域では所望の露光光量分布を
得ることができるが、４重複露光領域４５の図中左半分
の領域では露光光量分布に誤差が発生してしまう。

【００４１】同様に、第２回目の露光（すなわち第２単
位露光領域ＥＡ２への露光）では、４重複露光領域４５
の図中左半分の領域では所望の露光光量分布を得ること
ができるが、４重複露光領域４５の図中右半分の領域で
は露光光量分布に誤差が発生してしまう。また、第３回
目の露光（すなわち第３単位露光領域ＥＡ３への露光）
では、４重複露光領域４５の図中左半分の領域では所望
の露光光量分布を得ることができるが、４重複露光領域
４５の図中右半分の領域では露光光量分布に誤差が発生
してしまう。さらに、第４回目の露光（すなわち第４単
位露光領域ＥＡ４への露光）では、４重複露光領域４５
の図中右半分の領域では所望の露光光量分布を得ること
ができるが、４重複露光領域４５の図中左半分の領域で
は露光光量分布に誤差が発生してしまう。こうして、４
回に亘って露光を繰り返した結果、４重複露光領域４５
では露光光量分布にある程度の誤差が発生する。

【００４２】４重複露光領域４５における露光光量分布
の誤差を小さくするには、各ブラインド部材の減光領域
の単位減光領域の幅を各ブラインド部材の露光移動量の
１／Ｎに設定するときの正の整数Ｎをできるだけ大きく
設定すればよい。たとえば、各ブラインド部材の減光領
域の単位減光領域の幅を各ブラインド部材の露光移動量
の１／１０（Ｎ＝１０）に設定すれば、各露光により４
重複露光領域４５の９０％の領域において所望の露光光
量分布を得ることができ、誤差が発生する領域は４重複
露光領域４５の１０％となる。この１０％の誤差領域に
おいて仮に１０％程度の誤差が発生したとしても、全体
の４重複露光領域４５の全体露光光量に対しては１％程
度の誤差にしかならず十分良好な露光光量分布を得るこ
とができる。

【００４３】ところで、従来の技術では、マスクブライ
ンドが露光中に移動しないため、減光領域に形成するド
ット状の微小遮光部の大きさを露光装置の限界解像力よ
りも小さくする必要があった。具体的には、投影光学系
の倍率を等倍とし、投影光学系のＮＡを０．１とし、ブ
ラインドリレー系の倍率を４倍とし、マスクを照明する
照明光学系のＮＡを０．０５と設定すれば、マスクブラ
インド上における照明ＮＡは０．２となる。つまり、露
光波長をｇ線（波長λ＝４３６ｎｍ）とすれば、マスク
ブラインドの各ブラインド部材の減光領域上の微小遮光
部のプレート上に転写され得る臨界的な大きさＲは、以
下の式（１）で表される。Ｒ＝λ／２ＮＡ＝４３６×１０^-3／（２×０．２）≒１μｍ（１）

【００４４】すなわち、各ブラインド部材の減光領域上
の微小遮光部がプレート上に転写されないように構成す
るには、１μｍよりも小さいドット状の微小遮光部を所
定の密度分布に沿って多数形成する必要がある。換言す
ると、電子ビーム描画機のような特殊な装置を使用しな
ければ、このように小さいドット状の微小遮光部からな
る特殊な微細パターンを形成することはできなくなって
しまう。さらに、投影光学系が拡大光学系（倍率が１よ
りも大きい）であったり、露光波長がｇ線よりも短波長
のｉ線（３６５ｎｍ）であるような場合には、１μｍよ
りもさらに小さいドット状の微小遮光部を所定の密度分
布に沿って多数形成しなければならなくなる。その結
果、描画精度が厳しくなり過ぎて、ドット状の微小遮光
部からなるパターンを減光領域に形成すること自体困難
になってしまう。

【００４５】これに対して、本実施例では、マスクブラ
インド９の各ブラインド部材（２１、２２）が露光中に
移動するため、各ブラインド部材の減光領域に形成すべ
きドット状の微小遮光部の大きさを露光装置の限界解像
力よりも小さくする必要はない。すなわち、露光装置の
諸条件に依存することなく、描画し易い大きさで且つ各
ブラインド部材の移動幅に対して十分小さいサイズ（例
えば２μｍ〜５μｍ程度）を有するドット状の微小遮光
部を所定の密度分布に沿って多数形成することによっ
て、プレート上に転写されることのないパターンを減光
領域に容易に形成することができる。

