JPH11281815A - カラーフィルタ隔壁形成用感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アルカリ性水溶液で現像でき、高解像度、高
感度であり、耐熱性、耐薬品性、透明性等の諸特性を有
し、そしてインクジェット記録技術を利用したカラーフ
ィルタ製造において、着色剤であるインクの着色目的領
域外への拡がりがなく、画素内の表面平滑性に優れたイ
ンクの噴射塗布ができる隔壁を形成することができる感
放射線性樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）、ヘキサフルオロプロピレン、不
飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物
およびこれらの成分と共重合可能な不飽和化合物との含
フッ素共重合体、（Ｂ）、放射線の照射を受けて酸を発
生する酸発生化合物、（Ｃ）、架橋性化合物、（Ｄ）、
（Ａ）成分以外の含フッ素有機化合物並びに（Ｅ）、前
記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成
分を溶解している有機溶媒からなる、カラーフィルタ隔
壁形成用感放射線性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性樹脂組
成物に関する。さらに詳しくは、インクジェット記録技
術を利用したカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等
に用いられるカラーフィルタの製造に使用される隔壁を
作成するためのネガ型レジストとして好適な感放射線性
樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶表示装置、カラー撮像管素子
等に用いられるカラーフィルタを形成するには感放射線
性組成物が使用されている。かかる組成物としては、高
感度、基板との密着性、耐溶剤性等が要求されるため、
一般にネガ型の感放射線性組成物が用いられている。

【０００３】このようなネガ型感放射線性組成物を用い
てカラーフィルタを形成する際にはまず、通常、透明基
板上に蒸着されたクロム層をエッチングすることにより
マトリックス状の遮光層を形成するか、あるいは樹脂を
用いてブラックマトリックスの遮光層を形成する。次
に、着色剤を分散したネガ型感放射線性樹脂組成物を基
板上に塗布し、フォトマスクを介して放射線を照射した
後、現像して、放射線非照射部を現像液で溶解すること
により、画素パターンを形成しており、前記着色剤とし
ては、赤、緑および青の３原色が使用されている。

【０００４】しかしながら、上記の方法を用いて画素パ
ターンを形成すると、各色毎に放射線の照射と現像の工
程を行わなければならないため、３回のフォト工程を必
要とし、手間とコストがかかる。これに伴い、低コスト
でカラーフィルタを提供できるインクジェット法が提案
されている。これは、画素が構成される領域に赤、緑、
青のインクを噴射塗布し硬化させて画素を形成する行う
方法であり、あらかじめフォト工程で隔壁を形成し、そ
の画素部にインクを吐出する方法が提案されている。

【０００５】しかしながら、この方法では、各色領域の
滲みや隣り合う領域間の混色等が起りうる。したがっ
て、この隔壁を構成する材料には、着色剤の着色目的領
域外への拡がりが抑制される特性が求められている。さ
らに、このインクジェット法を用いて画素パターンを形
成した場合、隔壁内に形成した画素の表面平滑性が十分
ではなく、表示ムラが発生しやすいという問題がある。

【０００６】また、インクジェット法による反射型用の
隔壁材としても使用できるようにするためには、可視光
領域における透明性が必要になる。さらにクロムのマト
リックスを形成する際のエッチング時のパターニングマ
スクとしても機能し、かつそのまま隔壁として利用でき
るようにするためには、密着性や耐薬品性が必要とな
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アル
カリ性水溶液で現像でき、高感度であり、しかも、平坦
性、耐熱性等の諸特性とともに、インクジェット法を用
いて、インクの吐出を行う際の混色を容易に防止し、画
素内の表面平滑性が優れたカラーフィルタを作製するた
めの隔壁を与え得る感放射線性樹脂組成物を提供するこ
とである。

【０００８】本発明の他の目的は、インクジェット法に
よりカラーフィルタを形成する際、遮光層上に隔壁を形
成できるだけでなく、クロムによる遮光層形成の際のエ
ッチング工程でパターニングマスクとして機能し、かつ
そのまま隔壁としても使用できるような耐薬品性、密着
性に優れた隔壁を与え得るとともに、反射型のカラーフ
ィルタの隔壁にも使用できるような可視光領域に於ける
透明性に優れた隔壁を与え得る感放射線性樹脂組成物を
提供することである。本発明のさらに他の目的および利
点は、以下の説明から明らかになろう。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、（Ａ）、（ａ−１）ヘキサフ
ルオロプロピレン、（ａ−２）不飽和カルボン酸および
／または不飽和カルボン酸無水物および（ａ−３）上記
（ａ−１）成分および（ａ−２）成分と共重合可能な不
飽和化合物との含フッ素共重合体、（Ｂ）、放射線の照
射を受けて酸を発生する酸発生化合物、（Ｃ）、架橋性
化合物、（Ｄ）、（Ａ）成分以外の含フッ素有機化合物
並びに（Ｅ）、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成
分および（Ｄ）成分を溶解している有機溶媒からなるこ
とを特徴とする、カラーフィルタ隔壁形成用感放射線性
樹脂組成物によって達成される。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の感放射線性樹脂組
成物について具体的に説明する。

【００１１】＜（Ａ）成分＞（Ａ）成分として用いられ
る重合体は、（ａ−１）ヘキサフルオロプロピレンと、
（ａ−２）不飽和カルボン酸および／または不飽和カル
ボン酸無水物と、（ａ−３）上記（ａ−１）成分および
（ａ−２）成分と共重合可能な不飽和化合物との含フッ
素共重合体である。

