JPH11233553A - Icチップ - Google Patents
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- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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- H01L2224/48599—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au)
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 金球のサイズ、位置のばらつきに対して接合
強度の低下を防止し、またボンディングパッドの腐食を
防止する。 【解決手段】 金球4の接合面の外形に対応する開孔部
を有するボンディングパッド2をICチップ1に設け
た。ここで開孔部は円形である。開孔部をこのような形
状としたので、金球4のサイズ、位置のばらつきに対し
て接合強度の低下を防止することが可能となる。また、
ボンディングパッド2の表面をまとまって大きな面積で
露出させるようなコーナ部分をなくしたので、水分等に
よるパッドの腐食を防止することもできる。
強度の低下を防止し、またボンディングパッドの腐食を
防止する。 【解決手段】 金球4の接合面の外形に対応する開孔部
を有するボンディングパッド2をICチップ1に設け
た。ここで開孔部は円形である。開孔部をこのような形
状としたので、金球4のサイズ、位置のばらつきに対し
て接合強度の低下を防止することが可能となる。また、
ボンディングパッド2の表面をまとまって大きな面積で
露出させるようなコーナ部分をなくしたので、水分等に
よるパッドの腐食を防止することもできる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はIC製造における組
立工程のワイヤボンディングに関するものである。
立工程のワイヤボンディングに関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、ワイヤボンディングはICチッ
プ上の多数の接続電極とパッケージの外部引出し用端子
の間を金線で接続するものである。
プ上の多数の接続電極とパッケージの外部引出し用端子
の間を金線で接続するものである。
【0003】ここでICチップ側の接続電極の接合部、
即ちボンディングパッド又はその開孔部は正方形又は若
干の長方形の形状をし、Al−SiやAl−Si−Cu
等の金属による平坦な膜構造をしていた。
即ちボンディングパッド又はその開孔部は正方形又は若
干の長方形の形状をし、Al−SiやAl−Si−Cu
等の金属による平坦な膜構造をしていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】金線によるボンディン
グの場合、パッド上で金球が形成されるが、ボンディン
グ技術が正常で、四角形のパッドの開孔部に押しつぶさ
れた金球が入っていれば特に問題はない。
グの場合、パッド上で金球が形成されるが、ボンディン
グ技術が正常で、四角形のパッドの開孔部に押しつぶさ
れた金球が入っていれば特に問題はない。
【0005】しかしながら、この金球に位置ずれが生じ
ると、パッド接合面積が低下し、接合強度の劣化が発生
することにより、1個のICチップの製造において、多
くのワイヤボンディングのうち1個でも不良になると、
このICチップは不良品となってしまう。
ると、パッド接合面積が低下し、接合強度の劣化が発生
することにより、1個のICチップの製造において、多
くのワイヤボンディングのうち1個でも不良になると、
このICチップは不良品となってしまう。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明はボンディングパッドの開孔部又は外形をワ
イヤボンディングにおける金球の接合面の外形に対応さ
せたものである。
め、本発明はボンディングパッドの開孔部又は外形をワ
イヤボンディングにおける金球の接合面の外形に対応さ
せたものである。
【0007】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施形態を
示す断面図、図2は金球を除いた第1の実施形態の平面
図である。
示す断面図、図2は金球を除いた第1の実施形態の平面
図である。
【0008】ICチップ1には図では1個のみ示してい
るが、多数のボンディングパッド2が形成され、ICチ
ップ1の表面にはその保護のため、パッシベーション膜
3と呼ばれるSiO2 膜などの絶縁膜が形成されてい
る。
るが、多数のボンディングパッド2が形成され、ICチ
ップ1の表面にはその保護のため、パッシベーション膜
3と呼ばれるSiO2 膜などの絶縁膜が形成されてい
る。
【0009】金球4はパッシベーション膜3に覆われて
いない開孔部5に接合される。
いない開孔部5に接合される。
【0010】開孔部5は金球4の接合面における外形と
対応する外形をしており、円形の場合を図示している。
開孔部5の形成については、従来と同様にボンディング
パッド2を形成し、ICチップ1全体にパッシベーショ
ン膜3を形成した後、開孔工程時のホトリソグラフィ等
のリソグラフィ工程で使用するマスクを変更することに
よって、パッシベーション膜3をエッチングにより除去
して円形の開孔部5を形成している。
対応する外形をしており、円形の場合を図示している。
開孔部5の形成については、従来と同様にボンディング
パッド2を形成し、ICチップ1全体にパッシベーショ
ン膜3を形成した後、開孔工程時のホトリソグラフィ等
のリソグラフィ工程で使用するマスクを変更することに
よって、パッシベーション膜3をエッチングにより除去
して円形の開孔部5を形成している。
【0011】なお、ボンディングパッド2の外形は正方
形の例を図示したが、これはボンディングパッド2の形
成工程を従来と変更しないで済むからであって、円形で
あっても良いことは勿論である。
形の例を図示したが、これはボンディングパッド2の形
成工程を従来と変更しないで済むからであって、円形で
あっても良いことは勿論である。
【0012】図3は本発明の第2の実施形態を示す断面
図、図4は金球を除いた第2の実施形態の平面図であ
る。
図、図4は金球を除いた第2の実施形態の平面図であ
る。
【0013】第1の実施形態と異なる点は、ボンディン
グパッド12の外形が金球4の接合面における外形に対
応して円形に形成されていることであり、開孔部15が
ボンディングパッド12の外形と一致して円形になって
いることである。
グパッド12の外形が金球4の接合面における外形に対
応して円形に形成されていることであり、開孔部15が
ボンディングパッド12の外形と一致して円形になって
いることである。
【0014】ボンディングパッド12及び開孔部15の
形成は上記と同様にリソグラフィ工程におけるマスクの
変更によって実現できる。
形成は上記と同様にリソグラフィ工程におけるマスクの
変更によって実現できる。
【0015】なお、パッシベーション膜を必要としない
