JPH11209128A - 合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス - Google Patents

合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス

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JPH11209128A
JPH11209128A JP10008756A JP875698A JPH11209128A JP H11209128 A JPH11209128 A JP H11209128A JP 10008756 A JP10008756 A JP 10008756A JP 875698 A JP875698 A JP 875698A JP H11209128 A JPH11209128 A JP H11209128A
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synthetic quartz
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Masashi Fujiwara
誠志 藤原
Norio Komine
典男 小峯
Hiroki Jinbo
宏樹 神保
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Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外線耐久性および合成した当初からの紫外
線透過率がよく、屈折率も高均質性を有する合成石英ガ
ラスを製造することができる合成石英ガラス製造装置を
得るとともに、この装置によってステッパ等の光学系に
用いるのに適した合成石英ガラスを得る。 【解決手段】 炉枠3等からなる炉と、合成石英ガラス
製造用のターゲット5と、石英ガラス合成用のメインバ
ーナ6および、このメインバーナ6とのなす角が90°
以内で配設されたサブバーナ7とから構成され、メイン
バーナ6およびサブバーナ7は噴出口がターゲット5に
向くように配設されている。メインバーナ7からは、ケ
イ素を含有する原料ガスと、酸素含有ガスおよび水素含
有ガスからなる燃料ガスを噴出させるようになってお
り、サブバーナ6からは、フッ素含有ガスを噴出させる
ことによりターゲット5上に合成石英ガラスIGを堆積
させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線レーザ全般
に使用される光学部材用の合成石英ガラスを製造するた
めの合成石英ガラス製造装置およびこの合成石英ガラス
製造装置によって製造された合成石英ガラスに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコン等のウエハ上に集積回路
の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィ技術に
おいては、ステッパと呼ばれる露光装置が用いられる。
このステッパの光源は、近年のLSIの高集積化に伴っ
てg線(436nm)からi線(365nm)、さらに
はKrF(248nm)やArF(193nm)エキシ
マレーザへと短波長化が進められている。そして、一般
に、ステッパの照明あるいは投影光学系に用いられる光
学ガラスは、i線よりも短い波長領域では光透過率が低
下するため、KrF及びArFエキシマレーザを光源と
するステッパでは従来の光学ガラスに代えて合成石英ガ
ラスやCaF2(螢石)等のフッ化物単結晶を用いるこ
とが提案されている。
【0003】ステッパに搭載される光学系は、多数のレ
ンズの組合せにより構成されている。このため、レンズ
1枚当りの透過率低下量が小さくても、使用するレンズ
の枚数分だけ透過率低下量が積算されてしまい、照射面
での光量低下に繋がる。従って、レンズの素材に対して
は高透過率化を図ることが要求される。また、ステッパ
においてはレンズの屈折率分布のむらによって結像性能
の低下が生じ、使用する光の波長が短くなるほど屈折率
分布のほんの小さなむらによっても結像性能が極端に悪
くなる。
【0004】このように、ステッパ用の光学素子として
用いられる合成石英ガラスには、紫外線の高透過率化を
図ることと、屈折率の高均質性を有することが要求され
ている。しかしながら、通常市販されている合成石英ガ
ラスは、紫外線透過率が低く、屈折率の均質性も不十分
であるためステッパのような精密光学機器に使用するこ
とができなかった。
【0005】合成石英ガラスにおいては、紫外領域の光
(紫外線)を照射すると、E’(イープライム)センタ