【００４６】図８は、本実施例において各ブラインド部
材上に付着した異物とプレート上における露光光量ムラ
との関係を説明する図である。図８において、マスク１
３およびプレート１５との共役面（図２において点Ｐ２
を通り光軸ＡＸに垂直な面）８１から光軸ＡＸに沿って
距離ｄだけ間隔を隔ててブラインド部材の面（一対のブ
ラインド部材の対向面）８２が配置されている。この場
合、円形または球形と仮定した異物８３の半径ｒと露光
光量ムラの許容値Ｐp との間には、次の式（２）に示す
関係が近似的に成立する。（π×ｒ²×２×ｒ）／（π×（ｄ×ＮＡ）²×Ｌ）＝Ｐp （２）

【００４７】ここで、ＮＡはマスクブラインド９上での
照明ＮＡであり、Ｌは露光中における各ブラインド部材
の移動量である。したがって、マスクブラインド９上で
の照明ＮＡを０．２とし、共役面８１とブラインド面８
２との間隔ｄ＝３００μｍとし、各ブラインド部材の移
動量Ｌ＝１．５ｍｍとし、露光光量ムラの許容値Ｐp ＝
０．０３（すなわち３％）とすると、許容できる異物の
サイズ（直径）２ｒは約８５μｍとなる。換言すると、
約８５μｍよりも大きな異物がブラインド部材に付着し
ないようにすれば、プレート上での露光光量ムラを３％
よりも小さく抑えることができる。露光装置において発
塵に対して通常の配慮をすれば、約８５μｍよりも大き
なサイズの異物のブラインド部材への付着を十分回避す
ることができる。したがって、本実施例の露光装置で
は、ブラインド部材への異物の付着の影響による感光性
基板上での露光光量ムラを十分小さく抑えることができ
る。

【００４８】因みに、マスクブラインドが露光中に移動
しない従来技術では、異物の半径ｒと露光光量ムラの許
容値Ｐp との間に、次の式（３）に示す関係が近似的に
成立する。（π×ｒ²）／（π×（ｄ×ＮＡ）²）＝Ｐp （３）したがって、上述の数値例と同様に、マスクブラインド
上での照明ＮＡを０．２とし、共役面とブラインド面と
の間隔ｄ＝３００μｍとし、露光光量ムラの許容値Ｐp
＝０．０３（すなわち３％）とすると、許容できる異物
のサイズ（直径）は約２０μｍとなる。換言すると、マ
スクブラインドが露光中に移動しない従来技術では、約
２０μｍよりも大きな異物がブラインド部材に付着する
と、プレート上での露光光量ムラが３％よりも大きくな
ってしまう。前述したように、気密性を高めるか吸引等
の処置を施したとしても、２０μｍ程度のサイズの異物
がブラインド部材に付着するのを回避することは不可能
である。このように、従来の露光装置では、ブラインド
部材への異物の付着の影響により感光性基板上において
ある程度の露光光量ムラが発生していることがわかる。

【００４９】以上のように、本実施例の露光装置では、
マスクブラインドの各ブラインド部材の減光領域に形成
された微小遮光部からなるパターンが感光性基板への転
写および露光光量ムラの原因となり難く、且つマスクブ
ラインドに付着した異物が感光性基板への転写および露
光光量ムラの原因となり難いような構成を実現すること
ができる。その結果、本実施例では、感光性基板上で画
面合成により形成された大面積のパターンにおいてパタ
ーン継ぎ目に欠陥のない良好なデバイスを製造すること
ができる。

【００５０】図９は、ブラインド部材の第１変形例とし
て減光領域に三角形状の微小遮光部を所定のピッチで形
成した様子を示す図である。図９では、遮光領域と減光
領域との境界線に沿って延びた底辺と、透光領域と減光
領域との境界線上の頂点とを有する三角形状の微小遮光
部（図中斜線で示す）がブラインド部材の移動方向に沿
って所定のピッチで形成されている。三角形状の微小遮
光部が形成されるピッチは、ブラインド部材の露光移動
量の１／Ｎ（Ｎは十分大きな正の整数）に設定されてい
る。例えば、ブラインドリレー系の倍率が４倍で投影光
学系の倍率が等倍であるような露光装置では、プレート
上の重複露光領域の幅を８ｍｍとすれば、ブラインド部
材の露光移動量は２ｍｍである。したがって、Ｎ＝１０
０と設定すれば、三角形状の微小遮光部の形成ピッチは
２０μｍとなる。

