JPH11281911A

JPH11281911A - 光走査光学系

Info

Publication number: JPH11281911A
Application number: JP10101978A
Authority: JP
Inventors: Tetsuya Ori; 哲也小里
Original assignee: Fuji Photo Optical Co Ltd
Current assignee: Fujinon Corp
Priority date: 1998-03-30
Filing date: 1998-03-30
Publication date: 1999-10-15
Anticipated expiration: 2018-03-30
Also published as: US6670980B1; JP4349500B2

Abstract

(57)【要約】【目的】面倒れ補正機能を有する光走査光学系におい
て走査レンズを、正のトーリックレンズと、主走査方向
に小さい負の非円弧面からなるレンズとの２枚で構成
し、簡易な構成で、小型化、低価格化、画像の高密度化
にも対応可能なものとする。【構成】光源１１と、第１の光学手段１と、光偏向反
射面１５により光束を反射偏向して被走査面１８上に走
査する光偏向手段１４と、主走査方向、副走査方向にお
いてともに正の屈折力を有し、両面ともにトーリック面
からなる第１のレンズ１６と、小さい負の屈折力を有し
両面が非球面からなる第２のレンズ１７とを備えてな
る。光源には波長５００ｎｍ以下の半導体レーザを用
い、第１および第２のレンズ１６、１７はプラスチック
製とすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査光学系に関
し、詳しくは、光源から発せられた光束をポリゴンミラ
ー等の偏向手段により反射偏向して被走査面上に走査さ
せる際に、偏向手段の面倒れによるピッチむらを補正す
る機能を備えた光走査光学系に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、レーザビーム等の光ビームを
感光材料等の被走査面上において走査し、この面上に画
像を形成するレーザプリンタやディジタル複写機等の光
走査光学系が知られている。このような光走査光学系
は、光源から発せられた光ビームを反射偏向して被走査
面上を走査せしめる回転多面鏡等の偏向手段と、光ビー
ムを被走査面上に結像する走査結像光学系とを備えてな
るものである。このような光走査光学系においては、光
偏向手段の光偏向反射面の各面に走査面に対する傾きの
ばらつき（面倒れ）があった場合、被走査面上の主走査
方向と略直交する方向（副走査方向）において、走査線
ごとに光ビームの結像位置が変化して走査線にピッチむ
らが生じてしまい、良好な画像を得ることができない。
このため、偏向手段の面倒れを補正する機能を備えた光
走査光学系が種々知られている。

【０００３】例えば、第１の光学手段において、コリメ
ーティングレンズにより光源からの光束を略平行にし、
シリンドリカルレンズ等により光偏向手段の光偏向反射
面近傍に副走査方向に集光して主走査方向に線状に結像
させ、光偏向手段の後段に位置する第２の光学手段にお
いて、光偏向反射面により偏向反射された光束を被走査
面上に結像する、という面倒れ補正機能を有する光走査
光学系が知られている。この面倒れ補正機能を有する光
走査光学系においては、第２の光学手段にｆθレンズ系
が広く使用され、光源からの光束を被走査面上に光スポ
ットとして結像させる機能と、この光スポットを被走査
面上で等速で移動させるという機能とを有している。こ
のような第２の光学手段は、光偏向反射面上の偏向点の
位置と被走査面上の結像点の位置とが副走査方向におい
てほぼ共役関係になるように構成されることが多い。

【０００４】近年では、このような面倒れ補正機能を有
する光走査光学系に関し、部品点数を少なくしたり製造
を容易にすることが望まれている。例えば、特開平６−
１８８０３号公報記載の光走査装置においては、光偏向
手段と被走査面との間に、球面単レンズまたは非球面プ
ラスチックレンズ、主走査方向にのみ正の屈折力を有す
る平凸シリンドリカルレンズ、副走査方向にのみ負の屈
折力を有する凹シリンドリカルミラーを配設することに
より、少数の、加工容易な構成部品で面倒れを補正して
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような構成の簡易
化に加え、近年では、光走査光学系の小型化や、形成画
質を高密度化して画像の精度を向上することも望まれて
いる。また、低価格化も重要な要望である。しかしなが
ら、これらの要望を同時に実現することには困難があ
る。例えば、光走査光学系の小型化のためには、走査レ
ンズに対し、周辺部まで収差が少なく広い走査角が要求
されるため、走査レンズは多数枚構成からなる光学系に
なりがちである。

