JPH11259840A - 磁気ヘッドスライダ及びその導線形成方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ及びその導線形成方法Info
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- JPH11259840A JPH11259840A JP10061415A JP6141598A JPH11259840A JP H11259840 A JPH11259840 A JP H11259840A JP 10061415 A JP10061415 A JP 10061415A JP 6141598 A JP6141598 A JP 6141598A JP H11259840 A JPH11259840 A JP H11259840A
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Classifications
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- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
Abstract
タル型ヘッド素子を具備し、且つ該ヘッド素子を含むス
ライダの一部32が、少なくとも前記記録媒体に対する
トラッキング方向又はロード・アンロード方向に微小移
動範囲で可動にスライダの本体を形成している固定部3
1に支持ばね34により支持されている磁気ヘッドスラ
イダにおいて、ヘッド素子43からの引出し線22を、
マイクロアクチュエータの可動部32の固定部31に対
する動きに妨げることのないように、スライダの製造工
程中に行う。 【解決手段】 可動部32に搭載された前記ヘッド素子
43からの引出し線22を、支持ばね34の剛性より低
い剛性を有する可撓性導線22で形成し、可動部の固定
部に対する移動を制約しないように、引出し線を可撓性
導線22で可動部から固定部の側へ引き回した。
Description
に用いられる磁気ヘッドスライダ、及びこの磁気ヘッド
スライダの内部、特にマイクロアクチュエータの部分に
おける導線形成方法に関する。近年、磁気ディスク装置
の小型化、高性能化、低価格化に伴い、高性能かつ低価
格の薄膜磁気ヘッドの開発が望まれている。この要求を
満たす方式として、薄膜パターン成膜面を、浮上面と平
行としたホリゾンタルヘッド(プレーナヘッド)が提案
されている。その理由は、ホリゾンタルヘッドは、特定
の形状を有する浮上レールの形成が容易であるために安
定して低浮上のヘッドを実現しやすいこと、機械加工部
を減らしやすいために低価格を実現しやすいこと等によ
る。
ッド素子及び磁気ヘッドスライダの小型化への要望が強
まるのに伴い、機械加工や取扱いが問題となっている。
機械加工がほとんど不要で、製造コストを低減すること
のできる磁気ヘッドスライダを、提案した(特開平9−
81924号公報、「薄膜磁気ヘッドスライダ及び静電
アクチュエータ」参照)。この磁気ヘッドスライダは内
部にマイクロアクチュエータが組み込まれており、ヘッ
ド素子を精密にトラッキング方向及ロード・アンロード
方向に制御することを可能にするものである。
る。図1及び図2はこの従来技術に係る薄膜磁気ヘッド
スライダを示す。図1はヘッドサスペンション30に装
着された磁気ヘッドスライダ10を浮上面側から見た斜
視図であり、図2はヘッドサスペンション30に装着す
る前のスライダ10自体を背面側(浮上面とは反対側)
から見た斜視図である。
ダ10の浮上面の側は、SiO2 ,Al2 O3 等から成
る浮上面層11の一部が媒体側に突出しており、矢印A
方向に移動する媒体に対する流入端13から流出端14
まで延びた2つの浮上レール15を形成している。ま
た、これらの2つの浮上レール15の間の流入端13側
に中心レール17が形成されている。浮上面層11の背
面に形成されているスライダ10の本体12及び端子パ
ッド部18(図2)はNi等の金属をめっきして形成し
てある。
キング機構)は、2つの浮上レール15の間の位置で、
且つ端子パッド部18と流出端14との間の位置に、浮
上面層11の一部に形成されている。静電マイクロアク
チュエータ20は、ここでは詳細には図示していない
が、静電吸引力を利用したものであって、可動部と固定
