JPH11230086A - 真空ポンプ及び該真空ポンプを用いた循環真空システム - Google Patents

真空ポンプ及び該真空ポンプを用いた循環真空システム

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JPH11230086A
JPH11230086A JP4889098A JP4889098A JPH11230086A JP H11230086 A JPH11230086 A JP H11230086A JP 4889098 A JP4889098 A JP 4889098A JP 4889098 A JP4889098 A JP 4889098A JP H11230086 A JPH11230086 A JP H11230086A
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JP
Japan
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vacuum pump
particles
vacuum
pump
particle
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Application number
JP4889098A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Kawasaki
裕之 川崎
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Publication date
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  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】緊急用ベアリング等のパーティクル発生部でパ
ーティクルが発生した場合でも該パーティクルが真空ポ
ンプ外に流出するのを阻止することができる真空ポンプ
及び該真空ポンプを使用した循環真空システムを提供す
ること。 【解決手段】 ターボ分子ポンプやモレキュラードラッ
クポンプ等の真空ポンプ内に該真空ポンプ内で発生した
パーティクルが外部へ流出するのを防止するパーティク
ルフィルタ23、24やラビリンス部25を設けた。ま
た、該真空ポンプを循環真空システムに使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は真空ポンプに関し、
特にプロセスガスを循環させて再利用する循環真空シス
テムに好適な真空ポンプ及び該真空ポンプを用いた循環
真空システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】最近の半導体製造装置は、半導体ウエハ
の大口径化に伴い多量のプロセスガスを使用する傾向に
あるが、導入されるプロセスガスは、その一部が反応に
寄与しているだけであり、残りの大部分は未反応のまま
排出されている。そこで、排出されるプロセスガスの一
部を再び真空チャンバーに戻して、未反応のプロセスガ
スの利用率を高める循環真空システムの開発が進められ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記循環真空システム
の課題の一つは、真空チャンバー、排気ライン、循環ラ
インにて発生するパーティクルが、循環ガスと共に真空
チャンバーへ混入してしまうことである。真空チャンバ
ーへのパーティクルの混入は製造されるデバイスの特性
を劣化させる原因になることから、該パーティクルの混
入を極力抑えることが求められる。
【0004】真空ポンプ内のパーティクルの発生を考え
ると、軸受部に磁気軸受を使用している場合、通常の運
転状態において発生するパーティクルは微量であるが、
大気突入等不慮の事故が発生し、ロータが緊急用ベアリ
ング(玉軸受やすべり軸受等)上に落下した場合、パー
ティクルの発生が考えられる。上記循環真空システムで
使用される真空ポンプ内でこのようなパーティクルが発
生した場合、そのパーティクルが循環ガスと共に真空チ
ャンバーへ入る可能性がある。
【0005】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、真空ポンプ内の緊急用ベアリング等のパーティクル
発生部でパーティクルが発生した場合でも、該パーティ
クルが真空ポンプ外に流出するのを阻止することができ
る真空ポンプ及び該真空ポンプを使用した循環真空シス
テムを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項1に記載の発明は、真空ポンプ内に該真空ポンプ
内で発生したパーティクルが外部へ流出するのを防止す
るパーティクル流出防止手段を設けたことを特徴とする
真空ポンプにある。
【0007】また、請求項2に記載の発明は請求項1に
記載の真空ポンプにおいて、真空ポンプはターボ分子ポ