【０００６】また、画質の高密度化とは、具体的には、
要望される性能が従来の１インチ当たり６００ドット程
度から、最近では、１インチ当たり１０００ドット程度
の印字機能となっていることであり、従来の光走査光学
系では対応できないものになってきている。画質の高密
度化には、被走査面上での光点寸法を小さくすることが
肝要であり、その一方法として、大きい開口のレンズを
用いることができる。しかしその場合、光学系の小型化
に反することになり、また、走査用レンズが複雑になる
ため低価格化は難しい。

【０００７】あるいは、一般にレンズ枚数削減や構成簡
易化に利用されるように、プラスチック製レンズを用い
ることも提案されている。この場合、低価格化を図れる
という利点もある。しかし、プラスチック製レンズの周
辺部では良好な性能が得にくいため、レンズ径に対して
開口を広くすることが困難であり、上述のように開口を
広くし高密度化を図ると小型化が難しくなる。

【０００８】また、前述した特開平６−１８８０３号公
報記載の光走査装置においては、面倒れ補正のためにシ
リンドリカルレンズ等のアナモフィックなミラーまたは
レンズを利用しているが、これらのミラーまたはレンズ
は、副走査方向の像面湾曲を良好に保つために、比較的
被走査面寄りに配置されている。そのため、主走査方向
に長い形状となってしまい、加工の難しいこれらのミラ
ーまたはレンズが大きなものになる分だけ製品が高価と
なることが多く、光学系のさらなる簡易化と低価格化が
望まれている。

【０００９】本発明はこのような事情に鑑みなされたも
ので、少ないレンズ構成枚数にて面倒れ補正機能を有
し、また、画像の高密度化に対応可能な光走査光学系を
提供することを目的とするものである。また、本発明
は、プラスチック製レンズを使用しながらも小型化を図
り、また低価格化を図った光走査光学系を提供すること
をも目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明による第１の光走
査光学系は、光源と、該光源からの光ビームを線状に結
像させる第１の光学手段と、該第１の光学手段による結
像位置またはその近傍に光偏向面を有し、光ビームを偏
向して被走査面上で走査する光偏向手段と、該光偏向手
段により偏向された光ビームを該被走査面に結像させ、
該被走査面上に略等速に走査させる第２の光学手段から
なる光走査光学系において、該第２の光学手段が前記光
偏向手段側から順に、主走査方向、副走査方向において
ともに正の屈折力を有し、両面ともにトーリック面を有
する第１のレンズと、主走査方向において小さい負の屈
折力を有するかまたは屈折力を有さず、少なくとも一方
の面は主走査方向断面が高次関数である非円弧面からな
る第２のレンズとにより構成されることを特徴とするも
のである。

【００１１】また、前記光源に波長５００ｎｍ以下の半
導体レーザを用いることが好ましい。さらに、本発明に
よる第２の光走査光学系は、波長５００ｎｍ以下の半導
体レーザを用いた光源と、該光源からの光ビームを線状
に結像させる第１の光学手段と、該第１の光学手段によ
る結像位置またはその近傍に光偏向面を有し、光ビーム
を偏向して被走査面上で走査する光偏向手段と、該光偏
向手段により偏向された光ビームを該被走査面に結像さ
せ、該被走査面上に略等速に走査させるように作用す
る、少なくとも１枚のプラスチック製レンズを含む第２
の光学手段とを備えたことを特徴とするものである。

【００１２】ここで、上記「主走査方向」とは偏向され
た光ビームの被走査面上での軌跡に平行な方向を、上記
「副走査方向」とは被走査面上で主走査方向と略直交す
る方向を、上記「主走査方向断面」とは光軸を含む主走
査方向の断面を意味する。また、上記「トーリック面」
とは、主走査方向断面と、主走査方向断面に垂直で光軸
を含む面（副走査方向断面）において互いに異なる屈折
力を有する面を意味する。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
形態について説明する。図１は本発明の実施形態に係る
光走査光学系の構成を示すものであり、光軸を含む主走
査方向の断面（以下、主走査方向断面と称する）を示す
概略図である。図１に示すように、この光走査光学系
は、光源１１から発せられた光ビームを主走査方向に線
状に結像させる第１の光学手段１と、第１の光学手段１
による結像位置近傍に光偏向反射面１５を有し、光ビー
ムを反射偏向して被走査面１８上に走査する光偏向手段
であるポリゴンミラー１４と、ポリゴンミラー１４によ
り反射偏向された光ビームを被走査面１８上に結像さ
せ、この光ビームを略等速に被走査面１８上に走査させ
るように作用する第２の光学手段２とからなる。