部とからなり、可動部の媒体対向面側には素子搭載部を
有する。可動部と固定部との間はそれぞれ対向する部分
に金属電極を有しており、固定部側の電極と可動部側の
電極との間に電圧を印加して吸引力を発生させることに
よって可動部、即ちヘッド素子を記録媒体のトラックと
直交する方向に移動させ、トラッキングを行うものであ
る。
する課題は、上記の特開平9−81924号公報に記載
された磁気ヘッドスライダにおいて、可動部に搭載され
たヘッド素子からの導線を、マイクロアクチュエータの
動きを妨げることなく固定部(スライダ本体)へ引き出
すことである。また、導線の形成を後工程でなく、スラ
イダ製造工程中のウエハープロセスで行うことである。
体に対して浮上又は接触する媒体対向面を有し、且つ成
膜面が該媒体対向面に平行であるホリゾンタル型ヘッド
素子を具備し、且つ該ヘッド素子を含むスライダの一部
が、少なくとも前記記録媒体に対するトラッキング方向
(記録媒体のトラックの方向に対し直角な方向)又はロ
ード・アンロード方向(トラッキングの方向と直交し記
録媒体に対し近づいたり遠ざかったりする方向)に微小
移動範囲で可動にスライダの本体である固定部に対して
支持ばねにより支持されている磁気ヘッドヘッドスライ
ダにおいて、可動部に搭載された前記ヘッド素子からの
引出し線を、前記支持ばねの剛性より低い剛性を有する
可撓性導線で形成し、前記可動部の固定部に対する移動
を制約しないように、前記可撓性導線を可動部から固定
部の側へ引き回したことを特徴とする磁気ヘッドスライ
ダ提供される。
支持ばねの剛性より低い剛性を有する可撓性導線で形成
したので、マイクロアクチュエータの可動部の固定部に
対する動きに妨げることはない。また、導線の形成を、
スライダの製造工程中に行うことができる。前記可撓性
導線はその断面が、導体部と該導体部を覆う可撓性絶縁
体とから構成されていることを特徴とする。この場合に
おいて、前記可撓性導線は、上下2層の可撓性絶縁層と
該2層の可撓性絶縁層間にサンドイッチ状に挟まれた導
体層とが、層状に形成されたものであることを特徴とす
る。このようにすることで、充分な可撓性のある導線を
スライダの製造工程中にパターニングにより形成するこ
とができる。
導体層から成る前記可撓性導線は、概ねスライダの媒体
対向面に平行である。また、前記2層の可撓性絶縁層と
それに挟まれた導体層から成る前記可撓性導線は、同一
面内又面外で撓みやすい形状である。更にまた、前記2
層の可撓性絶縁層とそれに挟まれた導体層から成る前記
可撓性導線は、前記可動部と前記固定部との間の微小な
間隔内で、コの字に互い違いに2個所以上屈曲された形
状である。これにより、可撓性導線の剛性を更に低くす
ることができる。
ォトレジストで構成されている。前記ホリゾンタル型ヘ
ッド素子は情報記録用ヘッド素子と、再生用ヘッド素子
とから成る。また、本発明の他の側面によると、基板上
に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、浮上面層とヘッド素
子層を含む可動部とを形成し、更にスライダ本体部を形
成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記
基板から分離して得られる、磁気ヘッドスライダの製造
方法において、浮上面層とヘッド素子層を含む可動部と
を形成後、スライダ本体部を形成前に、前記可動部に搭
載された前記ヘッド素子層から前記スライダ本体の固定
部の側へ延びている引出し線を、パターニングにより形
成することを特徴とする磁気ヘッドスライダの導線形成
方法が提供される。これによると、引出し線の形成を、
スライダの製造工程中にウェハのパターニング・プロセ
スにより行うことができる。
ず、第1の可撓性絶縁層をパターニング・ハードベイク
し、その上に導体層を成膜・パターニングし、更にその
上に第2の可撓性絶縁層をパターニング・ハードベイク
して形成することにより、前記導体層を2層の可撓性絶
縁層にてサンドイッチ状に挟んだ可撓性導線として形成
することを特徴とする。これにより、可撓性があり剛性
の低い可撓性導線を形成することができる。
ダを概略平面図、図4はマイクロアクチュエータ部の平
面図、図5は図4の線B−Bにおける拡大断面図であ
り、ヘッド素子からの導線部分も示す。図5に示すよう