【００１２】かかる重合体を構成する（ａ−２）成分の
不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水
物としては、例えばクロトン酸、マレイン酸、３−ブテ
ン酸、４−ペンテン酸、イタコン酸などの不飽和モノ−
またはジ−カルボン酸；（メタ）アクリロイルオキシ酢
酸、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピオン酸、２
−（メタ）アクリロイルオキシプロピオン酸、４−（メ
タ）アクリロイルオキシブタン酸などのヒドロキシ脂肪
酸の（メタ）アクリレート；４−（メタ）アクリロイル
オキシ安息香酸、３−（メタ）アクリロイルオキシ安息
香酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ安息香酸、４−
（メタ）アクリロイルオキシフタル酸、３−（メタ）ア
クリロイルオキシフタル酸、４−（メタ）アクリロイル
オキシイソフタル酸、５−（メタ）アクリロイルオキシ
イソフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシテレフ
タル酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸の（メタ）ア
クリレート；コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイル
オキシ）エチル、フタル酸モノ（２−（メタ）アクリロ
イルオキシ）エチル、イソフタル酸モノ（２−（メタ）
アクリロイルオキシ）エチル、テレフタル酸モノ（２−
（メタ）アクリロイルオキシ）エチル、テトラヒドロフ
タル酸モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシ）エチ
ル、テトラヒドロイソフタル酸モノ（２−（メタ）アク
リロイルオキシ）エチル、テトラヒドロテレフタル酸モ
ノ（２−（メタ）アクリロイルオキシ）エチルなどのジ
カルボン酸のモノ（メタ）アクリロイルオキシエチルエ
ステル；イタコン酸のモノメチル、モノエチル、モノプ
ロピル、モノ−ｉ−プロピル、モノブチル、モノ−ｓｅ
ｃ−ブチル、モノ−ｔｅｒｔ−ブチルなどの不飽和カル
ボン酸の、カルボキシル基を有するモノアルキルエステ
ル；

【００１３】無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シ
トラコン酸、無水ムコン酸、３−ビニルフタル酸無水
物、４−ビニルフタル酸無水物、メチル−５−ノルボル
ネン２,３−ジカルボン酸無水物、５−ノルボルネン−
２,３−ジカルボン酸無水物、３,４,５,６−テトラヒド
ロフタル酸無水物、ｃｉｓ−１,２,３,６−テトラヒド
ロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロ無水フタル酸
などの不飽和酸カルボン酸の酸無水物；などが挙げられ
る。これらのカルボキシル基含有単量体は単独でも２種
以上の併用してもよい。

【００１４】上記（ａ−１）成分および（ａ−２）成分
と共重合可能な（ａ−３）成分である不飽和化合物とし
ては、例えば２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３
−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２-ヒドロキシ
プロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニル
エーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、５−
ヒドロキシペンチルビニルエーテル、６−ヒドロキシヘ
キシルビニルエーテルなどの水酸基含有ビニルエーテ
ル；２−ヒドロキシエチルアリルエーテル、４−ヒドロ
キシブチルアリルエーテル、グリセロールモノアリルエ
ーテルなどの水酸基含有アリルエーテル；アリルアルコ
ール；

【００１５】メチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニ
ルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビ
ニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−
ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテ
ル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニル
エーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロ
ヘキシルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル
もしくはシクロアルキルビニルエーテル；

【００１６】パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、
パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、パーフルオロ
（プロピルビニルエーテル）、パーフルオロ（ブチルビ
ニルエーテル）、パーフルオロ（イソブチルビニルエー
テル）、パーフルオロ（プロポキシプロピルビニルエー
テル）などのパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）
もしくはパーフルオロ（アルコキシアルキルビニルエー
テル）；あるいは式ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｏ−Ｒｆ（Ｒｆはフ
ッ素原子を含むアルキル基もしくはアルコキシアルキル
基を示す）で表される（フルオロアルキル）ビニルエー
テルもしくは（フルオロアルコキシアルキル）ビニルエ
ーテル；

【００１７】フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエ
チレン、３,３,３−トリフルオロプロピレン、テトラフ
ルオロエチレンなどのフルオロオレフィン；

【００１８】酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビ
ニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、バーサチ
ック酸ビニル、ステアリン酸ビニルなどのカルボン酸ビ
ニルエステル；エチレン、プロピレン、イソブテンなど
のα-オレフィン；２,２,２−トリフルオロエチル（メ
タ）アクリレート、２,２,３,３,３−ペンタフルオロプ
ロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチ
ル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロ
ヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフ
ルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−
（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレートな
どのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル；

【００１９】メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、
イソブチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル
（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチル（メタ）ア
クリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル；

【００２０】グリシジル（メタ）アクリレート、α−エ
チルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ｎ−プロピ
ルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ｎ−ブチルグ
リシジル（メタ）アクリレート、３,４−エポキシブチ
ル（メタ）アクリレート、３,４−エポキシヘプチル
（メタ）アクリレート、α−エチル−６,７−エポキシ
ヘプチル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メ
タ）アクリレート；アリルグリシジルエーテル、２−ビ
ニルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキ
センオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド
等のエポキシ基含有不飽和脂肪族化合物；ビニルグリシ
ジルエーテル、２−ビニルベンジルグリシジルエーテ
ル、３−ビニルベンジルグリシジルエーテル、４−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−２−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−３−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−４−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、２,３−ジグリシジル
オキシメチルスチレン、２,４−ジグリシジルオキシメ
チルスチレン、２,５−ジグリシジルオキシメチルスチ
レン、２,６−ジグリシジルオキシメチルスチレン、２,
３,４−トリグリシジルオキシメチルスチレン、２,３,
５−トリグリシジルオキシメチルスチレン、２,３,６−
トリグリシジルオキシメチルスチレン、３,４,５−トリ
グリシジルオキシメチルスチレン、２,４,６−トリグリ
シジルオキシメチルスチレン等のグリシジルエーテルな
どが挙げられる。これらの単量体は単独でも２種以上併
用してもよい。