ーと称される5.8eV(波長215nm)の吸収帯が
現れて紫外領域の透過率が著しく低下する。このよう
に、紫外線を照射することにより透過率が低下すること
を「紫外線耐久性(耐紫外線性)が悪い」と称するが、
合成石英ガラス中に塩素が存在すると5.8eVの吸収
帯の前駆体となりうることから、紫外線耐久性を悪くさ
せないためにも塩素は極力減少させることが好ましい。
なお、透過率が低下するのは、塩素がケイ素と結合した
状態で合成石英ガラス中に残存していると、紫外線が合
成石英ガラスに照射されたときにSi−Cl結合が分解
してしまうからである。
【0006】しかし、前記のような市販の合成石英ガラ
スにおいては、四塩化ケイ素を原料としているため30
〜150ppm程度の塩素が含有されている。このた
め、完全に塩素を排除した石英ガラスに比べると、紫外
線耐久性が劣ることとなる。しかしながら、原料中に含
まれる塩素が合成雰囲気中に存在する金属不純物を塩化
物(ハロゲン化物)として系外に放出するため、合成さ
れた石英ガラスは非常に高純度であり初期の(紫外線を
長時間照射する前の)紫外線透過率は良好であった。
【0007】すなわち、合成石英ガラスの原料として塩
素が含有されているものを用いると初期の紫外線透過率
は向上するが紫外線耐久性が劣り、塩素を排除した原料
を用いると紫外線耐久性は比較的良いが紫外線透過率は
悪いことがあった。
【0008】そこで、このような不具合を是正するため
に、四塩化ケイ素を原料として石英ガラスを合成した場
合には、石英ガラスを均質化させるための二次処理や、
加圧水素ガス中で熱処理を行うことにより紫外線耐久性
を向上させて光学的機能を向上させることが試みられて
いる。これらの方法は、一旦、石英ガラスを合成した後
に行う二次的な処理方法であるため、作業が煩雑となり
合成石英ガラスの生産性が良くなかった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このため、近年におい
ては原料ガスとして有機ケイ素化合物を用いた石英ガラ
スの合成も行われている。しかしながら、このような技
術においては、有機ケイ素化合物に含まれる炭素の合成
石英ガラス中への残留については何等考慮していないた
め、残留した炭素が不純物となって紫外線透過率が低下
するおそれが生じるという問題がある。また、塩素が合
成された石英ガラス中に混入していないという根拠も示
されていないため、塩素が残留していた場合には紫外線
耐久性が低下するという問題がある。
【0010】本発明は、このような状況および問題に鑑
みてなされたものであり、紫外線耐久性および、合成し
た当初からの紫外線透過率がよく、径方向屈折率分布も
高均質性を有する合成石英ガラスを製造することができ
る合成石英ガラス製造装置を提供することを目的とする
とともに、この装置によってステッパ等の光学系に用い
るのに適した合成石英ガラスを提供することを目的とし
ている。
【0011】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明に係る合成石英ガラス製造装置は、炉
と、合成石英ガラス製造用のターゲットと、石英ガラス
合成用のメインバーナおよびサブバーナとから構成さ
れ、メインバーナおよびサブバーナは噴出口がターゲッ
トに向くように配設されている。メインバーナからは、
ケイ素を含有する原料ガスと、酸素含有ガスおよび水素
含有ガスからなる燃料ガスを噴出させるようになってお
り、サブバーナからは、フッ素含有ガスを噴出させるこ
とによりターゲット上に合成石英ガラスを堆積させるよ
うになっている。
【0012】このように構成された合成石英ガラス製造
装置によれば、メインバーナとは別に設けられたサブバ
ーナから噴出したフッ素含有ガスによって合成雰囲気中
にフッ素が介在することとなる。これにより、合成雰囲
気中に存在する炭素や塩素等の不純物を系外に放出させ
ることができるため、合成された石英ガラスの透過率を
向上させることができるとともに、紫外線耐久性も向上
させることができる。
【0013】フッ素は、上記のように炭素等の不純物を
系外に放出させるという働きを有しているが、屈折率の
均質性に与える影響が大きい。このため、メインバーナ
から原料ガスと一緒にフッ素含有ガスを噴出させると合
成された石英ガラス中にフッ素がとけ込んで屈折率の均
質性を低下させてしまうが、メインバーナとは別のサブ
バーナからフッ素含有ガスを噴出させるようにすれば、
フッ素を系外に不純物を放出させる役割のみとさせるこ
とができるため、透過率が高く、しかも屈折率の均質性
もよい合成石英ガラスを得ることができる。
【0014】また、メインバーナから原料ガスと一緒に