に、磁気ヘッドスライダ10全体は、浮上面層41であ
るSiO2膜の上にスライダ本体層42としてのNiめっき
層を設けて構成されている。
に示すように、外枠部分はNiめっきで形成された固定
部31本体で、図示しない基板上に固定されている。固
定部31本体の内壁には、内周に向かって、一定間隔の
互いに平行な歯31aを、固定部31本体と同時にNi
めっきで設ける。これらの歯31aは基板上に固定され
ていてもよいし、基板との間に隙間(図示せず)を持っ
て設けても良い。
固定部31本体と同時にNiめっきで形成された可動部
32本体で、基板との間に隙間(図示せず)を持って、
固定部31に対して相対運動可能に設けられている。ま
た、可動部32本体には、固定部31に設けられた互い
に隣合う歯31aの中心からずれた位置に、それと平行
するように複数の歯32aが設けられている。
板に固定された支柱33が形成され、支柱33と可動部
32本体の間には、可動部32を図中の上下方向及び紙
面に垂直な方向に運動可能とする支持ばね34が設けら
れている。即ち、可動部32に形成されるヘッド素子
(図示せず)は、その4隅にも設けられた略コ字形の支
持ばね34により、図中の上下方向であるトラッキング
方向及び紙面に垂直な方向であるロード・アンロード方
向に移動可能となる。
柱からは、図示しない端子に接続するための導線35,
36をNiめっきで形成する。二つの導線35,36の
間に電圧を印加すると、固定部31の歯31aと可動部
32の歯32aの間に動く静電吸引力により、可動部3
2が上方へ吸引され、支持ばね34の復元力と釣り合う
位置まで移動する。過大な電圧入力があった場合に固定
部31の歯31aと可動部32の歯32aが接触して短
絡するのを防ぐために、支柱33の一部に、可動部32
との空隙を短くした部分を設け、ストッパ37としてい
る。支持ばね34の断面は、例えば幅及び高さが5μ
m、長さは例えば100μmである。
は、屈曲した可撓性導線22が設けられている(図4に
は下側の2箇所のみ示す)。可撓性導線22の形状は、
可動部32と固定部31との間隔内で、コ字形を2つ連
結した屈曲した形状で、図中の上下方向及び紙面に垂直
な方向の剛性が低くなるようにしてある。可撓性導線2
2は、可動部32に設けられたヘッド素子43(図5)
とスライダの本体に設けられている端子18(図3)と
の間を電気的に接続するものである。
エータ20は支持ばね34(図5には図示せず)の部分
を含めてスライダ本体42よりも薄いNiめっきで構成
されている。図6は可撓性導線22の断面図である。図
示のように、可撓性導線22は導体層23を上下2層の
可撓性絶縁層24、25でサンドイッチ状に覆った形態
であり、可動部32の動作が可撓性導線22自体の剛性
により影響を受けないように、可動部32を支持してい
る支持ばね34に比べて十分薄い形状となっており(例
えば、0.1μm)、幅は支持ばね34と同等以下で、
例えば2μmであって、4本の可撓性導線22の剛性を
合わせても、支持ばね34に比べて十分に剛性の小さ
く、可動部32の動きを妨げないようになっている。
4、25で覆った形態であるので、導体の可動部32や
固定部31に接触するように設けることが可能となる。
可動部32に搭載されたヘッド素子43にはインダクテ
ィブヘッドの場合は2つ、読み取り用にMRヘッドを用
いる場合には更に2つの端子(図示せず)があり、可撓
性導線22を通り、端子部18に接続される。このよう
な構造をとることにより、可動部32の動きを妨げるこ
となく、可動部32に設けられたヘッド素子43などか
ら必要な信号線等のリード線の引き出しが可能となる。
特にその静電マイクロアクチュエータ部20の形成工程
について、図7〜図16を参照して、説明する。 ガラス基板50上の全面に犠牲層(Al)51を成
膜する。これは後にエッチングにより、この基板50
と、形成されたスライダ10とを分離するためのもので
ある。次に、犠牲層51の上の所定の部位に、磁性膜な
どからなるヘッド素子43を形成する(図7)。
子43を形成した箇所及びその周辺部を除き、浮上面層
(SiO2)41を形成する。更に、この浮上面層(S
iO2)の上の、ヘッド素子43の周囲で且つ静電マイ
クロアクチュエータ20の形成領域に、第2の犠牲層
(Al)51aを成膜する(図8)。 ヘッド素子43上を含む、静電マイクロアクチュエ
