JPH11209358A - アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 - Google Patents
アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH11209358A JPH11209358A JP10009959A JP995998A JPH11209358A JP H11209358 A JPH11209358 A JP H11209358A JP 10009959 A JP10009959 A JP 10009959A JP 995998 A JP995998 A JP 995998A JP H11209358 A JPH11209358 A JP H11209358A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- aminomercapto
- acetonitrile
- thiadiazole
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 aminomercapto-1,3,4-thiadiazole compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- RAFNCPHFRHZCPS-UHFFFAOYSA-N di(imidazol-1-yl)methanethione Chemical compound C1=CN=CN1C(=S)N1C=CN=C1 RAFNCPHFRHZCPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 45
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 10
- MCEZDOFEOWFIIH-UHFFFAOYSA-N s-(1,3,4-thiadiazol-2-yl)thiohydroxylamine Chemical compound NSC1=NN=CS1 MCEZDOFEOWFIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 6
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 abstract description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- KCOYHFNCTWXETP-UHFFFAOYSA-N (carbamothioylamino)thiourea Chemical compound NC(=S)NNC(N)=S KCOYHFNCTWXETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Substances OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XCRNRYWRXNGRHQ-UHFFFAOYSA-N 1-(carbamothioylamino)-1-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NN(C(N)=S)C1=CC=CC=C1 XCRNRYWRXNGRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYYTGUCWARUCL-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-ethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NN SKYYTGUCWARUCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKIGUVBJOHCXSP-UHFFFAOYSA-N 4-phenylthiosemicarbazide Chemical compound NNC(=S)NC1=CC=CC=C1 KKIGUVBJOHCXSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound NC1=NN=C(S)S1 GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOJLJKMUGYYKCZ-UHFFFAOYSA-N 5-anilino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound S1C(=S)NN=C1NC1=CC=CC=C1 BOJLJKMUGYYKCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTLMHGOWADYAHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound S1C(S)=NN=C1C1=CC=CC=C1 ZTLMHGOWADYAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical class NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- ZWZVWGITAAIFPS-UHFFFAOYSA-N thiophosgene Chemical compound ClC(Cl)=S ZWZVWGITAAIFPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾー
ル化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】チオセミカルバジド化合物とチオカルボニ
ルジイミダゾールとの反応により得られた下記式イミダ
ゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド化合物(1)
を前駆体とする、アミノメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール化合物(2)の製造方法。 【化1】 (式中、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。)
ル化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】チオセミカルバジド化合物とチオカルボニ
ルジイミダゾールとの反応により得られた下記式イミダ
ゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド化合物(1)
を前駆体とする、アミノメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール化合物(2)の製造方法。 【化1】 (式中、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアミノメルカプト−
1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法に関する
