JPH11258406A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPH11258406A JPH11258406A JP10063054A JP6305498A JPH11258406A JP H11258406 A JPH11258406 A JP H11258406A JP 10063054 A JP10063054 A JP 10063054A JP 6305498 A JP6305498 A JP 6305498A JP H11258406 A JPH11258406 A JP H11258406A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- refraction factor
- internal stress
- antireflection film
- antireflection
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】密着性を向上させたＣＲＴやＬＣＤ等のディス
プレイ用の反射防止膜を提供すること。 【解決手段】２種類の異なる金属酸化物膜を交互に複数
層形成する多層膜型反射防止膜１において、１種類の金
属酸化物膜の内部応力の極性と、もう１種類の金属酸化
物膜の内部応力の極性が異なることを特徴とする。
プレイ用の反射防止膜を提供すること。 【解決手段】２種類の異なる金属酸化物膜を交互に複数
層形成する多層膜型反射防止膜１において、１種類の金
属酸化物膜の内部応力の極性と、もう１種類の金属酸化
物膜の内部応力の極性が異なることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴやＬＣＤ等
のディスプレイの表面に設ける反射防止膜に関するもの
である。
のディスプレイの表面に設ける反射防止膜に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＣＲＴ等のディスプレイでは、表
面の反射を防止する手段として、その表面に高屈折率膜
と低屈折率膜からなる多層膜を真空蒸着法等により塗布
形成する手法が用いられ、さらに普及が進むＬＣＤ（液
晶ディスプレイ）においては、上記技術に加え、基板表
面に凹凸構造を設けて乱反射を行う手法等が用いられて
いる。
面の反射を防止する手段として、その表面に高屈折率膜
と低屈折率膜からなる多層膜を真空蒸着法等により塗布
形成する手法が用いられ、さらに普及が進むＬＣＤ（液
晶ディスプレイ）においては、上記技術に加え、基板表
面に凹凸構造を設けて乱反射を行う手法等が用いられて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、高屈折率膜としては二酸化チタン（屈折率ｎ＝２．
４）等、低屈折率膜としては二酸化珪素（ｎ＝１．５）
等というように、屈折率の異なる少なくとも２種類以上
の材料が用いられる。
は、高屈折率膜としては二酸化チタン（屈折率ｎ＝２．
４）等、低屈折率膜としては二酸化珪素（ｎ＝１．５）
等というように、屈折率の異なる少なくとも２種類以上
の材料が用いられる。
【０００４】そして、これらの材料が交互に複数回積層
されるため、多層膜内部での歪みが反射防止膜の戻りと
して発生し、密着性低下の原因となり品質として問題と
なっている。
されるため、多層膜内部での歪みが反射防止膜の戻りと
して発生し、密着性低下の原因となり品質として問題と
なっている。
【０００５】本発明の目的は、上記問題点を解決し、反
りを無くして密着性に問題のない良質な反射防止膜を提
供することにある。
りを無くして密着性に問題のない良質な反射防止膜を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の発明は、
２種類の異なる金属酸化物膜を交互に複数層形成する多
層膜型反射防止膜において、１種類の金属酸化物膜の内
部応力の極性と、もう１種類の金属酸化物膜の内部応力
の極性とが異なることを特徴とする反射防止膜。
２種類の異なる金属酸化物膜を交互に複数層形成する多
層膜型反射防止膜において、１種類の金属酸化物膜の内
部応力の極性と、もう１種類の金属酸化物膜の内部応力
の極性とが異なることを特徴とする反射防止膜。
【０００７】また、第２の発明は、第１の発明におい
て、前記２種類の異なる金属酸化物膜の１種類の金属酸
化物膜の内部応力の絶対値が、もう１種類の金属酸化物
膜の内部応力の絶対値と合致することを特徴とする反射
防止膜である。