【００５１】このように、図９の第１変形例の場合、減
光領域の単位減光領域の幅が２０μｍで、この単位減光
領域において積算透過率は透光領域側から遮光領域側へ
向かって１００％から０％まで線形的に減少している。
したがって、この減光領域を微小遮光部のピッチ方向に
２ｍｍ移動させた場合、この減光領域を介してプレート
上に形成される露光領域では所望の線形的な露光光量分
布を得ることができる。また、各ブラインド部材は露光
中に移動するので、移動方向に２０μｍ程度の幅を有す
る微小遮光部がプレート上に転写されることはない。た
だし、図９の第１変形例では、各微小遮光部の底辺の長
さが２０μｍでその高さが２ｍｍ（２０００μｍ）であ
るため、各微小遮光部の頂角が極端に角度の小さい鋭角
になってしまう。その結果、特に各微小遮光部の頂点部
分が剥がれ易く、たとえばエッチングによるパターニン
グが難しい。

【００５２】図１０は、減光領域のパターニングが容易
なブラインド部材の第２変形例として三角形状の微小遮
光部の一方の斜線部分を階段状に形成した様子を示す図
である。図１０の第２変形例では、図９の第１変形例と
同様に、遮光領域と減光領域との境界線に沿って延びた
底辺と、透光領域と減光領域との境界線上またはその近
傍に位置する頂点とを有する三角形状の微小遮光部（図
中斜線で示す）がブラインド部材の移動方向に沿って所
定のピッチで形成されている。そして、三角形状の微小
遮光部の形成ピッチは、ブラインド部材の露光移動量の
１／１００に設定されている。ただし、各微小遮光部の
図中左側の斜辺は図中鉛直方向に直線状に延びている
が、図中右側の斜辺部分が１０段の階段状に形成されて
いる。

【００５３】すなわち、図９の第１変形例と同様の全体
設定に基づいて図１０の最も左側の微小遮光部１０１の
全体形状に着目すると、底辺の長さが２０μｍであり、
高さが２０００μｍである。そして、図中最も上側の第
１段目の遮光部分の幅が２μｍでその高さが２００μｍ
となり、第２段目の遮光部分の幅が４μｍでその高さが
２００μｍとなり、以下同様に第ｎ段目の遮光部分の幅
が（２×ｎ）μｍでその高さが２００μｍとなってい
る。次に、図１０の左側から２番目の微小遮光部１０２
に着目すると、この微小遮光部１０２は微小遮光部１０
１を４０μｍ（すなわち各段の遮光部分の高さ２００μ
ｍの１／５）だけ図中鉛直方向に位置ずれさせた形状を
していることがわかる。同様に、図１０の左側から３番
目の微小遮光部１０３は、微小遮光部１０１を８０μｍ
（すなわち各段の遮光部分の高さ２００μｍの２／５）
だけ図中鉛直方向に位置ずれさせた形状をしている。ま
た、図１０の左側から４番目の微小遮光部１０４は微小
遮光部１０１を１２０μｍ（すなわち各段の遮光部分の
高さ２００μｍの３／５）だけ図中鉛直方向に位置ずれ
させた形状を、図１０の左側から５番目の微小遮光部１
０５は微小遮光部１０１を１６０μｍ（すなわち各段の
遮光部分の高さ２００μｍの４／５）だけ図中鉛直方向
に位置ずれさせた形状をしている。

【００５４】こうして、たとえば微小遮光部１０１を含
む２０μｍの幅の減光領域だけの積算透過率を考えると
１００％から０％まで１０％ずつ段階的に変化している
が、微小遮光部１０１〜１０５を含む１００μｍの幅の
単位減光領域１０６の積算透過率を考えると２％ずつ段
階的に変化していることがわかる。すなわち、単位減光
領域１０６の積算透過率はほぼ線形的に変化しており、
このような単位減光領域が所定のピッチで繰り返し形成
された減光領域を介してプレート上に形成される露光領
域ではほぼ線形的な露光光量分布を得ることができる。
さらに、単位減光領域の積算透過率の線形性すなわち露
光光量分布の線形性を高めるには、図１０において隣接
する微小遮光部を鉛直方向に沿って互いに２０μｍ（す
なわち各段の遮光部分の高さ２００μｍの１／１０）ず
つ位置ずれさせ、連続する１０個の微小遮光部で単位減
光領域を形成し、このような単位減光領域を所定のピッ
チで繰り返しパターニングすればよい。また、図１０で
は各微小遮光部を段階的（規則的）に位置ずれさせてい
るが、スキャン幅（すなわち単位減光領域）中において
各微小遮光部の位置ずれをランダムに配置してもよいこ
とは当然である。