ものである。アミノメルカプト−1,3,4−チアジア
ゾール化合物は、特にハロゲン化銀写真感光材料分野に
おいて、カブリ防止剤、現像促進剤などとして非常に有
用な化合物である。
1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法に関する
ものである。アミノメルカプト−1,3,4−チアジア
ゾール化合物は、特にハロゲン化銀写真感光材料分野に
おいて、カブリ防止剤、現像促進剤などとして非常に有
用な化合物である。
【0002】
【従来の技術】アミノメルカプト−1,3,4−チアジ
アゾール化合物の合成方法としては、ヒドラジノジチオ
カルバミド化合物の酸性条件下による閉環反応により合
成する方法が一般的に知られている。また、ヒドラジノ
ジチオカルバミドと二硫化炭素の共存下による合成(Bo
ll. Chim. Farm. (1979),391−6.、J. Ind
ian Chem. Soc.(1967),145−7.)、ヒドラ
ジウム塩とチオホスゲンを水中で反応させて合成する方
法(Den. Act. Chem. Scand., B(1976)71−8
2.)、などが報告されている。しかし、これらの合成
法は、例えば、アミノ基に置換基を有する化合物の合成
では、非対称のヒドラジノジチオカルバミド化合物を用
いる必要があり、この場合環化形態の異なる副生物生成
の回避が困難であったり、また、収率的にも十分でない
などの問題点があった。
アゾール化合物の合成方法としては、ヒドラジノジチオ
カルバミド化合物の酸性条件下による閉環反応により合
成する方法が一般的に知られている。また、ヒドラジノ
ジチオカルバミドと二硫化炭素の共存下による合成(Bo
ll. Chim. Farm. (1979),391−6.、J. Ind
ian Chem. Soc.(1967),145−7.)、ヒドラ
ジウム塩とチオホスゲンを水中で反応させて合成する方
法(Den. Act. Chem. Scand., B(1976)71−8
2.)、などが報告されている。しかし、これらの合成
法は、例えば、アミノ基に置換基を有する化合物の合成
では、非対称のヒドラジノジチオカルバミド化合物を用
いる必要があり、この場合環化形態の異なる副生物生成
の回避が困難であったり、また、収率的にも十分でない
などの問題点があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】対称型のアミノメルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール化合物の他に、一方
のアミノ基に置換基を有する非対称型アミノメルカプト
−1,3,4−チアジアゾールの製造においても、副生
物の生成がなく、高収率で得ることができる製造方法を
提供することにある。
プト−1,3,4−チアジアゾール化合物の他に、一方
のアミノ基に置換基を有する非対称型アミノメルカプト
−1,3,4−チアジアゾールの製造においても、副生
物の生成がなく、高収率で得ることができる製造方法を
提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決すべく
鋭意検討を行い、ヒドラジノジチオカルバミド化合物の
一方のアミノ基に脱離性に優れたイミダゾール基を導入
することにより、環化形態の異なる副生物がなく、収率
的にも優れた合成法を見出し、本発明に至った。すなわ
ち、チオセミカルバジド化合物とチオカルボニルジイミ
ダゾールとの反応により得られた下記式イミダゾリノチ
オカルボニルチオセミカルバジド化合物(1)を前駆体
とすることを特徴とする、アミノメルカプト−1,3,
4−チアジアゾール化合物(2)の製造方法である。
鋭意検討を行い、ヒドラジノジチオカルバミド化合物の
一方のアミノ基に脱離性に優れたイミダゾール基を導入
することにより、環化形態の異なる副生物がなく、収率
的にも優れた合成法を見出し、本発明に至った。すなわ
ち、チオセミカルバジド化合物とチオカルボニルジイミ
ダゾールとの反応により得られた下記式イミダゾリノチ
オカルボニルチオセミカルバジド化合物(1)を前駆体
とすることを特徴とする、アミノメルカプト−1,3,
4−チアジアゾール化合物(2)の製造方法である。
【0005】
【化2】
【0006】(式中、Rはアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基を表す。)
ラルキル基を表す。)
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の化合物の製造方法につい
て詳細に説明する。本発明で用いられる前駆体ヒドラジ
ノジチオカルバミド化合物の置換基Rにおけるアルキル
基としては例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−ヘキシル基,n−オクチル基を表し、アリール
基としては、フェニル基、ナフチル基を表し、アラルキ
ル基としてはベンジル基、フェネチル基を表す。また、
Rはさらにアルキル基、アリール基、アラルキル基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、ハロゲ
ン原子等で置換されていてもよい。
て詳細に説明する。本発明で用いられる前駆体ヒドラジ
ノジチオカルバミド化合物の置換基Rにおけるアルキル
基としては例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−ヘキシル基,n−オクチル基を表し、アリール
基としては、フェニル基、ナフチル基を表し、アラルキ
ル基としてはベンジル基、フェネチル基を表す。また、
Rはさらにアルキル基、アリール基、アラルキル基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、ハロゲ
ン原子等で置換されていてもよい。
【0008】次にイミダゾリノチオカルボニルチオセミ
カルバジド化合物(1)及びアミノメルカプト−1,
3,4−チアジアゾール化合物(2)の製造法について
詳細に説明する。本発明のイミダゾリノチオカルボニル
チオセミカルバジド化合物(1)はスキーム1のように
チオセミカルバジド化合物とチオカルボニルジイミダゾ
ールとの反応によって容易に得ることができる。 スキーム1
カルバジド化合物(1)及びアミノメルカプト−1,
3,4−チアジアゾール化合物(2)の製造法について
詳細に説明する。本発明のイミダゾリノチオカルボニル
チオセミカルバジド化合物(1)はスキーム1のように
チオセミカルバジド化合物とチオカルボニルジイミダゾ
ールとの反応によって容易に得ることができる。 スキーム1
【0009】
【化3】
【0010】(スキーム中、Rは式(I)と同義であ
り、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。)
り、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。)
【0011】スキーム1の反応において、チオカルボニ
ルジイミダゾールはチオセミカルバジド化合物に対して
当モル〜1.5倍モル用いるのがよく、好ましくは1.
