JPH1121280A

JPH1121280A - 新規なベンゼン誘導体および除草剤

Info

Publication number: JPH1121280A
Application number: JP18753397A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Adachi; 弘之阿達; Masao Yamaguchi; 正男山口; Takashi Kawana; 貴川名; Masami Furuguchi; 正巳古口
Original assignee: Nippon Soda Co Ltd
Current assignee: Nippon Soda Co Ltd
Priority date: 1997-06-27
Filing date: 1997-06-27
Publication date: 1999-01-26

Abstract

(57)【要約】【課題】工業的に有利に合成でき、より低い薬量で効果
の確実な安全性の高い、作物との選択性に優れた、新規
な除草剤を提供する。【解決手段】一般式〔Ｉ〕【化１】（式中、Ｒ¹ およびＲ²は、それぞれ独立して、ハロゲ
ン，Ｃ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルコキシ，Ｃ_1-4 ハロア
ルキル，Ｃ_1-4 アルキルスルホニル等を、Ｒ³ は水素，
Ｃ_1-4 アルキルを、Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およ
びＲ⁹ は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン，Ｃ_1-4
アルキル，Ｃ_1-4 ハロアルキル，Ｃ_1-4 アルコキシ等を
表す。）で表されるフェニル基で置換されたベンゼン誘
導体またはその塩。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規なベンゼン誘導
体および除草剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明化合物に類似の２−ベンゾイルシ
クロヘキサン−１，３−ジオン化合物が除草活性を有す
ることは、特開平３−２５５０４７号公報、特開平６−
２７１５６２号公報、ＷＯ９４／０４５２４号等に記載
されている。しかしながら、本発明化合物のように、ベ
ンゾイル基の３位がテトラゾリル基で置換された化合物
は知られていない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、工業
的に有利に合成でき、安全性が高く、より低い薬量で優
れた効果を有し、作物との選択性の良い除草剤を提供す
ることである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔Ｉ〕

【０００５】

【化３】

【０００６】［式中、Ｒ¹ ，Ｒ²は、それぞれ独立し
て、ニトロ，シアノ，ハロゲン，Ｃ_1-4アルキル，Ｃ_1-4
アルコキシ，Ｃ_1-4 ハロアルキル，Ｃ_1-4 アルキルチ
オ，Ｃ_1-4 アルキルスルフィニル，またはＣ_1-4 アルキ
ルスルホニルを表す。Ｒ³ は、水素，またはＣ_1-4 アル
キルを表す。Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹
は、それぞれ独立して、水素，シアノ，ホルミル，ハロ
ゲン，Ｃ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 ハロアルキル，Ｃ_1-4 ア
ルコキシ，Ｃ_1-4 ハロアルコキシ，Ｃ_1-4 アルキルチ
オ，Ｃ_1-4 アルキルスルフィニル，Ｃ_1-4 アルキルスル
ホニル，Ｃ_1-4 アルキルチオＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 ア
ルキルスルフィニルＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルキルス
ルホニルＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルコキシＣ_1-4 アル
キル，Ｃ_1-4 アルキルカルボニルオキシＣ_1-4 アルキ
ル，ヒドロキシＣ_1-4 アルキル，ジＣ_1-4 アルコキシＣ
_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルコキシカルボニル，ヒドロキ
シイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルコキシイミノＣ
_1-4 アルキル，Ｃ_2-4 アルケニルオキシイミノＣ_1-4 ア
ルキル，Ｃ_2-4アルキニルオキシイミノＣ_1-4 アルキ
ル，Ｃ_1-4 ハロアルコキシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ
_2-4 ハロアルケニルオキシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ
_2-4 ハロアルキニルオキシイミノＣ_1-4 アルキル，置換
されていてもよいフェニル，置換されていてもよいフェ
ニルチオＣ_1-4 アルキル，置換されていてもよいフェニ
ルスルフィニルＣ_1-4 アルキル，置換されていてもよい
フェニルスルホニルＣ_1-4 アルキル，または置換されて
いてもよいフェニルＣ_1-4 アルキルオキシＣ_1-4 アルキ
ルを表す。また、（Ｒ⁴ とＲ⁵ ）、（Ｒ⁶ とＲ⁷ ）また
は（Ｒ⁸ とＲ⁹ ）はそれぞれ一緒になってオキソまたは
Ｃ_2-4のアルキレン鎖を形成していてもよく、さらにＲ
⁵ とＲ⁷ は一緒になってメチレンまたはＣ_2-4 のアルキ
レン鎖を形成してもよい。］で表されるベンゼン誘導体
またはその塩、およびそれらの１種または２種以上を有
効成分として含有する除草剤である。

【０００７】Ｒ¹，Ｒ²において、ハロゲンとしては、
フッ素，塩素，臭素などが、Ｃ_1-4アルキルとしては、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イ
ソブチル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ_1-4 アルコキシとして
は、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキ
シ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどが、Ｃ_1-4 ハロアルキ
ルとしては、フルオロメチル，１−フルオロエチル．２
−フルオロエチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメ
チル，ジフルオロクロロメチル，フルオロクロロメチ
ル，トリクロロメチル，トリブロモメチル，トルフルオ
ロエチル，ペンタフルオロエチルなどが、Ｃ_1-4 ハロア
ルコキシとしては、トリフルオロメトキシ，１，１，
２，２−テトラフルオロエトキシ，トリクロロメトキ
シ，ジフルオロメトキシなどが、Ｃ_1-4 アルキルチオと
しては、メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソ
プロピルチオ，ブチルチオなどが、Ｃ_1-4 アルキルスル
フィニルとしては、メチルスルフィニル，エチルスルフ
ィニル，プロピルスルフィニル，イソプロピルスルフィ
ニル，ブチルスルフィニルなどが、Ｃ_1-4 アルキルスル
ホニルとしては、メチルスルホニル，エチルスルホニ
ル，プロピルスルホニル，イソプロピルスルホニル，ブ
チルスルホニルなどが挙げられる。

【０００８】Ｒ³において、Ｃ_1-4 アルキルとしては、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イ
ソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチルなどが挙げられる。