【００１４】この第１の光学手段１は、光源１１から発
せられた光ビームを略平行光とするコリメーティングレ
ンズ１２と、光ビームを線状に結像させる副走査方向に
正の屈折力を有するシリンドリカルレンズ１３とからな
る。第２の光学手段２は、主走査方向、副走査方向にお
いてともに正の屈折力を有し、光偏向反射面１５側と被
走査面１８側との両面ともに、主走査方向断面と副走査
方向断面において互いに異なる屈折力を有するトーリッ
ク面からなる第１のレンズ１６と、小さい負の屈折力を
有するかまたは屈折力を有さず、少なくとも一方の面が
光軸を回転軸として回転対称な非球面レンズからなる第
２のレンズ１７との２枚のレンズからなる。図２に、本
発明の実施形態の光偏向反射面１５から被走査面１８ま
での第２の光学手段２の基本構成を、主走査方向断面に
垂直で光軸を含む面（以下、副走査方向断面と称する）
において示す。

【００１５】図１および図２において、光源１１から発
せられた光ビームは、被走査面１８上に結像されるとと
もに、ポリゴンミラー１４が矢印Ａ方向に回転すること
により、被走査面１８上において矢印Ｂ方向に主走査さ
れる。光ビームは第２の光学手段２を透過することによ
り被走査面１８上において略等速に主走査される。さら
に、被走査面１８を副走査方向に移動して画像を形成す
る。光偏向反射面１５と被走査面１８は、副走査方向断
面において、第２の光学手段２に対して共役な関係にあ
り、これにより光偏向反射面１５の面倒れに関して光学
的に補正機能を得ることができる。なお、副走査の方向
は被走査面１８と走査光ビームとの相対的な移動方向で
あり、被走査面１８を固定し、走査光ビームを移動させ
るようにしてもよい。

【００１６】第２の光学手段２は上述のように、主走査
方向、副走査方向においてともに正の屈折力を有し、両
面ともにトーリック面を有する第１のレンズ１６と、小
さい負の屈折力を有するかまたは屈折力を有さず、少な
くとも一方の面が光軸を回転軸として回転対称な非球面
レンズからなる第２のレンズ１７との２枚のレンズから
構成されている。第１のレンズ１６に両面ともにトーリ
ック面を有するレンズを用いることにより、屈折力の方
向が異なるシリンドリカルレンズを複数枚用いるに匹敵
する効果を１枚のレンズにて得ることができる。また、
第２のレンズ１７の、主走査方向における屈折力を小さ
い負または０とすることにより、第２のレンズ１７から
被走査面１８までの距離を十分なものとすることができ
る。

【００１７】このような第２の光学手段２の構成によ
り、２枚という少ないレンズ構成枚数にてポリゴンミラ
ー１４の光偏向反射面１５の倒れ角による各走査毎の副
走査方向のビームウエストのばらつきを抑え、また、主
走査方向、副走査方向の像面湾曲を良好に保つことがで
きるという作用効果を得ることができる。少ない部品点
数であっても良好な結像性能を得ることにより、構成の
簡易化と大きな走査角を実現し、高密度化にも対応可能
な光走査光学系となる。

【００１８】つぎに、この光走査光学系の光源１１に波
長５００ｎｍ以下の半導体レーザを用いた場合の作用効
果について述べる。光源１１をこのように短い波長のも
のとすることにより、開口を広くせずに被走査面１８上
の光点寸法を小さくすることができ、形成画像の高密度
化が可能になる。光点寸法をｄ、波長をλ、Ｆ／ＮＯを
Ｆとすれば、ｄ＝ｋ・Ｆ・λ（ｋは定数）という関係が
ある。このことから、光点寸法を小さくするためには、
理論的にはＦまたはλを小さくすれば良いことになる。
ここで、Ｆを小さくしようとすると前述したように大き
い開口のレンズを用いることになるため、光学系の小型
化に反することになり、また、走査用レンズが複雑にな
るため低価格化は難しい。

【００１９】そこで、λを小さくする、すなわち波長の
短い光源を使用する光走査光学系が有効となる。波長の
短いレーザとしては、従来からＡｒ⁺レーザやＨｅ−Ｃ
ｄレーザなどがあり、これらを使用した光学系が存在し
ている。しかしながら、これらＡｒ⁺レーザやＨｅ−Ｃ
ｄレーザは高価で寸法も大きく、小型化や低価格化には
不適であった。これに対し、最近では波長の短い半導体
レーザが開発されたことにより、その波長の短い半導体
レーザを使用することで、低価格で高密度な光学系を提
供することができる。