【００２１】かかる共重合可能な単量体のうち、本発明
における含フッ素共重合体の収率を高める点から、フッ
素原子を含まない単量体としてはアルキルビニルエーテ
ル、シクロアルキルビニルエーテル、カルボン酸ビニル
エステルが好適に使用される。なかでも含フッ素共重合
体のフッ素含量を高める点で、例えばメチルビニルエー
テル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエー
テル、イソプロピルビニルエーテル、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ピバリン酸ビニルなどの
低分子量単量体が特に好ましい。さらにはヘキサフルオ
ロプロピレンとパーフルオロアルキルパーフルオロビニ
ルエーテル、パーフルオロアルコキシアルキルパーフル
オロビニルエーテルとを併用することも好適である。ま
た、含フッ素共重合体の高硬度化には、例えばイソプロ
ピルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテ
ル、ピバリン酸ビニルなどの分岐状単量体の使用が有効
である。

【００２２】本発明における含フッ素共重合体を構成す
る各単量体の比率としては、ヘキサフルオロプロピレン
が好ましくは２０〜７０重量％、より好ましくは２５〜
５５重量％、不飽和カルボン酸および／または不飽和カ
ルボン酸無水物が好ましくは１〜４０重量％、より好ま
しくは１０〜３０重量％、他の共重合可能な単量体が好
ましくは１０〜７０重量％である。この場合、ヘキサフ
ルオロプロピレンが５３重量％未満となる場合にはフッ
素含量を高めるべく、例えば、パーフルオロ（アルキル
ビニルエーテル）あるいはパーフルオロ（アルコキシア
ルキルビニルエーテル）のようなヘキサフルオロプロピ
レン以外の他の含フッ素単量体を共重合することが望ま
しい。また、含フッ素共重合体における全フッ素含量
は、好ましくは４０重量％以上、より好ましくは４５重
量％以上である。不飽和カルボン酸および／または不飽
和カルボン酸無水物の構造単位の割合が１重量％未満の
場合には、重合体のアルカリ溶解度が低下し、しかも、
十分な架橋密度が得難く、感度や残膜率が低下する場合
がある。

【００２３】含フッ素重合体は、通常、前記（ａ−
１）、（ａ−２）および（ａ−３）の特定単量体、また
は特定単量体と共重合性単量体とを、重合溶媒中でラジ
カル重合することにより製造される。また、必要に応じ
て、特定単量体および共重合性単量体の官能基を保護し
た状態でこれらを重合し、その後、脱保護処理を行って
もよい。

【００２４】含フッ素共重合体を製造するために用いら
れる重合溶媒としては、例えばメチルアルコール、エチ
ルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール
等のアルコール；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
環状エーテル；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素；Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン等のアミド系非プロトン性極性溶
媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エ
チル等のエステル；３−メトキシプロピオン酸メチル、
２−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピ
オン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、３−
エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン
酸エチル等のアルコキシエステル；エチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメ
チルエーテル等の（ジ）グリコールジアルキルエステ
ル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノエチルエーテル等の（ジ）グリコールモノアル
キルエーテル；プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、カルビトールアセテート、エチルセロソ
ルブアセテート等のグリコールモノアルキルエーテルエ
ステル；シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、２−ヘプタノン等のケトンを挙げ
ることができる。これらの重合溶媒は単独でまたは２種
類以上を組み合わせて用いることができる。

【００２５】重合溶媒と反応原料との割合は特に限定さ
れないが、通常、反応原料１００重量部に対して重合溶
媒２０〜１,０００重量部である。

【００２６】ラジカル重合のための重合開始剤として
は、例えば２,２’−アゾビスイソブチロニトリル、２,
２’−アゾビス−（２,４−ジメチルバレロニトリ
ル）、２,２’−アゾビス（４−メトキシ−２,４−ジメ
チルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルパー
オキシド、ラウロイルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチル
パーオキシピバレート、１,１−ビス−（ｔｅｒｔ−ブ
チルパーオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物また
は過酸化水素を挙げることができる。過酸化物を重合開
始剤として使用する場合には、これと還元剤とを組み合
わせてレドックス系重合開始剤として使用してもよい。

【００２７】含フッ素共重合体は、そのポリスチレン換
算数平均分子量が、通常、１,０００〜２００,０００、
好ましくは２,０００〜７０,０００のものである。ポリ
スチレン換算数平均分子量が１,０００未満の含フッ素
共重合体を用いる場合には、得られるパターンの形状が
不良なものとなったり、パターンの残膜率が低下した
り、パターンの耐熱性が低下したりする場合がある。一
方、ポリスチレン換算数平均分子量が２００,０００を
超える含フッ素共重合体を用いる場合には、感放射線性
樹脂組成物の塗布性が不良となったり、現像性が低下し
たり、また、得られるパターンの形状が不良となったり
する場合がある。

【００２８】＜（Ｂ）成分＞（Ｂ）成分である放射線の
照射を受けて酸を発生する酸発生化合物としては、例え
ばトリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨ
ードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等を用いる
ことができる。

【００２９】上記トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類
としては、例えばトリス（２,４,６−トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロ
ロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（２−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（３−メトキシフェニル）−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メト
キシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビ
ス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−（３−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオ
フェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ
−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３,４,５−トリメトキシ−β
−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）
−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−
ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−ビ
ス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）
エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン等が挙げられる。

【００３０】上記ジアリールヨードニウム塩としては、
例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレー
ト、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホ
ナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテー
ト、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナー
ト、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテトラ
フルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨー
ドニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシフ
ェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネー
ト、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフ
ルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェ
ニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メトキ
シフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホ
ナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニ
ウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロアセ
テート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。

【００３１】上記トリアリールスルホニウム塩として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。

【００３２】これらの化合物のうち、トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン類としては、２−（３−クロロフェニ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチ
ルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−ピペロニル−ビス（４,６−トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イ
ル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−
イル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−
２−メチルフェニル）エテニル］−ビス（４,６−トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジンまたは２−（４−メト
キシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン；ジアリールヨードニウム塩としては、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフ
ェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、
４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオ
ロメタンスルホナートまたは４−メトキシフェニルフェ
ニルヨードニウムトリフルオロアセテート；トリアリー
ルスルホニウム塩としては、トリフェニルスルホニウム
トリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホ
ニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニル
ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリ
フルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェ
ニルトリフルオロメタンスルホナートまたは４−フェニ
ルチオフェニルジフェニルトリフルオロアセテートをそ
れぞれ好ましいものとして挙げることができる。

