JPH11229168A - 過酸化水素発生装置 - Google Patents
過酸化水素発生装置Info
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- JPH11229168A JPH11229168A JP10034397A JP3439798A JPH11229168A JP H11229168 A JPH11229168 A JP H11229168A JP 10034397 A JP10034397 A JP 10034397A JP 3439798 A JP3439798 A JP 3439798A JP H11229168 A JPH11229168 A JP H11229168A
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
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- C02F1/4672—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/023—Water in cooling circuits
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- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 発電所で使用される冷却水系等の防汚及び／
又は処理水の滅菌のために、冷却水に注入する過酸化水
素を、冷却水の注入を行う場所の近くのオンサイトにお
いても、生成できるようにした過酸化水素発生装置を提
供する。 【解決手段】 対峙して配設された陰極板３と陽極板２
との間がアニオン交換膜８とカチオン交換膜７で仕切ら
れた電解槽１内に、前記陰極板３と前記アニオン交換膜
８で区画され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室
６と、前記アニオン交換膜８と前記カチオン交換膜７で
区画され、海水又は食塩水が導入される中間室５と、前
記カチオン交換膜７と前記陽極板２で区画され、硫酸溶
液が導入される陽極室４とを設けると共に、前記陰極板
３をガス拡散電極にて構成し、前記中間室５から海水又
は食塩水とともに過酸化水素を生成する。
又は処理水の滅菌のために、冷却水に注入する過酸化水
素を、冷却水の注入を行う場所の近くのオンサイトにお
いても、生成できるようにした過酸化水素発生装置を提
供する。 【解決手段】 対峙して配設された陰極板３と陽極板２
との間がアニオン交換膜８とカチオン交換膜７で仕切ら
れた電解槽１内に、前記陰極板３と前記アニオン交換膜
８で区画され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室
６と、前記アニオン交換膜８と前記カチオン交換膜７で
区画され、海水又は食塩水が導入される中間室５と、前
記カチオン交換膜７と前記陽極板２で区画され、硫酸溶
液が導入される陽極室４とを設けると共に、前記陰極板
３をガス拡散電極にて構成し、前記中間室５から海水又
は食塩水とともに過酸化水素を生成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、発電所で使用され
る冷却水系等の防汚及び／又は処理水の滅菌のために、
冷却水に注入する過酸化水素を、冷却水の注入を行う場
所の近くのオンサイトにおいても、生成できるようにし
た過酸化水素発生装置に関する。
る冷却水系等の防汚及び／又は処理水の滅菌のために、
冷却水に注入する過酸化水素を、冷却水の注入を行う場
所の近くのオンサイトにおいても、生成できるようにし
た過酸化水素発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】機器の発生する膨大な熱量を除去するた
め、火力発電所等の発電所は海岸近くに立設され、多量
の海水を冷却水として使用している。また、これらの冷
却水として海水を使用するために、発電所内に敷設され
た冷却水系の防汚のため、冷却水に塩素を注入すること
が、従来から行われていた。しかしながら、この塩素注
入による冷却水系の防汚では、海水の汚染度にも関係す
るが、冷却水中への塩素１ｐｐｍ程度の注入で、数１０
ｐｐｂ程度のトリハロメタンが発生する不具合がある。
め、火力発電所等の発電所は海岸近くに立設され、多量
の海水を冷却水として使用している。また、これらの冷
却水として海水を使用するために、発電所内に敷設され
た冷却水系の防汚のため、冷却水に塩素を注入すること
が、従来から行われていた。しかしながら、この塩素注
入による冷却水系の防汚では、海水の汚染度にも関係す
るが、冷却水中への塩素１ｐｐｍ程度の注入で、数１０
ｐｐｂ程度のトリハロメタンが発生する不具合がある。
【０００３】すなわち、このトリハロメタン発生自体に
は、汚染効果に影響はないが、トリハロメタンが発ガン