【００２０】例えば、従来、光源に波長７８０ｎｍの半
導体レーザを用いて１インチ６００ドット程度の印字密
度であった光走査光学系であっても、波長４８０ｎｍの
半導体レーザを用いた場合、光点寸法はｄ（４８０ｎ
ｍ）＝ｄ（７８０ｎｍ）×４８０／７８０となり、印字
密度は６００×７８０／４８０＝９８０となる。したが
って、波長の短い半導体レーザを用いることにより、Ｆ
／ＮＯを小さくせずに１インチ当たり約１０００ドット
の高密度の印字が可能となる。

【００２１】このように、光源１１の波長を５００ｎｍ
以下とすれば、Ｆを小さくすることなく画像の高密度化
が可能となる。したがって、このような光源１１を備え
た本発明の光走査光学系にはプラスチック製のレンズを
使用することができる。プラスチック製のレンズは、前
述したように周辺部では良好な性能が得にくいため、レ
ンズ径に対して開口を広くすることが困難であり、高密
度化のためにＦ／ＮＯの小さいレンズが必要な光学系に
は不向きであった。ガラス製では加工が難しく高価にな
りがちなレンズであっても、プラスチック製とすること
で、さらに光学系の小型化と低価格化を実現することが
できる。プラスチック製のレンズが１枚であっても小型
化や低価格化は可能である。

【００２２】以下、本発明の光走査光学系の実施例につ
いて具体的数値を用いて説明する。〈実施例１〉本実施例１に係る光走査光学系は、図１に
示すとおりである。その構成は実施形態にて上述したと
おりであるが、光源１１からの射出光は波長７８０ｎｍ
であり、第１のレンズ１６および第２のレンズ１７はと
もにプラスチック製であり、第２のレンズ１７は小さい
負の屈折力を有し、両面が光軸を回転軸として回転対称
な非球面からなるものである。第２レンズ１７の非球面
形状は、下記非球面方程式により表される。なお、この
非球面方程式は、以下の実施例における非球面形状にお
いても同様である。

【００２３】

【数１】

【００２４】本実施例１における各レンズ面の曲率半径
Ｒ_H、Ｒ_V、Ｒ（Ｒ_Hはトーリック面の主走査方向断面に
おける曲率半径、Ｒ_Vはトーリック面の副走査方向断面
における曲率半径であり、曲率半径の単位はｍｍであ
る。以下の実施例においても同様とする。）、各レンズ
の空気間隔Ｄ（ｍｍ）、各レンズのｅ線（λ＝５４６．
１ｎｍ）における屈折率Ｎ_eおよびアッベ数ν_eを表１に
示す。ただし、この表１および後述する表３、表５、表
７において、各記号Ｒ、Ｄ、Ｎ_e、ν_eに対応させた数字
は光源側から順次増加するようになっている。

【００２５】表１の下段に、本実施例１の光走査光学系
の光源１１の波長λ、第２の光学手段２のＦ／ＮＯ、半
画角ω、および焦点距離ｆの各値を示す。

【００２６】

【表１】

【００２７】なお、表１および以下の表において面番号
の右側に＊が付された面は非球面とされており、非球面
の曲率半径Ｒは、光軸近傍の曲率半径の数値である。表
２に、この実施例１における上記非球面式に示される非
球面の各定数Ｋ、Ａ₄、Ａ₆、Ａ₈、Ａ₁₀の値を示す。

【００２８】

【表２】

【００２９】図３に本実施例１に係る光走査光学系の各
収差図（球面収差、歪曲収差、および像面湾曲の図）を
示す。なお、図３〜図６の球面収差図においてはＦ／Ｎ
Ｏ＝４２を１として規格化しており、非点収差図には、
サジタル（Ｓ）像面およびタンジェンシャル（Ｔ）像面
に対する収差が示されている。表１および図３から明ら
かなように、実施例１によれば、像面湾曲をはじめ各収
差を良好にし、２枚という少ない構成枚数で良好な結像
性能を得ることにより、大きな走査角を達成し、それに
より高密度化にも対応可能な光走査光学系となってい
る。