噴出させる燃焼ガスとしては、酸素(支燃性ガス)と水
素(可燃性ガス)とを燃焼ガスとして用いることによ
り、形成される火炎を酸水素火炎とすることが好まし
い。しかしながら、燃焼ガスは、酸素含有ガスおよび水
素含有ガスであればよく、メタン、エタン、プロパン、
一酸化炭素、空気またはこれら2種以上の混合ガス等を
燃焼ガスとして用いてもよい。
【0015】なお、本発明に係る合成石英ガラス製造装
置においては、メインバーナをターゲット上方において
鉛直方向に伸びるように配設し、さらに、メインバーナ
とサブバーナとのなす角度が90°以下の角度となるよ
うにサブバーナを配設することが好ましい。これは、メ
インバーナとサブバーナとのなす角度が90°より大き
いと炭素を放出する能力が少なくなるためであり、90
°以内のいずれの角度に設定するかは、各バーナから噴
出させるガスの種類や流量によって適宜変更する。
【0016】ここで、本発明に係る合成石英ガラス製造
装置において用いられる原料ガスのケイ素含有ガスとし
ては、アルコキシシラン類や、シロキサン類等の有機ケ
イ素含有ガスを用いることが好ましい。アルコキシシラ
ン類や、シロキサン類は入手が容易であるため原料ガス
として用いるのに適している。また、サブバーナから噴
出させるフッ素含有ガスとしては、これも入手が容易な
ケイ素のフッ化物を用いることが好ましく、特に四フッ
化ケイ素および六フッ化二ケイ素が入手が容易であるた
め好ましい。
【0017】さらに、原料ガスのケイ素含有ガスとして
アルコキシシラン類を用いる場合は、メチルトリメトキ
シシランもしくはテトラメトキシシランを用いることが
好ましく、シロキサン類を用いる場合は、ヘキサメチル
ジシロキサンもしくはオクタメチルシクロテトラシロキ
サンを用いることが好ましい。これら、メチルトリメト
キシシラン等は、沸点が約150°C以下と低くて気化
させやすいため取り扱いが容易だからである。
【0018】そして、上記のうちのいずれかの合成石英
ガラス製造装置によって合成石英ガラスを製造した場
合、含有されるナトリウム濃度が10ppb以下であり
且つ、その濃度差が5ppb以下の合成石英ガラス、含
有される炭素濃度が10ppm以下の合成石英ガラスお
よび、含有されるフッ素濃度が100ppm以下の合成
石英ガラスを得ることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の合成石英ガラス製
造装置の好ましい実施形態について図1を参照して説明
する。この合成石英ガラス製造装置1は、炉枠3と、こ
の炉枠3内に設けられた耐火物4と、炉枠3および耐火
物4が載置される炉床板2とからなる炉を有して構成さ
れている。
【0020】耐火物4の内部には、インゴットIG形成
用のターゲット5と、このターゲット5の上方において
鉛直方向に伸びるとともに、ターゲット5に噴出口を向
けて設置された石英ガラス合成用のメインバーナ6と、
このメインバーナ6に対して所定の角度θを有して前記
と同様にターゲット5に噴出口を向けて設置されたサブ
バーナ7を有しており、ターゲット5上に石英ガラスを
合成して堆積させるようになっている。
【0021】炉枠3には、石英ガラスの合成時に炉枠3
の内周空間11において発生する排ガスを外部に排出さ
せるための排気口12が形成され、この排気口12には
排気管13が接続されている。排気管13には、スクラ
バー等の除害装置、排気ファン(共に図示せず)が設け
られており、排ガスを大気へ放出するように構成されて
いる。
【0022】この耐火物4および炉枠3には、外部から
内周空間11内を観察するための炉内監視用窓14が形
成されている。炉内監視用窓14の外方には炉内の温度
を低下させないように維持することができる隙間を有し
て耐熱ガラス15が取り付けられている。さらに、この
耐熱ガラス15の後方(外方)にはCCDカメラ等の炉
内監視用カメラ16が設けられており内周空間11の撮
影、特にバーナ6,7と合成石英ガラスの合成面との距
離を把握することができる撮影が可能な構成となってい
る。
【0023】このように構成された合成石英ガラス製造
装置1においては、合成石英ガラスの原料となるケイ素
を分子中に含有する原料ガスと、加熱のための燃焼ガス
である酸素ガスと水素ガスとをメインバーナ6の噴出口
から噴出させるとともに、フッ素含有ガスをサブバーナ
7の噴出口から噴出させる。これにより、いわゆる酸水
素火炎直接法によって火炎内で石英ガラスを合成させて
ターゲット5上に堆積させることができる。
【0024】なお、ターゲット5は回転軸17上に載置
され、この回転軸17は昇降系(図示せず)によって昇
降作動(合成中は降下のみ)がなされながら、回転およ
び揺動が自在に配設されている。そして、上記のような