性物質であることから、その使用が忌避されなければな
らず、近年では、冷却水系の防汚には、塩素に代えて、
トリハロメタン等の有害物質を発生させない、作業環境
上、安全な過酸化水素を冷却水に注入して行うことが採
用されはじめている。
は、汚染効果に影響はないが、トリハロメタンが発ガン
性物質であることから、その使用が忌避されなければな
らず、近年では、冷却水系の防汚には、塩素に代えて、
トリハロメタン等の有害物質を発生させない、作業環境
上、安全な過酸化水素を冷却水に注入して行うことが採
用されはじめている。
【０００４】しかしながら、この過酸化水素による冷却
水系の防汚では、防汚効果、又は作業環境上の問題は発
生しないものの、その取扱いに関連して、次の不具合が
ある。すなわち、この過酸化水素により冷却水系の防汚
を行うために、薬品を購入して、冷却水に注入するよう
にしているが、過酸化水素は、物性上分解しやすく、そ
の貯蔵にあたっては、ｐＨ調整を必要とし、貯蔵作業が
繁雑になるとともに、使用にあたっては、危険物の範囲
をさけるために、希釈して使用する必要があり、その取
扱いには、繁雑さが付随するものとなっていた。
水系の防汚では、防汚効果、又は作業環境上の問題は発
生しないものの、その取扱いに関連して、次の不具合が
ある。すなわち、この過酸化水素により冷却水系の防汚
を行うために、薬品を購入して、冷却水に注入するよう
にしているが、過酸化水素は、物性上分解しやすく、そ
の貯蔵にあたっては、ｐＨ調整を必要とし、貯蔵作業が
繁雑になるとともに、使用にあたっては、危険物の範囲
をさけるために、希釈して使用する必要があり、その取
扱いには、繁雑さが付随するものとなっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したよ
うに、作業環境面において問題を引き起す塩素に代え
て、過酸化水素を使用して冷却水系の防汚を行うにあた
り、生じる不具合を解消するため、ｐＨ調整を必要とす
る貯蔵作業の必要がなく、また、使用にあたって希釈作
業の必要がなく、しかも、過酸化水素を冷却水系へ注入
する時、必要量だけ製造できるようにした、オンサイト
型の過酸化水素発生装置を提供することを課題とする。
うに、作業環境面において問題を引き起す塩素に代え
て、過酸化水素を使用して冷却水系の防汚を行うにあた
り、生じる不具合を解消するため、ｐＨ調整を必要とす
る貯蔵作業の必要がなく、また、使用にあたって希釈作
業の必要がなく、しかも、過酸化水素を冷却水系へ注入
する時、必要量だけ製造できるようにした、オンサイト
型の過酸化水素発生装置を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の過酸化水素発生装置は、対峙して配設された陰極板
と陽極板との間がアニオン交換膜とカチオン交換膜で仕
切られた電解槽内に、前記陰極板と前記アニオン交換膜
で区画され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室
と、前記アニオン交換膜と前記カチオン交換膜で区画さ
れ、海水又は食塩水が導入される中間室と、前記カチオ
ン交換膜と前記陽極板で区画され、硫酸溶液が導入され
る陽極室とを設けると共に、前記陰極板をガス拡散電極
にて構成し、前記中間室から海水又は食塩水とともに過
酸化水素を生成することを特徴とする。
明の過酸化水素発生装置は、対峙して配設された陰極板
と陽極板との間がアニオン交換膜とカチオン交換膜で仕
切られた電解槽内に、前記陰極板と前記アニオン交換膜
で区画され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室
と、前記アニオン交換膜と前記カチオン交換膜で区画さ
れ、海水又は食塩水が導入される中間室と、前記カチオ
ン交換膜と前記陽極板で区画され、硫酸溶液が導入され
る陽極室とを設けると共に、前記陰極板をガス拡散電極
にて構成し、前記中間室から海水又は食塩水とともに過
酸化水素を生成することを特徴とする。
【０００７】本発明では、一端に配設されたガス拡散電
極からなる陰極板と、他端に配置された陽極板とを平行
に並べて電解槽を構成してなり、その内部を、上記陰極
板の近くに設けられたアニオン交換膜と、上記陽極板の
近くに設けられたカチオン交換膜とで仕切り、陰極板と
陽極板との間の電解槽の内部に、陰極室、中間室、陽極
室を区画して設け、陰極板とアニオン交換膜と間に区画
された陰極室には、アルカリ溶液（例えば苛性カリ（Ｋ
ＯＨ）溶液）と酸素（Ｏ2 ）を導入し、アニオン交換膜
とカチオン交換膜との間に区画された中間室には、海水
又は食塩水（ＮａＣｌ）を導入し、カチオン交換膜と陽
極に間に区画された陽極室には、硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）溶
液を導入するようにしたものである。なお、アニオン交
換膜としては、ＡＭＨ（徳山ソーダ（株）商品名）、カ