【００３０】〈実施例２〉本実施例２に係る光走査光学
系の構成は、実施例１と略同様とされているが、その光
源１１に波長４８０ｎｍの半導体レーザを用いている点
が異なっている。本実施例２における各レンズ面の曲率
半径Ｒ_H（ｍｍ）、Ｒ_V（ｍｍ）、Ｒ（ｍｍ）、各レンズ
の空気間隔Ｄ（ｍｍ）、各レンズのｅ線における屈折率
Ｎ_eおよびアッベ数ν_eを表３に示す。表３の下段に、本
実施例２の光走査光学系の光源の波長λ、第２の光学手
段２のＦ／ＮＯ、半画角ω、および焦点距離ｆの各値を
示す。

【００３１】

【表３】

【００３２】表４に、この実施例２における非球面の各
定数Ｋ、Ａ₄、Ａ₆、Ａ₈、Ａ₁₀の値を示す。

【００３３】

【表４】

【００３４】図４に本実施例２に係る光走査光学系の各
収差図（球面収差、歪曲収差、および像面湾曲の図）を
示す。表３および図４から明らかなように、実施例２に
よれば、像面湾曲をはじめ各収差を良好にし、２枚とい
う少ない構成枚数で良好な結像性能を得ることにより、
大きな走査角を達成している。さらに、波長の短い半導
体レーザを用いることにより、Ｆ／ＮＯを小さくしなく
とも高密度の印字が可能となり、また、レンズをプラス
チック製とすることで、さらに光学系の小型化と低価格
化を実現することができる。

【００３５】〈実施例３〉本実施例３に係る光走査光学
系の構成は、実施例２と略同様とされているが、光源１
１の波長は４５０ｎｍであり、第２のレンズ１７の屈折
力が上述の実施例１および２に比べ、より弱いものとな
っている。本実施例３における各レンズ面の曲率半径Ｒ
_H（ｍｍ）、Ｒ_V（ｍｍ）、Ｒ（ｍｍ）、各レンズの空気
間隔Ｄ（ｍｍ）、各レンズのｅ線における屈折率Ｎ_eお
よびアッベ数ν_eを表５に示す。表５の下段に、本実施
例３の光走査光学系の光源１１の波長λ、第２の光学手
段２のＦ／ＮＯ、半画角ω、および焦点距離ｆの各値を
示す。

【００３６】

【表５】

【００３７】表６に、この実施例３における非球面の各
定数Ｋ、Ａ₄、Ａ₆、Ａ₈、Ａ₁₀の値を示す。

【００３８】

【表６】

【００３９】図５に本実施例３に係る光走査光学系の各
収差図（球面収差、歪曲収差、および像面湾曲の図）を
示す。表５および図５から明らかなように、実施例３に
よれば、像面湾曲をはじめ各収差を良好にし、２枚とい
う少ない構成枚数で良好な結像性能を得ることにより、
大きな走査角を達成している。さらに、波長の短い半導
体レーザを用いることにより、Ｆ／ＮＯを小さくしなく
とも高密度の印字が可能となり、また、レンズをプラス
チック製とすることで、さらに光学系の小型化と低価格
化を実現することができる。

【００４０】〈実施例４〉本実施例４に係る光走査光学
系の構成は、実施例２と略同様とされているが、光源１
１の波長は４００ｎｍであり、実施例３と同様、第２の
レンズ１７の屈折力が上述の実施例１および２に比べ、
より弱いものとなっている。本実施例４における各レン
ズ面の曲率半径Ｒ_H（ｍｍ）、Ｒ_V（ｍｍ）、Ｒ（ｍ
ｍ）、各レンズの空気間隔Ｄ（ｍｍ）、各レンズのｅ線
における屈折率Ｎ_eおよびアッベ数ν_eを表７に示す。表
７の下段に、本実施例４の光走査光学系の光源１１の波
長λ、第２の光学手段２のＦ／ＮＯ、半画角ω、および
焦点距離ｆの各値を示す。

【００４１】

【表７】

【００４２】表８に、この実施例４における非球面の各
定数Ｋ、Ａ₄、Ａ₆、Ａ₈、Ａ₁₀の値を示す。

【００４３】

【表８】

【００４４】図６に本実施例４に係る光走査光学系の各
収差図（球面収差、歪曲収差、および像面湾曲の図）を
示す。表７および図６から明らかなように、実施例４に
よれば、像面湾曲をはじめ各収差を良好にし、２枚とい
う少ない構成枚数で良好な結像性能を得ることにより、
大きな走査角を達成している。さらに、波長の短い半導
体レーザを用いることにより、Ｆ／ＮＯを小さくしなく
とも高密度の印字が可能となり、また、レンズをプラス
チック製とすることで、さらに光学系の小型化と低価格
化を実現することができる。