【０００９】Ｒ⁴〜Ｒ⁹において、ハロゲンとしては、
フッ素，塩素，臭素などが、Ｃ_1-4アルキルとしては、
メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イ
ソブチル，ｔ−ブチルなどが、Ｃ_1-4 アルコキシとして
は、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキ
シ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどが、Ｃ_1-4 ハロアルキ
ルとしては、フルオロメチル，１−フルオロエチル．２
−フルオロエチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメ
チル，ジフルオロクロロメチル，フルオロクロロメチ
ル，トリクロロメチル，トリブロモメチル，トリフルオ
ロエチル，ペンタフルオロエチルエチルなどが、Ｃ_1-4
ハロアルコキシとしては、トリフルオロメトキシ，１，
１，２，２−テトラフルオロエトキシ，トリクロロメト
キシ，ジフルオロメトキシなどが、Ｃ_1-4 アルキルチオ
としては、メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イ
ソプロピルチオ，ブチルチオなどが、Ｃ_1-4 アルキルス
ルフィニルとしては、メチルスルフィニル，エチルスル
フィニル，プロピルスルフィニル，イソプロピルスルフ
ィニル，ブチルスルフィニルなどが、Ｃ_1-4 アルキルス
ルホニルとしては、メチルスルホニル，エチルスルホニ
ル，プロピルスルホニル，イソプロピルスルホニル，ブ
チルスルホニルなどが、Ｃ_1-4 アルキルチオＣ_1-4 アル
キルとしては、メチルチオメチル，メチルチオエチル，
エチルチオメチル，プロピルチオメチル，イソプロピル
チオメチル，ブチルチオメチルなどが、Ｃ_1-4 アルキル
スルフィニルＣ_1-4 アルキルとしては、メチルスルフィ
ニルメチル，メチルスルフィニルエチル，エチルスルフ
ィニルメチル，プロピルスルフィニルメチル，イソプロ
ピルスルフィニルメチルなどが、Ｃ_1-4 アルキルスルホ
ニルＣ_1-4 アルキルとしては、メチルスルホニルメチ
ル，メチルスルホニルエチル，エチルスルホニルメチ
ル，プロピルスルホニルメチル，イソプロピルスルホニ
ルメチルなどが、Ｃ_1-4 アルコキシＣ_1-4 アルキルとし
ては、メトキシメチル，メトキシエチル，エトキシメチ
ル，プロポキシメチル，イソプロポキシメチル，ブトキ
シメチルなどが挙げられる。

【００１０】つづいて、Ｒ⁴〜Ｒ⁹において、Ｃ_1-4 ア
ルキルカルボニルオキシＣ_1-4 アルキルとしては、アセ
トキシメチル，アセトキシエチル，プロピオニルオキシ
メチル、イソブチリルオキシメチルなどが、ヒドロキシ
Ｃ_1-4 アルキルとしては、ヒドロキシメチル，ヒドロキ
シエチル，ヒドロキシプロピル，ヒドロキシブチルなど
が、ジＣ_1-4 アルコキシＣ_1-4 アルキルとしては、ジメ
トキシメチル，ジメトキシエチル．ジエトキシメチル，
ジプロポキシメチル，ジブトキシメチル，ジｔ−ブトキ
シメチルなどが、Ｃ_1-4 アルコキシカルボニルとして
は、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロポ
キシカルボニル，ブトキシカルボニルなどが、ヒドロキ
シイミノＣ_1-4 アルキルとしては、ヒドロキシイミノメ
チル，ヒドロキシイミノエチル，ヒドロキシイミノプロ
ピル，ヒドロキシイミノブチルなどが、Ｃ_1-4 アルコキ
シイミノＣ_1-4 アルキルとしては、メトキシイミノメチ
ル，メトキシイミノエチル，エトキシイミノメチル，プ
ロポキシイミノメチル，ブトキシイミノメチルなどが、
Ｃ_2-4 アルケニルオキシイミノＣ_1-4 アルキルとして
は、ビニルオキシイミノメチル，ビニルオキシイミノエ
チル，１−プロペニルオキシイミノメチル，クロチルオ
キシイミノメチル，アリルオキシイミノメチルなどが、
Ｃ_2-4 アルキニルオキシイミノＣ_1-4 アルキルとして
は、エチニルオキシイミノメチル，エチニルオキシイミ
ノエチル，プロパギルオキシイミノメチルなどが、Ｃ
_1-4 ハロアルコキシイミノＣ_1-4 アルキルとして、フル
オロメチルイミノメチル，トリフルオロメチルイミノメ
チル，ジフルオロクロロメチルイミノメチル，トリクロ
ロメチルイミノメチルなどが、Ｃ_2-4 ハロアルケニルオ
キシイミノＣ_1-4 アルキルとしては、１−クロロビニル
オキシイミノメチル，２−クロロビニルオキシイミノメ
チル，３−クロロアリルオキシイミノメチルなどが、Ｃ
_2-4 ハロアルキニルオキシイミノＣ_1-4 アルキルとして
は、２−クロロエチニルオキシイミノメチル，３−クロ
ロ−２−プロピニルオキシイミノメチルなどが挙げられ
る。

