JPH11236369A - スルホンアミド誘導体及びその製造法並びにこれを含有する医薬組成物 - Google Patents

スルホンアミド誘導体及びその製造法並びにこれを含有する医薬組成物

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JPH11236369A
JPH11236369A JP4012298A JP4012298A JPH11236369A JP H11236369 A JPH11236369 A JP H11236369A JP 4012298 A JP4012298 A JP 4012298A JP 4012298 A JP4012298 A JP 4012298A JP H11236369 A JPH11236369 A JP H11236369A
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benzenesulfonyl
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JP4012298A
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English (en)
Inventor
Takeshi Tomiyama
剛 冨山
Itaru Tomiyama
格 冨山
Takashi Yanagisawa
隆 柳沢
Atsushi Noda
淳 野田
Yoshinori Kobayashi
義典 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kotobuki Seiyaku Co Ltd
Original Assignee
Kotobuki Seiyaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】経口投与が可能なMMPs阻害剤及びその製造
方法並びに該化合物を有効成分とした医薬組成物の提
供。 【構成】次式の一般式(I): 【化1】 〔式中、R1は低級アルキル基、複素環、フェニル基、
又は置換フェニル基、R2は−COOH基、−CONH
OH基又は−COOC25基である。Aは、(1)−P
h−NHCO−R3基(Phはフェニル基、R3は置換又
は非置換のフェニル基、チエニル基、又はピリジル
基)、(2)−R4−R5基(R4はフェニル基又はチエ
ニル基、R5は置換又は非置換のフェニル基又はチエニ
ル基)、及び(3)−Ph−NHSO2−R6基(Phは
フェニル基、R6は置換又は非置換のフェニル基)から
なる群より選ばれた基である。〕で示される化合物又は
薬学的に許容し得る塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マトリックスメタ
ロプロテイナーゼ(Matrix Metalloproteinases:以下
MMPsと称す)阻害作用を有する、スルホンアミド誘
導体又はその薬学的に許容しうる塩及びその製造方法並
びに該スルホンアミド誘導体又はその塩を有効成分とし
て含有する医薬組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】MMPsは、細胞外マトリックス(Extr
acellular Matrix)の分解に関与する蛋白分解酵素であ
り、活性中心にZn2+やCa2+を有する酵素である。正
常の生理的条件下ではMMPsの構成的(Constitutiv
e)な発現は低く、生体(組織内)に存在するMMPs
阻害物質(Tissue inhibitor of meralloproteinase:T
IMPs)により制御されている。しかし、病的条件
下、例えばリウマチ及び骨関節炎の場合、MMPsが上
昇し、生体に存在するTIMPsで制御できなくなる。
この状態はさらに関節軟骨の糖蛋白やコラーゲンを減少
させる(J.Trzaskos,et al.,Acta Onthopaedica Scandi
navica,66,150(1995))。また、MMPsは動脈硬化の
発現や血管形成術後の再狭窄にも重要な役割を示してい
ると言われている(C.M.Dollery et al., Cric Res.,7
7,863,(1995))。
【0003】そのため、このような病的条件下で生成増
加したMMPsの活性をMMPs阻害剤(MMPsイン
ヒビター)により制御することは上記疾患の治療、さら
に癌の転移予防や角膜潰瘍の修復にも有効であり(R.P.
Beckett et al.,D.D.T.,1,16,(1996))、また、炎症性
腸疾患に対するMMPs阻害剤の応用も期待されている
(Sylvia L.F. Pender et al.,J.Immunol.,158,1582,(1
997))。そこで基質アナログ MMPs阻害剤が数多く
研究され(Inhibitors of matrix metalloproteinases
(MMPs),Nigel RA Beeley, phillip RJ Ansell, A
ndrew JP Dochertyら, Curr.Opin.Ther.Patent.,4,7-1
6,(1994)、Current Drugs Ltd ISSN 0962-2594 参
照)、各種のMMPs阻害剤についての総説も報告され
ている(C.M. Dollery et al.,Cric Res.,77,863,(199
5))。また、MMPs阻害剤の特許も数多く開示され、
そしてEP606046号や特開平9−104672号
公報では、アリールスルホンアミド誘導体がマトリック
スメタロプロテイナーゼ阻害作用を有することを開示し
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、MMPs阻
害剤として従来報告されている化合物は、経口吸収が悪
く、そのため胸膜内投与(Drug News & Perstectives,8
(4),247,(1995))或いは点眼薬での投与(Drug of the
Future,18,1101,(1993))が行われており、不便があっ
た。本発明は、経口吸収が良く、経口投与が可能な非ペ
プチドMMPs阻害剤及びその製造方法並びに該化合物
を有効成分とする医薬組成物を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、MMPs
阻害作用を有する化合物を見い出すべく鋭意研究を行っ
た結果、一般式(I)で示される、スルホンアミド誘導
体がMMPs阻害作用を有することを見い出した。本発
明の一般式(I)で示されるスルホンアミド誘導体は、
これまで全く知られていない新規な化合物である。すな
わち、本発明は次式の一般式(I):
【0006】
【化18】
【0007】〔式中、R1は低級アルキル基、複素環、
フェニル基、又は低級アルキル基若しくは低級アルコキ
シ基で置換された置換フェニル基である。R2は−CO
OH基、−CONHOH基又は−COOC25基であ
る。Aは、(1)−Ph−NHCO−R3基(Phはフ
ェニル基、R3はフェニル基、又は低級アルキル基、低
級アルコキシ基若しくは−O−(CH2nNH2基(n
=1〜3)で置換された置換フェニル基、又はチエニル
基、又は低級アルキル基で置換された置換チエニル基、
又はピリジル基)、(2)−R4−R5基(R4はフェニ
ル基又はチエニル基、R5はフェニル基、又は低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、
カルボキシル基若しくはシアノ基で置換された置換フェ
ニル基、又はチエニル基、又は低級アルキル基で置換さ
れた置換チエニル基)、及び(3)−Ph−NHSO2
−R6基(Phはフェニル基、R6はフェニル基、又は低
級アルキル基若しくは低級アルコキシ基で置換された置
換フェニル基)からなる群より選ばれた基である。〕で
示される化合物又は薬学的に許容し得る塩である。また
本発明は、一般式(I)の化合物又はその薬学的に許容
し得る塩を有効成分とするマトリックスメタロプロテイ
ナーゼによる細胞外マトリックスの破壊に起因する疾患
の治療及び/又は予防のための医薬組成物である。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の上記の一般式(I)にお
いて、低級アルキル基は1〜6個の炭素原子を含むアル
キル基で、直鎖状でも分枝状でもよく、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソプロ
ピル、イソブチル、シクロプロピル、シクロヘキシルな
どである。またR1の複素環は例えばピリジル、ピラゾ
リルである。また、低級アルコキシ基は1〜6個の炭素
原子を含むアルコキシ基である。
【0009】本発明の一般式(I)の化合物は次のよう
に製造することができる。 (1)一般式(I)の化合物において、R2が−COO
H基、Aが−Ph−NHCO−R3基である化合物、す
なわち請求項2記載の一般式(V)の化合物の製造。こ
の一般式(V)の化合物は次のようにして製造する。
【0010】
【化19】
【0011】すなわち、一般式(II)の化合物と一般式
(III)の化合物とを、トリエチルアミン、ピリジン等
の有機塩基又は炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基
存在下において、クロロホルム、ジクロロメタン等の有
機溶媒中で、室温又は加熱のもとで撹拌して反応させ、
一般式(IV)の化合物を得る。次いで、この一般式(I
V)を水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムによりアル
カリ加水分解し、一般式(V)の化合物を得る。 (2)一般式(I)の化合物において、R2が−CON
HOH基、Aが−Ph−NHCO−R3基である化合
物、すなわち請求項3記載の一般式(VI)の化合物の
製造。一般式(VI)の化合物は次のようにして製造す
る。
【0012】
【化20】
【0013】すなわち、一般式(VI)のヒドロキサム
酸は、一般式(V)のカルボン酸とヒドロキシルアミン
とを縮合剤の存在下で反応させて得ることができる。縮
合剤としてはジフェニルホスホリルアジド(DPP
A)、ジエチルホスホリルシアニド(DEPC)、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド(DCC)、カルボニルジ
イミダゾール(CDI)あるいは、1−エチル−3−
(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド・塩酸
塩(WSCDI)を用いることが出来る。反応は、溶媒
中で塩基の下で行う。溶媒としてはジメチルホルムアミ
ド(DMF)又はテトラヒドロフラン(THF)を用い
ることができる。塩基としてはトリエチルアミン又はN
−メチルモルホリン(NMM)を用いることができる。
また、上記のヒドロキシルアミンの代わりにO−ベンジ
ルヒドロキシルアミン(NH2O−Bn)を用いて縮合
させO−ベンジルヒドロキサム酸アミド(XVII)を
得、これをパラジウム−炭素(Pd/C)で脱ベンジル
化して一般式(VI)を得ることもできる。
【0014】
【化21】
【0015】(3)一般式(I)の化合物において、R
2が−COOH基、Aが−R4−R5基である化合物、す
なわち請求項4の一般式(XI)の化合物の製造。この
一般式(XI)の化合物は、次のようにして製造するこ
とができる。
【0016】
【化22】
【0017】すなわち、A.Suzuki(Synth.Org.Chem.Jp
n.,1988,46,848.)、E.Negishi(J.Org.Chem.,1977,42,182
1.)又はJ.K.Stille(J.Org.Chem.,1987,52,422.)らの
パラジウム又はニッケル触媒を用いたクロスカップリン
グ反応を参考にして、一般式(VII)の化合物に一般式
(VIII)の化合物又は一般式(IX)の化合物をクロス
カップリングして一般式(X)の化合物を得る。このク
ロスカップリング反応は、触媒の存在下、塩基を含む溶
媒中で行うことができる。触媒としてテトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム、塩化パラジウム、酢
酸パラジウムなどに代表されるパラジウム化合物を用い
ることができる。塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムなどを用いることができる。溶媒としてはトルエ
ン、ジメチルホルムアミド、水などを用いることができ
る。反応は室温又は加熱して行う。その後、一般式
(X)の化合物を水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム
によりアルカリ加水分解して一般式(XI)の化合物を
得る。 (4)一般式(I)の化合物において、R2が−CON