【００４５】図７に、実施例１〜４におけるスポット形
状を示す。各図は各々実施例１〜４の中心画角における
光強度を示しており、各図の単位は任意単位である。各
図中の数字は、上段が副走査方向におけるスポット径
（ｍｍ）、下段が主走査方向におけるスポット径（ｍ
ｍ）を示す。図７に示すとおり、光源波長が７８０ｎｍ
である実施例１に対し、光源波長が５００ｎｍ以下であ
る実施例２〜４の方がスポット径を小さくでき、画像を
高密度化し性能向上を図ることができる。

【００４６】なお、本発明の光走査光学系を構成するレ
ンズ系としては、上記実施形態のものに限られるもので
はなく、種々の態様の変更が可能であり、例えば、各レ
ンズの曲率半径Ｒ_H、Ｒ_V、Ｒおよびレンズの間隔（もし
くはレンズ厚）Ｄを適宜変更することが可能である。ま
た、例えば上記第２の光学手段２における第２のレンズ
１７は、少なくとも一面が回転対称な非球面となるレン
ズとされているが、これに代えて少なくとも一方の面
が、主走査方向断面のみが所望の高次関数である非円弧
面となるレンズとしてもよい。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光走査光
学系によれば、光偏向反射面と被走査面の間に配した第
２の光学手段の構成を、被走査面側から順に、主走査方
向、副走査方向においてともに正の屈折力を有し、両面
ともにトーリック面を有する第１のレンズと、主走査方
向において小さい負の屈折力を有するかまたは屈折力を
有さず、少なくとも一方の面は主走査方向断面が高次関
数である非円弧面からなる第２のレンズとすることによ
り、２枚という少ない構成枚数で大きな走査角を達成
し、それにより高密度化にも対応可能な光走査光学系と
することができる。さらに、光源に波長の短い半導体レ
ーザを用いることにより、Ｆ／ＮＯを小さくしなくとも
高密度の印字が可能となり、また、レンズをプラスチッ
ク製とすることで、さらに光学系の小型化と低価格化を
実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る光走査光学系の構成を
示す主走査方向断面図

【図２】本発明の実施形態に係る光走査光学系の構成を
示す副走査方向断面図

【図３】実施例１に係る光走査光学系の収差曲線図

【図４】実施例２に係る光走査光学系の収差曲線図

【図５】実施例３に係る光走査光学系の収差曲線図

【図６】実施例４に係る光走査光学系の収差曲線図

【図７】実施例１から４に係る光走査光学系のスポット
形状断面図

【符号の説明】

Ｒ_H1〜Ｒ_H2 トーリック面の主走査方向曲率半径Ｒ_V1〜Ｒ_V2 トーリック面の副走査方向曲率半径Ｒ₃ 〜Ｒ₄ レンズ面の曲率半径Ｄ₁ 〜Ｄ₃ レンズ面間隔（レンズ厚）１第１の光学手段２第２の光学手段１１光源１２コリメーティングレンズ１３シリンドリカルレンズ１４ポリゴンミラー１５光偏向反射面１６第１のレンズ１７第２のレンズ１８被走査面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と、該光源からの光ビームを線状に結像させる第１の光学手
段と、該第１の光学手段による結像位置またはその近傍に光偏
向面を有し、光ビームを偏向して被走査面上で走査する
光偏向手段と、該光偏向手段により偏向された光ビームを該被走査面に
結像させ、該被走査面上に略等速に走査させる第２の光
学手段からなる光走査光学系において、該第２の光学手段が前記光偏向手段側から順に、主走査方向、副走査方向においてともに正の屈折力を有
し、両面ともにトーリック面を有する第１のレンズと、主走査方向において小さい負の屈折力を有するかまたは
屈折力を有さず、少なくとも一方の面は主走査方向断面
が高次関数である非円弧面からなる第２のレンズとによ
り構成されることを特徴とする光走査光学系。
【請求項２】前記光源に波長５００ｎｍ以下の半導体
レーザを用いたことを特徴とする請求項１記載の光走査
光学系。
【請求項３】波長５００ｎｍ以下の半導体レーザを用
いた光源と、該光源からの光ビームを線状に結像させる第１の光学手
段と、該第１の光学手段による結像位置またはその近傍に光偏
向面を有し、光ビームを偏向して被走査面上で走査する
光偏向手段と、該光偏向手段により偏向された光ビームを該被走査面に
結像させ、該被走査面上に略等速に走査させるように作
用する、少なくとも１枚のプラスチック製レンズを含む
第２の光学手段とを備えたことを特徴とする光走査光学
系。