て、前記２種類の異なる金属酸化物膜の１種類の金属酸
化物膜の内部応力の絶対値が、もう１種類の金属酸化物
膜の内部応力の絶対値と合致することを特徴とする反射
防止膜である。
【０００８】それぞれの金属酸化物膜の内部応力は、極
性種類として圧縮力（極性マイナス）と張力（極性プラ
ス）があり、多層膜とした場合、圧縮力の膜と張力の膜
を交互に積層することで多層膜全体の内部応力を低減さ
せ、さらに好ましくは、圧縮力と張力の数値を合致させ
て相殺し、内部応力自体をなくすことで内部応力による
歪みとそれに基づく反りの発生を低減させ、密着性を向
上させた良質な反射防止膜の提供が可能となる。
性種類として圧縮力（極性マイナス）と張力（極性プラ
ス）があり、多層膜とした場合、圧縮力の膜と張力の膜
を交互に積層することで多層膜全体の内部応力を低減さ
せ、さらに好ましくは、圧縮力と張力の数値を合致させ
て相殺し、内部応力自体をなくすことで内部応力による
歪みとそれに基づく反りの発生を低減させ、密着性を向
上させた良質な反射防止膜の提供が可能となる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて詳細に説明する。図１は、本発明の反射防止膜の
構成の一例を示す断面図である。
用いて詳細に説明する。図１は、本発明の反射防止膜の
構成の一例を示す断面図である。
【００１０】１は本発明の反射防止膜であり、基材２上
に高屈折率膜４１、低屈折率膜４２、高屈折率膜４１、
低屈折率膜４２が電子ビーム蒸着やスパッタリング等の
手法で順次積層されて多層膜４となっており、反射防止
性を示す構成となっている。
に高屈折率膜４１、低屈折率膜４２、高屈折率膜４１、
低屈折率膜４２が電子ビーム蒸着やスパッタリング等の
手法で順次積層されて多層膜４となっており、反射防止
性を示す構成となっている。
【００１１】基材２は、十分な透明性を有することが必
要であり、さらにある程度の剛性及び表面平滑性を有し
ていればよい。ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカ
ーボネート、トリアセチルセルロース、ポリアクリレー
ト、ポリエーテルサルホン等の高分子フィルムやガラス
板等が好適なものとして例示される。
要であり、さらにある程度の剛性及び表面平滑性を有し
ていればよい。ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカ
ーボネート、トリアセチルセルロース、ポリアクリレー
ト、ポリエーテルサルホン等の高分子フィルムやガラス
板等が好適なものとして例示される。
【００１２】保護層は適宜に設けることができ、本発明
の機能に影響を与えることがなければ、目的、用途に応
じて多くの組成物から選択でき、例えば、ポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコール等の透明な高分子フィルムが使用できる。
の機能に影響を与えることがなければ、目的、用途に応
じて多くの組成物から選択でき、例えば、ポリオレフィ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニル
アルコール等の透明な高分子フィルムが使用できる。
【００１３】本発明の反射防止膜は、二酸化チタン膜
（屈折率ｎ＝２．４）あるいは酸化インジウムと酸化錫
の合金膜（導電性を付与する場合 屈折率ｎ＝２．２）
からなる高屈折率膜と、二酸化珪素（ｎ＝１．５）から
なる低屈折率膜とを、交互に特定の膜厚で順次複数回積
層することにより形成できる。
（屈折率ｎ＝２．４）あるいは酸化インジウムと酸化錫
の合金膜（導電性を付与する場合 屈折率ｎ＝２．２）
からなる高屈折率膜と、二酸化珪素（ｎ＝１．５）から
なる低屈折率膜とを、交互に特定の膜厚で順次複数回積
層することにより形成できる。
【００１４】また、図１に示すように、撥水層５やハー
ドコート層３を設けてもよい。撥水層５は、反射防止機
能に影響を与えないものであれば、その成膜方法はいか
なる手法を用いてもよく、目的用途に応じての選択が可
能である。一例として、フロロシラン系のものを化学的
気相析出（ＣＶＤ）法で形成することが挙げられる。
ドコート層３を設けてもよい。撥水層５は、反射防止機
能に影響を与えないものであれば、その成膜方法はいか
なる手法を用いてもよく、目的用途に応じての選択が可
能である。一例として、フロロシラン系のものを化学的
気相析出（ＣＶＤ）法で形成することが挙げられる。
【００１５】ハードコート層３は、全体の透明性を阻害