HOH基、Aが−R4−R5基である化合物、すなわち請
求項5の一般式(XII)の化合物の製造。この一般式
(XII)の化合物は、次のようにして製造することがで
きる。
【0018】
【化23】
【0019】すなわち、一般式(XII)のヒドロキサム
酸は、一般式(XI)のカルボン酸とヒドロキシルアミ
ンを縮合剤及び塩基の存在下で反応させて得ることがで
きる。縮合剤としてはDPPA、DEPC、DCC、C
DIあるいはWSCDIを用い、塩基としてはN−メチ
ルモルホリン(NMM)、トリエチルアミン〔(C
25)3N〕等を用い、溶媒としてはDMF、THFを用
いることができる。また、上記のヒドロキシルアミンの
代わりにO−ベンジルヒドロキシルアミン(NH2O−
Bn)を用いて、O−ベンジルヒドロキサム酸アミド
(XVIII)として、脱ベンジルを行い一般式(XII)
の化合物を得ることもできる。
【0020】
【化24】
【0021】(5)一般式(I)の化合物において、R
2が−COOH基、Aが−Ph−NHSO2−R6基であ
る化合物、すなわち請求項6の一般式(XV)の化合物
の製造。この一般式(XV)の化合物は、次のようにし
て製造することができる。
【0022】
【化25】
【0023】すなわち、一般式(II)の化合物に一般式
(XIII)の化合物を、トリエチルアミン〔(C25)3
N〕、ピリジン等の有機塩基又は炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等の塩基存在下、クロロホルム、ジクロロメタ
ン等の有機溶媒中で室温又は加熱撹拌して反応させて、
一般式(XIV)の化合物を得る。次いで一般式(XI
V)を水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムによりアル
カリ加水分解して一般式(XV)の化合物を得る。 (6)一般式(I)の化合物において、R2が−CON
HOH基、Aが−Ph−NHSO2−R6基である化合
物、すなわち請求項7の一般式(XVI)の化合物の製
造。この一般式(XVI)の化合物は、次のようにして
製造することができる。
【0024】
【化26】
【0025】すなわち、一般式(XVI)のヒドロキサ
ム酸は、一般式(XV)のカルボン酸とヒドロキシルア
ミンとを縮合剤及び塩基存在下で反応させて得ることが
できる。縮合剤としてはDPPA、DEPC、DCC、
CDIあるいはWSCDIを用い、塩基としてはNM
M、(C25)3N等を用い、溶媒としてはDMF、TH
Fを用いることができる。また、上記のヒドロキシルア
ミンの代わりにO−ベンジルヒドロキシルアミン(NH
2O−Bn)を用いて、O−ベンジルヒドロキサム酸ア
ミド(XIX)とし、次いで脱ベンジルを行い一般式
(XVI)を得ることもできる。
【0026】
【化27】
【0027】次に、上記一般式(I)の化合物の合成過
程における出発物質である一般式(II)の化合物と一般
式(VII)の化合物の製造方法を説明する。 (A)一般式(II)の化合物の製造方法
【0028】
【化28】
【0029】化合物(XX)と化合物(XXI)とを、
トリエチルアミン又はピリジン等の塩基の存在下で反応
させて化合物(XXII)を得る。この化合物(XXII)
にニトロベンゼンスルホニルクロライド(XXIII)
を、トルエチルアミン又はピリジン等の塩基の存在下で
反応させて化合物(XXIV)を得る。次いで、この化
合物(XXIV)をパラジウム−炭素触媒存在下で還元
して一般式(II)の化合物を得る。 (B)一般式(VII)の化合物の製造方法
【0030】
【化29】
【0031】化合物(XXII)に化合物(XXV)を、
トルエチルアミン又はピリジン等の塩基の存在下で反応
させて一般式(VII)を得る。
【0032】一般式(I)で示される化合物を以下に例
示する。 (1)2−[(N−イソブチル−N−(4−(2−テノ
イルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸(化
合物1) (2)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メチ
ルベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミノ]
酢酸(化合物2) (3)2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−(4−
(4−メチルベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物3) (4)2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−(4−
(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物4) (5)2−[(N−(4−メトキシベンジル)−N−
(2−(4−メチルベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホ
ニル))アミノ]酢酸(化合物5) (6)2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−(4−
(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物6) (7)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物7)
【0033】(8)2−[(N−イソブチル−N−(4
−(3−シアノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物8) (9)2−[(N−イソブチル−N−2−(5−(3−
シアノフェニル)チオフェン)スルホニル)アミノ]酢
酸(化合物9) (10)2−[(N−イソブチル−N−(4−(2−ピ
ロリノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸(化合物10) (11)2−[(N−イソブチル−N−(4−(5−メ
チル−2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))ア
ミノ]酢酸(化合物11) (12)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−
(2−アミノエトキシ)ベンゾイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]酢酸・塩酸塩(化合物12) (13)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3−メ
チルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸
(化合物13) (14)2−[(N−イソブチル−N−(4−(2−
(2−アミノエトキシ)ベンゾイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]酢酸・塩酸塩(化合物14)
【0034】(15)2−[(N−(3−ピコリル)−
N−(4−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼン
スルホニル))アミノ]酢酸(化合物15) (16)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メ
チルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸
(化合物16) (17)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メ
トキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸
(化合物17) (18)2−[(N−イソブチル−N−(4−((2−
(2−アミノエトキシ)−4−メトキシ)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]酢酸・塩酸塩(化合物18) (19)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3、4
−ジメトキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物19) (20)2−[(N−イソブチル−N−(4−(5−メ
チル−2−チエニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]
酢酸(化合物20) (21)2−[(N−イソブチル−N−(3−(4−メ
トキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物21)
【0035】(22)2−[(N−イソブチル−N−
(4−(3−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物22) (23)2−[(N−ピラゾールメチル−N−(4−メ
トキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物23) (24)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メ
トキシベンゼンスルホニルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物24) (25)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]−アセトアミド(化合物25) (26)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−メチルベンゾイルアミノ)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(化合物26) (27)N−ヒドロキシ−2−[(N−シクロヘキシル
メチル−N−(4−(4−メチルベンゾイルアミノ)ベ
ンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物2
7) (28)N−ヒドロキシ−2−[(N−シクロヘキシル
メチル−N−(4−(4−メトキシベンゾイルアミノ)
ベンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物
28)
【0036】(29)N−ヒドロキシ−2−[(N−
(4−メトキシベンジル)−N−(2−(4−メチルベ
ンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミノ]アセ
トアミド(化合物29) (30)N−ヒドロキシ−2−[(N−シクロヘキシル
メチル−N−(4−(2−テノイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物30) (31)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物31) (32)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(3−シアノフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物32) (33)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−2−(5−(3−シアノフェニル)チオフェン)スル
ホニル)アミノ]アセトアミド(化合物33) (34)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(2−ピロリノイルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物34) (35)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(5−メチル−2−テノイルアミノ)ベンゼン
スルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物35)
【0037】(36)N−ヒドロキシ−2−[(N−イ
ソブチル−N−(4−(4−(2−アミノエトキシ)ベ
ンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミノ]アセ
トアミド・塩酸塩(化合物36) (37)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(3−メチルフェニル)−ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物37) (38)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(2−(2−アミノエトキシ)ベンゾイルアミ