1〜1.3倍モル用いるのがよい。スキーム1の反応に
おいて用いられる溶媒としては、反応に関与しない限り
は特に制限はないが、アセトニトリル、DMAc等を用
いると有利に進行する。反応物の取り出しの観点からア
セトニトリルを用いるのがより好ましい。
ルジイミダゾールはチオセミカルバジド化合物に対して
当モル〜1.5倍モル用いるのがよく、好ましくは1.
1〜1.3倍モル用いるのがよい。スキーム1の反応に
おいて用いられる溶媒としては、反応に関与しない限り
は特に制限はないが、アセトニトリル、DMAc等を用
いると有利に進行する。反応物の取り出しの観点からア
セトニトリルを用いるのがより好ましい。
【0012】この反応において、チオセミカルバジド化
合物とチオカルボニルジイミダゾールの混合時は低温で
行い、その後加温させることにより円滑に反応を進行さ
せることができる。高収率化のためには、混合時は−4
〜−6℃、混合後は室温で反応させるのが好ましい。
合物とチオカルボニルジイミダゾールの混合時は低温で
行い、その後加温させることにより円滑に反応を進行さ
せることができる。高収率化のためには、混合時は−4
〜−6℃、混合後は室温で反応させるのが好ましい。
【0013】次にアミノメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール(2)の製造法について説明する。スキーム
1で得られたイミダゾリノチオカルボニルチオセミカル
バジド化合物(1)を前駆体として、スキーム2のよう
に酸性条件下で環化させることによりアミノメルカプト
−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)を得ること
ができる。 スキーム2
ジアゾール(2)の製造法について説明する。スキーム
1で得られたイミダゾリノチオカルボニルチオセミカル
バジド化合物(1)を前駆体として、スキーム2のよう
に酸性条件下で環化させることによりアミノメルカプト
−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)を得ること
ができる。 スキーム2
【0014】
【化4】
【0015】(スキーム中、Rは式(I)と同義であ
り、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。)
り、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。)
【0016】スキーム2で表されるイミダゾリノチオカ
ルボニルチオセミカルバジド(1)の化合物の環化によ
るアミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合
物(2)の合成のためには酸を用いるのがよく、用いる
酸としてはポリリン酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸
などが挙げられ、ポリリン酸が特に好ましい。使用量は
イミダゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド1モル
に対して500〜1200gが好ましく、さらに好まし
くは800〜1000gである。
ルボニルチオセミカルバジド(1)の化合物の環化によ
るアミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合
物(2)の合成のためには酸を用いるのがよく、用いる
酸としてはポリリン酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸
などが挙げられ、ポリリン酸が特に好ましい。使用量は
イミダゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド1モル
に対して500〜1200gが好ましく、さらに好まし
くは800〜1000gである。
【0017】使用する溶媒としては、アセトニトリル、
DMAc等を用いることができるが無溶媒で行うのが好
ましい。また反応温度としては40℃〜80℃で行うの
がよく、好ましくは50℃〜60℃である。
DMAc等を用いることができるが無溶媒で行うのが好
ましい。また反応温度としては40℃〜80℃で行うの
がよく、好ましくは50℃〜60℃である。
【0018】反応後の取り出しは、反応混合物に水を加
えることによって容易に濾取により単離することができ
る。以下に、上記製造法で合成されたイミダゾリノチオ
カルボニルチオセミカルバジド化合物(1)及びアミノ
メルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)
