JPH11209358A - アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 - Google Patents

アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法

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JPH11209358A
JPH11209358A JP10009959A JP995998A JPH11209358A JP H11209358 A JPH11209358 A JP H11209358A JP 10009959 A JP10009959 A JP 10009959A JP 995998 A JP995998 A JP 995998A JP H11209358 A JPH11209358 A JP H11209358A
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JP
Japan
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aminomercapto
acetonitrile
thiadiazole
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JP10009959A
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English (en)
Inventor
Shinichi Ichikawa
慎一 市川
Shigeo Hirano
茂夫 平野
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾー
ル化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】チオセミカルバジド化合物とチオカルボニ
ルジイミダゾールとの反応により得られた下記式イミダ
ゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド化合物(1)
を前駆体とする、アミノメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール化合物(2)の製造方法。 【化1】 (式中、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアミノメルカプト−
1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法に関する
ものである。アミノメルカプト−1,3,4−チアジア
ゾール化合物は、特にハロゲン化銀写真感光材料分野に
おいて、カブリ防止剤、現像促進剤などとして非常に有
用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】アミノメルカプト−1,3,4−チアジ
アゾール化合物の合成方法としては、ヒドラジノジチオ
カルバミド化合物の酸性条件下による閉環反応により合
成する方法が一般的に知られている。また、ヒドラジノ
ジチオカルバミドと二硫化炭素の共存下による合成(Bo
ll. Chim. Farm. (1979),391−6.、J. Ind
ian Chem. Soc.(1967),145−7.)、ヒドラ
ジウム塩とチオホスゲンを水中で反応させて合成する方
法(Den. Act. Chem. Scand., B(1976)71−8
2.)、などが報告されている。しかし、これらの合成
法は、例えば、アミノ基に置換基を有する化合物の合成
では、非対称のヒドラジノジチオカルバミド化合物を用
いる必要があり、この場合環化形態の異なる副生物生成
の回避が困難であったり、また、収率的にも十分でない
などの問題点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】対称型のアミノメルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール化合物の他に、一方
のアミノ基に置換基を有する非対称型アミノメルカプト
−1,3,4−チアジアゾールの製造においても、副生
物の生成がなく、高収率で得ることができる製造方法を
提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決すべく
鋭意検討を行い、ヒドラジノジチオカルバミド化合物の
一方のアミノ基に脱離性に優れたイミダゾール基を導入
することにより、環化形態の異なる副生物がなく、収率
的にも優れた合成法を見出し、本発明に至った。すなわ
ち、チオセミカルバジド化合物とチオカルボニルジイミ
ダゾールとの反応により得られた下記式イミダゾリノチ
オカルボニルチオセミカルバジド化合物(1)を前駆体
とすることを特徴とする、アミノメルカプト−1,3,
4−チアジアゾール化合物(2)の製造方法である。
【0005】
【化2】
【0006】(式中、Rはアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表す。)
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の化合物の製造方法につい
て詳細に説明する。本発明で用いられる前駆体ヒドラジ
ノジチオカルバミド化合物の置換基Rにおけるアルキル
基としては例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−ヘキシル基,n−オクチル基を表し、アリール
基としては、フェニル基、ナフチル基を表し、アラルキ
ル基としてはベンジル基、フェネチル基を表す。また、
Rはさらにアルキル基、アリール基、アラルキル基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、ハロゲ
ン原子等で置換されていてもよい。
【0008】次にイミダゾリノチオカルボニルチオセミ
カルバジド化合物(1)及びアミノメルカプト−1,
3,4−チアジアゾール化合物(2)の製造法について
詳細に説明する。本発明のイミダゾリノチオカルボニル
チオセミカルバジド化合物(1)はスキーム1のように
チオセミカルバジド化合物とチオカルボニルジイミダゾ
ールとの反応によって容易に得ることができる。 スキーム1
【0009】
【化3】
【0010】(スキーム中、Rは式(I)と同義であ
り、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。)
【0011】スキーム1の反応において、チオカルボニ
ルジイミダゾールはチオセミカルバジド化合物に対して
当モル〜1.5倍モル用いるのがよく、好ましくは1.
1〜1.3倍モル用いるのがよい。スキーム1の反応に
おいて用いられる溶媒としては、反応に関与しない限り
は特に制限はないが、アセトニトリル、DMAc等を用
いると有利に進行する。反応物の取り出しの観点からア
セトニトリルを用いるのがより好ましい。
【0012】この反応において、チオセミカルバジド化
合物とチオカルボニルジイミダゾールの混合時は低温で
行い、その後加温させることにより円滑に反応を進行さ
せることができる。高収率化のためには、混合時は−4
〜−6℃、混合後は室温で反応させるのが好ましい。
【0013】次にアミノメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール(2)の製造法について説明する。スキーム
1で得られたイミダゾリノチオカルボニルチオセミカル
バジド化合物(1)を前駆体として、スキーム2のよう
に酸性条件下で環化させることによりアミノメルカプト
−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)を得ること
ができる。 スキーム2
【0014】
【化4】
【0015】(スキーム中、Rは式(I)と同義であ
り、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。)
【0016】スキーム2で表されるイミダゾリノチオカ