ンプであり、パーティクル流出防止手段はパーティクル
フィルタ及び/又はラビリンス構造であることを特徴と
する。
【0008】また、請求項3に記載の発明は請求項1に
記載の真空ポンプにおいて、真空ポンプはモレキュラー
ドラックポンプであり、パーティクル流出防止手段はパ
ーティクルフィルタ及び/又はラビリンス構造であるこ
とを特徴とする。
【0009】また、請求項4に記載の発明は、真空チャ
ンバー内にプロセスガスを導入し真空チャンバー内の被
処理物と反応させ、該プロセスガスを真空チャンバー内
から真空ポンプにより排気した後、この排気されたプロ
セスガスの一部を再び真空チャンバー内に戻すように構
成された循環真空システムであって、真空ポンプに請求
項1乃至3のいずれかに記載の真空ポンプを用いたこと
を特徴とする循環真空システムにある。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例を図
面に基づいて説明する。図1は本発明の真空ポンプであ
るターボ分子ポンプの構造例を示す図である。本ターボ
分子ポンプは図示するように、ポンプケーシング1の内
部にロータRとステータSにより構成される翼排気部L
1及びねじ溝排気部L2からなる排気部を具備し、該ねじ
溝排気部L2の排気側はポンプケーシング1の排気口2
0に連通している。ロータRは主軸4とこれと一体に回
転する回転筒状部5を具備する。ステータSは主軸4を
取り囲む固定筒状部3及び基部2を具備するステータ本
体から構成されている。
【0011】回転筒状部5の上部外周部には回転翼12
が一体に設けられて羽根車13を構成する。一方、ポン
プケーシング1の内面には回転翼12と交互に固定翼ス
ペーサ14を介在させて固定翼15が配置されている。
これによって、高速回転する回転翼12と静止している
固定翼15との相互作用によって排気を行う前記翼排気
部L1が形成される。更に、回転筒状部5には下方に延
出するねじ溝部18が一体に設けられている。一方、ス
テータSにはこのねじ溝部18の外周を囲繞するねじ溝
部スペーサ19が配置されている。これによって高速回
転するねじ溝部18のドラック作用によって排気を行う
ねじ溝排気部L2が形成されている。
【0012】主軸4と固定筒状部3の間に駆動用モータ
6と、その上下に上部ラジアル軸受(磁気軸受)7及び
下部ラジアル軸受(磁気軸受)8が設けられ、そして主
軸4の下部にはターゲットディスク9とステータS側に
設けられた上下の電磁石10a、10bを有するアキシ
ャル軸受11が配置されている。また、上部ラジアル軸
受7の上部近傍には上部ラジアルセンサ16が、下部ラ
ジアル軸受8の下部近傍には下部ラジアルセンサ17が
配置されている。また、緊急時に主軸4を支持するため
上下に緊急用ベアリング(例えば玉軸受やすべり軸受)
21及び22が配置されている。
【0013】上記構成によって、主軸4は上部ラジアル
軸受7、下部ラジアル軸受8及びアキシャル軸受11に
非接触で支持され、5軸の能動制御を受けながら高速で
回転するようになっている。
【0014】上記構造のターボ分子ポンプは、通常の運
転状態においては、主軸4は上部ラジアル軸受7、下部
ラジアル軸受8及びアキシャル軸受11により非接触で
支持されているので、発生するパーティクルは微量であ
るが、上述のように大気突入等不慮の事故が発生し、主
軸4が上下の緊急用ベアリング21及び22上に落下し
た場合、パーティクルの発生が考えられる。
【0015】そこで、該発生したパーティクルがターボ
分子ポンプの外部に流出しないように、緊急用ベアリン
グ21及び22の排気通路に連通する面にパーティクル
フィルタ23及び24を設けている。これにより、大気
突入等不慮の事故が発生し、主軸4が上下の緊急用ベア
リング21、22上に落下して、パーティクルが発生し
た場合、該パーティクルはパーティクルフィルタ23、
24で捕捉され、外部に流出することがない。
【0016】また、緊急用ベアリング21、22で発生
したパーティクルの外部流出防止手段としては、上記パ
ーティクルフィルタ23、24を設ける以外に、緊急用
ベアリング21、22がポンプの排気通路に連通する部
分にラビリンス部25を設けることもパーティクルの外
部への流出を防止する手段として好適である。即ち、ラ
ビリンス部25を設けることにより、緊急用ベアリング
21、22で発生したパーティクルはラビリンス部25
のシール作用により、排気通路へ流出しない。
【0017】なお、上記例ではパーティクル発生部とし
て緊急用ベアリング21、22を想定したが、ターボ分
子ポンプでパーティクル発生が予想される部分の排気通
路に連通する部分にパーティクルフィルタやラビリンス
部のようなパーティクル流出防止手段を設けることによ
り、パーティクルの外部流出を効果的に防止することが
できる。
【0018】図2は本発明の真空ポンプであるモレキュ
ラードラックポンプの構造例を示す図である。本モレキ
ュラードラックポンプは図示するように、ケーシング3
1の内部にロータRとステータSを具備し、該ロータR