チンオン交換膜としては、ナフィオン１１７（デュポン
社商品名）等の使用が好適である。
極からなる陰極板と、他端に配置された陽極板とを平行
に並べて電解槽を構成してなり、その内部を、上記陰極
板の近くに設けられたアニオン交換膜と、上記陽極板の
近くに設けられたカチオン交換膜とで仕切り、陰極板と
陽極板との間の電解槽の内部に、陰極室、中間室、陽極
室を区画して設け、陰極板とアニオン交換膜と間に区画
された陰極室には、アルカリ溶液（例えば苛性カリ（Ｋ
ＯＨ）溶液）と酸素（Ｏ2 ）を導入し、アニオン交換膜
とカチオン交換膜との間に区画された中間室には、海水
又は食塩水（ＮａＣｌ）を導入し、カチオン交換膜と陽
極に間に区画された陽極室には、硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）溶
液を導入するようにしたものである。なお、アニオン交
換膜としては、ＡＭＨ（徳山ソーダ（株）商品名）、カ
チンオン交換膜としては、ナフィオン１１７（デュポン
社商品名）等の使用が好適である。
【０００８】図１に本発明にかかる過酸化水素発生装置
の概略を示す。図１に示すように、本発明にかかる過酸
化水素発生装置は、電解槽１内に陽極室４、中間室５、
陰極室６からなる３室に形成し、それぞれの室４〜６
は、陰極板３、アニオン交換膜８、カチオン交換膜７、
陽極板２で仕切られている。しかもアニオン交換膜８と
カチオン交換膜７の間の中間室５には、導電性の海水又
は食塩水（ＮａＣｌ）が満されており、陽極板２と陰極
板３の間には電流が流れるようにしている。本発明では
海水の代わりに食塩水を用いるようにしてもよい。
の概略を示す。図１に示すように、本発明にかかる過酸
化水素発生装置は、電解槽１内に陽極室４、中間室５、
陰極室６からなる３室に形成し、それぞれの室４〜６
は、陰極板３、アニオン交換膜８、カチオン交換膜７、
陽極板２で仕切られている。しかもアニオン交換膜８と
カチオン交換膜７の間の中間室５には、導電性の海水又
は食塩水（ＮａＣｌ）が満されており、陽極板２と陰極
板３の間には電流が流れるようにしている。本発明では
海水の代わりに食塩水を用いるようにしてもよい。
【０００９】これにより、陰極室６に導入された苛性カ
リ（ＫＯＨ）溶液、および酸素Ｏ2の「化１」式（１）
の反応によって生成した、ＨＯ2 - とＯＨ- が陰極室に
発生し、また陽極室に導入された硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）溶
液の式（２）の反応によって生成した、Ｈ+ が、陽極室
４に発生する。これらのＨＯ2 - 、ＯＨ- 、およびＨ+
のそれぞれは、アニオン交換膜、カチオン交換膜を選択
的に透過し、中間室５で式（３）の反応によってＨ2 Ｏ
2 とＨ 2 Ｏを生成する。すなわち、電解槽内で全体反応
として、式（４）の反応を起し、過酸化水素Ｈ 2 Ｏ2 を
発生させる。
リ（ＫＯＨ）溶液、および酸素Ｏ2の「化１」式（１）
の反応によって生成した、ＨＯ2 - とＯＨ- が陰極室に
発生し、また陽極室に導入された硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）溶
液の式（２）の反応によって生成した、Ｈ+ が、陽極室
４に発生する。これらのＨＯ2 - 、ＯＨ- 、およびＨ+
のそれぞれは、アニオン交換膜、カチオン交換膜を選択
的に透過し、中間室５で式（３）の反応によってＨ2 Ｏ
2 とＨ 2 Ｏを生成する。すなわち、電解槽内で全体反応
として、式（４）の反応を起し、過酸化水素Ｈ 2 Ｏ2 を
発生させる。
【００１０】
【化１】 Ｏ2 ＋Ｈ2 Ｏ＋２ｌ- →ＨＯ2 - ＋ＯＨ- ……… （１） Ｈ2 Ｏ→1/2 Ｏ2 ＋２Ｈ- ＋２ｌ- ……… （２） ＨＯ2 - ＋ＯＨ- ＋２Ｈ+ →Ｈ2 Ｏ2 ＋Ｈ2 Ｏ ……… （３） 1/2 Ｏ2 ＋Ｈ2 Ｏ→Ｈ2 Ｏ2 ……… （４）
【００１１】ここで本発明では前記陰極板３をガス拡散
電極にて構成している。このガス拡散電極は、図４に示
すように、陰極室６側に面した反応層３１と、集電体３
２を挾んで設けてなるガス供給層３３，３４とから一体
に構成されている。また反応層３１は図５の拡大図に示
すように、微細ポーラス構造となっている。この結果、
反応効率が向上し消費される電力が下がり、効率的にＨ
2 Ｏ2 を発生させることができる。
電極にて構成している。このガス拡散電極は、図４に示
すように、陰極室６側に面した反応層３１と、集電体３
２を挾んで設けてなるガス供給層３３，３４とから一体
に構成されている。また反応層３１は図５の拡大図に示
すように、微細ポーラス構造となっている。この結果、
反応効率が向上し消費される電力が下がり、効率的にＨ
2 Ｏ2 を発生させることができる。
【００１２】このように、本発明の過酸化水素発生装置
は、上述の手段により、（１）冷却水系等に過酸化水素
の注入を必要とする時、必要量だけ製造でき、作業が繁