【００３３】（Ｂ）成分の使用割合は、（Ａ）成分１０
０重量部に対して、０.００１〜３０重量部、特に、０.
０１〜１０重量部であることが好ましい。（Ｂ）成分の
使用割合が（Ａ）成分１００重量部に対して０.００１
重量部未満の場合には、放射線の照射を受けて発生する
酸の量が少ないため、（Ａ）成分の分子の架橋が十分に
進まず、現像処理後における残膜率、得られるパターン
の耐熱性、耐薬品性、基板との密着性等が低下する場合
がある。一方、（Ｂ）成分の使用割合が（Ａ）成分１０
０重量部に対して３０重量部を超える場合には、当該組
成物は、感度の低いものとなりやすい。

【００３４】＜（Ｃ）成分＞（Ｃ）成分である架橋性化
合物は、前記（Ｂ）より発生した酸の作用により架橋さ
れうる基（以下「架橋基」という）を少なくとも１つ有
する化合物である。この架橋基としては、例えばアミノ
基、アルコキシアルキル基、エポキシ基が好ましい基と
して挙げられる。アルコキシアルキル基としては、アル
コキシメチル基がさらに好ましい。アミノ基または／お
よびアルコキシアルキル基を少なくとも１つ含有する化
合物の具体例としては、メラミン樹脂、ベンゾグアナミ
ン樹脂、グリコールウリル樹脂、尿素樹脂、アルコキシ
メチル化メラミン樹脂、アルコキシメチル化ベンゾグア
ナミン樹脂、アルコキシメチル化グリコールウリル樹
脂、アルコキシメチル化尿素樹脂等を挙げることができ
る。

【００３５】上記アルコキシメチル化メラミン樹脂、ア
ルコキシメチル化ベンゾグアナミン樹脂、アルコキシメ
チル化グリコールウリル樹脂およびアルコキシメチル化
尿素樹脂は、それぞれメチロール化メラミン樹脂、メチ
ロール化ベンゾグアナミン樹脂、メチロール化グリコー
ルウリル樹脂およびメチロール化尿素樹脂のメチロール
基をアルコキシメチル基に変換することにより得られ
る。このアルコキシメチル基の種類については特に限定
されるものではなく、例えばメトキシメチル基、エトキ
シメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、
ｔ−ブトキシメチル基等を挙げることができる。

【００３６】これらの樹脂のうち、アルコキシメチル化
メラミン樹脂およびアルコキシメチル化ベンゾグアナミ
ン樹脂が好ましい架橋性化合物として挙げられる。ま
た、市販品としては、サイメル３００、同３０１、同３
０３、同３７０、同３２５、同３２７、同７０１、同２
６６、同２６７、同２３８、同１１４１、同２７２、同
２０２、同１１５６、同１１５８、同１１２３、同１１
７０、同１１７４、同ＵＦＲ６５、同３００（以上、三
井サイアナミッド（株）製）、ニカラックＭｘ−７５
０、同Ｍｘ−０３２、同Ｍｘ−７０６、同Ｍｘ−７０
８、同Ｍｘ−４０、同Ｍｘ−３１、同Ｍｓ−１１、同Ｍ
ｗ−３０（以上、三和ケミカル（株）製）等の商品名で
市販されているものを好ましく使用することができる。

【００３７】エポキシ基を少なくとも１つ含有する化合
物としては、エポキシ基を分子内に２個以上含有する化
合物が好ましい。その具体例としては、ビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族エポキシ樹脂、脂肪
族ポリグリシジルエーテル等を挙げることができる。

【００３８】これらの市販品を示せば、ビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂としては、エピコート１００１、同１
００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１０
０９、同１０１０、同８２８（以上、油化シェルエポキ
シ（株）製）等を、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂と
しては、エピコート８０７（油化シェルエポキシ（株）
製）等を、フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、エピコート１５２、同１５４（以上、油化シェルエ
ポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、
日本化薬（株）製）等を、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０
３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯ
ＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以上、日本化薬
（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポ
キシ（株）製）等を、環式脂肪族エポキシ樹脂として
は、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩ
ＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、Ｅ
ＲＬ−４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６
（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和
電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−
１９２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ
Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、大
日本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７
２（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６
６１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング
（株）製）等を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして
は、エポライト１００ＭＦ（共栄社油脂化学工業（株）
製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等を挙げ
ることができる。

【００３９】これらのうち好ましいものとしては、ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂が挙げられる。

【００４０】以上例示した化合物の大部分は高分子量体
であるが、この化合物の分子量は、特に制限されるもの
ではなく、例えばビスフェノールＡまたはビスフェノー
ルＦのグリシジルエーテル等の低分子量体等を使用する
こともできる。これらの架橋性化合物は、単独でまたは
２種類以上を組み合わせて用いることができる。

【００４１】（Ｃ）成分の使用割合は、（Ａ）成分１０
０重量部に対して１〜１００重量部が好ましく、５〜５
０重量部がより好ましい。（Ｃ）成分の使用割合が
（Ａ）成分１００重量部に対して１重量部未満の場合に
は、系の架橋が不十分となるため、パターンを形成する
こと自体が困難となる場合がある。一方、（Ｃ）成分の
使用割合が（Ａ）成分１００重量部に対して１００重量
部を超える場合には、当該組成物全体のアルカリ溶解性
が過大となって、現像処理後における残膜率が低下する
方向となる。