ータ20の可動部32の形成領域、及び周囲部である、
静電マイクロアクチュエータ20の固定部31の形成領
域に浮上面層(SiO2)41a、41bをそれぞれ形
成し、これらの浮上面層41a、41bが互いに同じ厚
さとなるように厚くする(図9)。
(SiO2)41bに、例えばAu等からなる導体層5
3を形成して、この導体層53の一端をヘッド素子43
に接続し、他端を可動部32である浮上面層(SiO
2)41bの上面に露出させる(図10)。 次に、可動部32を形成している浮上面層(SiO
2)41bと、固定部31を形成している浮上面層(S
iO2)41aとの間の窪んだ部分の、第2の犠牲層
(Al)51a上に更に第3の犠牲層(Al)51bを
成膜し、この犠牲層51bの上面の高さを浮上面層41
a、41bの高さと同じになるように厚くする(図1
1)。
形成する。図12、図13に示すように、まず、ポリイ
ミド、フォトレジストなどからなる下層の可撓性絶縁層
25を、図3及び図4に示すような屈曲したパターンに
形成する。この場合において、ヘッド素子43の導体層
53との接続部、及びスライダ本体側の端子18との接
続部は導体23接続のため、例えばイオンミリングによ
り開放しておく。次に、下層の可撓性絶縁層25上に導
体23を形成し、一端をヘッド素子43の導体層53に
電気的に接続し、他端をスライダ本体側の端子18に接
続する。次に、導体23の上にポリイミド、フォトレジ
スト等からなる上層の可撓性絶縁層24を形成し、導体
23を可撓性絶縁層24、25でサンドイッチ状に覆っ
た可撓性導体層22を形成する(図12)。なお、図1
3は図12のCで示す部分を拡大して示す。
(Ni)54を形成する(図14)。 めっきベース(Ni)54を介して、更にNiめっ
きを施し、ヘッド素子43を具備する部分(Niめっ
き)の可動部32と、周囲の固定部31となる部分が所
要の厚さとなるようにするとともに、更に周囲のヘッド
スライダ本体部42の厚さを更に厚く形成するようにす
る。なお、図4に示す静電マイクロアクチュエータ20
の固定部31の歯31a及び可動部32の歯32aも、
このNiめっきの工程で形成される(図15)。
ングにより(例えば、KOH水溶液で)除去することで
磁気ヘッドスライダ10を基板50から分離して、本発
明の磁気ヘッドスライダ10(静電マイクロアクチュエ
ータ部20)が完成する(図16)。24により、可撓
性導線22は可動部32と固定部31との間隔で空中に
浮いた状態となっている。
を説明する。磁気ヘッドスライダ10で、静電アクチュ
エータ部20の可動部32をロード・アンロードさせ
て、ヘッド素子43を媒体に近づけるか接触させる。一
方、静電アクチュエータ部40aをトラッキング方向に
駆動し、ヘッド素子43を所望のトラック位置に位置決
めして情報の記録・再生を行う。
スライダ10、特にその静電マイクロアクチュエータ部
20の形成工程の他の実施形態である。前述の実施形態
における形成工程では、図11の工程において、第3の
犠牲層(Al)51bを成膜して犠牲層51bの厚さを
浮上面層41a、41bと同じ高さとなるようにしてい
たが、ここでは、第3の犠牲層(Al)51bを成膜し
ない代わりに、図9における浮上面層41a、41bの
形成工程において、可動部32と固定部31との間の段
差部分をテーパ形状41a′、41b′となるように傾
斜させておく(図17)。そして、この傾斜部41
a′、41b′に沿って、可撓性導体層22を形成する
(図18)。可撓性導体層22自体の形成方法は、前述
の実施形態と同様である。この場合は、可撓性導線22
は、浮上面層41a、41bのテーパ部41a′、41
b′に沿った形状となる。
ドスライダの構成によれば、静電マイクロアクチュエー
タの可動部に設けられたヘッド素子などからの信号線等
のリード線(可撓性導線22)を、磁気ヘッドスライダ
の形成工程の中の、ウェーハプロセスで可能となる。
斜視図である。
視図である。
ータの平面図である。
ータの断面図である。
牲層の形成工程を示す。
面図である。
示す断面図である。
る工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
す断面図である。
形成を示す断面図である。
態を示す断面図である。
ッドスライダを完成させた状態を示す断面図である。
の例を示す。
す断面図である。
Claims (11)