雑となる貯蔵の必要がない、（２）中間室に導電性の海
水（又は食塩水）を導入して過酸化水素を生成するの
で、電解時に薬品の消耗がない、（３）中間室に海水
（又は食塩水）を導入しているので、中間室で生成され
た過酸化水素はそのまま冷却水系への注入が出来ると共
に、（４）ガス拡散電極を陰極板としているので、反応
効率が向上し消費される電力が下がり、効率的にＨ2 Ｏ
2 を発生させることができる。
は、上述の手段により、（１）冷却水系等に過酸化水素
の注入を必要とする時、必要量だけ製造でき、作業が繁
雑となる貯蔵の必要がない、（２）中間室に導電性の海
水（又は食塩水）を導入して過酸化水素を生成するの
で、電解時に薬品の消耗がない、（３）中間室に海水
（又は食塩水）を導入しているので、中間室で生成され
た過酸化水素はそのまま冷却水系への注入が出来ると共
に、（４）ガス拡散電極を陰極板としているので、反応
効率が向上し消費される電力が下がり、効率的にＨ2 Ｏ
2 を発生させることができる。
【００１３】すなわち、過酸化水素を必要とするオンサ
イトでの製造が効率よくできるとともに、生成された過
酸化水素の分離操作、および危険物の範囲をさけるため
の希釈等の繁雑な作業を必要としない。
イトでの製造が効率よくできるとともに、生成された過
酸化水素の分離操作、および危険物の範囲をさけるため
の希釈等の繁雑な作業を必要としない。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の過酸化水素発生装
置の実施の一形態を、図面に基づき説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。図１は、本発明の過
酸化水素発生装置の実施の第１形態を示す模式図であ
る。図２は、上述した実施の形態の過酸化水素発生装置
を使用した、過酸化水素発生試験装置のフローを示す図
である。
置の実施の一形態を、図面に基づき説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。図１は、本発明の過
酸化水素発生装置の実施の第１形態を示す模式図であ
る。図２は、上述した実施の形態の過酸化水素発生装置
を使用した、過酸化水素発生試験装置のフローを示す図
である。
【００１５】これらの図面に示すように、電解槽１への
両側に、硫酸電解用電極からなる陽極板２と、ガス拡散
電極からなる陰極板３とを平行に配置し、その間に陽極
室４、中間室５、陰極室６を設けた。また、陽極室４と
中間室５の間には、カチオン交換膜７を用い、中間室５
と陰極室６の間には、アニオン交換膜８を用いて仕切
り、３室４，５，６に区画した。そして、上記硫酸電解
用電極からなる陽極室４には、硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）溶液
を導入し、一方のガス拡散電極からなる陰極室６には、
苛性カリ（ＫＯＨ）溶液と酸素Ｏ2 を導入し、さらに、
中間室５には、海水（食塩水：ＮａＣｌ）を導入するよ
うにしている。
両側に、硫酸電解用電極からなる陽極板２と、ガス拡散
電極からなる陰極板３とを平行に配置し、その間に陽極
室４、中間室５、陰極室６を設けた。また、陽極室４と
中間室５の間には、カチオン交換膜７を用い、中間室５
と陰極室６の間には、アニオン交換膜８を用いて仕切
り、３室４，５，６に区画した。そして、上記硫酸電解
用電極からなる陽極室４には、硫酸（Ｈ2 ＳＯ4 ）溶液
を導入し、一方のガス拡散電極からなる陰極室６には、
苛性カリ（ＫＯＨ）溶液と酸素Ｏ2 を導入し、さらに、
中間室５には、海水（食塩水：ＮａＣｌ）を導入するよ
うにしている。
【００１６】このようにすることにより、陽極板２と陰
極板３の間には、電流が流れ、陰極室６に導入された、
苛性カリ溶液、および酸素の、前述「化１」の式（１）
の反応によって、生成し、アニオン交換膜８を透過し、
中間室５に流入したＨＯ2 -、ＯＨ- と、陽極室４に導
入された、硫酸溶液の、前述「化１」の式（２）の反応
によって、生成し、カチオン交換膜７を透過し、中間室
５に流入した２Ｈ+ によって、中間室５では、前述「化
１」の式（３）の反応によって、過酸化水素（Ｈ
2 Ｏ2 ）を発生させることができる。
極板３の間には、電流が流れ、陰極室６に導入された、
苛性カリ溶液、および酸素の、前述「化１」の式（１）
の反応によって、生成し、アニオン交換膜８を透過し、
中間室５に流入したＨＯ2 -、ＯＨ- と、陽極室４に導
入された、硫酸溶液の、前述「化１」の式（２）の反応
によって、生成し、カチオン交換膜７を透過し、中間室
５に流入した２Ｈ+ によって、中間室５では、前述「化
１」の式（３）の反応によって、過酸化水素（Ｈ
2 Ｏ2 ）を発生させることができる。
【００１７】次に、図２は上述した実施の形態の過酸化
水素発生装置を使用した、過酸化水素発生試験装置のフ
ローを示す図である。図２において、９は整流器、１０