の具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定される
ものではない。
えることによって容易に濾取により単離することができ
る。以下に、上記製造法で合成されたイミダゾリノチオ
カルボニルチオセミカルバジド化合物(1)及びアミノ
メルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)
の具体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定される
ものではない。
【0019】
【表1】
【0020】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。
【0021】合成例1(化合物1−1の合成) 三口フラスコにチオカルボニルジイミダゾール5.2g
(29ミリモル)とアセトニトリル100mlを加え、
よく攪拌しながら氷−メタノールで冷却した。内温を−
4〜−6℃に保ちながら4−フェニル−3−チオセミカ
ルバジド4.0g(24ミリモル)のアセトニトリル溶
液(100ml)を滴下した。滴下後、室温で2時間反
応させ、アセトニトリルを減圧留去することによりオイ
ル状の生成物を得た。酢酸エチル50mlを加えて晶析
させ1時間攪拌後減圧濾取し4−フェニルイミダゾリノ
チオカルボニルチオセミカルバジド5.2gを得た(収
率79%)。
(29ミリモル)とアセトニトリル100mlを加え、
よく攪拌しながら氷−メタノールで冷却した。内温を−
4〜−6℃に保ちながら4−フェニル−3−チオセミカ
ルバジド4.0g(24ミリモル)のアセトニトリル溶
液(100ml)を滴下した。滴下後、室温で2時間反
応させ、アセトニトリルを減圧留去することによりオイ
ル状の生成物を得た。酢酸エチル50mlを加えて晶析
させ1時間攪拌後減圧濾取し4−フェニルイミダゾリノ
チオカルボニルチオセミカルバジド5.2gを得た(収
率79%)。
【0022】合成例2(化合物1−3の合成) 三口フラスコにチオカルボニルジイミダゾール5.2g
(29ミリモル)とアセトニトリル100mlを加え、
よく攪拌しながら氷ーメタノールで冷却した。内温を−
4〜−6℃に保ちながら4−エチル−3−チオセミカル
バジド2.9g(24ミリモル)のアセトニトリル溶液
(100ml)を滴下した。滴下後、室温で2時間反応
させ、アセトニトリルを減圧留去することによりオイル
状の生成物を得た。酢酸エチル50mlを加えて晶析さ
せ、1時間攪拌後減圧濾取し4−エチルイミダゾリノチ
オカルボニルチオセミカルバジド4.5gを得た(収率
82%)。
(29ミリモル)とアセトニトリル100mlを加え、
よく攪拌しながら氷ーメタノールで冷却した。内温を−
4〜−6℃に保ちながら4−エチル−3−チオセミカル
バジド2.9g(24ミリモル)のアセトニトリル溶液
(100ml)を滴下した。滴下後、室温で2時間反応
させ、アセトニトリルを減圧留去することによりオイル
状の生成物を得た。酢酸エチル50mlを加えて晶析さ
せ、1時間攪拌後減圧濾取し4−エチルイミダゾリノチ
オカルボニルチオセミカルバジド4.5gを得た(収率
82%)。
【0023】合成例3(化合物2−1の合成) 三口フラスコに4−フェニルイミダゾリノチオカルボニ
ルチオセミカルバジド2.0g(7.2ミリモル)とポ
リリン酸6gを加え、窒素気流下、60℃で30分間攪
拌させた。水100mlを添加して室温で30分間攪拌
させ、析出した結晶を濾取し、水、続いてアセトニトリ
ルでかけ洗いした。得られた粗結晶1.4g(粗収率9
3%)をエタノール5mlから再結晶し、2−メルカプ
ト−5−フェニル−1,3,4−チアジアゾール1.3
g(収率85%)を得た。融点210〜211℃。
ルチオセミカルバジド2.0g(7.2ミリモル)とポ
リリン酸6gを加え、窒素気流下、60℃で30分間攪
拌させた。水100mlを添加して室温で30分間攪拌
させ、析出した結晶を濾取し、水、続いてアセトニトリ
ルでかけ洗いした。得られた粗結晶1.4g(粗収率9
3%)をエタノール5mlから再結晶し、2−メルカプ
ト−5−フェニル−1,3,4−チアジアゾール1.3
g(収率85%)を得た。融点210〜211℃。
【0024】合成例4(化合物2−12の合成) 三口フラスコに7−〔3−(4−イミダゾリノチオカル
ボニルチオセミカルバジド)ベンズアミド〕−10−プ
ロパルギル−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジニ
ウム トリフロロメタンスルホネート5.0g(72ミ
リモル)とポリリン酸7gを加え、窒素気流下、拌させ