ノ))ベンゼンスルホニル)イソブチルアミノ]アセト
アミド・塩酸塩(化合物38) (39)N−ヒドロキシ−2−[(N−ピコリル−N−
(4−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(化合物39) (40)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−メチルフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物40) (41)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物41) (42)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(2−(2−アミノエトキシ)−4−メトキ
シ)ベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル)アミノ]
アセトアミド・塩酸塩(化合物42)
【0038】(43)N−ヒドロキシ−2−[(N−イ
ソブチル−N−(4−(3,4−ジメトキシフェニル)
ベンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物
43) (44)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(5−メチル−2−チエニル)ベンゼンスルホ
ニル))アミノ]アセトアミド(化合物44) (45)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(3−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物45) (46)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(3−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物46) (47)N−ヒドロキシ−2−[(N−ピラゾールメチ
ル−N−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物47) (48)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−メトキシベンゼンスルホニルアミノ)ベ
ンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物4
8) (49)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メ
トキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸エチルエステル(化合物49)
【0039】(50)2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸エチルエステル(化合物50) (51)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸(化合物51) (52)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物52) (53)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3,4
−ジヒドロキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物53) (54)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(3,4−ジヒドロキシフェニル)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物54) (55)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3−ア
ミノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸
(化合物55) (56)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(3−アミノフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物56)
【0040】(57)2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−カルボキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物57) (58)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−カルボキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物58) (59)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メ
トキシ−3−メチルフェニル)ベンゼンスルホニル))
アミノ]酢酸(化合物59) (60)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)ベンゼ
ンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物60) (61)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物61) (62)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N
−(4−(4−ヒドロキ−3−メチルフェニル)ベンゼ
ンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物62)
【0041】本発明のスルホンアミド誘導体は、MMP
sによる細胞外マトリックスの破壊に起因する疾患の治
療及び/又は予防のための医薬組成物として用いられる
が、この投与に当たっては錠剤、カプセル剤、顆粒剤、
シロップ剤として経口的に投与でき、また直接注射剤等
の形で非経口投与が可能である。投与量は、患者の症
状、年齢、体重により異なるが、例えば成人1日当たり
10〜1000mgを1〜数回に分けて投与することに
より効果が期待される。
【0042】
【作用】本発明の一般式(I)で示される化合物は、次
に示す薬理試験より明らかのように、優れたMMPs阻
害作用を有する。以下に本発明の化合物の薬理試験概要
を示す。 薬理試験1:MMP−1(I型コラゲナーゼ)の阻害作
用 MMP−1(I型コラゲナーゼ)阻害活性は、ヒト皮膚
線維芽細胞由来MMP−1(株式会社ヤガイ)及びI型
コラゲナーゼ活性測定キット(株式会社ヤガイ)を使用
した酵素検定により評価した(E.D.Harris,Jr.et.al.,M
ethod Enzymol.,82,423,(1982))。すなわち、0.01
U/mlのMMP−1、10~10〜10~5Mの濃度の化
合物及びFITC蛍光標識したI型コラーゲン(50μ
g)を200mM NaCl、5mM CaCl2を含
む0.05M Tris/HCl緩衝液(pH7.5)50
0μl中において37℃で4時間インキュベートした。
200mM NaCl、50mMo−フェナントロリン
及びエタノールを含む0.05M Tris/HCl緩衝液
(pH9.5)200μlを用いてこの反応を止め、1
5000gで10分間遠心分離した。この上清液の励起
波長495nm、蛍光波長520nmにおける蛍光強度
を測定し、加熱変性させた基質の蛍光強度と比較して基
質分解率を求めた。化合物を加えない対照の基質分解率
と比較して、化合物を加えたときの基質分解阻害率を求
め、50%阻害濃度(IC50値)を算出した。その結果
を表1に示す。
【0043】薬理試験2:MMP−2(ゼラチナーゼ
A)とMMP−9(ゼラチナーゼB)の阻害作用 MMP−2はCOS−1細胞(理化学研究所)にproM
MP−2cDNAをトランスフェクトし、3日間培養す
ることにより得られた培養上清中のproMMP−2を1
mMの4−アミノフェニール水銀酢酸により活性化した
ものを、また、MMP−9はヒト線維肉腫細胞由来(株
式会社ヤガイ)を用い、阻害活性はIV型コラゲナーゼ
活性測定キット(株式会社ヤガイ)を使用した酵素検定
により評価した(Biswaz,C.et al.,J.Cell.Biochem.,2
8,39,(1984))。0.01U/mlのMMP−2あるい
はMMP−9、或る濃度範囲の化合物及びFITC蛍光
標識したIV型コラーゲン(ウシ胎盤由来、25μg)
を200mM NaCl、5mM CaCl2を含む
0.05M Tris/HCl緩衝液(pH7.5)100
μl中において42℃で4時間インキュベートした。M
MP−1を用いた酵素検定の場合と同様な操作により、
未変性IV型コラーゲンのみを遠心操作により沈殿さ
せ、上清の蛍光強度から基質分解率を求めた。化合物を
加えない対照の基質分解率と比較して、化合物を加えた
ときの基質分解阻害率を求め、50%阻害濃度(IC50
値)を算出した。その結果を表1に示す。
【0044】薬理試験3:膜型MMP(MMP−14)
の阻害作用 MMP−14はHT1080繊維肉腫細胞をコンカナバ
リンA40μMで刺激し、12時間培養後回収した細胞
浮遊液を酵素液とした。MMP−14と或る濃度範囲の
各化合物及び基質としてMOCAc−Pro−Leu−
Gly−Leu−A2pr(Dnp)−Ala−Arg
−NH2(ペプチド研究所、3163−v)10μMを
0.2MNaCl,10mM CaCl2,0.02%
NaN3及び0.05%Brij35を含む50mMT
ris・HCl緩衝液(pH7.4)中37℃で2時間
インキュベートした。4倍量のSodium acetate Buffer
(pH4.0)を添加することにより反応を停止させ、
励起波長328mm、蛍光波長393mmにおける蛍光
強度を測定し、蛍光強度から基質分解率を求めた。化合
物を加えない対照の基質分解率と比較して、化合物を加
えたときの基質分解阻害率を求め、50%阻害濃度(I
50値)を算出した。その結果を表1に示す。
【0045】
【表1−1】
【0046】
【表1−2】
【0047】
【実施例及び比較例】以下に製造実施例を挙げるが、本
発明が実施例に限定されるものでないことは勿論なこと
である。 参考例 2−[(N−イソブチル−N−(4−アミノベ
ンゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチルエステルの製
法。 (A)2−(イソブチル)アミノ酢酸エチルエステル
(化30)の製法。
【0048】
【化30】
【0049】イソブチルアミン(7.8g)とN−エチ
ルジイソプロピルアミン(13.7g)をジメチルホル
ムアミド(30ml)に溶解し、0℃で撹拌した。これ
にブロモ酢酸エチル(15g)を加え、0℃で30分撹
拌した後、室温で3.5時間撹拌した。氷水50mlに
あけ、酢酸エチルで抽出した(20ml×3)。酢酸エ
チル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。ろ過
し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチル:n−ヘキ
サン=1:3)で精製し、油状の目的物を8.4g得
た。 MS(m/e):159(M+) (B)2−[(N−イソブチル−N−(4−ニトロベン
ゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチルエステル(化3
1)の製法。
【0050】
【化31】
【0051】上記参考例の(A)で得たアミン(4.0
g)とN−エチルジイソプロピルアミン(3.2g)を
ジメチルホルムアミド(30ml)に溶解し、0℃で撹
拌した。これをMeOH70ml溶液に溶解し、10%
NaOH30mlを加え室温で2時間撹拌した。これに
p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド(4.7g)
を加え、0℃で20分撹拌した後、室温で30分間撹拌
した。氷水30mlにあけ、酢酸エチル抽出した(20
ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝
で脱水した。ろ過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸
エチル:n−ヘキサン=1:2)で精製し、目的物7.