石英ガラスの合成時には、ターゲット5を回転、揺動さ
せるとともにターゲット5を降下させて、均質な石英ガ
ラスの合成を行う。
【0025】前述のように、塩素は石英ガラスの合成雰
囲気中に存在する金属不純物をハロゲン化物として系外
に放出する効果があるが、紫外線耐久性を低下させるた
めに好ましくない。しかし、上記のように構成された合
成石英ガラス製造装置1においては、塩素と同属である
フッ素を合成雰囲気中に介在させることにより、塩素と
同じように不純物を系外に放出させることができるた
め、紫外線透過率のよい合成石英ガラスを得ることがで
きる。また、Si−F結合は、Si−Cl結合よりも結
合力が強く、合成された石英ガラスに紫外線が照射され
ても分解することがないため、紫外線耐久性を向上させ
ることができる。
【0026】さらに、原料として有機ケイ素を含有する
原料ガスを用いた場合には、フッ素を介在させることに
より、有機ケイ素分子中に存在する炭素を二酸化炭素と
いう形ではなく、フルオロカーボンという形にすること
ができる。このように、合成雰囲気中にフルオロカーボ
ンを介在させると合成された石英ガラスにおける泡の発
生を抑えることができる。また、原料として四塩化ケイ
素を含有する原料ガスを用いた場合には、存在する炭素
をクロロカーボンという形にすることができる。
【0027】このように、フッ素含有ガスをサブバーナ
7から噴出させることによって得られるメリットは多い
が、酸水素火炎直接法においてはフッ素濃度の制御は難
しく、フッ素を濃度をあまり多くすると合成された石英
ガラスにおいてフッ素の濃度分布むらが生じる。このよ
うなむらは、合成された石英ガラスの屈折率分布のむら
に繋がる。このため、フッ素の濃度は、100ppm程
度とすることが望ましい。
【0028】また、合成石英ガラス製造装置1において
は、耐火物4を形成する際の接着剤(バインダー)の中
に含有されているNaが合成時に炉内に誘発されるた
め、合成された石英ガラスにNaが溶存する。ここで、
合成された石英ガラスにNaが溶存すると紫外線の透過
率が低下し、約10ppbのNaが溶存している場合に
はArFエキシマレーザ(波長193nm)の透過率が
0.1%程度低下する。エキシマレーザステッパのよう
な高透過率を要する装置に組み込まれるレンズは、ほん
の小さな透過率のむらでも結像性能が極端に悪くなる。
【0029】このため、合成石英ガラス中のナトリウム
の含有量は最大でも10ppb以下であり、かつ、その
振れ幅(合成石英ガラスの径方向のナトリウム濃度差)
が5ppb以下(例えば、含有量が最大で10ppbで
ある場合には合成石英ガラスにおいて含有されているナ
トリウムの濃度が5ppbから10ppbの範囲で分布
している)となるように合成石英ガラス製造装置1が構
成されている。
【0030】以上のように、本発明に係る合成石英ガラ
ス製造装置1においては、石英ガラスを合成する際に、
不純物を除去するためのフッ素含有ガスをサブバーナ7
から噴出させるようにしている。このため、この合成石
英ガラス製造装置1を用いて合成された石英ガラスに
は、塩素が含有されておらず、Na濃度が10ppb以
下であるとともに炭素濃度が10ppm以下であるた
め、紫外線透過率が良く紫外線耐久性にも優れ、紫外線
リソグラフィー用光学素子としての使用に適した合成石
英ガラスを得ることができる。
【0031】
【実施例】次に、図2を加えて本発明に係る合成石英ガ
ラス製造装置の好ましい実施例について説明する。本実
施例においては、合成石英ガラス製造装置1におけるメ
インバーナ6として五重管構造(同心上に径の異なる5
本の管を配設した構造)の石英ガラス製バーナを用い、
中心に配設された管からメチルトリメトキシシラン、テ
トラメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサンもしく
はオクタメチルシクロテトラシロキサンをキャリアガス
(酸素ガスおよび水素ガス)で希釈して図2に示す原料
流量で噴出させる。そして、外周に配設されている管か
らは、酸素ガスと水素ガスとを図2に示す流量で交互に
噴出させて燃焼させる。
【0032】そして、メインバーナ6に対して30°〜
90°の角度をもって配設したサブバーナ7からは、四
フッ化ケイ素を含有させたガスをキャリアガスである酸
素ガスとともに各流量で噴出させる。
【0033】なお、合成石英ガラス製造装置1において
は、メインバーナ6は回転軸17の回転軸の延長線上
に、噴出口が真下に向くように鉛直方向に伸びて配設さ
れている。また、合成される石英ガラスは、合成面が半
球状に形成されるため、サブバーナ7はこの半球の中心
部に向かって、すなわち、この半球の中心をメインバー