た。水100mlを添加して室温で30分間攪拌させ、
析出した結晶を濾取し、水、続いてアセトニトリルでか
け洗いした。得られた結晶にアセトニトリル25mlと
0.2mlのトリフロロメタンメタンスルホン酸を加え
て10分間攪拌させた。不溶物を濾去して30℃以下で
濾液を減圧留去し、20mlのエーテルを加えて析出し
た結晶を濾取、エーテルでかけ洗いし、7−〔3−(2
−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール−5−イル
アミノ)ベンズアミド〕−10−プロパルギル−1,
2,3,4−テトラヒドロアクリジニウム トリフロロ
メタンスルホネート0.2g(収率63%)を得た。融
点235〜237℃
ボニルチオセミカルバジド)ベンズアミド〕−10−プ
ロパルギル−1,2,3,4−テトラヒドロアクリジニ
ウム トリフロロメタンスルホネート5.0g(72ミ
リモル)とポリリン酸7gを加え、窒素気流下、拌させ
た。水100mlを添加して室温で30分間攪拌させ、
析出した結晶を濾取し、水、続いてアセトニトリルでか
け洗いした。得られた結晶にアセトニトリル25mlと
0.2mlのトリフロロメタンメタンスルホン酸を加え
て10分間攪拌させた。不溶物を濾去して30℃以下で
濾液を減圧留去し、20mlのエーテルを加えて析出し
た結晶を濾取、エーテルでかけ洗いし、7−〔3−(2
−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール−5−イル
アミノ)ベンズアミド〕−10−プロパルギル−1,
2,3,4−テトラヒドロアクリジニウム トリフロロ
メタンスルホネート0.2g(収率63%)を得た。融
点235〜237℃
【0025】比較合成例(化合物2−1の比較例) 三口フラスコにモノフェニルヒドラジノジチオカルバミ
ド2.3g(10ミリモル)とポリリン酸8gを加え、
窒素気流下、70℃で3時間攪拌させた。水100ml
を添加して室温で30分間攪拌させ、析出した結晶を濾
取し、水、続いてアセトニトリルでかけ洗いした。薄層
クロマトグラフィーにより、目的物2−メルカプト−5
−フェニルアミノ−1,3,4−チアジアゾールと副生
物5−アミノ−2−メルカプト−1,3,4−チアジア
ゾールがほぼ1:1の比率で生成していることがわかっ
た。得られた粗結晶0.5g(粗収率24%)をエタノ
ール2mlから再結晶し、2−メルカプト−5−フェニ
ルアミノ−1,3,4−チアジアゾール0.4g(収率
19%)を得た。210〜211℃。この比較合成例の
スキームを以下に示す。 スキーム3
ド2.3g(10ミリモル)とポリリン酸8gを加え、
窒素気流下、70℃で3時間攪拌させた。水100ml
を添加して室温で30分間攪拌させ、析出した結晶を濾
取し、水、続いてアセトニトリルでかけ洗いした。薄層
クロマトグラフィーにより、目的物2−メルカプト−5
−フェニルアミノ−1,3,4−チアジアゾールと副生
物5−アミノ−2−メルカプト−1,3,4−チアジア
ゾールがほぼ1:1の比率で生成していることがわかっ
た。得られた粗結晶0.5g(粗収率24%)をエタノ
ール2mlから再結晶し、2−メルカプト−5−フェニ
ルアミノ−1,3,4−チアジアゾール0.4g(収率
19%)を得た。210〜211℃。この比較合成例の
スキームを以下に示す。 スキーム3
【0026】
【化5】
【0027】
【発明の効果】イミダゾリノチオカルボニルチオセミカ
ルバジドを用いて、酸性条件下閉環反応によりアミノメ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾールを合成する方法
において、非対称のヒドラジノジチオカルバミドを用い
た場合に起こる環化形態の異なる副生物の生成がなく、
高収率で目的物を得ることができる。
ルバジドを用いて、酸性条件下閉環反応によりアミノメ
ルカプト−1,3,4−チアジアゾールを合成する方法
において、非対称のヒドラジノジチオカルバミドを用い
た場合に起こる環化形態の異なる副生物の生成がなく、
高収率で目的物を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 チオセミカルバジド化合物とチオカルボ
ニルジイミダゾールとの反応により得られた下記式イミ
ダゾリノチオカルボニルチオセミカルバジド化合物
(1)を前駆体とすることを特徴とする、アミノメルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール化合物(2)の製造
方法。 【化1】 (式中、Rはアルキル基、アリール基、アラルキル基を