2gを淡黄色の結晶として得た。融点75−76℃ IR(cm~1):3100,2950,2866,17
43,1608 MS(m/e):301(M+−43),271,25
1,186,59(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.92(6H,d,(C
32),1.20(3H,t,CH3),1.85
(1H,sept,CH),3.08(2H,d,C
2),4.05(2H,q,CH2),4.12(2
H,s,CH2),8.02(2H,d,芳香環),
8.35(2H,d,芳香環) (C)2−[(N−イソブチル−N−(4−アミノベン
ゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチルエステル(化3
2)の製法。
【0052】
【化32】
【0053】上記参考例の(B)で得た化合物(6.0
g)にエタノール(10ml)とパラジウム・炭素
(0.6g)を入れ、水素ガスで接触還元した。セライ
トでろ過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチル:
n−ヘキサン=1:3)で精製し、目的物4.9gを淡
黄色の結晶として得た。融点58−60℃ IR(cm~1):3472,3376,2950,17
37,1599 MS(m/e):314(M+1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.20(3H,t,CH3),1.85
(1H,sept,CH),3.00(2H,d,C
3),3.95(2H,s,CH2),4.10(2
H,q,CH2),6.65(2H,d,芳香環),
7.60(2H,d,芳香環)
【0054】実施例1. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(4−メチルベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物31)の製法。 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸エチルエステル(化合物49)の製法。
【0055】
【化33】
【0056】前記の参考例の(C)で得られた化合物
(1.0g)をピリジン(10ml)に溶解し、0℃で
撹拌した。これにp−メトキシベンゾイルクロライド
(0.6g)を加え、室温で2.5時間撹拌した。濃縮
し、10%塩酸で酸性にした後に酢酸エチルで抽出した
(20ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄
し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラ
ム(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)で精製し、目
的物1.2gを白色の結晶として得た。融点122−1
23℃ IR(cm~1):3448,2950,1749,15
06,1341 MS(m/e):405(M+−43),375,30
0(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.20(3H,t,CH3),1.82
(1H,sept,CH),3.03(2H,d,C
2),3.88(3H,s,OCH3),3.98(2
H,s,CH2),4.05(2H,q,CH2),6.
90〜7.90(8H,m,芳香環),8.02(1
H,s,NH) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物7)の製法。
【0057】
【化34】
【0058】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))
アミノ]酢酸エチルエステル(化合物49)(1.0
g)をエタノール(5ml)に溶解し、水酸化ナトリウ
ム(0.13g)と水(2ml)を加えて室温で2時間
撹拌した。濃縮し、10%塩酸で酸性にしたところ、白
色の結晶を生じた。この結晶をエタノールで再結晶さ
せ、目的物0.91gを得た。融点180−181℃ IR(cm~1):3388,2962,1728,16
65,15301 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.85(1H,sept,CH),3.05
(2H,d,CH2),3.89(3H,s,OC
3),3.98(2H,s,CH2),6.90〜7.
90(8H,m,芳香環) (c)N−ベンジルオキシ−2−[N−イソブチル−N
−(4−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミドの製法。
【0059】
【化35】
【0060】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスルホニル))
アミノ]酢酸(化合物7)(0.8g)をジメチルホル
ムアミド(30ml)に溶解し、0℃で撹拌した。これ
に1−ハイドロキシ−1H−ベンゾトリアゾールモノハ
イドレイト(HOBt)(0.36g)とN−エチルモ
ルホリン(NEM)(0.52g)を加え30分撹拌し
た。これにベンジルヒドロキシルアミン(0.37
g)、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチ
ルカルボジイミドハイドロクロライド(WSCDI)
(0.44g)を加え室温で4時間撹拌した。氷水(1
0ml)にあけ、酢酸エチルで抽出した(20ml×
3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水
した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:1)で精製し、目的物0.9g
を白色の結晶として得た。融点145−150℃ IR(cm~1):3250,2980,1659,16
05,15061 H−NMR(CDCl3):0.85(6H,d,(C
32),1.75(1H,sept,CH),2.85
(2H,d,CH2),3.60(2H,s,CH2),
3.88(3H,s,OCH3),4.91(2H,
s,CH2),6.90〜7.90(8H,m,芳香
環),8.15(1H,s,NH),9.15(1H,
s,NH) (d)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−メトキシベンゾイルアミノ)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(化合物31)の製
法。
【0061】
【化36】
【0062】上記(c)で得た化合物(0.9g)をテ
トラヒドロフラン(10ml)に溶解させ、これに5%
パラジウム・炭素(90mg)を入れ、水素ガスで接触
還元した。セライトで濾過し、濃縮してエタノールで再
結晶させると目的物0.51gを白色の結晶として得
た。融点169−170℃ IR(cm~1):3320,2950,1659,15
93,13351 H−NMR(CDCl3):0.92(6H,d,(C
32),1.90(1H,sept,CH),3.00
(2H,d,CH2),3.75(2H,s,CH2),
3.90(3H,sOCH3),7.00〜8.00
(8H,m,芳香環)
【0063】実施例2. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(4−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]アセトアミド(化合物41)の製法。 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸エ
チルエステル(化合物50)の製法。
【0064】
【化37】
【0065】参考例で示したと同様な方法により得た2
−[(N−イソブチル−N−(4−ブロモベンゼンスル
ホニル))アミノ]酢酸エチルエステル(0.8g)、
P−メトシキフェニルボロン酸(0.32g)、炭酸ナ
トリウム(0.45g)、水(2ml)、テトラキス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(10mg)及
びトルエン(10ml)を入れ加熱還流した(3.5時
間)。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム(10ml)を
加えトルエンで抽出した(20ml×2)。トルエン層
を数回飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。濾過し、
濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチル:n−ヘキサン
=1:3)で精製し、目的物0.66gを白色の結晶と
して得た。融点76−78℃ IR(cm~1):3418,1725,1341,11
88,1161 MS(m/e):406(M++1)363,333,
183,84(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.18(3H,t,CH3),1.88
(1H,sept,CH),3.08(2H,d,C
2),3.88(3H,s,OCH3),4.04(2
H,s,CH2),4.05(2H,q,CH2),6.
90〜7.96(8H,m,芳香環) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸
(化合物17)の製法。
【0066】
【化38】
【0067】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]
酢酸エチルエステル(化合物50)(0.66g)にエ
タノール(5ml)、水酸化ナトリウム(0.13g)
及び水(1ml)を加えて室温で3時間撹拌した。濃縮
し、10%塩酸を加えて酸性にした。この時に生じた白
色の結晶を、エタノールで再結晶させ、目的物0.40
gを得た。融点161−162℃ IR(cm~1):3430,2956,1728,16
05,1338 MS(m/e):378(M++1),347,183
(BP)1391 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),3.03
(2H,d,CH2),3.87(3H,s,CH3),
3.98(2H,s,CH2),6.95〜7.90
(8H,m,芳香環) (c)N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブチル−
N−(4−(4−メトキシフェニル)−ベンゼンスルホ
ニル))アミノ]アセトアミドの製法。
【0068】
【化39】
【0069】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]
酢酸(化合物17)(0.30g)をジメチルホルムア
ミド(20ml)に溶解させ、HOBt(0.24g)
とNEM(0.36g)を加え30分撹拌した。これに
ベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩(0.25g)、W
SCDI(0.30g)を加え、室温で3時間撹拌し
た。氷水(20ml)にあけ、酢酸エチルで抽出した
(20ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄
し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮した。白色結晶で目
的物370mgを得た。融点129−130℃ IR(cm~1):3418,2950,1683,15
99,1389 MS(m/e):375(M+−107),332,2
47,183,91(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.80(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),2.94
(2H,d,CH2),3.65(2H,s,CH2),
3.87(3H,s,OCH3),4.95(2H,
s,CH2),6.90〜7.80(13H,m,芳香
環),9.20(1H,s,NH) (d)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−メトキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物41)の製法。
【0070】
【化40】
【0071】N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブ
チル−N−(4−(4−メトキシフェニル)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(0.37g)をテ
トラヒドロフラン(10ml)に溶解させ、これに5%
パラジウム・炭素(30mg)を入れ、水素ガスで2.
5時間接触還元した。セライトで濾過し、濃縮した。生
じた結晶を、エタノールで再結晶させ、目的物0.25
gを得た。融点144−145℃ IR(cm~1):3226,1665,1335,12
90,1152 MS(m/e):375(M+−17),332,24
7,183,91(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.94(6H,d,(C
32),1.86(1H,sept,CH),3.00
(2H,d,CH2),3.74(2H,s,CH2),
3.87(3H,s,OCH3),7.00〜7.85
(8H,m,芳香環),9.40(1H,bs,NH)
【0072】実施例3. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(5−メチル−2−チエニル)ベンゼンスルホニル))
アミノ]アセトアミド(化合物44)の製法。 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(5−メチ
ル−2−チエニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸エチルエステルの製法。
【0073】
【化41】
【0074】2−メチルチオフェン(0.9g)を乾燥
したテトラヒドロフラン(5ml)に入れ、−20℃で
撹拌した。これにn−ブチルリチウム(5.8ml)を
滴下し、0℃で30分間撹拌した。次に塩化亜鉛(1.
25g)を加え、室温で1時間撹拌した。次に参考例で
示した方法により得た2−[(イソブチル)−(4−ブ
ロモベンゼンスルホニル)−アミノ]酢酸エチルエステ
ル(1.70g)、テトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(10mg)を加え、加熱還流した
(3.5時間)。濃縮し、酢酸エチルで抽出した(20
ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝
で脱水した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸
エチル:n−ヘキサン=1:5)で精製し、目的物73
0mgを結晶として得た。 IR(cm~1):2950,1755,1332,11
88,1149 MS(m/e):396(M+−13)353,32
2,237,173(BP)1291 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.15(3H,t,CH3),1.85
(1H,sept,CH),2.52(3H,s,C
3),3.05(2H,d,CH2),4.03(2
H,s,CH2),4.04(3H,q,CH2),6.