【００１１】さらに、つづいて、Ｒ⁴〜Ｒ⁹において、
置換されていてもよいフェニルとしては、フッ素，塩
素，臭素などのハロゲン、メチル，エチル，プロピル，
イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｔ−ブチルなどの
Ｃ_1-4 アルキル、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イ
ソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ_1-4 ア
ルコキシ、フルオロメチル，１−フルオロエチル．２−
フルオロエチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチ
ル，ジフルオロクロロメチル，フルオロクロロメチル，
トリクロロメチル，トリブロモメチル，トリフルオロエ
チルなどのＣ_1-4ハロアルキル、トリフルオロメトキ
シ，１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ，トリク
ロロメトキシ，ジフルオロメトキシなどのＣ_1-4 ハロア
ルコキシなどで置換されてもよいフェニルなどが、置換
されていてもよいフェニルチオＣ_1-4アルキルとして
は、フッ素，塩素，臭素などのハロゲン、メチル，エチ
ル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｔ
−ブチルなどのＣ_1-4 アルキル、メトキシ，エトキシ，
プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシ
などのＣ_1-4 アルコキシ、フルオロメチル，１−フルオ
ロエチル．２−フルオロエチル，ジフルオロメチル，ト
リフルオロメチル，ジフルオロクロロメチル，フルオロ
クロロメチル，トリクロロメチル，トリブロモメチル，
トリフルオロエチルなどのＣ_1-4 ハロアルキル、トリフ
ルオロメトキシ，１，１，２，２−テトラフルオロエト
キシ，トリクロロメトキシ，ジフルオロメトキシなどの
Ｃ_1-4 ハロアルコキシなどで置換されてもよいフェニル
チオメチル，フェニルチオエチル，フェニルチオプロピ
ルなどが、置換されていてもよいフェニルスルフィニル
Ｃ_1-4アルキルとしては、フッ素，塩素，臭素などのハ
ロゲン、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブ
チル，イソブチル，ｔ−ブチルなどのＣ_1-4 アルキル、
メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブ
トキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ_1-4 アルコキシ、フルオ
ロメチル，１−フルオロエチル．２−フルオロエチル，
ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，ジフルオロク
ロロメチル，フルオロクロロメチル，トリクロロメチ
ル，トリブロモメチル，トリフルオロエチルなどのＣ
_1-4 ハロアルキル、トリフルオロメトキシ，１，１，
２，２−テトラフルオロエトキシ，トリクロロメトキ
シ，ジフルオロメトキシなどのＣ_1-4 ハロアルコキシな
どで置換されてもよいフェニルスルフィニルメチル，フ
ェニルスルフィニルエチル，フェニルスルフィニルプロ
ピル，フェニルスルフィニルブチルなどが、置換されて
いてもよいフェニルスルホニルＣ_1-4 アルキルとして
は、フッ素，塩素，臭素などのハロゲン、メチル，エチ
ル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，ｔ
−ブチルなどのＣ_1-4 アルキル、メトキシ，エトキシ，
プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，ｔ−ブトキシ
などのＣ_1-4 アルコキシ、フルオロメチル，１−フルオ
ロエチル．２−フルオロエチル，ジフルオロメチル，ト
リフルオロメチル，ジフルオロクロロメチル，フルオロ
クロロメチル，トリクロロメチル，トリブロモメチル，
トリフルオロエチルなどのＣ_1-4 ハロアルキル、トリフ
ルオロメトキシ，１，１，２，２−テトラフルオロエト
キシ，トリクロロメトキシ，ジフルオロメトキシなどの
Ｃ_1-4 ハロアルコキシなどで置換されてもよいフェニル
スルホニルメチル，フェニルスルホニルエチル，フェニ
ルスルホニルプロピル，フェニルスルホニルブチルなど
が、置換されていてもよいフェニルＣ_1-4 アルキルオキ
シＣ_1-4 アルキルとしては、フッ素，塩素，臭素などの
ハロゲン、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，
ブチル，イソブチル，ｔ−ブチルなどのＣ_1-4 アルキ
ル、メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキ
シ，ブトキシ，ｔ−ブトキシなどのＣ_1-4 アルコキシ、
フルオロメチル，１−フルオロエチル．２−フルオロエ
チル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，ジフル
オロクロロメチル，フルオロクロロメチル，トリクロロ
メチル，トリブロモメチル，トリフルオロエチルなどの
Ｃ_1-4 ハロアルキル、トリフルオロメトキシ，１，１，
２，２−テトラフルオロエトキシ，トリクロロメトキ
シ，ジフルオロメトキシなどのＣ_1-4 ハロアルコキシな
どで置換されてもよいフェニルメトキシメチル，フェニ
ルメトキシエチル，フェニルエトキシメチル，フェニル
プロポキシメチル，フェニルイソプロポキシメチル，フ
ェニルブトキシメチルなどが挙げられる。

【００１２】さらに、Ｒ⁴〜Ｒ⁹において、Ｃ_2-4のア
ルキレン鎖としては、エチレン，トリメチレン，テトラ
メチレンなどが挙げられる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明化合物は、次の方法によっ
て製造することができる。製造法（ｉ）

【００１４】

【化４】

【００１５】（式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，
Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、前記と同じ意味を有
し、Ｑは、ハロゲン、アルキルカルボニルオキシ、アル
コキシカルボニルオキシまたはベンゾイルオキシを意味
する。）

【００１６】工程において、化合物〔Ｖａ〕および〔Ｖ
ｂ〕は、化合物〔ＩＩ〕と化合物［ＩＶa ］とを各々１
モルずつあるいは一方を過剰に用い、１モルないし過剰
の塩基の存在下に反応させることによって得られる。用
いられる塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等のアルカリ金属水
酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化
物、アルカリ土類金属炭酸塩、ジイソプロピルエチルア
ミン、トリエチルアミン、ピリジン、燐酸ナトリウム等
であり、溶媒としては、水, 塩化メチレン, クロロホル
ム，トルエン，酢酸エチル，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（ＤＭＦ），テトラヒドロフラン（ＴＨＦ），ジメ
トキシエタン（ＤＭＥ），アセトニトリル等が用いられ
る。反応混合物は反応が完了するまで０℃から用いる溶
媒の沸点で攪拌される。また、四級アンモニウム塩等の
相間移動触媒を用いて、二相系で反応させることによっ
ても得られる。化合物〔Ｖａ〕および〔Ｖｂ〕は、化合
物〔ＩＩ〕と化合物［ＩＶｂ］化合物とを、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の脱水縮合剤の存在
下に反応させることによっても得られる。ＤＣＣとの反
応において用いられる溶媒としては、塩化メチレン，ク
ロロホルム，トルエン，酢酸エチル，ＤＭＦ，ＴＨＦ，
ＤＭＥ，アセトニトリル等が用いられる。反応混合物は
反応が完了するまで−１０℃から用いる溶媒の沸点で攪
拌される。反応混合物は常法によって処理される。

【００１７】転位反応はシアン化合物および穏和な塩基
の存在下で行われる。例えば、１モルの化合物〔Ｖａ〕
および〔Ｖｂ〕を１〜４モルの塩基、好ましくは１〜２
モルの塩基および0.０１〜0.５モル以上、好ましくは、
0.０５〜0.２モルのシアン化合物と反応させる。ここで
用いられる塩基は前記の塩基がいずれも用いられ得る。
また、シアン化合物としてはシアン化カリウム，シアン
化ナトリウム，アセトンシアンヒドリン，シアン化水
素，シアン化カリウムを保持したポリマー等が用いられ
る。なお、少量のクラウンエーテル等の相間移動触媒を
加えることにより、反応がより短い時間で完結する。反
応温度は８０℃より低い温度、好ましくは２０〜４０℃
で行われる。用いられる溶媒は、１，２−ジクロロエタ
ン，塩化メチレン，クロロホルム，トルエン，アセトニ
トリル，酢酸エチル，ＤＭＦ，メチルイソブチルケト
ン，ＴＨＦ，ＤＭＥ等である。

【００１８】また、化合物〔Ｉ〕は、化合物〔ＩＩ〕と
化合物［ＩＶc ］とを塩基および必要ならばルイス酸の
存在下で反応させることによっても得られる。用いられ
る塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨなどのアルカリ金属水酸化
物、アルカリ土類金属の水酸化物、ジイソプロピルエチ
ルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、炭酸ナトリウ
ム、燐酸ナトリウムなどである。適当なルイス酸は、塩
化亜鉛，三塩化アルミニウム等であり、好ましくは塩化
亜鉛である。反応は、アセトニトリル，塩化メチレンな
どの有機溶媒中において、−２０℃から溶媒の沸点まで
の適度な温度で行われる。