【００５５】図１１は、ブラインド部材の第３変形例と
して減光領域に様々な長さの棒状の微小遮光部を所定の
ピッチで形成することによって単位減光領域を棒グラフ
状に形成した様子を示す図である。図１１の第３変形例
では、単位減光領域において長さの異なる棒状の微小遮
光部が所定のピッチで形成されている。さらに詳細に
は、実際に微小遮光部の形成されていない途中の部分を
長さが０の微小遮光部であると考えると、単位減光領域
には合計１０本の微小遮光部が形成されている。そし
て、図中最も左側の微小遮光部は、減光領域の全体高さ
（減光領域の図中鉛直方向の長さ）の約１１％の高さを
有する。以下、左側から２番目の微小遮光部は約４４
％、３番目の微小遮光部は約７７％、４番目の微小遮光
部は約２２％、５番目の微小遮光部は１００％、６番目
の微小遮光部は０％、７番目の微小遮光部は約６６％、
８番目の微小遮光部は約８８％、９番目の微小遮光部は
約５５％、１０番目の微小遮光部は約３３％の高さを有
する。

【００５６】こうして、単位減光領域の積算透過率を考
えると１００％から０％まで約１１％ずつ段階的に変化
していることがわかる。すなわち、図１１の第３変形例
にかかる単位減光領域の積算透過率はほぼ線形的に変化
しており、このような単位減光領域が所定のピッチで繰
り返し形成された減光領域を介してプレート上に形成さ
れる露光領域ではほぼ線形的な露光光量分布を得ること
ができる。さらに、単位減光領域の積算透過率の線形性
すなわち露光光量分布の線形性を高めるには、図１１に
おいて単位減光領域を構成する棒状の微小遮光部の数を
増大させればよい。

【００５７】なお、図３の実施例にかかるブラインド部
材では、ドット状の微小遮光部をランダムに形成するこ
とによって単位減光領域を構成しているが、ドット状の
微小遮光部を規則的に形成することによって単位減光領
域を構成することもできる。また、ドット状の微小遮光
部で単位減光領域を構成する場合、図１２に示すよう
に、透光領域側から３段毎に形成する微小遮光部の数を
１つずつ増大させてもよい。さらに一般的には、透光領
域側からｎ（ｎは正の整数）段毎に形成する微小遮光部
の数をｍ（ｍは正の整数）個つずつ増大させてもよい。

【００５８】また、上述の実施例および各変形例では、
単位減光領域の積算透過率を線形的に変化させている
が、一対のブラインド部材で単位減光領域の積算透過率
が相補的でさえあれば積算透過率を非線形的に変化させ
ることもできる。さらに、上述の実施例では、液晶表示
素子を製造する露光装置に本発明を適用しているが、半
導体素子を製造する露光装置に対して本発明を適用する
こともできる。また、上述の実施例では、投影光学系を
介して露光を行う投影露光装置に本発明を適用している
が、マスクと感光性基板とを近接させて露光を行う他の
露光装置や他の一般的な露光装置に対して本発明を適用
することもできる。

【００５９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の露光装置
によれば、マスクブラインドの減光領域に形成された微
小遮光部からなるパターンおよびマスクブラインドに付
着した異物が感光性基板への転写および露光光量ムラの
原因となり難いような構成を実現することができる。そ
の結果、本発明では、感光性基板上で画面合成により形
成された大面積のパターンにおいてパターン継ぎ目に欠
陥のない良好なデバイスを製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例にかかる露光装置の構成を概略
的に示す図である。

【図２】図１のマスクブラインド９の要部構成を示す拡
大斜視図であって、光軸ＡＸに沿って光源側からマスク
ブラインド９を構成する一対のブラインド部材を見た図
である。

【図３】ブラインド部材の減光領域の構成を示す図であ
って、光源側のブラインド部材２１の減光領域２１ｂを
光軸ＡＸに沿ってマスク側から見た拡大図である。

【図４】４つのパターンを画面合成する場合におけるプ
レート１５上の４つの単位露光領域ＥＡ１〜ＥＡ４の配
置およびその重なり合わせを示す図である。

【図５】プレート１５上の第１単位露光領域ＥＡ１に露
光する際のマスクブラインド９の動作を説明する図であ
って、光軸ＡＸに沿って光源側からマスクブラインド９
を見た図である。

【図６】マスク１３のパターン面の構成を示す平面図で
ある。

【図７】プレート１５上の第１単位露光領域ＥＡ１への
露光状態を示す図である。

【図８】本実施例において各ブラインド部材上に付着し
た異物とプレート上における露光光量ムラとの関係を説
明する図である。

【図９】ブラインド部材の第１変形例として減光領域に
三角形状の微小遮光部を所定のピッチで形成した様子を
示す図である。

【図１０】減光領域のパターニングが容易なブラインド
部材の第２変形例として三角形状の微小遮光部の一方の
斜線部分を階段状に形成した様子を示す図である。

【図１１】ブラインド部材の第３変形例として減光領域
に様々な長さの棒状の微小遮光部を所定のピッチで形成
することによって単位減光領域を棒グラフ状に形成した
様子を示す図である。