78(1H,d,芳香環),7.18(1H,d,芳香
環),7.60(2H,d,芳香環),7.80(2
H,d,芳香環) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(5−メチ
ル−2−チエニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸(化合物20)の製法。
【0075】
【化42】
【0076】2−[(N−イソブチル−N−(4−(5
−メチル−2−チエニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸エチルエステル(0.7g)にエタノール(1
0ml)、水酸化ナトリウム(0.14g)及び水(5
ml)を加えて室温で2時間撹拌した。濃縮し、10%
塩酸を加えて酸性にした。この時に生じた結晶を濾過
し、エタノールで再結晶させ、目的物0.58gを白色
の結晶として得た。融点178−180℃ IR(cm~1):3058,2944,1722,14
01 MS(m/e):368(M++1)324,237,
173(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.89(6H,d,(C
32),1.86(1H,sept,CH),2.52
(3H,s,CH3),3.05(2H,d,CH2),
3.98(2H,s,CH2),6.75(1H,d,
芳香環),7.20(1H,d,芳香環),7.65
(2H,d,芳香環),7.80(2H,d,芳香環) (c)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−
(4−(5−メチル−2−チエニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物44)の製法。
【0077】
【化43】
【0078】2−[(N−イソブチル−N−(4−(5
−メチル−2−チエニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(0.4g)をジメチルホルムアミド(10m
l)に溶解させ、HOBt(0.24g)とNEM
(0.58g)を加え0℃で30分撹拌した。これにヒ
ドロキシルアミン塩酸塩(0.15g)、WSCDI
(0.42g)を加え室温で12時間撹拌した。氷水
(10ml)にあけ、酢酸エチルで抽出した(20ml
×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱
水した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:1)で精製した。生じた結晶を
エタノールで再結晶させ、目的物50mgを得た。融点
139−140℃ IR(cm~1):3274,2950,1659,14
64,1332 MS(m/e):309(M+−73)266,23
7,173(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.85(1H,sept,CH),2.52
(3H,s,CH3),2.95(2H,d,CH2),
3.75(2H,s,CH2),6.78(1H,d,
芳香環),7.22(1H,d,芳香環),7.70
(2H,d,芳香環),7.80(2H,d,芳香環)
【0079】実施例4. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(4−メトキシベンゼンスルホニルアミノ)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物48)の製
法。 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシベンゼンスルホニルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸エチルエステルの製法。
【0080】
【化44】
【0081】参考例(C)で得た化合物(1.0g)を
ピリジン(10ml)に溶解し、0℃で撹拌した。これ
にP−メトキシベンゼンスルホニルクロライド(0.7
g)を加え、室温で2時間撹拌した。濃縮し、10%塩
酸を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出した(20
ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝
で脱水した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸
エチル:n−ヘキサン=1:1)で精製し、油状の目的
物1.48gを得た。 IR(cm~1):3256,2950,1743,15
96,1493 MS(m/e):484(M+)441,326(B
P)2621 H−NMR(CDCl3):0.88(6H,d,(C
32),1.18(3H,t,CH3),1.80
(1H,sept,CH),3.00(2H,d,C
2),3.85(3H,s,OCH3),4.00(2
H,q,CH2),6.90〜7.80(8H,m,芳
香環) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メト
キシベンゼンスルホニルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]酢酸(化合物24)の製法。
【0082】
【化45】
【0083】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メトキシベンゼンスルホニルアミノ)ベンゼンスルホ
ニル))アミノ]酢酸エチルエステル(1.48g)を
エタノール(5ml)に溶解し、水酸化ナトリウム
(0.18g)及び水(2ml)を加えて、室温で2時
間撹拌した。濃縮し、10%塩酸を加えて酸性にした
後、酢酸エチルで抽出した(10ml×3)。酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。濾過し、
濃縮してシリカゲルカラム(クロロホルム:メタノール
=3:1)で精製し、目的物1.25gを結晶として得
た。融点58−59℃。 IR(cm~1):3500,3262,2950,17
25,1592 MS(m/e):456(M+)413,326,17
1(BP)1231 H−NMR(CDCl3):0.89(6H,d,(C
32),1.85(1H,sept,CH),3.05
(2H,d,CH2),3.85(3H,s,OC
3),4.10(2H,s,CH2),6.80〜7.
80(8H,m,芳香環),8.35(1H,s,N
H) (c)N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブチル−
N−(4−(4−メトキシベンゼンスルホニルアミノ)
ベンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミドの製法。
【0084】
【化46】
【0085】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メトキシベンゼンスルホニルアミノ)ベンゼンスルホ
ニル))アミノ]酢酸(0.85g)をジメチルホルム
アミド(20ml)に溶解し、HOBt(0.34g)
とNEM(0.51g)を加え30分撹拌した。これに
ベンジルヒドロキシルアミン(0.35g)、WSCD
I(0.42g)を加え、室温で4時間撹拌した。氷水
(20ml)にあけ、酢酸エチルで抽出した(10ml
×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱
水した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:1)で精製し、目的物1.07
gを結晶として得た。融点58−59℃ IR(cm~1):3256,2950,1680,15
96,14971 H−NMR(CDCl3):0.82(6H,d,(C
32),1.75(1H,sept,CH),2.85
(2H,d,CH2),3.60(2H,s,CH2),
3.85(3H,s,OCH3),4.92(2H,
s,CH2),6.80〜7.90(13H,m,芳香
環) (d)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−メトキシベンゼンスルホニルアミノ)ベン
ゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物4
8)の製法。
【0086】
【化47】
【0087】N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブ
チル−N−(4−(4−メトキシベンゼンスルホニルア
ミノ)ベンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド
(1.0g)をテトラヒドロフラン(20ml)に溶解
し、これに5%パラジウム・炭素(10mg)を入れ、
水素ガスで1時間、室温下で接触還元した。セライトで
濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチル:n−
ヘキサン=3:1)で精製し、目的物750mgを白色
の結晶として得た。融点61−62℃ IR(cm~1):3256,2950,1677,15
96,1497 MS(m/e):400(M+−39)355,326
(BP)262,1711 H−NMR(CDCl3):0.88(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),2.90
(2H,d,CH2),3.70(2H,s,CH2),
3.86(3H,s,OCH3),6.90〜7.90
(8H,m,芳香環)
【0088】実施例5. N−ヒドロキシ−2−[(N−シクロヘキシルメチル−
N−(4−(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物30)の製法。 (a)2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−(4−
(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸エチルエステルの製法。
【0089】
【化48】
【0090】参考例で示した同様の方法で得られた2−
[(N−シクロヘキシルメチル−N−(4−アミノベン
ゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチルエステル(1.
0g)をピリジン(10ml)に溶解させ、0℃で撹拌
した。これにテノイルクロライド(0.41g)を加
え、室温で1時間撹拌した。濃縮し、10%塩酸を加え
て酸性にした後、酢酸エチルで抽出した(20ml×
3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水
した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:1)で精製し、目的物0.8g
を白色の結晶として得た。 融点148−149℃。 IR(cm~1):3501,3357,2919,16
64,1592 MS(m/e):464(M+)392,198(B
P)1 H−NMR(CDCl3):0.80〜0.90(2
H,m,CH2),1.10〜1.30(6H,m),
1.50(1H,bs,CH),1.60〜1.80
(5H,m),3.05(2H,d,CH2),4.0
2(2H,s,CH2),4.10(2H,q,C
2),7.05〜7.80(7H,m,芳香環),
8.00(1H,bs,NH) (b)2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−(4−
(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]酢酸(化合物6)の製法。
【0091】
【化49】
【0092】2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−
(4−(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))
アミノ]酢酸エチルエステル(0.8g)をエタノール
(5ml)に溶解させ、水酸化ナトリウム(0.2g)
及び水(3ml)を加えて室温で2時間撹拌した。濃縮
し、10%塩酸を加えて酸性にしたと白色の結晶が生じ
る。これを濾過し、エタノールで再結晶させ目的物0.
7gを結晶として得た。融点158−159℃。 IR(cm~1):3400,2950,1750,16
80,1600 MS(m/e):391(M+−45)381,26
6,111(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.80〜0.90(2
H,m,CH2),1.10〜1.20(3H,m),
1.55(1H,bs,CH),1.60〜1.80
(5H,m),3.05(2H,d,CH2),3.9
5(2H,s,CH2),7.00〜7.90(7H,
m,芳香環) (c)N−ヒドロキシ−2−[(N−シクロヘキシルメ
チル−N−(4−(2−テノイルアミノ)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(化合物30)の製
法。
【0093】
【化50】
【0094】2−[(N−シクロヘキシルメチル−N−
(4−(2−テノイルアミノ)ベンゼンスルホニル))
アミノ]酢酸(化合物6)(0.5g)をジメチルホル
ムアミド(10ml)に溶解させ、HOBt(0.26
g)とNEM(0.4g)を加え30分撹拌した。これ
にヒドロキシルアミン塩酸塩(0.12g)、WSCD
I(0.33g)を加え、室温で12時間撹拌した。氷
水(10ml)にあけ、酢酸エチルで抽出した(20m
l×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で
脱水した。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(クロロ
ホルム:メタノール=10:1)で精製し、目的物0.