は海水（食塩水）、１１は陽極室液１２、および陰極室
液１３を、それぞれ中間室５、陽極室４、および陰極室
６に送り込むためのローラポンプ、１４は陰極室６にＯ
2 を送り込むためのＯ2 、又は空気ボンベ、１５は流量
計、１６は発生したＨ2 Ｏ2 を含む海水である。
水素発生装置を使用した、過酸化水素発生試験装置のフ
ローを示す図である。図２において、９は整流器、１０
は海水（食塩水）、１１は陽極室液１２、および陰極室
液１３を、それぞれ中間室５、陽極室４、および陰極室
６に送り込むためのローラポンプ、１４は陰極室６にＯ
2 を送り込むためのＯ2 、又は空気ボンベ、１５は流量
計、１６は発生したＨ2 Ｏ2 を含む海水である。
【００１８】このように構成された試験装置において、
電解条件を「表１」に示す通りにして、試験を行った結
果、「表２」に示す過酸化水素生成電流効率測定結果が
得られた。その結果を図３に示す。尚、比較としてグラ
ファイト電極を使用したものを用いて同様に試験した結
果を従来技術としてプロットした。すなわち、図３に示
すように、消費電力の上昇とともに、過酸化水素生成効
率は、低下するものの、試験ケースのなかで、過酸化水
素生成効率が最も悪い１１．５２×１０4 クローン電解
時にケースにおいても、中間室５に海水を使用した本試
験装置においては、過酸化水素生成電流効率８４．１
％、消費電力７．６５ＫＷＨ／ｋｇＨ2 Ｏ2 で電解する
ことができることが確認できた。
電解条件を「表１」に示す通りにして、試験を行った結
果、「表２」に示す過酸化水素生成電流効率測定結果が
得られた。その結果を図３に示す。尚、比較としてグラ
ファイト電極を使用したものを用いて同様に試験した結
果を従来技術としてプロットした。すなわち、図３に示
すように、消費電力の上昇とともに、過酸化水素生成効
率は、低下するものの、試験ケースのなかで、過酸化水
素生成効率が最も悪い１１．５２×１０4 クローン電解
時にケースにおいても、中間室５に海水を使用した本試
験装置においては、過酸化水素生成電流効率８４．１
％、消費電力７．６５ＫＷＨ／ｋｇＨ2 Ｏ2 で電解する
ことができることが確認できた。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の過酸化水
素発生装置によれば、対峙して配設された陰極板と陽極
板との間がアニオン交換膜とカチオン交換膜で仕切られ
た電解槽内に、前記陰極板と前記アニオン交換膜で区画
され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室と、前記
アニオン交換膜と前記カチオン交換膜で区画され、海水
又は食塩水が導入される中間室と、前記カチオン交換膜
と前記陽極板で区画され、硫酸溶液が導入される陽極室
とを設けると共に、前記陰極板をガス拡散電極にて構成
し、前記中間室から海水又は食塩水とともに過酸化水素
を生成することを特徴としたことにより、以下の効果を
奏する。 （１）中間室の導電性流体として、防汚を行う冷却水系
に流す海水又は食塩水を導入しても、陰極板３をガス拡
散電極にて構成しているので、反応効率が向上し消費さ
れる電力が下がり、この結果、消費電力を抑えて過酸化
水素の効率のよいを発生させることが出来た。これによ
り、冷却水系等に過酸化水素の注入を必要とする時、必
要量だけ、注入を必要とするオンサイトで効率よく製造
でき、作業が繁雑となる過酸化水素の貯蔵の必要がな
い。また、中間室での電解時に、硫酸等の薬品の消耗が
ないので、薬品代が低減出来る。
素発生装置によれば、対峙して配設された陰極板と陽極
板との間がアニオン交換膜とカチオン交換膜で仕切られ
た電解槽内に、前記陰極板と前記アニオン交換膜で区画
され、アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室と、前記
アニオン交換膜と前記カチオン交換膜で区画され、海水
又は食塩水が導入される中間室と、前記カチオン交換膜
と前記陽極板で区画され、硫酸溶液が導入される陽極室
とを設けると共に、前記陰極板をガス拡散電極にて構成
し、前記中間室から海水又は食塩水とともに過酸化水素
を生成することを特徴としたことにより、以下の効果を
奏する。 （１）中間室の導電性流体として、防汚を行う冷却水系
に流す海水又は食塩水を導入しても、陰極板３をガス拡
散電極にて構成しているので、反応効率が向上し消費さ
れる電力が下がり、この結果、消費電力を抑えて過酸化
水素の効率のよいを発生させることが出来た。これによ
り、冷却水系等に過酸化水素の注入を必要とする時、必
要量だけ、注入を必要とするオンサイトで効率よく製造
でき、作業が繁雑となる過酸化水素の貯蔵の必要がな
い。また、中間室での電解時に、硫酸等の薬品の消耗が
ないので、薬品代が低減出来る。
【００２２】（２）また、中間室に海水又は食塩水を導
入して、海水又は食塩水中に過酸化水素を生成するよう
にしているので、中間室で生成された過酸化水素は、そ
