JPH11281473A - M2測定装置 - Google Patents

M2測定装置

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JPH11281473A
JPH11281473A JP10086392A JP8639298A JPH11281473A JP H11281473 A JPH11281473 A JP H11281473A JP 10086392 A JP10086392 A JP 10086392A JP 8639298 A JP8639298 A JP 8639298A JP H11281473 A JPH11281473 A JP H11281473A
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light
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Koichi Shirakawa
光一 白川
Manabu Yasukawa
学 安川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パルスレーザのM2値を測定可能で光軸の調
整が容易なM2測定装置を提供する。 【解決手段】 被測定光源20のレーザを集光する集光
レンズ1と、これをビームの光軸方向に移動させる一軸
ステージ2と、ビーム集光位置4より後方に配置される
対物レンズ3と、その後ろ側焦点面5より後方に配置さ
れ、光を2方向に分岐するハーフミラー12と、分岐さ
れた一方の光軸上に配置され、後ろ側焦点面5の光像を
結像するリレーレンズ7と、その結像画像を撮像する撮
像素子8と、分岐された他方の光軸上に配置され、集光
位置4のビーム像を拡大投影する拡大レンズ6と、その
投影画像を撮像する撮像素子11と、撮像素子8の撮像
画像からビームの拡がり角度を検出し、集光レンズ1を
移動させながら撮像素子11の撮像画像からビームウェ
スト径を求め、これらを基にM2値を算出する制御処理
部と、を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームの品
質を表すパラメータであるM2値を測定するM2測定装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザビームの品質を表すパラメータと
してM2値がある。これは、レーザビームの強度分布の
理想的なガウス分布からのずれを表すパラメータであ
り、レーザ光源のスペックの一つとして表示が求められ
るようになってきている。
【0003】このM2値を測定する装置としては、コヒ
ーレント社のモードマスタやキノ・メレスグリオ社のウ
ェーブアライザーがある。
【0004】このうち、モードマスタは、図2に示され
るように、被測定レーザ光の光軸上に光軸方向に移動可
能なレンズ101、102と、ナイフエッジ103を有
し、モーター105によりこの光軸に直交する軸を中心
として回転するドラム104と、光検出器106とを配
置して構成されている。
【0005】そして、レンズ101と102を光軸方向
に移動させ、被測定レーザ光の集光位置をずらしつつ、
モータ105によりドラム104を回転させ、集光位置
にナイフエッジ103を通過させる。こうして光検出器
106により被測定レーザ光の二次元強度分布であるプ
ロファイルを求め、さらにこのプロファイルからM2
を求めている。
【0006】一方、ウェーブアライザーは、図3に示さ
れるように、シェアリング干渉計を応用したものであ
り、シェアプレート110と、ミラー111a、bと2
台の干渉縞撮影用のCCDカメラ112a、bと、駆動
機構113を備え、電源114と、コンピュータ115
に接続されている。
【0007】そして、シェアプレート110を回転させ
て被測定レーザ光に対して1波長の光路差スキャンニン
グをつくりだし、CCDカメラ112a、bを操作して
光路差1/4波長の4つの連続的なフリンジイメージを
撮像する。これらのフリンジイメージを基にして被測定
光のビームの強度分布、波面形状等をコンピュータ11
5により解析し、M2値を求めている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記いずれの装置も回
転部分を含むため、被測定レーザ光との光軸の調整が難
しい。また、モードマスタは、レーザビーム内の強度分
布を走査して求めており、一方、ウェーブアライザー
は、干渉を利用しているため、どちらの装置を用いた場
合でもリアルタイムでビームの特性を測定することはで
きない。特に、いずれの装置でも時間分解を必要とする
から、パルスレーザの特性を測定することは不可能であ
り、M2値を測定することができない。
【0009】そこで、本発明は、上記の問題点に鑑み
て、パルスレーザのM2値を測定可能で光軸の調整が容
易なM2測定装置を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のM2測定装置は、(1)測定対象レーザビーム