【００１９】製造法（ｉｉ）また、上記のようにして製造した化合物〔Ｉａ〕を用い
て以下の方法により、シクロヘキサン環上の置換基を変
換した目的とする化合物〔Ｉｂ〕および〔Ｉｃ〕を製造
することもできる。

【００２０】

【化５】

【００２１】（式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，
Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、前記と同じ意味を有す
る。）

【００２２】すなわち、化合物〔Ｉａ〕を溶媒中、フェ
ニルトリメチルアンモニウムトリブロミド，メルドラム
酸ジブロミド等のハロゲン化剤と０℃から溶媒の沸点ま
での適度な温度、好ましくは室温から５０℃で、数時間
から数１０時間反応させることによってハロゲン化され
たトリオン体〔Ｉｂ〕を製造することができる。用いら
れる溶媒としては、塩化メチレン，ベンゼン，酢酸エチ
ル，ＴＨＦ，アセトニトリル，ＤＭＥ等である。ハロゲ
ン化されたトリオン体〔Ｉｂ〕は、塩基の存在下、求核
試剤（ｎｕｃｌｅｏｐｈｉｌｅ）との反応により目的と
する化合物〔Ｉｃ〕を製造することができる。

【００２３】製造法（ｉｉｉ）

【００２４】

【化６】

【００２５】（式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，
Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、前記と同じ意味を有す
る。Ｒ¹¹は、低級の分岐していてもよいアルコキシ、ア
ラルキルオキシ、またはアセトキシを意味する。Ｚはハ
ロゲン、アルキルスルホナートまたはアリールスルホナ
ート等の脱離基を意味する。）

【００２６】化合物〔Ｉｅ〕は、化合物〔Ｉｄ〕を、塩
酸，臭化水素酸等のハロゲン化水素酸、トリフルオロ酢
酸、三臭化ホウ素等の反応、水素化分解あるいはアルカ
リ加水分解等により、また、必要に応じて次いで加水分
解を行うことによって製造することができる。

【００２７】さらに化合物〔Ｉｅ〕は、通常の方法によ
りハロゲン化、アルキルスルホナート化あるいはアリ−
ルスルホナート化することにより化合物〔Ｉｆ〕に導く
ことができる。この化合物〔Ｉｆ〕を溶媒中、等モル以
上の塩基の存在下、−２０℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から１００℃で３０分から数１０時
間反応させることによって化合物〔Ｉｇ〕を製造するこ
とができる。用いられる塩基は、ＫＯＨ，ＮａＯＨ等の
アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属の水酸化物、
ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ピリ
ジン、１，８−ジアザ−ビシクロ［５．４．０］ウンデ
−７−セン（ＤＢＵ）、ｔ−ＢｕＯＫ、トリトンＢ、炭
酸ナトリウム、燐酸ナトリウム等であり、溶媒として
は、単独あるいは混合して水，アルコール，塩化メチレ
ン，ベンゼン，トルエン，酢酸エチル，ＤＭＦ，ＴＨ
Ｆ，ＤＭＥ，アセトニトリル等が用いられる。

【００２８】製造法（ｉｖ）

【００２９】

【化７】

【００３０】（式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，
Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、前記と同じ意味を有す
る。Ｒ¹²，Ｒ¹³は、低級アルキル基を表し、Ｒ¹⁴は、水
素，Ｃ_1-4 アルキル，Ｃ_2-4 アルケニル，Ｃ_2-4 アルキ
ニル，Ｃ_1-4 ハロアルキル，Ｃ_2-4 ハロアルケニル，Ｃ
_2-4 ハロアルキニルを表し、ｍは０，１，２，３を表
す。）

【００３１】化合物〔Ｉｈ〕は、化合物〔Ｉ〕から公知
の方法により製造することができる。次に化合物〔Ｉ
ｈ〕を溶媒中、等モル以上の式：Ｈ₂ＮＯＲ¹⁴で表され
る化合物の存在下、−２０℃から用いる溶媒の沸点ま
で、好ましくは室温から１００℃で３０分から数１０時
間反応させることによって化合物〔Ｉｉ〕を製造するこ
とができる。なお、少量の硫酸等の酸触媒を加えること
により、反応がより短い時間で完結する。用いられる溶
媒としては、単独あるいは混合して水，アルコール，塩
化メチレン，ベンゼン，トルエン，酢酸エチル，ＤＭ
Ｆ，ＴＨＦ，ＤＭＥ，アセトニトリル等である。

【００３２】一般式〔ＩＩ〕で表される環状ジオン体
は、公知の方法に従って製造することができる。また、
上記の置換された安息香酸［ＩＶa ］も公知の反応によ
り製造することができる。

【００３３】本発明化合物の製造の重要な中間体である
化合物（１）および化合物（２）は以下のような方法に
よって製造できる。

【００３４】

【化８】

【００３５】〔式中、Ｒ¹，Ｒ²は、前記と同じ意味を
表す。Ｒ¹⁵は、Ｒ³に対応するが水素原子を含まな
い。。Ｒは低級アルキルを表し、Ｘは、ハロゲン，Ｒ¹⁵
ＯＳＯ₃基、Ｒ¹⁶ＳＯ₃基（Ｒ¹⁶は低級アルキル基、置
換していてもよいフェニル基）を表し、Ｙはハロゲン、
アルコキシを表す。〕

【００３６】これらの中間体であるテトラゾール誘導体
は以下に示すような総説に記載の方法によって、合成す
ることができる。Ｐ．Ｋ．Ｋａｄａｂａ，Ｓｙｎｔｈｅ
ｓｉｓ，１９７３７１；Ｍ．Ｆ．Ａｎｓｅｌｌ，Ｒｏ
ｄｄ’ｓＣｈｅｍｉｓｔｒｙｏｆＣａｒｂｏｎ
Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，ＩＶＤ，２１１−２３７，Ｅｌｓ
ｅｖｉｅｒＳｃｉｅｎｃｅＰｕｂｌｉｓｈｅｒｓ
（１９８６）；Ｒ．Ｎ．Ｂｕｔｌｅｒ，Ａｄｖａｎｃ
ｅｓｉｎＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃＣｈｅｍ．，２
１３２３−４３６，ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ
（１９７７）