ナ6とサブバーナ7とのなす角θの中心として図1に示
す角度θで配設される。
【0034】このように構成された合成石英ガラス製造
装置1においては、各バーナ6および7からガスを噴出
させて燃焼させることにより、酸水素火炎加水分解法に
よって石英ガラスが合成されるわけであるが、このよう
な合成時にはターゲット5を一定周期で回転および揺動
させるとともに、石英ガラスの合成速度(成長速度)に
合う速度でターゲット5を降下させる。さらに、炉内監
視窓14から合成面の位置を確認しながら合成面位置を
一定に制御する。なお、ターゲット5は、不透明石英ガ
ラス板によって形成されている。
【0035】このようにして、図2に示すように実施例
1〜実施例10の各条件下で合成を行い、その結果得ら
れた各合成石英ガラスのインゴットIGからテストピー
スを切り出した後に研磨して得た測定サンプルの測定結
果を図3に示す。なお、図3において記載されている各
測定値において、フッ素濃度および炭素濃度は燃焼法に
よりイオンクロマトグラフィーを用いて測定した結果で
あり、ナトリウム(Na)濃度は放射化分析によって測
定した結果である。また、「as−grownでの19
3nm透過率」とは、石英ガラスを合成したそのままの
状態(紫外線等を照射していない状態)での波長193
nmのArFエキシマレーザの透過率であって、いわゆ
る初期の紫外線透過率である。
【0036】「均質性Δn」は、合成された石英ガラス
のインゴットIGから切り出した円柱形状の部材、ある
いはこの円柱形状の部材をさらに加工して得られるレン
ズ形状の光学部材(テストピース)を、光軸方向(イン
ゴットIGの成長方向)から見たときの径方向の屈折率
のばらつきを、その最大値と最小値との差で示したもの
である。また、「耐ArF性」とは、ArFエキシマレ
ーザを照射した時の紫外線耐久性であり、○印は紫外線
耐久性が良いことを示している。
【0037】この図3からもあきらかなように、本発明
に係る合成石英ガラス製造装置を用いて合成した結果得
られる合成石英ガラスは、実施例1〜実施例10のいず
れの場合においても、含有ナトリウム濃度は10ppb
以下であり、径方向のナトリウム濃度差も5ppb以下
であった。また、含有炭素濃度は10ppm以下であ
り、含有フッ素濃度は10〜100ppmであった。
【0038】さらに、as−grownでの193nm
透過率も99.9%以上であり、均質性Δnは1〜3×
10-6であるため差異はほとんど生じておらず、耐Ar
F性も良好なものが得られた。従って、本発明に係る合
成石英ガラス製造装置1を用いれば、紫外線リソグラフ
ィー用光学素子として用いることができる石英ガラスを
安定して製造することができる。
【0039】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の合
成石英ガラス製造装置は、メインバーナから原料ガスお
よび燃料ガスを噴出させるようになっており、サブバー
ナからはフッ素含有ガスを噴出させるようになってい
る。このため、合成された石英ガラス中にフッ素がとけ
込んで屈折率の均質性を低下させてしまうことなく、合
成雰囲気中に介在するフッ素を系外に不純物を放出させ
る役割のみとさせることができるため、透過率が高くて
紫外線耐久性にも優れ、しかも屈折率の均質性もよい合
成石英ガラスを得ることができる。
【0040】なお、本発明に係る合成石英ガラス製造装
置においては、メインバーナをターゲット上方において
鉛直方向に伸びるように配設し、さらに、メインバーナ
とのなす角度が90°以下の角度となるようにサブバー
ナを配設することが好ましい。このような構成とするこ
とにより、サブバーナから噴出させるフッ素により炭素
を放出する能力を向上させることができる。
【0041】ここで、本発明に係る合成石英ガラス製造
装置において用いられる原料ガスのケイ素含有ガスとし
ては、アルコキシシラン類や、シロキサン類を用いるこ
とが好ましく、これらアルコキシシラン類等は、入手が
容易であるため原料ガスとして用いるのに適している。
また、サブバーナから噴出させるフッ素含有ガスとして
は、これも入手が容易なケイ素のフッ化物を用いること
が好ましく、特に四フッ化ケイ素および六フッ化二ケイ
素は容易に入手することができる。
【0042】さらに、原料ガスのケイ素含有ガスとして
アルコキシシラン類を用いる場合は、メチルトリメトキ
シシランもしくはテトラメトキシシランを用いることが
好ましく、シロキサン類を用いる場合は、ヘキサメチル
ジシロキサンもしくはオクタメチルシクロテトラシロキ
サンを用いることが好ましい。これら、メチルトリメト
キシシラン等は、沸点が約150°C以下と低くて気化