【００４２】＜（Ｄ）成分＞（Ｄ）成分である含フッ素
有機化合物は、得られた隔壁と、カラーフィルタの形成
に用いられるインクとの接触角を調整する目的で用いら
れる。これらの化合物の分子量は特に制限されず、低分
子量の化合物でも、高分子量体であってもよい。具体例
としては、例えばパーフルオロアルキルスルホン酸、パ
ーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキル
アルキレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリ
アルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基と親
水基を含むオリゴマー、パーフルオロアルキル基と親油
基を含むオリゴマー、パーフルオロアルキル基と親水基
と新油基を含むオリゴマー、パーフルオロアルキルと親
水基を含むウレタン、パーフルオロアルキルエステル、
パーフルオロアルキル燐酸エステル等のフッ素含有有機
化合物を挙げることができる。これらの市販品として
は、メガファックＦ１１６、同Ｆ１２０、同Ｆ１４２
Ｄ、同Ｆ１４４Ｄ、同Ｆ１５０、同Ｆ１６０、同Ｆ１７
１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１７８
Ａ、同Ｆ１７８Ｋ、同Ｆ１７９、同Ｆ１８３、同Ｆ１８
４、同Ｆ１９１、同Ｆ８１２、同Ｆ８１５、同Ｆ８２
４、同Ｆ８３３、ＤＥＦＥＮＳＡ ＭＣＦ３００、同Ｍ
ＣＦ３１０、同ＭＣＦ３１２、同ＭＣＦ３２３（以上、
大日本インキ工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０、
同ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサ
ヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１
０１、ＳＣ−１０２、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、Ｓ
Ｃ−１０５、ＳＣ−１０６（以上、旭硝子（株）製）等
の商品名で市販されている含フッ素有機化合物を使用す
ることができる。これらの含フッ素有機化合物は、単独
でまたは２種類以上を組み合わせて用いることができ
る。

【００４３】本発明における（Ｄ）成分の使用割合は、
（Ａ）成分１００重量部に対して、好ましくは０.００
１〜１１重量部以下、より好ましくは０.０１〜９重量
部である。（Ｄ）成分の使用割合が（Ａ）成分１００重
量部に対して０.００１重量部未満の場合には、カラー
フィルタ用着色剤に使用されているインクと本発明の組
成物との間の接触角が小さくなり、インクが着色領域外
へ拡がりやすくなる。一方、（Ｄ）成分の使用割合が
（Ａ）成分１００重量部に対して１１重量部を超える場
合には、得られる感放射線性樹脂組成物の感度低下、あ
るいは溶解性過剰により、現像処理後における残膜率が
低下する場合がある。（Ｄ）成分を（Ａ）成分に対して
０.０１〜９重量部含有させると、得られる隔壁とカラ
ーフィルタを形成するインクとの接触角が２０〜６０度
と好ましい値となり、着色目的領域外へのインクの拡が
りがなく、画素内の表面平滑性にも優れたカラーフィル
タを得ることができる。

【００４４】＜（Ｅ）成分＞上記組成物溶液を調製する
ための溶剤としては、前述の含フッ素共重合体を製造す
るために用いられる重合溶媒として例示したものと同様
のものを用いることができる。さらに、必要に応じて、
ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブ
チルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプ
ロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノー
ル、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチ
ル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチ
ロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニル
セロソルブアセテタート、カルビトールアセテート等の
高沸点溶剤を添加することもできる。

【００４５】＜その他の成分＞本発明の感放射線性樹脂
組成物には、増感剤が含有されていてもよい。増感剤と
しては、例えば３−位および／または７−位に置換基を
有するクマリン類、フラボン類、ジベンザルアセトン
類、ジベンザルシクロヘキサン類、カルコン類、キサン
テン類、チオキサンテン類、ポルフィリン類、フタロシ
アニン類、アクリジン類、アントラセン類、ベンゾフェ
ノン類、アセトフェノン類等を用いることができる。増
感剤の使用割合は、（Ａ）成分１００重量部に対して、
３０重量部以下、好ましくは０.１〜２０重量部以下で
ある。

【００４６】また、本発明の感放射線性樹脂組成物にお
いては、塗布性の改善（例えばストリエーションの防
止）や現像性の改良を行うために、フッ素系以外の界面
活性剤も添加することができる。フッ素系以外の界面活
性剤としては、例えばポリオキシエチレンラウリルエー
テル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオ
キシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレン
アルキルエーテル；ポリオキシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等のポリオキシエチレンアリールエーテル；ポリエチ
レングリコールジラウレート、ポリエチレングリコール
ジステアレート等のポリエチレングリコールジアルキル
エステルの如きノニオン系界面活性剤；オルガノシロキ
サンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ア
クリル酸系またはメタクリル酸系（共）重合体ポリフロ
ーＮｏ．５７、９５（共栄油脂化学工業（株）製）等の
商品名で市販されているその他の界面活性剤を用いるこ
とができる。

【００４７】これらフッ素系以外の界面活性剤の使用割
合は、組成物中における固形分１００重量部に対して、
好ましくは２重量部以下、より好ましくは１重量部以下
である。

【００４８】さらに、本発明の感放射線性樹脂組成物に
おいては、基板との密着性を改良するために、シランカ
ップリング剤等の接着助剤を添加することができ、また
耐熱性を改良することを目的として多価アクリレート等
の不飽和化合物などを添加することもできる。更に、本
発明の感放射線性樹脂組成物においては、必要に応じ
て、帯電防止剤、保存安定剤、ハレーション防止剤、消
泡剤、顔料、熱酸発生剤等を添加することもできる。

【００４９】＜インクと隔壁との接触角＞インクジェッ
ト法により、着色剤であるインクの着色目的領域外への
拡がりがないカラーフィルタを得るためには、使用する
インクと感放射線性樹脂組成物によって形成される隔壁
表面(インクが付着する面)との間の濡れ性を調整するこ
とが好ましい。

【００５０】インクと隔壁との間の接触角(インクが基
板表面に接触した直後、１分以内に測定される値)は、
好ましくは２０〜６０度、特に好ましくは４０〜５５度
である。接触角が２０度より小さいと、隔壁内のインク
は隔壁と濡れ性が良すぎるため、インクと隔壁の界面部
分でインクが盛り上がったり、隔壁を乗り越えて着色目
的領域外へ拡がってしまう場合がある。一方、接触角が
６０度より大きいと、隔壁内のインクは隔壁と濡れ性が
悪く、隔壁とインクの界面に色抜けが起きたり、インク
の中央が盛り上がることによって色ムラが起きてしまう
場合がある。