【００３７】次に、具体的な例を挙げて説明する。化合
物（３）あるいは化合物（５）から既知の方法によって
合成されるベンゾニトリル体（７）に、アジ化ナトリウ
ム，アジ化リチウム，アジ化アンモニウムなどのアジ化
物、または、アジ化ナトリウムと塩化アンモニウムを加
え、ＤＭＦ，Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ），ジメチルスルホオキサイド（ＤＭＳＯ），アセト
ニトリルなどの溶媒中、室温から用いる溶媒の沸点の間
の温度で１〜４８時間反応させることにより、化合物
（８）を製造できる。さらに、化合物（８）は、通常の
アルキル化により、化合物（１）を製造できる。アルキ
ル化の方法としては、例えば、アルキルハライド，ジア
ルキルスルフェート，アルキルスルホネートとアルカリ
金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩，有機アミン類、金
属ハライドなどを、エーテル類、アルコール類、アセト
ニトリル、ＤＭＦ、ＤＭＳＯなどの溶媒中、−１０℃か
ら溶媒の沸点の間で反応させることが挙げられる。ま
た、カルボン酸（５）から常法に従って得られるＮ−ア
ルキルアミド体（９）から、常法に従い、イミドイルハ
ライドあるいはイミデート体（１０）を合成し、化合物
（１０）とアジ化ナトリウムを、アセトン、水、ＤＭ
Ｆ、ＤＭＡ、ＤＭＳＯなどの溶媒中−１０℃から用いる
溶媒の沸点の間の温度で反応させることにより化合物
（２）を得ることができる。

【００３８】さらに式［Ｉ−１］で表される安息香酸類
は、式［Ｉ−２］で表される４─Ｃｌ体に、塩基の存在
下にＲ’ＳＨで表されるメルカプタンを作用させること
によって、式［Ｉ−３］で表される４−ＳＲ’体とした
のち、酸化することにより製造することができる。ＳＯ
₂Ｒ’が４位以外に置換している場合も相当する位置の
クロル体から同様にして変換できる。

【００３９】

【化９】

【００４０】（式中、Ｒ¹およびＲは、前記と同じ意味
を表し、Ｒ’はＣ_1-4アルキル基を表す。）

【００４１】この反応に用いられる塩基としては、水酸
化ナトリウム，水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物、ナトリウムメトキシド，ナトリウムエトキシド等の
金属アルコキシド，炭酸ナトリウム，炭酸カリウム等の
炭酸塩、水素化ナトリウムなどの水素化物、トリエチル
アミン，ジイソプロピルエチルアミン，ＤＢＵ，ピリジ
ンなどの有機塩基を例示することができる。また、反応
に用いられる溶媒としては、メタノール，エタノールな
どのアルコール類、ＴＨＦ，ＤＭＥなどのエーテル類、
ＤＭＦ，ＤＭＡなどのアミド類、ＤＭＳＯ，アセトニト
リル，ベンゼン，トルエン，キシレン等を例示すること
ことができる。次の酸化反応は、水、酢酸等の有機酸、
ジクロロメタン，クロロホルム，四塩化炭素等のハロゲ
ン化炭化水素等の不活性溶媒中、過酸化水素，過酢酸，
過安息香酸，ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸、次亜塩
素酸ナトリウム，次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸等
の酸化剤を使用して行われる。反応は、室温から溶媒の
沸点までの温度範囲で円滑に進行する。

【００４２】化合物［Ｉ］が、遊離のヒドロキシル基を
含有している場合には、該化合物から、その塩、特に農
園芸的に許容され得る塩、エナミンまたはその類似物，
アシレート，スルホネート，カルバメート，エーテル，
チオエーテル，スルホキシドまたはスルホン等を誘導し
得る。適当な農園芸的に許容され得る塩として、ナトリ
ウム，カリウム, リチウム等のアルカリ金属の塩、マグ
ネシウム, カルシウム等のアルカリ土類金属の塩および
アンモニウム塩等が挙げられる。アンモニウム塩の例と
しては、式：Ｎ⁺ＲａＲｂＲｃＲｄ（式中、Ｒａ，Ｒ
ｂ，ＲｃおよびＲｄは、それぞれ独立して、水素およ
び、場合によりヒドロキシ基等により置換されたＣ_1-10
アルキル基である）のイオンとの塩が挙げられる。Ｒ
ａ，Ｒｂ，ＲｃおよびＲｄは、いずれかが、場合により
置換されたアルキル基である場合には、これらは１〜４
個の炭素原子を含有していることが望ましい。適当なエ
ナミンまたはその類似物は、ＯＨ部分がそれぞれ、式：
−ＮＲｅＲｆ（式中、ＲｅおよびＲｆは、それぞれ独立
して、水素または、例えば炭素数が１〜６個の、場合に
より置換されたアルキル基またはアリール基、例えばフ
ェニル基である。）、ハロゲン、Ｓ（Ｏ）ｇＲｈ（式
中：Ｒｈは、例えば炭素数が１〜６個の、場合により置
換されたアルキル基またはアリール基、例えばフェニル
基であり、ｇは０〜２を表す。）に転化されている化合
物である。適当なアシレート，エーテルまたはカルバメ
ート誘導体は、ＯＨ部分が、それぞれ、式：−ＯＣＯＲ
ｉ，−ＯＲｊまたは−ＯＣＯＮＲｋＲｌ（式中、Ｒｉお
よびＲｊは、前記のＲｈと同じ意味を表し、Ｒｋおよび
Ｒｌは、前記のＲｅと同じ意味を表す。）に転化されて
いる化合物である。これらの誘導体は、慣用の方法で製
造し得る。

【００４３】本発明化合物〔Ｉ〕には、光学活性体が存
在する場合もあり、さらに下記に示すような多数の互変
異性体の形で存在し得る。かかる形は、すべて本発明の
範囲に含まれる。

【００４４】

【化１０】

【００４５】本発明において、反応終了後は、通常の後
処理を行うことにより目的物を得ることができる。本発
明化合物の構造は、ＩＲ，ＮＭＲおよびＭＳ等から決定
した。

【００４６】〔除草剤〕本発明化合物は畑作条件で、土
壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示
し、アキノエノコログサ、エンバク、イチビ、イヌビユ
等の各種畑雑草に有効で、トウモロコシ、ムギ類、大
豆、ワタ等の作物に選択性を示す化合物も含まれてい
る。

【００４７】また、本発明化合物は、作物、観賞用植
物、果樹等の有用植物に対し、生育抑制作用等の植物成
長調節作用を示す化合物も含まれている。

【００４８】また、本発明化合物は、水田雑草のノビ
エ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等の各種水田雑
草に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示す
化合物も含まれている。さらに、本発明化合物は、果樹
園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用する
ことができる。本発明化合物には植物成長調節作用、殺
菌活性、殺虫・殺ダニ活性を有するものも含まれる。