表す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10009959A JPH11209358A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10009959A JPH11209358A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11209358A true JPH11209358A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11734490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10009959A Pending JPH11209358A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11209358A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003011276A1 (ja) * | 2001-07-26 | 2004-11-18 | 株式会社エムズサイエンス | NFκB阻害剤 |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP10009959A patent/JPH11209358A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003011276A1 (ja) * | 2001-07-26 | 2004-11-18 | 株式会社エムズサイエンス | NFκB阻害剤 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2002034712A1 (fr) | Procede de preparation de composes aromatiques substitues et produits intermediaires associes | |
JP2000501413A (ja) | 2―クロロチアゾール化合物の製法 | |
JP2004536795A (ja) | チオセミカルバジドを製造するための方法 | |
JPH11209358A (ja) | アミノメルカプト−1,3,4−チアジアゾール化合物の製造方法 | |
SU677657A3 (ru) | Способ получени -формилированных соединений | |
US5030738A (en) | Synthesis of antiulcer compounds | |
JPS6355512B2 (ja) | ||
JP2685120B2 (ja) | ジチアゾリウム塩の製造方法 | |
JPH04139170A (ja) | 置換ピリジンスルホニルカーバメート系化合物及びその製造方法並びに置換ピリジンスルホンアミド系化合物の製造方法 | |
KR870001539B1 (ko) | 4-메틸-5-티오포름아미디노메틸이미다졸 디하이드로클로라이드의 제조방법 | |
JPH0672142B2 (ja) | 4−アミノ−1,2,4−トリアゾリン−5−チオン系化合物の製造方法 | |
JPS6032779A (ja) | ベンゾチアゼピン誘導体の新規製造法 | |
JP2717997B2 (ja) | 新規ヒドラゾン化合物、及びトリアゾールの製法 | |
JP2671401B2 (ja) | α‐アミノチオアセトアミド誘導体およびその製造法 | |
JPS636063B2 (ja) | ||
JPH07267950A (ja) | 5−クロロ−n−(4,5−ジヒドロ−1h−イミダゾール−2−イル)−2,1,3−ベンゾチアジアゾール−4−アミン又はその酸付加塩の製造方法 | |
JPH033668B2 (ja) | ||
JP2004277386A (ja) | 2−(ジクロロフェニル)−4−メチル−5−フェニルイミダゾール化合物 | |
JPS5829786B2 (ja) | アルフア − オキソチオジメチルアミドセイホウ | |
JP2557726B2 (ja) | フェニルメルカプトアゾール化合物 | |
JP4031156B2 (ja) | 2−アミノチアゾール誘導体のz体の優先的製造方法 | |
JPS5817751B2 (ja) | イソオキサゾ−ル誘導体の製造法 | |
JP3727088B2 (ja) | 置換イソチオウレア類の製造法 | |
JPS5832861A (ja) | 2−置換アミノ−4−クロロ−チオフエノ−ル誘導体及びその製造方法 | |
JPH05246961A (ja) | 芳香族アミン誘導体の製造方法 |