のまま冷却水系への注入が出来る。すなわち、生成され
た過酸化水素の分離操作、および危険物の範囲をさける
ための希釈等の繁雑な作業が、防汚のために海水又は食
塩水へ過酸化水素を注入する時不要となる。
入して、海水又は食塩水中に過酸化水素を生成するよう
にしているので、中間室で生成された過酸化水素は、そ
のまま冷却水系への注入が出来る。すなわち、生成され
た過酸化水素の分離操作、および危険物の範囲をさける
ための希釈等の繁雑な作業が、防汚のために海水又は食
塩水へ過酸化水素を注入する時不要となる。
【図１】本発明の過酸化水素発生装置の実施の第１形態
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図２】図１に示す実施の形態の過酸化水素発生装置を
使用した過酸化水素発生試験装置のフローを示す図であ
る。
使用した過酸化水素発生試験装置のフローを示す図であ
る。
【図３】電解クローン量と、消費電力、過酸化水素生成
効率、過酸化水素生成量との関係を示す図である。
効率、過酸化水素生成量との関係を示す図である。
【図４】ガス拡散電極の構造図。
【図５】ガス拡散電極の反応層の微細構造図。
１ 電解槽 ２ 陽極板 ３ 陰極板 ４ 陽極室 ５ 中間室 ６ 陰極室 ７ カチオン膜 ８ アニオン膜 ９ 整流器 １０ 海水（食塩水） １１ ローラポンプ １２ 陽極室液（Ｈ2 ＳＯ4 ） １３ 陰極室液（ＫＯＨ） １４ Ｏ2 ボンベ（又は空気） １５ 流量計 １６ Ｈ2 Ｏ2 を含む海水 ３１ 反応層 ３２ 集電体 ３３，３４ ガス供給層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５６０Ｆ Ｃ２５Ｂ 9/00 ３１５ Ｃ２５Ｂ 9/00 ３１５ (72)発明者 沢崎 哲夫 神奈川県横浜市中区錦町12番地 菱日エン ジニアリング株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 対峙して配設された陰極板と陽極板との
間がアニオン交換膜とカチオン交換膜で仕切られた電解
槽内に、前記陰極板と前記アニオン交換膜で区画され、
アルカリ溶液と酸素が導入される陰極室と、前記アニオ
ン交換膜と前記カチオン交換膜で区画され、海水又は食
塩水が導入される中間室と、前記カチオン交換膜と前記
陽極板で区画され、硫酸溶液が導入される陽極室とを設
けると共に、前記陰極板をガス拡散電極にて構成し、前
記中間室から海水又は食塩水とともに過酸化水素を生成
することを特徴とする過酸化水素発生装置。 - 【請求項２】 前記ガス拡散電極は、微細ポーラス構造
の反応層とガス拡散層とその間に介在された集電体とか
らなることを特徴とする請求項１記載の過酸化水素発生
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10034397A JPH11229168A (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | 過酸化水素発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10034397A JPH11229168A (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | 過酸化水素発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11229168A true JPH11229168A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12413062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10034397A Withdrawn JPH11229168A (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | 過酸化水素発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11229168A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6825502B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-11-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light emitting element, method of manufacturing the same, and semiconductor device having light emitting element |
| CN1328841C (zh) * | 2004-02-17 | 2007-07-25 | 程仲玑 | 发电机内冷水水质处理方法及其装置 |