【００４９】本発明除草剤は、本発明化合物の１種また
は２種以上を有効成分として含有する。本発明化合物を
実際に施用する際には、他成分を加えず純粋な形で使用
できるし、また農薬として使用する目的で一般の農薬の
とり得る形態、すなわち、水和剤，粒剤，粉剤，乳剤，
水溶剤，懸濁剤，フロアブル等の形態で使用することも
できる。添加剤および担体としては固型剤を目的とする
場合は、大豆粉，小麦粉等の植物性粉末、珪藻土，燐灰
石，石こう，タルク，ベントナイト，パイロフィライ
ト，クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ，尿素，
芒硝等の有機および無機化合物が使用される。液体の剤
型を目的とする場合は、ケロシン，キシレンおよびソル
ベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン，シクロヘ
キサノン，ＤＭＦ，ＤＭＳＯ，アルコール，アセトン，
トリクロルエチレン，メチルイソブチルケトン，鉱物
油，植物油，水等を溶剤として使用する。これらの製剤
において均一かつ安定な形態をとるために、必要ならば
界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤として
は、特に限定はないが、例えば、ポリオキシエチレンが
付加したアルキルフェニルエーテル，ポリオキシエチレ
ンが付加したアルキルエーテル，ポリオキシエチレンが
付加した高級脂肪酸エステル，ポリオキシエチレンが付
加したソルビタン高級脂肪酸エステル，ポリオキシエチ
レンが付加したトリスチリルフェニルエーテル等の非イ
オン性界面活性剤，ポリオキシエチレンが付加したアル
キルフェニルエーテルの硫酸エステル塩，アルキルベン
ゼンスルホン酸塩，高級アルコールの硫酸エステル塩，
アルキル硫酸塩，アルキルナフタレンスルホン酸塩，ポ
リカルボン酸塩，リグニンスルホン酸塩，アルキルナフ
タレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物，イソブ
チレン−無水マレイン酸の共重合物などが挙げられる。

【００５０】本発明除草剤における有効成分濃度は前述
した製剤の形により種々の濃度に変化するものである
が、例えば、水和剤においては、５〜９０重量％、好ま
しくは１０〜８５％：乳剤においては、３〜７０％、好
ましくは５〜６０％：粒剤においては、0.０１〜５０
％、好ましくは、0.０５％〜４０％の濃度が用いられ
る。

【００５１】このようにして得られた水和剤、乳剤は水
で所定の濃度に希釈して懸濁液或いは乳濁液として、粒
剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に散布処理もしく
は混和処理される。実際に本発明除草剤を適用するに当
たっては１ヘクタール当たり有効成分0.１ｇ以上の適当
量が施用される。

【００５２】また、本発明除草剤は公知の殺菌剤，殺虫
剤，殺ダニ剤，除草剤，植物成長調整剤，肥料等と混合
して使用することも出来る。特に、除草剤と混合使用す
ることにより、使用薬量を減少させることが可能であ
る。また、省力化をもたらすのみならず、混合薬剤の相
乗作用により一層高い効果も期待できる。その場合、複
数の公知除草剤との組合せも可能である。

【００５３】本発明除草剤と混合使用するにふさわしい
薬剤としては、ジフルフェニカン，プロパニル等のアニ
リド系除草剤、アラクロール，プレチラクロール等のク
ロロアセトアニリド系除草剤、２，４−Ｄ，２，４−Ｄ
Ｂ等のアリールオキシアルカン酸系除草剤、ジクロホッ
プ−メチル，フェノキサプロップ−エチル等のアリール
オキシフェノキシアルカン酸系除草剤、ジカンバ，ピリ
チオバック等のアリールカルボン酸系除草剤、イマザキ
ン，イマゼタピル等のイミダゾリノン系除草剤、ジウロ
ン，イソプロツロン等のウレア系除草剤、クロルプロフ
ァム，フェンメジファム等のカーバメート系除草剤、チ
オベンカルブ、ＥＰＴＣ等のチオカーバメート系除草
剤、トリフルラリン，ペンジメタリン等のジニトロアニ
リン系除草剤、アシフルオルフェン、ホメサフェン等の
ジフェニルエーテル系除草剤、ベンスルフロン−メチ
ル、ニコスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、メ
トリブジン、メタミトロン等のトリアジノン系除草剤、
アトラジン、シアナジン等のトリアジン系除草剤、フル
メツラム等のトリアゾピリミジン系除草剤、ブロモキシ
ニル、ジクロベニル等のニトリル系除草剤、グリホサー
ト、グリホシネート等のリン酸系除草剤、パラコート、
ジフェンゾコート等の４級アンモニウム塩系除草剤、フ
ルミクロラック−ペンチル、フルチアセット−メチル等
の環状イミド系除草剤、その他として、イソキサベン、
エトフメセート、オキサジアゾン、キンクロラック、ク
ロマゾン、スルコトリオン、シンメチリン、ジチオピ
ル、ピラゾレート、ピリデート、フルポキサム、ベンタ
ゾン、ベンフルセート、更に、セトキシジム、トラルコ
キシジム等のシクロヘキサンジオン系除草剤等が挙げら
れる。また、これらの組み合わせた物に植物油及び油濃
縮物を添加することも出来る。

【００５４】

【実施例】次に実施例、参考例を挙げて、本発明化合物
を更に詳細に説明する。

【００５５】実施例１２−［２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−（２−
メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾイル］シクロヘ
キサン−１，３−ジオン（化合物番号ＩＩ−５）の製造

【００５６】

【化１１】

【００５７】ベンゼン２０ｍｌに、２−クロロ−４−メ
チルスルホニル−３−（２−メチルテトラゾール−５−
イル）ベンゾイックアシッド0.８０ｇ、チオニルクロリ
ド1.５ｇおよびピリジン一滴を加え、２時間加熱還流し
た。ベンゼンを減圧留去した後、ジクロロメタン２０ｍ
ｌに溶解した。この溶液を１，３−シクロヘキサンジオ
ン0.３５ｇとトリエチルアミン0.３０ｇの塩化メチレン
２０ｍｌ溶液に室温で滴下して、さらに室温で２時間攪
拌した。反応混合物を１規定の塩酸水、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留
去した。残留物をアセトニトリル２０ｍｌに溶解し、ト
リエチルアミン0.３０ｇとアセトンシアンヒドリン0.１
０ｇを加え、室温で１６時間攪拌した。溶媒を減圧下留
去した後、残留物をジクロロメタン0.１０ｇを加え、室
温で１６時間攪拌した。溶媒を減圧下留去した後、残留
物をジクロロメタンに溶解し、１Ｎ−水酸化ナトリウム
水溶液で抽出した。得られた水層を濃塩酸で酸性とし、
酢酸エチルで抽出して、水洗、飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。
粗製物にメタノールを加え、得られた結晶を濾別して、
結晶として、目的物0.６５ｇを得た。ｍ．ｐ．２０５−
２０６℃