【００５１】＜隔壁の形成＞本発明の感放射線性樹脂組
成物を用いることにより、例えば次のようにして隔壁を
形成することができる。先ず、感放射線性樹脂組成物
を、例えばその固形分の濃度が５〜６０重量％となるよ
うに溶剤に溶解し、これを孔径０.２〜１０μｍ程度の
フィルターで濾過することにより組成物溶液を調製す
る。そして、この組成物溶液をガラスウェハー等の基板
の表面に塗布し、プリベークを行うことにより溶剤を除
去して感放射線性樹脂組成物の塗膜を形成する。次い
で、形成された塗膜に対して放射線照射処理を行った
後、ＰＥＢ処理を行う。その後、現像処理を行って放射
線未照射部分を除去することにより隔壁が形成される。

【００５２】組成物溶液を基板に塗布する方法として
は、回転塗布法、流し塗布法、ロール塗布法等の各種の
方法を採用することができる。プリベークの条件は、例
えば加熱温度が５０〜１５０℃、加熱時間が３０秒間〜
６００秒間である。放射線照射処理に使用される放射線
としては、波長３６５ｎｍのｉ線、４３６ｎｍのｇ線等
の紫外線、波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、
波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外
線、シンクロトロン放射線等のＸ線あるいは電子線等の
荷電粒子線が挙げられる。

【００５３】現像処理に用いられる現像液としては、例
えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、硅酸ナトリ
ウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プ
ロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミ
ン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエ
チルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピ
ペリジン、１,８−ジアザビシクロ（５.４.０）−７−
ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ（４.３.０）−５
−ノナン等が単独でまたは２種類以上溶解されてなるア
ルカリ水溶液を用いることができる。また、このアルカ
リ水溶液に、水溶性有機溶媒、例えばメタノール、エタ
ノール等のアルコール類や、界面活性剤が適量添加され
てなるものを使用することもできる。現像処理時間は、
例えば１０〜３００秒間であり、現像方法としては、液
盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法等を利用すること
ができる。

【００５４】現像処理後に、流水洗浄によるリンス処理
を行い、例えば圧縮空気や圧縮窒素で風乾し、必要に応
じて例えば紫外線を該薄膜の表面に照射した後、ホット
プレート、オーブン等の加熱装置によりポストベークを
行う。ポストベークの条件は、通常、例えば１５０〜２
５０℃の温度で３分〜２時間でよい。このようにして硬
化した隔壁が基板の上に形成される。こうして得られる
隔壁の薄膜は、高解像度、平坦度、耐熱性、透明度、硬
度等の物性に優れている。さらに、この基板の画素が構
成される領域に赤、緑、青のインク（例えば、ＪＳＲ
製：オプトマーＣＲ３０１０Ｒ）をインクジェット法に
よって噴射塗布し、着色された該樹脂層を熱処理により
硬化させることによりカラーフィルタが得られる。噴射
塗布したインクと、隔壁との接触角が２０〜６０度であ
る本発明の感放射線性樹脂組成物を用いれば、着色剤で
あるインクの着色目的外への拡がりがなく、しかも得ら
れたカラーフィルタは、画素内の表面平滑性にも優れて
いる。接触角の測定方法としては市販されているゴニオ
メーター等を利用することにより直接測定することが可
能である。

【００５５】以上のことから、本発明の感放射線性樹脂
組成物は、インクジェット記録技術を利用したカラー液
晶表示装置、およびカラー撮像管素子等に用いられるカ
ラーフィルタの製造に使用される隔壁材に有用である。

【００５６】

【実施例】以下、本発明の感放射線性樹脂組成物の実施
例について説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。また、以下において、重合体のポリスチレ
ン換算数平均分子量は、昭和電工（株）製のＧＰＣクロ
マトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１を用い、キャリア溶媒を
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）とし、流速１ｍｌ／ｍｉ
ｎで４０℃条件下にて測定した。

【００５７】〔含フッ素共重合体の合成例〕 合成例１ 内容積０.５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル２７０
ｇ、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）２２.５ｇ、クロ
トン酸（ＣＡ）４０.３ｇおよび過酸化ラウロイル５.４
ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで
冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。次
いでヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１１７ｇを仕
込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が７０
℃に達した時点での圧力は８.３ｋｇｆ／ｃｍ²を示し
た。その後、７０℃で１２時間攪拌下に反応を継続し、
圧力が７.ｋｇｆ／ｃｍ²に低下した時点でオートクレー
ブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反
応モノマーを放出しオートクレーブを開放、固形分濃度
１６.８％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶
液を水に投入しポリマーを析出させた後、ｎ−ヘキサン
にて再沈精製し、５０℃にて真空乾燥を行い８０ｇの含
フッ素共重合体を得た（以下、この樹脂を「樹脂
（１）」と称する）。得られた樹脂（１）を昭和電工
（株）製のＧＰＣクロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２でポ
リスチレン換算数平均分子量を測定したところ、２,８
００であった。

【００５８】合成例２ 内容積０.５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、ジエチレングリコ
ールエチルメチルエーテル（ＥＤＭ）２７０ｇ、エチル
ビニルエーテル（ＥＶＥ）１０.７ｇ、クロトン酸（Ｃ
Ａ）４７.４ｇ、ヘプタデカフルオロノナン酸ビニル42.
63ｇ、および過酸化ラウロイル５.４ｇを仕込み、ドラ
イアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度
窒素ガスで系内の酸素を除去した。次いでヘキサフルオ
ロプロピレン（ＨＦＰ）１１８ｇを仕込み、昇温を開始
した。オートクレーブ内の温度が７０℃に達した時点で
の圧力は８.５ｋｇｆ／ｃｍ²を示した。その後、７０℃
で１２時間攪拌下に反応を継続し、圧力が８.１ｋｇｆ
／ｃｍ²に低下した時点でオートクレーブを水冷し、反
応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放
出しオートクレーブを開放、固形分濃度１６.０％のポ
リマー溶液を得た。得られたポリマー溶液を水に投入し
ポリマーを析出させた後、ｎ−ヘキサンにて再沈精製
し、５０℃にて真空乾燥を行い８０ｇの含フッ素共重合
体を得た（以下、この樹脂を「樹脂（２）」と称す
る）。得られた樹脂（２）を昭和電工（株）製のＧＰＣ
クロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１でポリスチレン換算
数平均分子量を測定したところ、１,８００であった。