させやすいため、取り扱いが容易となる。
【0043】そして、本発明に係る合成石英ガラス製造
装置によって合成石英ガラスを製造した場合、含有され
るナトリウム濃度が10ppb以下であり且つ、その濃
度差が5ppb以下、含有される炭素濃度が10ppm
以下、含有されるフッ素濃度が100ppm以下の条件
のうち少なくとも一つの条件を具備する合成石英ガラス
を得ることができる。このように、本発明に係る合成石
英ガラス製造装置によって製造された合成石英ガラス
は、光学性能に悪影響をおよぼす濃度のナトリウム、炭
素およびフッ素が含有されず、塩素も含有されていない
ため、紫外線耐久性、as−grownでの透過率およ
び屈折率の高均質性に優れており、紫外線リソグラフィ
ー用光学素子としての使用に適している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の合成石英ガラス製造装置の側面断面図
である。
【図2】上記の合成石英ガラス製造装置の各実施例にお
ける合成条件を示す図表である。
【図3】上記の各実施例において合成された石英ガラス
の測定結果を示す図表である。
【符号の説明】
1 合成石英ガラス製造装置 3 炉枠 4 耐火物 5 ターゲット 6 メインバーナ 7 サブバーナ

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炉と、 この炉の内側空間内に位置する合成石英ガラス製造用の
    ターゲットと、 噴出口を前記ターゲットに向けて設置された石英ガラス
    合成用のメインバーナと、 噴出口を前記ターゲットに向けて設置された石英ガラス
    合成用のサブバーナとからなり、 前記メインバーナからは、ケイ素を含有する原料ガス
    と、酸素含有ガスおよび水素含有ガスからなる燃焼ガス
    を噴出させ、前記サブバーナからは、フッ素含有ガスを
    噴出させることにより前記ターゲット上に合成石英ガラ
    スを堆積させることを特徴とする合成石英ガラス製造装
    置。
  2. 【請求項2】 前記メインバーナが前記ターゲット上方
    において鉛直方向に伸びて配設され、 前記サブバーナが前記メインバーナに対して90°以下
    の角度をなして配設されていることを特徴とする請求項
    1に記載の合成石英ガラス製造装置。
  3. 【請求項3】 前記原料ガスが、アルコキシシラン類で
    あることを特徴とする請求項1もしくは請求項2に記載
    の合成石英ガラス製造装置。
  4. 【請求項4】 前記原料ガスが、シロキサン類であるこ
    とを特徴とする請求項1もしくは請求項2に記載の合成
    石英ガラス製造装置。
  5. 【請求項5】 前記フッ素含有ガスが、ケイ素のフッ化
    物であることを特徴とする請求項1もしくは請求項2に
    記載の合成石英ガラス製造装置。
  6. 【請求項6】 前記原料ガスである前記アルコキシシラ
    ン類が、メチルトリメトキシシランもしくはテトラメト
    キシシランであることを特徴とする請求項3に記載の合
    成石英ガラス製造装置。
  7. 【請求項7】 前記原料ガスである前記シロキサン類
    が、ヘキサメチルジシロキサンもしくはオクタメチルシ
    クロテトラシロキサンであることを特徴とする請求項4
    に記載の合成石英ガラス製造装置。
  8. 【請求項8】 前記フッ素含有ガスであるケイ素のフッ
    化物が、四フッ化ケイ素もしくは六フッ化二ケイ素であ
    ることを特徴とする請求項5に記載の合成石英ガラス製
    造装置。
  9. 【請求項9】 請求項1から請求項8のいずれかに記載
    の合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石英
    ガラスであって、含有されるナトリウム濃度が10pp
    b以下であり且つ、その濃度差が5ppb以下であるこ
    とを特徴とする合成石英ガラス。
  10. 【請求項10】 請求項1から請求項8のいずれかに記
    載の合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石
    英ガラスであって、含有される炭素濃度が10ppm以
    下であることを特徴とする合成石英ガラス。
  11. 【請求項11】 請求項1から請求項8のいずれかに記
    載の合成石英ガラス製造装置によって製造された合成石
    英ガラスであって、含有されるフッ素濃度が100pp
    m以下であることを特徴とする合成石英ガラス。
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