【００５８】参考例１２，４−ジクロロ−３−（１−メチルテトラゾール−５
−イル）ベンゾイックアシッドの製造

【００５９】

【化１２】

【００６０】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッドメチルアミド２5.１ｇ、五塩化
リン２0.９ｇをベンゼン３００ｍｌに加え、１時間４５
分間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸分を減
圧留去して得た粗製イミドイルクロリドをＤＭＦ２００
ｍｌに溶解し、室温下に９０％アジ化ナトリウム7.２４
ｇを添加した。添加後、室温で６０時間、８０℃で１０
時間攪拌した。冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、結晶を含
む油状物質を得た。酢酸エチルで結晶を濾別後、濾液を
濃縮して得た油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）で精製し
て、結晶として、メチル２，４−ジクロロ−３−（１
−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート１0.７
ｇを得た。ｍ．ｐ．１０９−１１０℃メチル２，４−
ジクロロ−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）
ベンゾエート4.０ｇをエタノール４２ｍｌに加え、１Ｎ
−水酸化ナトリウム水溶液４1.７ｍｌを加えた後、室温
で２２時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去して
得られた残留物を水に溶解し、冷却下に酢酸エチルで洗
浄した。水層は、濃塩酸で酸性とし、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、結晶とし
て目的物3.６４ｇを得た。ｍ．ｐ．２３２−２３５℃

【００６１】参考例２２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニルベンゾイッ
クアシッドメチルアミドの製造

【００６２】

【化１３】

【００６３】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド３0.０ｇ、塩化チオニル７1.４
ｇをベンゼン３００ｍｌに加え、数滴のピリジンを添加
後、２時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸
物を減圧下に留去して、得られた残留物をアセトニトリ
ル２００ｍｌに溶解し、氷冷下にメチルアミン塩酸塩8.
９ｇ、次いでトリエチルアミン２6.６ｇを添加後、２時
間加熱還流した。冷却後、アセトニトリルを減圧留去し
て、得られた残留物をクロロホルムに溶解し、水洗およ
び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して、得られた結晶を酢酸エチルで
洗浄して、目的物２5.１２ｇを得た。

【００６４】参考例３２，４−ジクロロ−３−（２−メチルテトラゾール−５
−イル）ベンゾイックアシッドの製造

【００６５】

【化１４】

【００６６】２，４−ジクロロ−３−（テトラゾール−
５−イル）ベンゾイックアシッド3.３ｇをＤＭＦ２０ｍ
ｌに溶解し、炭酸カリウム3.７ｇおよび沃化メチル3.８
ｇを添加後、１００℃で２時間攪拌した。反応液は、冷
却後水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和
食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル
＝７／３）で精製して、メチル２，４−ジクロロ−３
−（２−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート
1.５１ｇを得た。メチル２，４−ジクロロ−３−（２
−メチルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート1.９１
ｇをエタノール２０ｍｌに添加し、１Ｎ−水酸化ナトリ
ウム水溶液２０ｍｌを加えて、室温で１５時間攪拌し
た。参考例１と同様の後処理を行い、結晶として目的物
1.５１ｇを得た。ｍ．ｐ．２１４−２１７℃

【００６７】参考例４メチル２−クロロ−３−（２−メチルテトラゾール−
５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾエートの製造

【００６８】

【化１５】

【００６９】メチル２，４−ジクロロ−３−（２−メ
チルテトラゾール−５−イル）ベンゾエート7.４６ｇと
炭酸カリウム3.９３ｇを６０ｍｌのＤＭＦに溶解し、メ
タンチオール1.８６ｇを溶解したＤＭＦ２０ｍｌを加
え、室温で１7.５時間、ついで４０℃で2.５時間攪拌し
た。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽
和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を減圧下留去した。得られた粗製メチル２−クロロ−
３−（２−メチルテトラゾール−５−イル）−４−メチ
ルスルフェニルベンゾエート体を１５０ｍｌのクロロホ
ルムに溶解し、ｍ−クロロ過安息香酸２4.３ｇ（純度５
５％）を加え、室温で１８時間攪拌した。反応混合物を
濾過し、濾液を１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液、次いで
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧下留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）
で精製し、白色結晶として目的物4.６６ｇを得た。ｍ．
ｐ．１５０−１５１℃

【００７０】参考例５２−クロロ−３−（２−メチルテトラゾール−５−イ
ル）−４−メチルスルホニルベンゾイックアシッドの製
造

【００７１】

【化１６】

【００７２】メチル２−クロロ−３−（２−メチルテ
トラゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾ
エート4.６６ｇをエタノール４２ｍｌに添加し、１Ｎ−
水酸化ナトリウム水溶液４２ｍｌを加えて、室温で１５
時間攪拌した。参考例１と同様の後処理を行い、結晶と
して、目的物4.１ｇを得た。ｍ．ｐ．２０１−２０２℃ 同様にして、２−クロロ−３−（１−メチルテトラゾー
ル−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾイックア
シッドを粉末で得た。¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ）３．２０（３Ｈ，ｓ），３．９６（３Ｈ，ｓ），８．２
７（１Ｈ，ｄ），８．３３（１Ｈ，ｄ），９．２７（１
Ｈ，ｂｓ）

【００７３】参考例６２，４−ジクロロ−３−（テトラゾール−５−イル）ベ
ンゾイックアシッドの製造

【００７４】

【化１７】

【００７５】メチル３−［１−（２−シアノエチル）
テトラゾール−５−イル］−２，４−ジクロロベンゾエ
ート5.６ｇをエタノール１００ｍｌに加え、１Ｎ−水酸
化ナトリウム水溶液１００ｍｌを加えた後、室温で１５
時間攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去して、得ら
れた残留物を水に溶解し、１Ｎ−塩酸で酸性とした後、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧
留去して、結晶として目的物4.４ｇを得た。ｍ．ｐ．２
３５−２３８℃

【００７６】参考例７メチル３−［１−（２−シアノエチル）テトラゾール
−５−イル］−２，４−ジクロロベンゾエートの製造

【００７７】

【化１８】

【００７８】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド２−シアノエチルアミド４3.
２ｇ、五塩化リン３2.９ｇをベンゼン５００ｍｌに加
え、１時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低沸
分を減圧留去して得た粗製イミドイルクロリドを、ＤＭ
Ｆ３００ｍｌに溶解し、室温下に、９０％アジ化ナトリ
ウム１1.４ｇを添加した。添加後、８０℃で１７時間攪
拌した。冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水洗、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた粗製
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン／酢酸エチル＝７／３）で精製して、目的物5.６ｇを
得た。