の光軸上にこの光軸に沿って移動可能に配置され、レー
ザビームを集光する無収差の集光レンズと、(2)この集
光レンズをレーザビームの光軸に沿って移動させるレン
ズ駆動手段と、(3)集光レンズの後ろ側焦点面より後方
に配置され、入射光を集光する対物レンズと、(4)対物
レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入射光を第
1と第2の方向に分岐して出射する光分岐手段と、(5)
第1の方向の光軸上に配置され、対物レンズの後ろ側焦
点面の光像を拡大あるいは縮小若しくは等倍で結像面に
結像するリレーレンズと、(6)リレーレンズの結像面に
配置され、結像画像を撮像する第1の撮像素子と、(7)
第2の方向の光軸上に配置され、集光レンズにより集光
されたビーム像を拡大して投影する拡大結像レンズと、
(8)拡大結像レンズの結像面に配置され、結像画像を撮
像する第2の撮像素子と、(9)第1の撮像素子で撮像し
た画像を基にしてビームの拡がり角度を検出するととも
に、レンズ駆動手段を制御して集光レンズを移動させな
がら第2の撮像素子で撮像した画像を基にしてそれぞれ
の位置におけるビーム径を測定することで最小ビーム径
となるビームウェスト位置のビーム径を求め、これを基
にしてM2値を算出する制御処理部と、を備えているこ
とを特徴とする。
【0011】これによれば、被測定レーザビームは、集
光レンズで集光されて、特定の位置にスポットを形成し
たうえ、このビームはさらに拡散して対物レンズに入射
する。対物レンズに入射したビームは、再度集束されて
後方へ出射され、その後ろ側焦点面に集光レンズの出射
光角に対応した角強度分布像を形成する。この角強度分
布像を含むビームは、さらに光分岐手段に送られて2方
向に分割される。このうち第1の方向には、リレーレン
ズが配置され、上述の対物レンズ後ろ側焦点面に形成さ
れた角強度分布像と同一の像が第1の撮像素子の入射面
に投影され、撮像される。一方、第2の方向には、拡大
結像レンズが配置されており、対物レンズの前方で集光
レンズにより集光されたスポット像を拡大して第2の撮
像素子の入射面に投影している。
【0012】ここで、集光レンズを光軸方向に移動させ
ると、集光位置が移動し、そのスポット径も変化する。
このうち最小のスポット径がビームウェスト径である。
これを第2の撮像素子の撮像データから求める。一方、
第1の撮像素子には、対物レンズへの入射角度、つまり
ビーム拡がり角度に応じた角強度分布像が投影されてい
るから、ビーム拡がり角度を求めることができる。制御
処理部は、このビーム拡がり角度とビームウェスト径か
らM2値を求める。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面を参照して説明する。
【0014】図1は、本発明に係るM2測定装置の全体
構造を示す概略構成図である。レーザ光源20から照射
される被測定光であるレーザビームの光路上に、無収差
の集光レンズ1が配置されており、この集光レンズ1
は、一軸ステージ2により、レーザビームの光軸に沿っ
て移動可能である。この集光レンズ1によるレーザビー
ムの集光位置4より後方に対物レンズ3が配置されてお
り、その後ろ側焦点面5より後方に入射光を2方向の光
路に分岐して出力するハーフミラー12が配置されてい
る。
【0015】ハーフミラー12により分岐された光路の
うち一方には、リレーレンズ7が配置されており、この
リレーレンズ7の結像面には、拡がり角計測用の二次元
画像の撮像素子8が配置されている。
【0016】ハーフミラー12により分岐された他方の
光路には、拡大結像レンズ6が配置されており、その結
像面には集光径計測用の二次元画像の撮像素子11が配
置されている。各撮像素子8、11で撮像した画像信号
は、信号処理部10に送られ、処理される。信号処理部
10はまた、ステージ駆動装置9を制御して、一軸ステ
ージ2を駆動する。
【0017】続いて、本装置の動作を説明する。一軸ス
テージ2を駆動させて集光レンズ1を所定の位置に配置
する。レーザ光源20から発せられたレーザビームは集
光レンズ1により集光されて、ある特定の集光位置4で
集光されたあと、再び拡散して対物レンズ3に入射す
る。対物レンズ3は、この拡散光束の拡がり角度に対応
する像を後ろ側焦点面5に結像する。
【0018】この光はさらにハーフミラー12により2
方向に分岐される。分岐された光のうち一方はリレーレ
ンズ7に導かれ、撮像素子8の受光面上に対物レンズ3
の後ろ側焦点面に結像された像と同じ像を結像する。こ
れにより、ビームの拡がり角度に対応した画像が撮像さ
れることになる。この画像の大きさとビームの拡がり角
度の対応は、対物レンズの光学系により決まるものであ
り、予めその対応を求めておけば、簡単にビームの拡が
り角を求めることができる。
【0019】また、ハーフミラー12により分岐された