しない程度に透明性を有し、かつ、屈折率が基材２と同
程度のものが望ましく、紫外線硬化型のアクリル樹脂等
が好適なものとして例示される。
しない程度に透明性を有し、かつ、屈折率が基材２と同
程度のものが望ましく、紫外線硬化型のアクリル樹脂等
が好適なものとして例示される。
【００１６】
【実施例】以下に本発明の実施例（４層構成の反射防止
膜の一例）をさらに具体的に説明する。 〈実施例１〉先ず、二酸化チタン及び二酸化珪素のスパ
ッタリング膜の内部応力の成膜レート依存性を調べ、積
層条件出しを行った。
膜の一例）をさらに具体的に説明する。 〈実施例１〉先ず、二酸化チタン及び二酸化珪素のスパ
ッタリング膜の内部応力の成膜レート依存性を調べ、積
層条件出しを行った。
【００１７】その結果、二酸化チタンと二酸化珪素は共
に成膜レートが大きくなるにしたがって内部応力は低下
し、特に二酸化チタン膜の場合は、成膜レートが小さい
と内部応力の極性がプラスで張力、大きいと極性がマイ
ナスで圧縮力となること、また、二酸化珪素は、常に極
性がマイナスで圧縮力となることを確認した。
に成膜レートが大きくなるにしたがって内部応力は低下
し、特に二酸化チタン膜の場合は、成膜レートが小さい
と内部応力の極性がプラスで張力、大きいと極性がマイ
ナスで圧縮力となること、また、二酸化珪素は、常に極
性がマイナスで圧縮力となることを確認した。
【００１８】以上のことから、二酸化チタン膜を圧縮力
の内部応力のものと、張力のものとに分けて、圧縮力の
内部応力の二酸化珪素膜をそれぞれ組み合わせて反射防
止膜を形成することとした。
の内部応力のものと、張力のものとに分けて、圧縮力の
内部応力の二酸化珪素膜をそれぞれ組み合わせて反射防
止膜を形成することとした。
【００１９】基材としてガラス板を２枚使用し、基材側
より二酸化チタン膜をスパッタリング法で、成膜レート
１０Å／ｍｉｎ．（内部応力 ＋５０ＭＰａ）と、成膜
レート５０Å／ｍｉｎ．（内部応力 −１０ＭＰａ）
で、それぞれ７０ｎｍ形成した。
より二酸化チタン膜をスパッタリング法で、成膜レート
１０Å／ｍｉｎ．（内部応力 ＋５０ＭＰａ）と、成膜
レート５０Å／ｍｉｎ．（内部応力 −１０ＭＰａ）
で、それぞれ７０ｎｍ形成した。
【００２０】続いて、それぞれの二酸化チタン膜上に二
酸化チタン膜を成膜レート１０Å／ｍｉｎ．（内部応力
−５０ＭＰａ）で７０ｎｍ形成した。
酸化チタン膜を成膜レート１０Å／ｍｉｎ．（内部応力
−５０ＭＰａ）で７０ｎｍ形成した。
【００２１】さらにその上に、同様に、内部応力が張力
と圧縮力の二酸化チタン膜、続いて圧縮力の二酸化珪素
膜をそれぞれ１４０ｎｍ形成した。
と圧縮力の二酸化チタン膜、続いて圧縮力の二酸化珪素
膜をそれぞれ１４０ｎｍ形成した。
【００２２】そして、反射防止膜の構成層としての二酸
化チタン膜に関して、その内部応力が張力の膜を形成し
た場合の反射防止膜と、その内部応力が圧縮力の膜を形
成した場合の反射防止膜の、それぞれの膜全体の内部応
力を評価した結果、本発明である張力の二酸化チタン膜
を組み合わせた反射防止膜は−１０ＭＰａで、圧縮力の
二酸化チタン膜を組み合わせた反射防止膜の−１００Ｍ
Ｐａよりも、小さな内部応力値を示し、またその密着性
も良く、クロスカットテープピール試験においてもその
向上が見られた。
化チタン膜に関して、その内部応力が張力の膜を形成し
た場合の反射防止膜と、その内部応力が圧縮力の膜を形
成した場合の反射防止膜の、それぞれの膜全体の内部応
力を評価した結果、本発明である張力の二酸化チタン膜
を組み合わせた反射防止膜は−１０ＭＰａで、圧縮力の
二酸化チタン膜を組み合わせた反射防止膜の−１００Ｍ
Ｐａよりも、小さな内部応力値を示し、またその密着性
も良く、クロスカットテープピール試験においてもその
向上が見られた。
【００２３】なお、形成した膜の可視域における平均反
射率は０．５％であり、良質な反射防止膜が形成でき
た。
射率は０．５％であり、良質な反射防止膜が形成でき
た。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、２種類の異なる金属酸
化物膜を交互に複数層形成する多層膜において、１種類
の金属酸化物膜の内部応力の極性と、もう１種類の金属
酸化物膜の内部応力の極性が異なるようにして、さらに
好ましくは、それぞれの金属酸化物膜の内部応力の絶対
値を互いに合致させ、個々の金属酸化物膜の内部応力を
相殺させて、全体としての内部応力を低減させること
で、反りを無くし密着性を向上させた反射防止膜を提供
することができた。