【００７９】参考例８２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニルベンゾイッ
クアシッド２−シアノエチルアミドの製造

【００８０】

【化１９】

【００８１】２，６−ジクロロ−３−メトキシカルボニ
ルベンゾイックアシッド３8.０ｇ、塩化チオニル９0.８
ｇをベンゼン４００ｍｌに加え、数滴のピリジンを添加
後、1.５時間加熱還流した。冷却後、ベンゼンおよび低
沸物を減圧下に留去して、得られた残留物をアセトニト
リル２５０ｍｌに溶解し、氷冷下に、２−シアノエチル
アミン２1.４ｇを滴下後、さらに、室温で１７時間攪拌
した。冷却後、アセトニトリルを減圧留去後、得られた
残留物をクロロホルムに溶解し、水洗および飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去して、目的物４3.２ｇを得た。

【００８２】上記実施例を含め、本発明化合物の代表例
を第１表〜第４表に示す。

【００８３】

【表１０１】

【００８４】

【表１０２】

【００８５】

【表１０３】

【００８６】

【表１０４】

【００８７】

【表１０５】

【００８８】

【表２０１】

【００８９】

【表２０２】

【００９０】

【表２０３】

【００９１】

【表２０４】

【００９２】

【表２０５】

【００９３】

【表２０６】

【００９４】

【表３０１】

【００９５】

【表３０２】

【００９６】

【表３０３】

【００９７】

【表４０１】

【００９８】

【表４０２】

【００９９】〔除草剤〕次に、本発明除草剤に関する製
剤例を若干示すが、有効成分化合物、添加物及び添加割
合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で
変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。

【０１００】実施例２水和剤本発明化合物２０部ホワイトカーボン２０部ケイソウ土５２部アルキル硫酸ソーダ８部以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分２０％の
水和剤を得た。

【０１０１】実施例３乳剤本発明化合物２０部キシレン５５部ジメチルホルムアミド１５部ポリオキシエチレンフェニルエーテル１０部以上を混合、溶解して有効成分２０％の乳剤を得た。

【０１０２】実施例４粒剤本発明化合物５部タルク４０部クレー３８部ベントナイト１０部アルキル硫酸ソーダ７部以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.５〜1.０ｍ
ｍの粒状に造粒して有効成分５％の粒剤を得た。

【０１０３】

【発明の効果】次に本発明除草剤の効果に関する試験例
を示す。除草効果は下記の調査基準に従って調査し、殺
草指数で表した。

【０１０４】調査基準殺草率殺草指数０％０２０〜２９％２４０〜４９％４６０〜６９％６８０〜８９％８１００％１０また、１、３、５、７、９の数値は、各々０と２、２と
４、４と６、６と８、８と１０の中間の値を示す。

【０１０５】

【数１】

【０１０６】試験例１茎葉散布処理２００ｃｍ²のポットに土壌を充填し、表層にイチビ，
イヌビユ，オナモミ，アキノエノコログサ及びトウモロ
コシの各種子を播き、軽く覆土後温室内で生育させた。
各植物が５〜２５ｃｍの草丈に生育した時点で実施例３
に示した乳剤の水希釈液を、有効成分が所定の薬量にな
るように１０００リットル／ｈａの散布量相当量で、小
型噴霧器にて茎葉部に散布した。３週間後に作物の薬害
及び雑草の除草効果を前記調査基準に従って調査し、そ
の結果を第５表に示した。

【０１０７】

【表５】

フロントページの続き (72)発明者古口正巳神奈川県小田原市高田345 日本曹達株式会社小田原研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式〔Ｉ〕【化１】［式中、Ｒ¹ ，Ｒ²は、それぞれ独立して、ニトロ，シ
アノ，ハロゲン，Ｃ_1-4アルキル，Ｃ_1-4 アルコキシ，
Ｃ_1-4 ハロアルキル，Ｃ_1-4 アルキルチオ，Ｃ_1-4 アル
キルスルフィニル，またはＣ_1-4 アルキルスルホニルを
表す。Ｒ³ は、水素，またはＣ_1-4 アルキルを表す。Ｒ
⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、それぞれ独
立して、水素，シアノ，ホルミル，ハロゲン，Ｃ_1-4 ア
ルキル，Ｃ_1-4 ハロアルキル，Ｃ_1-4 アルコキシ，Ｃ
_1-4 ハロアルコキシ，Ｃ_1-4 アルキルチオ，Ｃ_1-4 アル
キルスルフィニル，Ｃ_1-4 アルキルスルホニル，Ｃ_1-4
アルキルチオＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルキルスルフィ
ニルＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 アルキルスルホニルＣ_1-4
アルキル，Ｃ_1-4 アルコキシＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 ア
ルキルカルボニルオキシＣ_1-4 アルキル，ヒドロキシＣ
_1-4 アルキル，ジＣ_1-4 アルコキシＣ_1-4 アルキル，Ｃ
_1-4 アルコキシカルボニル，ヒドロキシイミノＣ_1-4 ア
ルキル，Ｃ_1-4 アルコキシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ
_2-4 アルケニルオキシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ_2-4ア
ルキニルオキシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ_1-4 ハロアル
コキシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ_2-4 ハロアルケニルオ
キシイミノＣ_1-4 アルキル，Ｃ_2-4 ハロアルキニルオキ
シイミノＣ_1-4 アルキル，置換されていてもよいフェニ
ル，置換されていてもよいフェニルチオＣ_1-4 アルキ
ル，置換されていてもよいフェニルスルフィニルＣ_1-4
アルキル，置換されていてもよいフェニルスルホニルＣ
_1-4 アルキル，または置換されていてもよいフェニルＣ
_1-4 アルキルオキシＣ_1-4 アルキルを表す。また、（Ｒ
⁴ とＲ⁵ ）、（Ｒ⁶ とＲ⁷ ）または（Ｒ⁸ とＲ⁹ ）は、
それぞれ一緒になってオキソまたはＣ_2-4のアルキレン
鎖を形成していてもよく、さらにＲ⁵ とＲ⁷ は一緒にな
ってメチレンまたはＣ_2-4 のアルキレン鎖を形成しても
よい。］で表されるベンゼン誘導体またはその塩。
【請求項２】一般式〔Ｉ〕【化２】（式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ ，Ｒ⁴ ，Ｒ⁵ ，Ｒ⁶ ，Ｒ⁷ ，
Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、前記と同じ意味を表す。）で表され
る化合物もしくはその塩の１種または２種以上を有効成
分として含有することを特徴とする除草剤。