JPH11200047A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH11200047A JPH11200047A JP1790598A JP1790598A JPH11200047A JP H11200047 A JPH11200047 A JP H11200047A JP 1790598 A JP1790598 A JP 1790598A JP 1790598 A JP1790598 A JP 1790598A JP H11200047 A JPH11200047 A JP H11200047A
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- Japan
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- film
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- drum
- cooling drum
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長時間成膜しても余計な被着物の発生し難
い、作業性の良好な真空蒸着装置を得る。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、前記被蒸着基体の幅を、冷却ドラムの幅以上にする
真空蒸着装置によって解決可能となる。
い、作業性の良好な真空蒸着装置を得る。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、前記被蒸着基体の幅を、冷却ドラムの幅以上にする
真空蒸着装置によって解決可能となる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空蒸着装置に関
し、より詳しくは、真空蒸着装置の被蒸着基体の幅と冷
却ドラムの幅に関する。
し、より詳しくは、真空蒸着装置の被蒸着基体の幅と冷
却ドラムの幅に関する。
【0002】
【従来の技術】金属薄膜を成膜するために、真空蒸着装
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。ところが、
従来の蒸着装置では、被蒸着其体であるフィルムの幅に
対して冷却ドラムの幅が広く設計されており、マスクか
らの回り込み蒸着物で冷却ドラムのフィルム端部位置に
無効蒸着物が積層し、蒸着の長時間化をする際の妨げに
なっていた。
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。ところが、
従来の蒸着装置では、被蒸着其体であるフィルムの幅に
対して冷却ドラムの幅が広く設計されており、マスクか
らの回り込み蒸着物で冷却ドラムのフィルム端部位置に
無効蒸着物が積層し、蒸着の長時間化をする際の妨げに
なっていた。
【0003】このような問題に対して、特公平１−４２５４
号公報では、フィルム幅方向の両端部に余白が生じるよ
うに成膜してから、両端部の余白を切り離して巻き取る
方式が提案されている。しかし、このような方法を用い
ても、フィルム端部位置に積層する無効蒸着物によるフ
ィルム切れや、長時間成膜の妨げ、成膜終了後に清掃時
間が長く必要となるといった問題があった。
号公報では、フィルム幅方向の両端部に余白が生じるよ
うに成膜してから、両端部の余白を切り離して巻き取る
方式が提案されている。しかし、このような方法を用い
ても、フィルム端部位置に積層する無効蒸着物によるフ
ィルム切れや、長時間成膜の妨げ、成膜終了後に清掃時
間が長く必要となるといった問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の課題
は、長時間成膜しても余計な被着物の発生し難い、作業
性の良好な真空蒸着装置を得ることにある。
は、長時間成膜しても余計な被着物の発生し難い、作業
性の良好な真空蒸着装置を得ることにある。
【0005】
【発明を解決するための手段】このような目的は、以下
の本発明によって達成される。すなわち本発明は、真空
容器内において、電子銃により発生した電子ビームによ
り、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着材料
に蒸着させる真空蒸着装置において、前記被蒸着基体の
幅を、冷却ドラムの幅以上にすることを特徴とする真空
蒸着装置にある。
の本発明によって達成される。すなわち本発明は、真空
容器内において、電子銃により発生した電子ビームによ
り、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着材料
に蒸着させる真空蒸着装置において、前記被蒸着基体の
幅を、冷却ドラムの幅以上にすることを特徴とする真空
蒸着装置にある。
【0006】また、被蒸着基体の幅を、冷却ドラムの幅より
０〜４ｍｍ大きくすることによって、この目的をより効
果的に達成することが可能となる。
０〜４ｍｍ大きくすることによって、この目的をより効
果的に達成することが可能となる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て、図１の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
て、図１の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
【0008】図１に示される斜め蒸着装置１０１では、真空
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
【0009】フィルム幅はドラム幅に対し０〜４ｍｍが望ま
しい。特に望ましくは１〜３ｍｍである。フィルム幅が
ドラム幅と等しい場合（０と表記）は、フィルムエッジ
ダメージには有利であるが、フィルム走行位置が微少移
動した場合にドラム汚れが発生する可能性がある。また
フィルム幅がドラム幅に対し４ｍｍを越えて広くなった