は主軸34とこれと一体に回転する回転筒状部35の外
周にねじ溝36が形成され羽根車33からなる。ステー
タSは主軸34を取り囲む固定筒状部32を具備するス
テータ本体から構成されている。
【0019】主軸34と固定筒状部32の間に駆動用モ
ータ37と、その上下に上部ラジアル軸受(磁気軸受)
38及び下部ラジアル軸受(磁気軸受)39が設けら
れ、そして主軸34の下部にはターゲットディスク41
とステータS側に設けられた上下の電磁石40a、40
bを有するアキシャル軸受42が配置されている。ま
た、上部ラジアル軸受38の上部近傍には上部ラジアル
センサ43が、下部ラジアル軸受39の下部近傍には下
部ラジアルセンサ44が配置されている。また、緊急時
に主軸34を支持するため上下に緊急用ベアリング(例
えば玉軸受やすべり軸受)45及び46が配置されてい
る。
【0020】上記構成によって、主軸34は上部ラジア
ル軸受38、下部ラジアル軸受39及びアキシャル軸受
42により非接触で支持され、5軸の能動制御を受けな
がら高速で回転するようになっている。これにより羽根
車33が高速回転し、ねじ溝36のドラック作用によっ
て排気を行うようになっている。
【0021】上記構造のモレキュラードラックポンプ
は、通常の運転状態においては、主軸34は上部ラジア
ル軸受38、下部ラジアル軸受39及びアキシャル軸受
42により非接触で支持されているので、発生するパー
ティクルは微量であるが、大気突入等不慮の事故が発生
し、主軸34が上下の緊急用ベアリング45及び46上
に落下した場合、パーティクルの発生が考えられる。
【0022】そこで、発生したパーティクルがモレキュ
ラードラックポンプの外部に流出しないように、緊急用
ベアリング45及び46の排気通路に連通する面にパー
ティクルフィルタ47及び48を設けている。これによ
り、大気突入等不慮の事故が発生し、主軸34が上下の
緊急用ベアリング45、46上に落下して、パーティク
ルが発生した場合、該パーティクルはパーティクルフィ
ルタ47、48で捕捉され、外部に流出することがな
い。
【0023】また、緊急用ベアリング45、46で発生
したパーティクルの外部流出防止手段としては、上記パ
ーティクルフィルタ47、48を設ける以外に、緊急用
ベアリング45、46がポンプの排気通路に連通する部
分にラビリンス部49を設けることもパーティクルの外
部への流出を防止する手段として好適である。即ち、ラ
ビリンス部49を設けることにより、緊急用ベアリング
45、46で発生したパーティクルはラビリンス部25
のシール作用により、排気通路へ流出しない。
【0024】なお、上記例ではパーティクル発生部とし
て緊急用ベアリング45、46を想定したが、モレキュ
ラードラックポンプでパーティクル発生が予想される部
分の排気通路に連通する部分にパーティクルフィルタや
ラビリンス部のようなパーティクル流出防止手段を設け
ることにより、パーティクルの外部流出を効果的に防止
することができる。
【0025】なお、上記例ではパーティクルフィルタと
ラビリンス部の両方を設けた例を示したが、パーティク
ルの外部への流出を十分防止できるのであれば、どちら
か一方でよいことは当然である。
【0026】図3はプロセスガスの一部を再び真空チャ
ンバー内に戻すように構成された循環真空システムの構
成例を示す図である。図3において、51は真空チャン
バー、54はAPCバルブ、55は真空ポンプ、56は
フォアラインバルブ、57は粗引きポンプ、58は循環
ライン、59は締切バルブ、60は流量調整バルブであ
る。真空チャンバー51内にはプロセスガスを噴射する
シャワーヘッド53、被処理物であるウエハ52が配置
されている。
【0027】上記構成の循環真空システムにおいて、締
切バルブ59を閉じた状態で粗引きポンプ57により、
真空チャンバー51内を粗引きした後、真空ポンプを起
動して、真空チャンバー51内を所定の真空度まで真空
にする。続いてプロセスガスをシャワーヘッド53から
ウエハ52表面に供給し、ウエハ52表面に成膜させる
と同時に、真空ポンプ55で真空チャンバー51内のプ
ロセスガスを排気し、該プロセスガス流量の一部Q2
循環ライン58及び締切バルブ59を通して、真空チャ
ンバー51内に戻す。これにより、真空チャンバー51
内のシャワーヘッド53からは外部から供給されるプロ
セスガスの流量Q1と上記循環流量Q2との和、Q1+Q2
が噴射され、流量調整バルブ60で調整された流量Q1
が粗引きポンプを通って外部に排出される。
【0028】上記構成の循環真空システムにおいて、真
空ポンプ55に、上記パーティクルフィルタやラビリン
ス部等のパーティクル流出防止手段を設け、ターボ分子
ポンプやモレキュラードラックポンプを使用することに
より、真空ポンプ55に大気突入等不慮の事故が発生
し、該真空ポンプ55内でパーティクルが発生しても、
パーティクル流出防止手段により、発生したパーティク
ルの流出が阻止されるから、該パーティクルがプロセス
ガスと共に循環ライン58を通って真空チャンバー51