| CN102899679A (zh) * | 2012-10-24 | 2013-01-30 | 四川大学 | 利用石膏矿化co2联产硫酸的方法 |
| CN108193222A (zh) * | 2017-12-18 | 2018-06-22 | 北京化工大学 | 一种电解海水制氯防污的方法 |
| CN110306203A (zh) * | 2019-07-09 | 2019-10-08 | 郑州大学 | 一种阴极产生过氧化氢同时阳极处理有机废水的电化学装置和方法 |
| CN110352523A (zh) * | 2017-03-06 | 2019-10-18 | 懿华水处理技术有限责任公司 | 用于自清洁电氯化装置的半电池电化学配置 |
-
1998
- 1998-02-17 JP JP10034397A patent/JPH11229168A/ja not_active Withdrawn
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7135714B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-11-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light emitting element, method of manufacturing the same, and semiconductor device having light emitting element |
| US7138665B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-11-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light emitting element, method of manufacturing the same, and semiconductor device having light emitting element |
| US7138664B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-11-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device having a light emitting element |
| US7179671B2 (en) | 2000-06-30 | 2007-02-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light emitting element, method of manufacturing the same, and semiconductor device having light emitting element |
| US7221002B2 (en) | 2000-06-30 | 2007-05-22 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light emitting element, method of manufacturing the same, and semiconductor device having light emitting element |
| US6825502B2 (en) | 2000-06-30 | 2004-11-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light emitting element, method of manufacturing the same, and semiconductor device having light emitting element |
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| CN110352523B (zh) * | 2017-03-06 | 2023-09-08 | 懿华水处理技术有限责任公司 | 用于自清洁电氯化装置的半电池电化学配置 |
| CN108193222A (zh) * | 2017-12-18 | 2018-06-22 | 北京化工大学 | 一种电解海水制氯防污的方法 |
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| CN110306203B (zh) * | 2019-07-09 | 2021-08-06 | 郑州大学 | 一种阴极产生过氧化氢同时阳极处理有机废水的电化学装置和方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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