【図１２】透光領域側から３段毎にドット状の微小遮光
部の形成数を１つずつ増大させて単位減光領域を構成す
る様子を示す図である。

【符号の説明】

１光源２楕円反射鏡３第２焦点位置４コレクターレンズ５波長選択フィルター６フライアイインテグレーター７開口絞り８第１リレーレンズ９マスクブラインド１０、１１ブラインドリレー系１２ミラー１３マスク１４投影光学系１５プレート１６プレートステージ２１、２２ブラインド部材２３、２４駆動系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】転写用のパターンが形成されたマスクを
所定の照明光で照明するための照明光学系と、該照明光
学系の光路中において前記マスクとほぼ共役な位置に配
置されて前記マスクの照明領域を規定するための照明領
域規定手段とを備え、感光性基板上において部分的に重
なり合う複数の単位露光領域に前記マスクのパターンの
像を順次露光する露光装置において、前記照明領域規定手段は、複数のブラインド部材と、前
記複数の単位露光領域の各々への露光に際して前記複数
のブラインド部材の各々を前記照明光学系の光軸を横切
る所定方向に沿って常に移動させるための駆動系とを有
し、各ブラインド部材は、前記照明光を透過させるための透
光領域と、前記照明光の透過を遮るための遮光領域と、
前記透光領域と前記遮光領域との間に形成された減光領
域とを有し、前記複数の単位露光領域において部分的に重なり合う重
複露光領域と該重複露光領域以外の露光領域とで露光光
量をほぼ一致させるために、各ブラインド部材の減光領
域は前記照明光に対して所定の透過率分布を有すること
を特徴とする露光装置。
【請求項２】前記照明領域規定手段は、前記マスクと
共役な位置を挟むように前記照明光学系の光軸に沿って
所定の間隔を隔てて配置された２つのブラインド部材を
有し、前記駆動系は、前記感光性基板上における前記重複露光
領域の幅に対応する所定距離だけ前記照明光学系の光軸
と直交する第１方向に沿って各ブラインド部材を駆動
し、各ブラインド部材において、前記減光領域は前記第１方
向に沿って矩形状に延び、前記透光領域と前記遮光領域
との境界線は前記照明光学系の光軸と直交する平面内に
おいて前記第１方向と直交する第２方向に沿って延びて
いることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】各単位露光領域への露光に伴う各ブライ
ンド部材の移動距離に対応する幅を前記第１方向に沿っ
て有する任意の減光領域において、前記第１方向に沿っ
て積算された積算透過率が前記第２方向に沿って前記透
光領域側から前記遮光領域側へほぼ線形的に減少してい
ることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】各ブラインド部材の減光領域において前
記第１方向に沿った積算透過率が前記第２方向に沿って
ほぼ線形的に減少する領域の単位幅は各ブラインド部材
の前記移動距離の１／Ｎ（Ｎは正の整数）に設定されて
いることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】前記減光領域には、所定の大きさを有す
るドット状の微小遮光部が所定の密度分布にしたがって
形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいず
れか１項に記載の露光装置。
【請求項６】前記減光領域には、前記遮光領域と前記
減光領域との境界線に沿って延びた底辺と前記透光領域
と前記減光領域との境界線上の頂点とを有する三角形状
の微小遮光部が前記第１方向に沿って所定のピッチで形
成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれ
か１項に記載の露光装置。
【請求項７】前記三角形状の微小遮光部の少なくとも
一方の斜辺部分は階段状に形成されていることを特徴と
する請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】転写用のパターンが形成されたマスクを
所定の照明光で照明する際に前記マスクとほぼ共役な位
置に配置された複数のブラインド部材によって前記マス
クの照明領域を規定し、前記マスクの前記照明領域に形
成されたパターンの像を感光性基板上において部分的に
重なり合う複数の単位露光領域に順次露光する露光方法
において、前記複数のブラインド部材の各々は、前記照明光を透過
させるための透光領域と、前記照明光の透過を遮るため
の遮光領域と、前記透光領域と前記遮光領域との間に形
成されて前記照明光に対して所定の透過率分布を有する
減光領域とを有し、前記複数の単位露光領域において部分的に重なり合う重
複露光領域と該重複露光領域以外の露光領域とで露光光
量をほぼ一致させるために、前記複数のブラインド部材
の各々を基準光軸を横切る所定方向に沿って移動させる
ことを特徴とすることを露光方法。