化物膜を交互に複数層形成する多層膜において、１種類
の金属酸化物膜の内部応力の極性と、もう１種類の金属
酸化物膜の内部応力の極性が異なるようにして、さらに
好ましくは、それぞれの金属酸化物膜の内部応力の絶対
値を互いに合致させ、個々の金属酸化物膜の内部応力を
相殺させて、全体としての内部応力を低減させること
で、反りを無くし密着性を向上させた反射防止膜を提供
することができた。
【図１】本発明の実施の形態に係わる反射防止膜の断面
図である。
図である。
１‥‥反射防止膜 ２‥‥基材 ３‥‥ハードコート層 ４‥‥多層膜 ４１‥‥高屈折率膜 ４２‥‥低屈折率膜 ５‥‥撥水層
Claims (2)
- 【請求項１】２種類の異なる金属酸化物膜を交互に複数
層形成する多層膜型反射防止膜において、１種類の金属
酸化物膜の内部応力の極性と、もう１種類の金属酸化物
膜の内部応力の極性とが異なることを特徴とする反射防
止膜。 - 【請求項２】前記２種類の異なる金属酸化物膜の１種類
の金属酸化物膜の内部応力の絶対値が、もう１種類の金
属酸化物膜の内部応力の絶対値と合致することを特徴と
する請求項１記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10063054A JPH11258406A (ja) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10063054A JPH11258406A (ja) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258406A true JPH11258406A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13218251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10063054A Pending JPH11258406A (ja) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258406A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001100003A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜および画像表示装置 |
| US6863397B2 (en) * | 2000-07-17 | 2005-03-08 | Konica Corporation | Optical element and eyeglass lens |
| JP2006227568A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-31 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止膜、光学素子及び光送受信モジュール |
| JP2011516729A (ja) * | 2008-04-03 | 2011-05-26 | ケイアイザャイマックス カンパニー リミテッド | マグネトロンスパッタリングによる厚膜の製造方法 |
-
1998
- 1998-03-13 JP JP10063054A patent/JPH11258406A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001100003A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜および画像表示装置 |
| US6863397B2 (en) * | 2000-07-17 | 2005-03-08 | Konica Corporation | Optical element and eyeglass lens |
| JP2006227568A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-31 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止膜、光学素子及び光送受信モジュール |
| JP2011516729A (ja) * | 2008-04-03 | 2011-05-26 | ケイアイザャイマックス カンパニー リミテッド | マグネトロンスパッタリングによる厚膜の製造方法 |
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