【００５９】合成例３ 内容積０.５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル２７０
ｇ、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）１６.３ｇ、クロ
トン酸（ＣＡ）４０.３ｇ、ヘプタフルオロブチルビニ
ルエーテル１９.７ｇ、および過酸化ラウロイル５.４ｇ
を仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷
却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。次い
でヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１１７ｇを仕込
み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が７０℃
に達した時点での圧力は８.２ｋｇｆ／ｃｍ²を示した。
その後、７０℃で１２時間攪拌下に反応を継続し、圧力
が７.５ｋｇｆ／ｃｍ²に低下した時点でオートクレーブ
を水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応
モノマーを放出しオートクレーブを開放、固形分濃度１
６.０％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液
を水に投入しポリマーを析出させた後、ｎ−ヘキサンに
て再沈精製し、５０℃にて真空乾燥を行い８０ｇの含フ
ッ素共重合体を得た（以下、この樹脂を「樹脂（３）」
と称する）。得られた樹脂（３）を昭和電工（株）製の
ＧＰＣクロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１でポリスチレ
ン換算数平均分子量を測定したところ、１,９００であ
った。

【００６０】合成例４ 内容積０.５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル２７０
ｇ、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）１７.０ｇ、クロ
トン酸（ＣＡ）４７.４ｇおよび過酸化ラウロイル５.４
ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで
冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。次
いでヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１１８ｇを仕
込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が７０
℃に達した時点での圧力は８.５ｋｇｆ／ｃｍ²を示し
た。その後、７０℃で１２時間攪拌下に反応を継続し、
圧力が８.０ｋｇｆ／ｃｍ²に低下した時点でオートクレ
ーブを水冷し、反応を停止させた。 室温に達した後、
未反応モノマーを放出しオートクレーブを開放、固形分
濃度１６.２％のポリマー溶液を得た。得られたポリマ
ー溶液を水に投入しポリマーを析出させた後、ｎ−ヘキ
サンにて再沈精製し、５０℃にて真空乾燥を行い８０ｇ
の含フッ素共重合体を得た（以下、この樹脂を「樹脂
（４）」と称する）。 得られた樹脂（４）を昭和電工
（株）製のＧＰＣクロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１で
ポリスチレン換算数平均分子量を測定したところ、２,
０００であった。

【００６１】合成例５ 内容積０.５Ｌの電磁攪拌機付きステンレス製オートク
レーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル２７０
ｇ、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）３４.２ｇ、クロ
トン酸（ＣＡ）２７.２ｇおよび過酸化ラウロイル５.４
ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで
冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。次
いでヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）１１９ｇを仕
込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が７０
℃に達した時点での圧力は７.６ｋｇｆ／ｃｍ²を示し
た。その後、７０℃で１２時間攪拌下に反応を継続し、
圧力が６.３ｋｇｆ／ｃｍ²に低下した時点でオートクレ
ーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未
反応モノマーを放出しオートクレーブを開放、固形分濃
度１９.６重量％のポリマー溶液を得た。得られたポリ
マー溶液を水に投入しポリマーを析出させた後、ｎ−ヘ
キサンにて再沈精製し、５０℃にて真空乾燥を行い８０
ｇの含フッ素共重合体を得た（以下、この樹脂を「樹脂
（５）」と称する）。得られた樹脂（５）を昭和電工
（株）製のＧＰＣクロマトグラフＳＹＳＴＥＭ−２１で
ポリスチレン換算数平均分子量を測定したところ、８,
４００であった。

【００６２】実施例１ （Ａ）成分として、樹脂（３）を１００重量部、（Ｂ）
成分として２−ピペロニル−ビス（４,６−トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン５重量部、（Ｃ）成分として
ヘキサメトキシメチロールメラミン樹脂である「サイメ
ル３００」２０重量部、および（Ｄ）成分としてメガフ
ァックＦ１７２（大日本インキ工業（株）製；パーフル
オロアルキル基と親油性基含有オリゴマー）６重量部
を、全体の固形分濃度が４０％になるように（Ｅ）成分
であるジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶
解させた後、孔径０.２μｍのメンブランフィルターで
濾過し、本発明の感放射線性樹脂組成物を溶液として調
製した。

【００６３】＜マトリックス状隔壁を形成したガラス基
板の形成＞ガラス基板上にスピンナーを用いて、組成物
溶液１を塗布した後、１１０℃で２分間ホットプレート
上でプリベークして膜厚３.０μｍの塗膜を形成した。

【００６４】得られた塗膜に、ＮＳＲ１５０５ｉ６Ａ縮
小投影露光機（（株）ニコン製、ＮＡ＝０.４５,λ＝３
６５ｎｍ）により最適焦点深度で紫外線照射処理を行っ
た後、ホットプレート上で１１０℃で２分間ＰＥＢ処理
を行った。次いで、０.５重量％テトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液を用い、２５℃で１分間現像処
理を行い、水で洗浄して乾燥することにより、隔壁を形
成した。

【００６５】この隔壁が形成されたガラス基板をホット
プレート上で２００℃で１時間加熱することにより、隔
壁のポストベークを行い、マトリックス状隔壁を形成し
たガラス基板を得た。