場合は、開孔部が存在しないことは言うまでもない。
場合は、開孔部が存在しないことは言うまでもない。
【0016】図5は本発明と従来技術を比較した模式図
で、従来の正方形のボンディングパッドの開孔部25の
面積と全く同じ面積を有する本発明の円形のボンディン
グパッドの開孔部5,15と従来のパッド開孔部25に
内接した金球4の接合部の外形を示している。
で、従来の正方形のボンディングパッドの開孔部25の
面積と全く同じ面積を有する本発明の円形のボンディン
グパッドの開孔部5,15と従来のパッド開孔部25に
内接した金球4の接合部の外形を示している。
【0017】例えば従来の開孔部25を一辺が100μ
mの正方形とすると、その面積S=100×100=1
0,000μm2 となる。
mの正方形とすると、その面積S=100×100=1
0,000μm2 となる。
【0018】本発明の開孔部5,25の面積は従来と同
じなので、半径をrとすると、S=πr2 =10,00
0μm2 となる。
じなので、半径をrとすると、S=πr2 =10,00
0μm2 となる。
【0019】従って、r=56.4μmとなり、従来の
正方形の辺よりd=6.4μmだけ外に広がっているこ
とがわかる。
正方形の辺よりd=6.4μmだけ外に広がっているこ
とがわかる。
【0020】このようにすることによって、本発明の実
施形態においては、金球4の直径100μmに対して
6.4μm、即ち6.4%までの位置ずれに対して接合
面積の低下は発生しない。
施形態においては、金球4の直径100μmに対して
6.4μm、即ち6.4%までの位置ずれに対して接合
面積の低下は発生しない。
【0021】また、金球4のサイズにしても半径で6.
4μm増大なので直径にして12.8μm、即ち12.
8%までの増大が可能となる。
4μm増大なので直径にして12.8μm、即ち12.
8%までの増大が可能となる。
【0022】即ち、金球4のサイズ、位置のばらつきに
対して接合強度の低下を防止することが可能となるので
ある。
対して接合強度の低下を防止することが可能となるので
ある。
【0023】更に、従来の場合には、金球4で表面がカ
バーされていない四角形のボンディングパッド開孔部2
5のコーナにおいて、パッケージの不具合等の原因によ
りパッドの腐食が発生するという問題があるが、本発明
の実施形態のように開孔部5,15を金球4の接合面の
外形と対応させることにより、ボンディングパッドの表
面をまとまって大きな面積で露出させるようなコーナ部
分をなくしたので、水分等によるパッドの腐食を防止す
ることができる。
バーされていない四角形のボンディングパッド開孔部2
5のコーナにおいて、パッケージの不具合等の原因によ
りパッドの腐食が発生するという問題があるが、本発明
の実施形態のように開孔部5,15を金球4の接合面の
外形と対応させることにより、ボンディングパッドの表
面をまとまって大きな面積で露出させるようなコーナ部
分をなくしたので、水分等によるパッドの腐食を防止す
ることができる。
【0024】
【発明の効果】上記したように、本発明はボンディング
パッドの開孔部あるいはボンディングパッドの外形を金
球の接合面の外形に対応させることによって、金球のサ
イズ、位置のばらつきに対して接合強度の低下を防止す
ることができ、またボンディングパッドの腐食を防止す
ることができる。
パッドの開孔部あるいはボンディングパッドの外形を金
球の接合面の外形に対応させることによって、金球のサ
イズ、位置のばらつきに対して接合強度の低下を防止す
ることができ、またボンディングパッドの腐食を防止す
ることができる。
【図1】本発明の第1の実施形態を示す断面図
【図2】第1の実施形態の平面図
【図3】本発明の第2の実施形態を示す断面図
【図4】第2の実施形態の平面図
【図5】本発明と従来技術を比較した模式図
1 ICチップ 2,12 ボンディングパッド 4 金球 5,15 開孔部
Claims (4)
- 【請求項1】 ボンディングパッドと、前記ボンディン
グパッド上にワイヤボンディングにおける金球の接合面
の外形に対応する開孔部を設けたことを特徴とするIC
チップ。 - 【請求項2】 前記開孔部が円形であることを特徴とす
る請求項1記載のICチップ。 - 【請求項3】 ワイヤボンディングにおける金球の接合
面の外形に対応する外形を有するボンディングパッドを
設けたことを特徴とするICチップ。 - 【請求項4】 前記ボンディングパッドの外形が円形で
あることを特徴とする請求項3記載のICチップ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10028675A JPH11233553A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | Icチップ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10028675A JPH11233553A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | Icチップ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11233553A true JPH11233553A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=12255084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10028675A Pending JPH11233553A (ja) | 1998-02-10 | 1998-02-10 | Icチップ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11233553A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6897669B2 (en) | 2002-08-19 | 2005-05-24 | Denso Corporation | Semiconductor device having bonding pads and probe pads |
-
1998
- 1998-02-10 JP JP10028675A patent/JPH11233553A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6897669B2 (en) | 2002-08-19 | 2005-05-24 | Denso Corporation | Semiconductor device having bonding pads and probe pads |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040402 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041102 |
|
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