他方の光は、拡大結像レンズ6に導かれる。拡大結像レ
ンズ6は、対物レンズ3と組み合わせることにより集光
位置4のスポットの像を拡大して撮像素子11の受光面
上に投影している。したがって、撮像素子11では、集
光位置4のスポット像に対応する画像が撮像される。
【0020】ステージ駆動装置9により一軸ステージ2
を制御して集光レンズ1を光軸方向に移動させると、集
光位置4が変化する。これに伴い、集光位置4における
スポット径も変化する。しかし、対物レンズ3の後ろ側
焦点面5に結像される像の大きさは変化しない。このた
め、撮像素子8で撮像される画像の大きさは一定とな
る。一方、撮像素子11で撮像される画像の大きさはス
ポット径の変化に応じて変化する。集光位置4がビーム
ウェスト位置に合致したとき、スポット径は最小とな
る。逆に集光位置4をずらしていったときに観測される
最小スポット径がビームウェスト位置のスポット径であ
るビームウェスト径である。こうしてビームウェスト径
を求めることができる。
【0021】信号処理部10は、このようにしてビーム
ウェスト径とビーム拡がり角度を求め、これらの値を基
にして、次式によりM2値を求める。
【0022】
【数1】 ここで、Θはビーム拡がり角度、w0が求めたビームウ
ェスト直径、λが被測定レーザ光の波長である。
【0023】このように、本発明によれば、ほぼリアル
タイムでビームの特性値を測定することができるので、
被測定レーザ光がパルスレーザの場合でも同様の手法で
2値を測定することができる。
【0024】また、本装置とレーザ光源の光軸が合って
いない場合、レーザ光の光軸が装置の光軸からシフトし
ている場合は、撮像素子11への入射光がシフトする。
一方、角度がずれている場合は、撮像素子8への入射光
がシフトする。したがって、撮像素子8、11の出力画
像を基にして簡単に光軸を調整することができる。本装
置は、回転部分を含まないため、集光レンズ1を動かす
前に一度光軸を調整すれば測定中に光軸調整を行う必要
はない。
【0025】さらに、撮像素子11には、集光位置4に
おけるビームの像が拡大投影されるから、ビームの強度
分布もあわせて確認することができる。
【0026】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
ビームウェスト径とビーム拡がり角度を同時に計測でき
るので、迅速かつ容易にM2値を求めることができる。
特に、パルスレーザ光についても測定が可能である。ま
た、光軸のずれを容易に確認できるので光軸調整も容易
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のM2測定装置を示す全体概略図であ
る。
【図2】従来のM2測定装置を示す概略図である。
【図3】従来の別のM2測定装置を示す概略図である。
【符号の説明】
1…集光レンズ、2…一軸ステージ、3…対物レンズ、
4…集光位置、5…後ろ側焦点面、6…拡大結像レン
ズ、7…リレーレンズ、8、11…撮像素子、9…ステ
ージ駆動装置、10…信号処理部、12…ハーフミラ
ー、20…レーザ光源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザビームの品質を表すパラメータで
    あるM2値を測定するM2測定装置であって、 測定対象レーザビームの光軸上にこの光軸に沿って移動
    可能に配置され、前記レーザビームを集光する無収差の
    集光レンズと、 前記集光レンズを前記レーザビームの光軸に沿って移動
    させるレンズ駆動手段と、 前記集光レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入
    射光を集光する対物レンズと、 前記対物レンズの後ろ側焦点面より後方に配置され、入
    射光を第1と第2の方向に分岐して出射する光分岐手段
    と、 前記第1の方向の光軸上に配置され、前記対物レンズの
    後ろ側焦点面の光像を拡大あるいは縮小若しくは等倍で
    結像面に結像するリレーレンズと、 前記リレーレンズの結像面に配置され、結像画像を撮像
    する第1の撮像素子と、 前記第2の方向の光軸上に配置され、前記集光レンズに
    より集光されたビーム像を拡大して投影する拡大結像レ
    ンズと、 前記拡大結像レンズの結像面に配置され、結像画像を撮
    像する第2の撮像素子と、 第1の撮像素子で撮像した画像を基にしてビームの拡が
    り角度を検出するとともに、前記レンズ駆動手段を制御
    して前記集光レンズを移動させながら前記第2の撮像素
    子で撮像した画像を基にしてそれぞれの位置におけるビ
    ーム径を測定することで最小ビーム径となるビームウェ
    スト位置のビーム径を求め、これを基にしてM2値を算
    出する制御演算処理部と、 を備えていることを特徴とするM2測定装置。
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