【００６６】＜放射線感応性の評価＞紫外線照射時に照
射時間を変えて、ＰＥＢ処理および現像を行い、５.０
μｍ×５.０μｍ以下の大きさの解像度で、しかもその
時の感度が３０ｍＪ／ｃｍ²以下でパターニングが可能
な放射線感応性を○とし、５０ｍＪ／ｃｍ² 以下でパタ
ーニングが可能な放射線感応性を△とし、上記解像度お
よび５０ｍＪ／ｃｍ²以下の感度のいずれか、または両
者がこの基準に達しない放射線感応性を×とした。結果
を表１に示す。

【００６７】＜耐熱寸法安定性の評価＞マトリックス状
隔壁を形成したガラス基板を２００℃のオーブンを用い
て１時間加熱した後、隔壁の膜厚変化を測定した。加熱
後の膜厚が、加熱前の膜厚の９５％を超える場合を○、
９０〜９５％の範囲にある場合を△、９０％未満の場合
を×とした。結果を表１に示す。

【００６８】＜透明性の評価＞上記と同様にしてマトリ
ックス状隔壁を形成したガラス基板を得た。次いで、得
られたガラス基板の透過率を分光光度計「１５０−２０
型ダブルビーム（日立製作所製）」を用いて４００〜８
００ｎｍの波長で測定した。このとき最低透過率が９５
％を超える場合を○、９０〜９５％の範囲にある場合を
△、９０％未満の場合を×とした。結果を表１に示す。

【００６９】＜耐薬品性の評価＞マトリックス状隔壁を
形成したガラス基板を３０℃の硝酸第二セリウムアンモ
ニウム＋過塩素酸混合水溶液中に１５分間浸せきし、膜
厚変化を測定し、１０％以下の膜厚変化を○、１０％以
上の膜厚変化を△、膨潤が大きく、基板から剥がれてし
まう状態を×とした。結果を表１に示す。

【００７０】＜接触角の評価＞紫外線照射処理を全面に
ほどこして作成したマトリックス状隔壁を形成したガラ
ス基板に、インク(ＪＳＲ製；オプトマーＣＲ３０１０
Ｒ)を１０μl程度滴下し、接触角を測定した。結果を表
１に示す。

【００７１】＜画素表面均一性の評価＞マトリックス状
隔壁を形成したガラス基板にインクジェット法によりイ
ンク(ＪＳＲ製；オプトマーＣＲ３０１０Ｒ)を滴下し、
２２０℃のオーブンを用いて３０分加熱した後、画素内
の膜厚を測定し、膜厚のバラツキが２％未満の場合を
◎、２％以上３％未満の範囲にある場合を○、３％以上
５％未満の範囲にある場合△、５％以上の場合を×とし
た。結果を表１に示す。

【００７２】実施例２ （Ａ）成分として樹脂（１）を用いた以外は実施例１と
同様にして、本発明の感放射線性樹脂組成物の調製、隔
壁の形成および評価を行った。結果を表１に併せて示
す。

【００７３】実施例３ （Ａ）成分として樹脂（４）を用い、（Ｄ）成分とし
て、メガファックＦ１７７（大日本インキ工業（株）
製；パーフルオロアルキル基と親水性基・親油性基含有
オリゴマー）３重量部を溶解させた以外は実施例１と同
様にして、本発明の感放射線性樹脂組成物の調製、隔壁
の形成および評価を行った。結果を表１に併せて示す。

【００７４】実施例４ （Ａ）成分として樹脂（５）を用い、（Ｄ）成分とし
て、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー（メガファ
ックＦ１７８Ｋ；大日本インキ工業（株）製）３重量部
を溶解させた以外は実施例１と同様にして、本発明の感
放射線性樹脂組成物の調製、隔壁の形成および評価を行
った。結果を表１に併せて示す。

【００７５】実施例５ （Ａ）成分として樹脂（４）を用い、（Ｄ）成分とし
て、ＤＥＦＥＮＳＡ ＭＣＦ３１０（大日本インキ工業
（株）製；非イオン性フッ素系表面保護剤）３重量部を
溶解させた以外は実施例１と同様にして、本発明の感放
射線性樹脂組成物の調製、隔壁の形成および評価を行っ
た。結果を表１に併せて示す。

【００７６】比較例１ （Ａ）成分として樹脂（１）を用い、（Ｄ）成分を用い
なかった以外は実施例１と同様にして、比較用の感放射
線性樹脂組成物の調製、隔壁の形成および評価を行っ
た。結果を表１に併せて示す。

【００７７】比較例２ （Ａ）成分として樹脂（２）を用い、（Ｄ）成分とし
て、メガファックＦ１７２（大日本インキ工業（株）
製；パーフルオロアルキル基と親油性基含有オリゴマ
ー）９重量部を溶解させた以外は比較例１と同様にし
て、比較用の感放射線性樹脂組成物の調製、隔壁の形成
および評価を行った。結果を表１に併せて示す。

【００７８】

【表１】

【００７９】

【発明の効果】本発明の感放射線性樹脂組成物は、アル
カリ性水溶液で現像でき、高解像度、高感度であり、し
かも、耐熱性、耐薬品性、透明性等の諸特性とともに、
インクジェット記録技術を利用したカラーフィルタ製造
において、着色剤であるインクの着色目的領域外への拡
がりがなく、画素内の表面平滑性に優れたインクの噴射
塗布ができる隔壁を容易に形成することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 根本 宏明 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 別所 信夫 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）、（ａ−１）ヘキサフルオロプロ
   ピレン、（ａ−２）不飽和カルボン酸および／または不
   飽和カルボン酸無水物および（ａ−３）上記（ａ−１）
   成分および（ａ−２）成分と共重合可能な不飽和化合物
   との含フッ素共重合体、（Ｂ）、放射線の照射を受けて
   酸を発生する酸発生化合物、（Ｃ）、架橋性化合物、
   （Ｄ）、（Ａ）成分以外の含フッ素有機化合物並びに
   （Ｅ）、前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分およ
   び（Ｄ）成分を溶解している有機溶媒からなることを特
   徴とする、カラーフィルタ隔壁形成用感放射線性樹脂組
   成物。