9gを得た。融点165−166℃ IR(cm~1):3298,2920,1593,14
52,1317 MS(m/e):378(M+−73)295,266
(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.80〜1.00(2
H,m,CH2),1.10〜1.30(3H,m),
1.55(1H,bs,CH),1.60〜1.80
(5H,m),3.00(2H,d,CH2),3.7
5(2H,s,CH2),7.10〜7.90(7H,
m,芳香環)
【0095】実施例6. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(4−メチルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]アセトアミド(化合物40)の製法。 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メチ
ルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチ
ルエステルの製法。
【0096】
【化51】
【0097】参考例で示した同様の方法で得た2−
[(N−イソブチル−N−(4−ブロモベンゼンスルホ
ニル))アミノ]酢酸エチルエステル(1.2g)、p
−メチルフェニルボロン酸(0.42g)、炭酸ナトリ
ウム(0.44g)、水(2ml)、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム(10mg)及びトル
エン(10ml)を入れ加熱還流した(3.5時間)。
反応液に飽和炭酸水素ナトリウム(10ml)を加え、
トルエンで抽出した(20ml×2)。トルエン層を数
回飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮
してシリカゲルカラム(酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:3)で精製し、目的物1.2gを液体で得た。 IR(cm~1):3448,2950,1746,13
41,1191 MS(m/e):390(M++1)337,221,
158(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.80(6H,d,(C
32),1.15(3H,t,CH3),1.85
(1H,sept,CH),2.50(3H,s,C
3),3.05(2H,d,CH2),4.05(2
H,s,CH2),4.06(2H,q,CH2),6.
60〜7.90(8H,m,芳香環) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メチ
ルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸(化
合物16)の製法。
【0098】
【化52】
【0099】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メチルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸エチルエステル(1.2g)にエタノール(5m
l)、水酸化ナトリウム(0.24g)及び水(1m
l)を加え、室温で3時間撹拌した。濃縮し、10%塩
酸を加えて酸性にした。このとき白色の結晶が生じた。
これを濾過し、エタノールで再結晶させ目的物0.74
gを結晶として得た。融点150−151℃。 IR(cm~1):2950,1722,1392,12
30,1152 MS(m/e):362(M++1)318,231,
152(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),2.40
(3H,s,CH2),3.00(2H,d,CH2),
4.00(2H,s,CH2),7.20〜7.90
(8H,m,芳香環) (c)N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブチル−
N−(4−(4−メチルフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミドの製法。
【0100】
【化53】
【0101】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−メチルフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸(化合物16)(0.3g)をジメチルホルムアミド
(20ml)に溶解させ、HOBt(0.25g)とN
EM(0.38g)を加え30分撹拌した。これにベン
ジルヒドロキシルアミン塩酸塩(0.26g)、WSC
DI(0.31g)を加え室温で撹拌した。酢酸エチル
で抽出した(20ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩
水で洗浄し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮して目的物
0.26gを白色の結晶として得た。融点143−14
4℃ IR(cm~1):3274,2920,1683,14
82,1338 MS(m/e):466(M+)316,235(B
P)1 H−NMR(CDCl3):0.86(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),2.41
(3H,s,CH3),2.93(2H,d,CH2),
3.65(2H,s,CH2),4.95(2H,s,
CH2),7.20〜7.90(13H,m,芳香
環),9.20(1H,bs,NH) (d)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−メチルフェニル)ベンゼンスルホニル))
アミノ]アセトアミド(化合物40)の製法。
【0102】
【化54】
【0103】N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブ
チル−N−(4−(4−メチルフェニル)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(0.25g)をテト
ラヒドロフラン(10ml)に溶解し、これに5%パラ
ジウム・炭素(20mg)を加えて水素ガスで2時間接
触還元し、セライトで濾過し、濃縮した。この濃縮によ
って生じた結晶をエタノールで再結晶させ、目的物0.
14gを得た。融点155−156℃ IR(cm~1):3214,2950,1659,15
96,1338 MS(m/e):360(M+−16)303,23
1,167(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.94(6H,d,(C
32),1.88(1H,sept,CH),2.41
(3H,s,CH3),3.00(2H,d,CH2),
3.74(2H,s,CH2),7.20〜7.90
(8H,m,芳香環),9.39(1H,bs,NH)
【0104】実施例7. 2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−ヒドロキシ
フェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸(化合
物51)の製法
【0105】
【化55】
【0106】実施例2の(b)で得た2−[(N−イソ
ブチル−N−(4−(4−メトキシフェニル)ベンゼン
スルホニル))アミノ]酢酸(化合物17)(0.25
g)を塩化メチレン(10ml)に溶解し、そこへ三臭
化硼素(0.4ml)を加え、室温で30分間撹拌し
た。濃縮し、酢酸エチルで抽出した(20ml×2)。
酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。
次いで濾過し、濃縮し、シリカゲルカルシウム(クロロ
ホルム:メタノール=3:1)で精製した。目的物0.
20gを白色結晶で得た。融点170−171℃ IR(cm~1):3358,3168,1728,16
11,1140 MS(m/e):363(M+),305,233,1
69(BP)139,1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.85(1H,sept,CH),3.08
(2H,d,CH2),4.01(2H,s,CH2),
6.90−7.90(8H,m,芳香環)
【0107】実施例8. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼンスルホニル))ア
ミノ]アセトアミド(化合物52)の製法
【0108】
【化56】
【0109】実施例2の(d)で得たN−ヒドロキシ−
2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−メトキシフ
ェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]アセトアミド
(化合物41)(0.10g)を塩化メチレン(5m
l)に溶解し、そこへ三臭化硼素(0.3ml)を室温
で加えて3.5時間撹拌した。濃縮し、シリカゲルカル
シウム(クロロホルム:メタノール=3:1)で精製し
た。目的物0.08gを白色結晶で得た。融点56−5
7℃ IR(cm~1):3262,2956,1674,15
90,1392 MS(m/e):305(M+−73),262,23
3(BP),167,1151 H−NMR(CD3OD):0.92(6H,d,(C
32),1.85(1H,sept,CH),2.95
(2H,d,CH2),3.74(2H,s,CH2),
6.90−7.90(8H,m,芳香環)
【0110】実施例9. 2−[(N−イソブチル−N−(4−(3−アミノフェ
ニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸(化合物5
5)の製法 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3−ニト
ロフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチ
ルエステルの製法。
【0111】
【化57】
【0112】参考例で示したと同様な方法により得た2
−[(N−イソブチル−N−(4−ブロモベンゼンスル
ホニル))アミノ]酢酸エチルエステル(1.0g)、
m−ニトロフェニルボロン酸(0.8g)、炭酸ナトリ
ウム(1.0g)、水(5ml)、テトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム(15mg)及びトルエ
ン(30ml)を入れ加熱還流した(3.5時間)。反
応液に飽和炭酸水素ナトリウム(20ml)を加えトル
エンで抽出した(20ml×2)。トルエン層を数回飽
和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮して
シリカゲルカラム(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:
3)で精製し、目的物1.4gを液体で得た。融点76
−78℃ IR(cm~1):2950,2866,1737,15
30,1467 MS(m/e):421(M+),377,347,2
67,89(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.20(3H,t,CH2),1.88
(1H,sept,CH),3.10(2H,d,C
2),4.08(2H,q,CH2),4.10(2
H,s,CH2),7.60−8.50(8H,m,芳
香環) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3−ニト
ロフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸の製
法。
【0113】
【化58】
【0114】2−[(N−イソブチル−N−(4−(3
−ニトロフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸エチルエステル(1.0g)にエタノール(10m
l)、水酸化ナトリウム(0.14g)及び水(5m
l)を加えて室温で3時間撹拌した。濃縮し、10%塩
酸を加えて酸性にした。酢酸エチルで抽出し(20ml
×2)、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗い、芒硝で脱水