- 【請求項1】 記録媒体に対して浮上又は接触する媒体
対向面を有し、且つ成膜面が該媒体対向面に平行である
ホリゾンタル型ヘッド素子を具備し、且つ該ヘッド素子
を含むスライダの一部が、少なくとも前記記録媒体に対
するトラッキング方向又はロード・アンロード方向に微
小移動範囲で可動にスライダの本体である固定部に対し
て支持ばねにより支持されている磁気ヘッドヘッドスラ
イダにおいて、可動部に搭載された前記ヘッド素子から
の引出し線を、前記支持ばねの剛性より低い剛性を有す
る可撓性導線で形成し、前記可動部の固定部に対する移
動を制約しないように、前記可撓性導線を可動部から固
定部の側へ引き回したことを特徴とする磁気ヘッドスラ
イダ。 - 【請求項2】 前記可撓性導線はその断面が、導体部と
該導体部を覆う可撓性絶縁体とから構成されていること
を特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項3】 前記可撓性導線は、上下2層の可撓性絶
縁層と該2層の可撓性絶縁層間にサンドイッチ状に挟ま
れた導体層とが層状に形成されたものであることを特徴
とする請求項2に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項4】 前記2層の可撓性絶縁層とそれに挟まれ
た導体層から成る前記可撓性導線は、概ねスライダの媒
体対向面に平行であることを特徴とする請求項3に記載
の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項5】 前記2層の可撓性絶縁層とそれに挟まれ
た導体層から成る前記可撓性導線は、同一面内又面外で
撓みやすい形状であることを特徴とする請求項3に記載
の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項6】 前記2層の可撓性絶縁層とそれに挟まれ
た導体層から成る前記可撓性導線は、前記可動部と前記
固定部との間の微小な間隔内で、コの字に互い違いに2
個所以上屈曲された形状であることを特徴とする請求項
3に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項7】 前記2層の可撓性絶縁層は、硬化させた
フォトレジストで構成されていることを特徴とする請求
項3に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項8】 前記ホリゾンタル型ヘッド素子は情報記
録用ヘッド素子と、再生用ヘッド素子とから成ることを
特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の磁気ヘ
ッドスライダ。 - 【請求項9】 複数の前記可撓性導線を有し、これらの
合計の剛性が、1又は複数の前記支持ばねの合計の剛性
より低いことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項
に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項10】 基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上
に、浮上面層とヘッド素子層を含む可動部とを形成し、
更にスライダ本体部を形成し、その後、前記犠牲層を除
去することにより、前記基板から分離して得られる、磁
気ヘッドスライダの製造方法において、浮上面層とヘッ
ド素子層を含む可動部とを形成後、スライダ本体部を形
成前に、前記可動部に搭載された前記ヘッド素子層から
前記スライダ本体の固定部の側へ延びている引出し線
を、パターニングにより形成することを特徴とする磁気
ヘッドスライダの導線形成方法。 - 【請求項11】 前記引出し線は、先ず、第1の可撓性
絶縁層をパターニング・ハードベイクし、その上に導体
層を成膜・パターニングし、更にその上に第2の可撓性
絶縁層をパターニング・ハードベイクして形成すること
により、前記導体層を2層の可撓性絶縁層にてサンドイ
ッチ状に挟んだ可撓性導線として形成することを特徴と
する請求項10に記載の磁気ヘッドスライダの製造方
法。
Priority Applications (2)
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