内に流入することがなく、真空チャンバー51の内部が
パーティクルによって汚染されることはない。
【0029】
【発明の効果】以上、説明したように請求項1乃至3に
記載の発明によれば、真空ポンプ内に該真空ポンプ内で
発生するパーティクルの外部への流出を防止するパーテ
ィクルフィルタやラビリンス構造等のパーティクル流出
防止手段を設けたので、該パーティクルの外部への流出
が防止でき、真空ポンプで排気されるガスが流入される
領域がパーティクル汚染を嫌う環境である場合に好適な
真空ポンプを提供できる。
【0030】また、請求項4に記載の発明によれば、循
環真空システムの真空ポンプに請求項1乃至3に記載の
内部にパーティクルフィルタやラビリンス構造等のパー
ティクル流出防止手段を設けたので、真空チャンバー内
が真空ポンプ内で発生したパーティクルによって汚染さ
れることはない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のターボ分子ポンプの構造例を示す断面
図である。
【図2】本発明のモレキュラードラックポンプの構造例
を示す図である。
【図3】循環真空システムの構成例を示す図である。
【符号の説明】
1 ポンプケーシング 2 基部 3 固定筒状部 4 主軸 5 回転筒状部 6 駆動用モータ 7 上部ラジアル軸受 8 下部ラジアル軸受 9 ターゲットディスク 10a,b 電磁石 11 アキシャル軸受 12 回転翼 13 羽根車 14 固定翼スペーサ 15 固定翼 16 上部ラジアルセンサ 17 下部ラジアルセンサ 18 ねじ溝部 19 ねじ溝部スペーサ 20 排気口 21 緊急用ベアリング 22 緊急用ベアリング 23 パーティクルフィルタ 24 パーティクルフィルタ 25 ラビリンス部 26 ハーメティックコネクタ 31 ケーシング 32 固定筒状部 33 羽根車 34 主軸 35 回転筒状部 36 ねじ溝 37 駆動用モータ 38 上部ラジアル軸受 39 下部ラジアル軸受 40a,b 電磁石 41 ターゲットディスク 42 アキシャル軸受 43 上部ラジアルセンサ 44 下部ラジアルセンサ 45 緊急用ベアリング 46 緊急用ベアリング 47 パーティクルフィルタ 48 パーティクルフィルタ 49 ラビリンス部 R ロータ S ステータ L1 翼排気部 L2 ねじ溝排気部 51 真空チャンバー 52 ウエハ 53 シャワーヘッド 54 APCバルブ 55 真空ポンプ 56 フォアラインバルブ 57 粗引きポンプ 58 循環ライン 59 締切バルブ 60 流量調整バルブ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空ポンプ内に該真空ポンプ内で発生し
    たパーティクルが外部へ流出するのを防止するパーティ
    クル流出防止手段を設けたことを特徴とする真空ポン
    プ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の前記真空ポンプにおい
    て、 前記真空ポンプはターボ分子ポンプであり、前記パーテ
    ィクル流出防止手段はパーティクルフィルタ及び/又は
    ラビリンス構造であることを特徴とする真空ポンプ。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の前記真空ポンプにおい
    て、 前記真空ポンプはモレキュラードラックポンプであり、
    前記パーティクル流出防止手段はパーティクルフィルタ
    及び/又はラビリンス構造であることを特徴とする真空
    ポンプ。
  4. 【請求項4】 真空チャンバー内にプロセスガスを導入
    し真空チャンバー内の被処理物と反応させ、該プロセス
    ガスを真空チャンバー内から真空ポンプにより排気した
    後、この排気されたプロセスガスの一部を再び真空チャ
    ンバー内に戻すように構成された循環真空システムであ
    って、 前記真空ポンプに請求項1乃至3のいずれかに記載の真
    空ポンプを用いたことを特徴とする循環真空システム。
JP4889098A 1998-02-13 1998-02-13 真空ポンプ及び該真空ポンプを用いた循環真空システム Pending JPH11230086A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006509955A (ja) * 2002-12-17 2006-03-23 ザ ビーオーシー グループ ピーエルシー 真空ポンプ排出システム及び真空ポンプ排出装置の作動方法
JP2012186483A (ja) * 2005-03-02 2012-09-27 Tokyo Electron Ltd 排気ポンプ
KR20150119549A (ko) * 2014-04-15 2015-10-26 한밭대학교 산학협력단 터보분자식 수증기 압축장치

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