した。濾過し、濃縮した。目的物(白色結晶)を0.8
g得た。融点180−181℃ IR(cm~1):3076,2950,2914,17
25,1704 MS(m/e):231(M+−161),152(B
P),84,451 H−NMR(CDCl3):0.92(6H,d,(C
32),1.88(1H,sept,CH),3.10
(2H,d,CH2),4.08(2H,s,CH2),
7.60〜8.60(8H,m,芳香環) (c)2−[(N−イソブチル−N−(4−(3−アミ
ノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸(化
合物55)の製法。
【0115】
【化59】
【0116】2−[(N−イソブチル−N−(4−(3
−ニトロフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸(0.5g)をテトラヒドロフラン(10ml)に溶
解させ、これに5%パラジウム・炭素(10mg)を入
れ、水素ガスで1時間接触還元した。セライトで濾過
し、濃縮した。生じた結晶をエタノールで再結晶した。
目的物0.3gを得た。融点78−80℃ IR(cm~1):3406,2944,1740,16
00,1180 MS(m/e):363(M++1),233,16
8,141,80(BP)1 H−NMR(CD3OD):0.90(6H,d,(C
32),1.85(1H,sept,CH),3.08
(2H,d,CH2),4.00(2H,s,CH2),
6.80〜7.90(8H,m,芳香環)
【0117】実施例10. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(3−アミノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミ
ノ]アセトアミド(化合物56)の製法 (a)N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブチル−
N−(4−(3−ニトロフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミドの製法
【0118】
【化60】
【0119】実施例9の(b)で得た2−[(N−イソ
ブチル−N−(4−(3−ニトロフェニル)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]酢酸(0.8g)をジメチルホル
ムアミド(20ml)に溶解させ、HOBt(0.37
g)とNEM(0.47g)を加え30分撹拌した。こ
れにベンジルヒドロキシルアミン塩酸塩(0.39
g)、WSCDI(0.46g)を加え、室温で6時間
撹拌した。氷水(50ml)にあけ、酢酸エチルで抽出
した(30ml×3)。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗
浄し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮した。生じた結晶
を酢酸エチルで再結晶して目的物0.7gを白色結晶で
得た。融点133−134℃ IR(cm~1):2944,2866,1674,15
30,1344 MS(m/e):388(M+−109),358,3
04,244,168(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.92(6H,d,(C
32),1.86(1H,sept,CH),3.02
(2H,d,CH2),3.35(2H,s,CH2),
3.80(2H,s,CH2),4.85(2H,s,
CH2),7.30〜8.40(13H,m,芳香
環),8.50(1H,bs,NH)
【0120】(b)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソ
ブチル−N−(4−(3−アミノフェニル)ベンゼンス
ルホニル))アミノ]アセトアミド(化合物56)の製
【0121】
【化61】
【0122】N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブ
チル−N−(4−(3−ニトロフェニル)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(0.7g)をテトラ
ヒドロフラン(30ml)に溶解させ、これに5%パラ
ジウム・炭素(20mg)を入れ、水素ガスで2.5時
間接触還元した。セライトで濾過し、濃縮し、シリカゲ
ルカラム(クロロホルム:メタノール=3:1)で精製
し、目的物0.3gを結晶として得た。融点65−66
℃ IR(cm~1):3340,3208,2944,16
74,1593 MS(m/e):318(M+−59),304,23
2,168(BP),1521 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.70(2H,bs,NH2),1.85
(1H,sept,CH),3.00(2H,d,C
2),3.75(2H,s,CH2),6.60〜7.
90(8H,m,芳香環),9.42(1H,bs,N
H)
【0123】実施例11. 2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−カルボキシ
フェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸(化合
物57)の製法。 (a)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−シア
ノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸エチ
ルエステルの製法。
【0124】
【化62】
【0125】参考例で示したと同様な方法により得た2
−[(N−イソブチル−N−(4−ブロモベンゼンスル
ホニル))アミノ]酢酸エチルエステル(2.5g)、
4−シアノフェニルボロン酸(1.15g)、炭酸ナト
リウム(1.68g)、水(10ml)及びトルエン
(30ml)を入れ、加熱還流した(3.5時間)。反
応液に飽和炭酸水素ナトリウム(30ml)を加え、ト
ルエンで抽出した(30ml×3)。トルエン層を数回
飽和食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。濾過し、濃縮し
てシリカゲルカラム(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:
3)で精製し、目的物2.4gを液体で得た。 IR(cm~1):2950,2866,2224,17
37,1592 MS(m/e):357(M+−43),327,24
2,178(BP),1511 H−NMR(CDCl3):0.92(6H,d,(C
32),1.20(3H,t,CH3),1.88
(1H,sept,CH),3.10(2H,d,C
2),4.08(2H,q,CH2),4.09(2
H,s,CH2),7.60〜7.90(8H,m,芳
香環) (b)2−[(N−イソブチル−N−(4−(4−シア
ノフェニルベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸の製
法。
【0126】
【化63】
【0127】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−シアノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸エチルエステル(2.40g)にエタノール(10m
l),水酸化ナトリウム(0.36g)及び水(5m
l)を入れ室温で1.5時間撹拌した。濃縮し、10%
塩酸で酸性にした。酢酸エチルで抽出し(20ml×
3)、酢酸エチル層を飽和食塩水で洗い、芒硝で脱水し
た。濾過し、濃縮してシリカゲルカラム(クロロホル
ム:メタノール=7:1)で精製した。目的物を白色結
晶(1.79g)で得た。融点129−130℃ IR(cm~1):3058,2956,2218,17
22,1596 MS(m/e):356(M+−16),329,24
2,178(BP),1511 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),3.05
(2H,d,CH2),4.05(2H,s,CH2),
7.60〜8.90(8H,m,芳香環) (c)2−[N−イソブチル−N−(4−(4−カルボ
キシフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢酸
(化合物57)の製法。
【0128】
【化64】
【0129】2−[(N−イソブチル−N−(4−(4
−シアノフェニル)ベンゼンスルホニル))アミノ]酢
酸(0.1g)をエタノール(3ml)に溶解し、そこ
へ水酸化カリウム(0.07g)及び水(2ml)入れ
加熱還流した(3時間)。濃縮し、そこへ水(10m
l)を加え、10%塩酸で酸性にした。白色結晶が生じ
る。結晶を濾過し、エタノールで再結晶し、目的物を白
色結晶(0.6g)で得た。融点>250℃ IR(cm~1):2950,2662,1719,16
89,1425 MS(m/e):349(M+−42),230,19
7,152,80(BP)1 H−NMR(DMSO):0.88(6H,d,(C
32),1.95(1H,sept,CH),3.05
(2H,d,CH2),4.02(2H,s,CH2),
7.80〜8.20(8H,m,芳香環)
【0130】実施例12. N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−(4−
(4−カルボキシフェニル)ベンゼンスルホニル))ア
ミノ]アセトアミド(化合物58)の製法。 (a)N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブチル−
N−(4−(4−シアノフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミドの製法。
【0131】
【化65】
【0132】実施例11の(b)で得た2−[(N−イ
ソブチル−N−(4−(4−シアノフェニルベンゼンス
ルホニル))アミノ]酢酸(1.5g)をジメチルホル
ムアミド(30ml)に溶解させ、HOBt(0.74
g)とNEM(1.11g)を加え30分間撹拌した。
そこへベンジルヒドロキシアミン塩酸塩(0.77
g)、WSCDI(0.93g)を加え、室温で8時間
撹拌した。氷水(50ml)にあける。白色結晶が析出
した。結晶を濾過し、水洗いを行ない乾燥して目的物
(1.86g)を白色結晶で得た。融点154−155
℃ IR(cm~1):2950,2218,1683,15
96,1485 MS(m/e):327(M+−150),242,1
78,105,77(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),2.95
(2H,d,CH2),3.70(2H,s,CH2),
4.95(2H,s,CH2),7.30〜7.90
(13H,m,芳香環),9.20(1H,bs,N
H) (b)N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブチル)
−N−(4−(4−カルボキシフェニル)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミドの製法。
【0133】
【化66】
【0134】N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブ
チル−N−(4−(4−シアノフェニル)ベンゼンスル
ホニル))アミノ]アセトアミド(1.0g)をエタノ
ール(10ml)に溶解させ、そこへ水酸化カリウム
(0.58g)及び水(5ml)入れ加熱還流した(5
時間)。濃縮し、そこへ水(20ml)加え、10%塩
酸で酸性にした。白色結晶が析出した。結晶を濾過し、
水洗いを行ない、乾燥したと目的物(0.4g)を白色
結晶で得た。融点192−193℃ IR(cm~1):3172,2950,1686,16
08,1422 MS(m/e):291(M+−205),261,1
97,105,77(BP)1 H−NMR(CDCl3):0.90(6H,d,(C
32),1.80(1H,sept,CH),3.00
(2H,d,CH2),3.80(2H,s,CH2),
4.90(2H,s,CH2),7.20〜8.20
(13H,m,芳香環) (c)N−ヒドロキシ−2−[(N−イソブチル−N−