ルボニルチオセミカルバジド(1)の化合物の環化によ
るアミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合
物(2)の合成のためには酸を用いるのがよく、用いる
酸としてはポリリン酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸
などが挙げられ、ポリリン酸が特に好ましい。使用量は
イミダゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド1モル
に対して500〜1200gが好ましく、さらに好まし
くは800〜1000gである。
【0017】使用する溶媒としては、アセトニトリル、
DMAc等を用いることができるが無溶媒で行うのが好
ましい。また反応温度としては40℃〜80℃で行うの
がよく、好ましくは50℃〜60℃である。
【0018】反応後の取り出しは、反応混合物に水を加
えることによって容易に濾取により単離することができ
る。以下に、上記製造法で合成されたイミダゾリノチオ
カルボニルチオセミカルバジド化合物(1)及びアミノ
メルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)
の具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定される
ものではない。
【0019】
【表1】
【0020】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【0021】合成例1(化合物1−1の合成) 三口フラスコにチオカルボニルジイミダゾール5.2g
(29ミリモル)とアセトニトリル100mlを加え、
よく攪拌しながら氷−メタノールで冷却した。内温を−
4〜−6℃に保ちながら4−フェニル−3−チオセミカ
ルバジド4.0g(24ミリモル)のアセトニトリル溶
液(100ml)を滴下した。滴下後、室温で2時間反
応させ、アセトニトリルを減圧留去することによりオイ
ル状の生成物を得た。酢酸エチル50mlを加えて晶析
させ1時間攪拌後減圧濾取し4−フェニルイミダゾリノ
チオカルボニルチオセミカルバジド5.2gを得た(収
率79%)。
【0022】合成例2(化合物1−3の合成) 三口フラスコにチオカルボニルジイミダゾール5.2g
(29ミリモル)とアセトニトリル100mlを加え、
よく攪拌しながら氷ーメタノールで冷却した。内温を−
4〜−6℃に保ちながら4−エチル−3−チオセミカル
バジド2.9g(24ミリモル)のアセトニトリル溶液
(100ml)を滴下した。滴下後、室温で2時間反応
させ、アセトニトリルを減圧留去することによりオイル
状の生成物を得た。酢酸エチル50mlを加えて晶析さ
せ、1時間攪拌後減圧濾取し4−エチルイミダゾリノチ
オカルボニルチオセミカルバジド4.5gを得た(収率
82%)。
【0023】合成例3(化合物2−1の合成) 三口フラスコに4−フェニルイミダゾリノチオカルボニ
ルチオセミカルバジド2.0g(7.2ミリモル)とポ
リリン酸6gを加え、窒素気流下、60℃で30分間攪
拌させた。水100mlを添加して室温で30分間攪拌
させ、析出した結晶を濾取し、水、続いてアセトニトリ
ルでかけ洗いした。得られた粗結晶1.4g(粗収率9
3%)をエタノール5mlから再結晶し、2−メルカプ
ト−5−フェニル−1,3,4−チアジアゾール1.3
g(収率85%)を得た。融点210〜211℃。
【0024】合成例4(化合物2−12の合成) 三口フラスコに7−〔3−(4−イミダゾリノチオカル
ボニルチオセミカルバジド)ベンズアミド〕−10−プ
ロパルギル−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジニ
ウム トリフロロメタンスルホネート5.0g(72ミ
リモル)とポリリン酸7gを加え、窒素気流下、拌させ
た。水100mlを添加して室温で30分間攪拌させ、
析出した結晶を濾取し、水、続いてアセトニトリルでか
け洗いした。得られた結晶にアセトニトリル25mlと
0.2mlのトリフロロメタンメタンスルホン酸を加え
て10分間攪拌させた。不溶物を濾去して30℃以下で
濾液を減圧留去し、20mlのエーテルを加えて析出し
た結晶を濾取、エーテルでかけ洗いし、7−〔3−(2
−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール−5−イル
アミノ)ベンズアミド〕−10−プロパルギル−1,
2,3,4−テトラヒドロアクリジニウム トリフロロ
メタンスルホネート0.2g(収率63%)を得た。融
点235〜237℃
【0025】比較合成例(化合物2−1の比較例) 三口フラスコにモノフェニルヒドラジノジチオカルバミ
ド2.3g(10ミリモル)とポリリン酸8gを加え、
窒素気流下、70℃で3時間攪拌させた。水100ml
を添加して室温で30分間攪拌させ、析出した結晶を濾
取し、水、続いてアセトニトリルでかけ洗いした。薄層
クロマトグラフィーにより、目的物2−メルカプト−5
−フェニルアミノ−1,3,4−チアジアゾールと副生
物5−アミノ−2−メルカプト−1,3,4−チアジア
ゾールがほぼ1:1の比率で生成していることがわかっ
た。得られた粗結晶0.5g(粗収率24%)をエタノ
ール2mlから再結晶し、2−メルカプト−5−フェニ
ルアミノ−1,3,4−チアジアゾール0.4g(収率
19%)を得た。210〜211℃。この比較合成例の
スキームを以下に示す。 スキーム3
【0026】
【化5】
【0027】
【発明の効果】イミダゾリノチオカルボニルチオセミカ
ルバジドを用いて、酸性条件下閉環反応によりアミノメ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾールを合成する方法
において、非対称のヒドラジノジチオカルバミドを用い
た場合に起こる環化形態の異なる副生物の生成がなく、
高収率で目的物を得ることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チオセミカルバジド化合物とチオカルボ
    ニルジイミダゾールとの反応により得られた下記式イミ
    ダゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド化合物
    (1)を前駆体とすることを特徴とする、アミノメルカ
    プト−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)の製造
    方法。 【化1】 (式中、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基を
    表す。)
JP10009959A 1998-01-21 1998-01-21 アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 Pending JPH11209358A (ja)

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JP10009959A JPH11209358A (ja) 1998-01-21 1998-01-21 アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法

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JP (1) JPH11209358A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2003011276A1 (ja) * 2001-07-26 2004-11-18 株式会社エムズサイエンス NFκB阻害剤

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPWO2003011276A1 (ja) * 2001-07-26 2004-11-18 株式会社エムズサイエンス NFκB阻害剤

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