(4−(4−カルボキシフェニル)ベンゼンスルホニ
ル))アミノ]アセトアミド(化合物58)の製法。
【0135】
【化67】
【0136】N−ベンジルオキシ−2−[(N−イソブ
チル−N−(4−(4−カルボキシフェニル)ベンゼン
スルホニル))アミノ]アセトアミド(0.4g)をテ
トラヒドロフラン(30ml)に溶解させ、これに5%
パラジウム・炭素(100ml)を入れ水素ガスで1時
間接触還元した。セライトで濾過し、濃縮した。白色結
晶が析出した。エタノール5mlで再結晶を行ない目的
物(0.25g)を白色結晶で得た。融点214−21
5℃ IR(cm~1):3256,2950,1683,16
08,1425 MS(m/e):333(M+−73),290,26
1,199,152(BP)1 H−NMR(DMSO):0.95(6H,d,(C
32),1.75(1H,sept,CH),3.00
(2H,d,CH2),3.79(2H,s,CH2),
7.90〜8.20(8H,m,芳香環),8.98
(1H,bs,NH)
【0137】
【表2】
【0138】
【発明の効果】本発明の新規な化合物は、優れたマトリ
ックスメタロプロチナーゼ(MMPs)阻害作用を有
し、MMPsによる細胞外マトリックスの破壊に起因す
る疾患の治療薬や予防薬に有用であり、経口投与で薬効
を発揮できる利点が期待できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI A61K 31/38 A61K 31/38 31/63 31/63 ADU ADU C07C 303/38 C07C 303/38 311/19 311/19 311/29 311/29 C07D 333/18 C07D 333/18 333/38 333/38 (72)発明者 小林 義典 長野県更埴市大字森2526

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次式の一般式(I): 【化1】 〔式中、R1は低級アルキル基、複素環、フェニル基、
    又は低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基で置換さ
    れた置換フェニル基である。R2は−COOH基、−C
    ONHOH基又は−COOC25基である。Aは、
    (1)−Ph−NHCO−R3基(Phはフェニル基、
    3はフェニル基、又は低級アルキル基、低級アルコキ
    シ基若しくは−O−(CH2nNH2基(n=1〜3)
    で置換された置換フェニル基、又はチエニル基、又は低
    級アルキル基で置換された置換チエニル基、又はピリジ
    ル基)、(2)−R4−R5基(R4はフェニル基又はチ
    エニル基、R5はフェニル基、又は低級アルキル基、低
    級アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシ
    ル基若しくはシアノ基で置換された置換フェニル基、又
    はチエニル基、又は低級アルキル基で置換された置換チ
    エニル基)、及び(3)−Ph−NHSO2−R6基(P
    hはフェニル基、R6はフェニル基、又は低級アルキル
    基若しくは低級アルコキシ基で置換された置換フェニル
    基)からなる群より選ばれた基である。〕で示される化
    合物又は薬学的に許容し得る塩。
  2. 【請求項2】次式の一般式(II): 【化2】 (式中、R1は前記と同じである。R7は1〜3個の炭素
    原子を含むアルキル基である。)で示される化合物と、
    次式の一般式(III): 【化3】 (式中、R3は前記と同じであり、R8はハロゲン原子で
    ある。)で示される化合物を塩基存在下で反応させ、次
    式の一般式(IV): 【化4】 (式中、R1、R3及びR7は前記と同じである。)で示
    される化合物となし、次でこの一般式(IV)の化合物
    を加水分解することを特徴とする一般式(V): 【化5】 (式中、R1及びR3は前記と同じである。)で示される
    化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】請求項2記載の一般式(V)で示される化
    合物にNH2OHを縮合剤の存在下で反応させることを
    特徴とする一般式(VI): 【化6】 (式中、R1及びR3は前記と同じである。)で示される
    化合物の製造方法。
  4. 【請求項4】次式の一般式(VII): 【化7】 (式中、R1、R4及びR7は前記と同じであり、R8はハ
    ロゲン原子である。)で示される化合物と、次式の一般
    式(VIII)又は(IX): 【化8】 (式中、R5は前記と同じであり、R8はハロゲン原子を
    表す。) 【化9】 (式中、R5は前記と同じである。)で示される化合物
    とを、パラジウム化合物を触媒に用いて塩基存在下で反
    応させ、次式の一般式(X): 【化10】 (式中、R1、R4、R5及びR7は前記と同じである。)
    で示される化合物となし、次でこの一般式(X)の化合
    物を加水分解することを特徴とする次式の一般式(X
    I): 【化11】 (式中、R1、R4、及びR5は前記と同じである。)で
    示される化合物の製造方法。
  5. 【請求項5】請求項4記載の一般式(XI)で示される
    化合物にNH2OHを縮合剤の存在下で反応させること
    を特徴とする一般式(XII): 【化12】 (式中、R1、R4、及びR5は前記と同じである。)で
    示される化合物の製造方法。
  6. 【請求項6】次式の一般式(II): 【化13】 (式中、R1、R7前記と同じである)で示される化合物
    と、一般式R8−SO2−R6(一般式XIII、式中のR6
    は前記と同じであり、R8はハロゲン原子を示す。)と
    を、塩基存在下で反応させ、次式の一般式(XIV): 【化14】 (式中、R1、R6及びR7は前記と同じである。)で示
    される化合物となし、次でこの一般式(XIV)の化合
    物を加水分解することを特徴とする一般式(XV): 【化15】 (式中、R1及びR6は前記と同じである。)で示される
    化合物の製造方法。
  7. 【請求項7】請求項6記載の一般式(XV)で示される
    化合物にNH2OHを縮合剤の存在下で反応させること
    を特徴とする一般式(XVI): 【化16】 (式中、R1及びR6は前記と同じである。)で示される
    化合物の製造方法。
  8. 【請求項8】次式の一般式(I): 【化17】 (式中、R1、R2及びAは前記と同じである。)で示さ
    れる化合物又はその薬学的に許容し得る塩を有効成分と
    するマトリックスメタロプロテイナーゼによる細胞外マ
    トリックスの破壊に起因する疾患の治療及び/又は予防
    のための医薬組成物。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1088815A1 (en) * 1999-09-28 2001-04-04 Applied Research Systems ARS Holding N.V. Pharmaceutically active sulfonyl amino acid derivatives
WO2001005389A3 (en) * 1999-07-16 2001-08-02 Searle & Co N-sulfonylaminiacid derivatives as inhibitors of metalloprteinase
WO2002003994A1 (en) * 2000-07-12 2002-01-17 G.D. Searle & Co. N sulfonyl aminoacid derivatives as inhibitors of metalloproteinase
JP2002105073A (ja) * 2000-09-27 2002-04-10 Shionogi & Co Ltd 新規マトリックスメタロプロテアーゼ阻害剤
WO2002064552A1 (en) * 2001-02-09 2002-08-22 Novartis Ag 1g(a)-AMINO-N-HYDROXY-ACETAMIDE DERIVATIVES
WO2004113279A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-29 Glaxo Group Limited Inhibitors of matrix metalloproteinase
US6869951B1 (en) 1999-07-16 2005-03-22 Pharmacia Corporation Method of changing conformation of a matrix metalloproteinase
US7138432B1 (en) 1999-08-09 2006-11-21 Novartis Ag Arylsulfonamido-substituted hydroxamic acid derivatives

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6869951B1 (en) 1999-07-16 2005-03-22 Pharmacia Corporation Method of changing conformation of a matrix metalloproteinase
WO2001005389A3 (en) * 1999-07-16 2001-08-02 Searle & Co N-sulfonylaminiacid derivatives as inhibitors of metalloprteinase
US7138432B1 (en) 1999-08-09 2006-11-21 Novartis Ag Arylsulfonamido-substituted hydroxamic acid derivatives
WO2001023379A1 (en) * 1999-09-28 2001-04-05 Applied Research Systems Ars Holding N.V. Pharmaceutically active sulfonyl amino acid derivatives
EP1088815A1 (en) * 1999-09-28 2001-04-04 Applied Research Systems ARS Holding N.V. Pharmaceutically active sulfonyl amino acid derivatives
US7638538B1 (en) 1999-09-28 2009-12-29 Laboratoires Serono S.A. Pharmaceutically active sulfonyl amino acid derivatives
WO2002003994A1 (en) * 2000-07-12 2002-01-17 G.D. Searle & Co. N sulfonyl aminoacid derivatives as inhibitors of metalloproteinase
JP2002105073A (ja) * 2000-09-27 2002-04-10 Shionogi & Co Ltd 新規マトリックスメタロプロテアーゼ阻害剤
US7112611B2 (en) 2001-02-09 2006-09-26 Novartis Ag 1g(α)-amino-N-hydroxy-acetamide derivatives
WO2002064552A1 (en) * 2001-02-09 2002-08-22 Novartis Ag 1g(a)-AMINO-N-HYDROXY-ACETAMIDE DERIVATIVES
US7291634B2 (en) 2001-02-09 2007-11-06 Novartis Ag α-amino-N-hydroxy-acetamide derivatives
US7659293B2 (en) 2001-02-09 2010-02-09 Novartis Ag α-Amino-N-hydroxy-acetamide derivatives
WO2004113279A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-29 Glaxo Group Limited Inhibitors of matrix metalloproteinase

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