場合、ドラム部でのフィルムエッジ折れが発生し歩留ま
りが低下する。
しい。特に望ましくは１〜３ｍｍである。フィルム幅が
ドラム幅と等しい場合（０と表記）は、フィルムエッジ
ダメージには有利であるが、フィルム走行位置が微少移
動した場合にドラム汚れが発生する可能性がある。また
フィルム幅がドラム幅に対し４ｍｍを越えて広くなった
場合、ドラム部でのフィルムエッジ折れが発生し歩留ま
りが低下する。
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【0010】図１に示される構成の斜め蒸着装置を用いて、
厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金属薄膜
を形成した。平均の最小入射角θｍｉｎ．を５０度、る
つぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を約３０
０ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍｍとした。
厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金属薄膜
を形成した。平均の最小入射角θｍｉｎ．を５０度、る
つぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を約３０
０ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍｍとした。
【0011】（実施例及び比較例）まず、真空槽内を排気
し、槽内の圧力を１０-5Ｔｏｒｒに保った。るつぼに
は、酸化マグネシウム製のものを用い、電子銃のパワー
は１２０ｋＷとした。ガス供給ノズルは幅方向長さで６
００ｍｍであり、蒸着時に酸素主成分のガスを供給し
た。フィルムとドラムの幅を表１に示すように変化させ
て、蒸着を行い、蒸着時の目標膜厚は２００ｎｍとし
た。
し、槽内の圧力を１０-5Ｔｏｒｒに保った。るつぼに
は、酸化マグネシウム製のものを用い、電子銃のパワー
は１２０ｋＷとした。ガス供給ノズルは幅方向長さで６
００ｍｍであり、蒸着時に酸素主成分のガスを供給し
た。フィルムとドラムの幅を表１に示すように変化させ
て、蒸着を行い、蒸着時の目標膜厚は２００ｎｍとし
た。
【0012】フィルム幅はドラム幅を基準０として、その広
さを、ｍｍで表示した。またフィルムエッジ部のダメー
ジは目視観察を行い評価した。ドラムの汚れは目視観察
と蒸着可能時間で評価した。
さを、ｍｍで表示した。またフィルムエッジ部のダメー
ジは目視観察を行い評価した。ドラムの汚れは目視観察
と蒸着可能時間で評価した。
【0013】
【表1】冷却ドラムの幅と成膜可能時間
【0014】フィルム幅に対し冷却ドラム幅が広い場合（マ
イナスと表記）、フィルム端部への蒸着物積層の為に成
膜時間が約６０分程度に制限されていた。また、冷却ド
ラムを清掃にかかる時間が約２０分必要としていた。
イナスと表記）、フィルム端部への蒸着物積層の為に成
膜時間が約６０分程度に制限されていた。また、冷却ド
ラムを清掃にかかる時間が約２０分必要としていた。
【0015】さらに、特公平１−４２５４号公報の技術で
は、フィルム両端部に余白を設けることが提案されてい
るが、マスクからの回り込みを防止するには両端からの
余白を２０〜３０mm以上設けることが必要であり、相当
量のフィルムが無駄に切り捨てられ生産効率が悪かっ
た。
は、フィルム両端部に余白を設けることが提案されてい
るが、マスクからの回り込みを防止するには両端からの
余白を２０〜３０mm以上設けることが必要であり、相当
量のフィルムが無駄に切り捨てられ生産効率が悪かっ
た。
【0016】それに対し、フィルム幅をドラム幅より大きく
する事した場合、フィルム端部への影響がほとんどなく
２５０〜３００分の長時間蒸着が可能になった。さらに
冷却ドラムの汚れも防止することが可能になり、清掃時
間もほぼ２〜３分と大幅に簡略化できるようになった。
する事した場合、フィルム端部への影響がほとんどなく
２５０〜３００分の長時間蒸着が可能になった。さらに
冷却ドラムの汚れも防止することが可能になり、清掃時
間もほぼ２〜３分と大幅に簡略化できるようになった。
【0017】フィルム幅をドラム幅より大きくすることによ
り、マスクからの無効な回り込み蒸着物で、冷却ドラム
のフィルム端部位置の汚れが無くなる。これにより無効
な蒸着物が積層し、フィルム端部を傷つける事により発
生していたフィルム切れが無くなり、成膜時間を大幅に
長時間化することが可能となった。
り、マスクからの無効な回り込み蒸着物で、冷却ドラム
のフィルム端部位置の汚れが無くなる。これにより無効
な蒸着物が積層し、フィルム端部を傷つける事により発
生していたフィルム切れが無くなり、成膜時間を大幅に
長時間化することが可能となった。
【0018】また、冷却ドラムの汚れを防止する事が出来る
ことから、バッチ毎の清掃時間が短くなり生産効率が向
上した。
ことから、バッチ毎の清掃時間が短くなり生産効率が向
上した。
【0019】
【発明の効果】無効な蒸着物が積層しフィルム端部を傷
つける事により発生していたフィルム切れが無くなり、
成膜時間を大幅に長時間化する事が可能となった。
つける事により発生していたフィルム切れが無くなり、
成膜時間を大幅に長時間化する事が可能となった。
【図1】蒸着装置を説明するための模式図である。
【図2】本発明のフィルム幅、冷却ドラム幅とるつぼの
関係を示す模式図である。
関係を示す模式図である。
【図3】本発明のフィルム、冷却ドラム、マスクの関係
を示す模式図である。
を示す模式図である。
【図4】従来のフィルム幅、冷却ドラム幅とるつぼの関
係を示す模式図である。
係を示す模式図である。
【図5】従来のフィルム、冷却ドラム、マスクの関係を
示す模式図である。
示す模式図である。
１０１ 斜め蒸着装置（真空槽） １０２ 非磁性基体 １０３ 供給ロール １０４ 冷却ドラム １０５ るつぼ １５０ 溶湯 １０６ 電子銃 １０６Ｂ 電子ビーム １０７ 巻き取りロール １０８ 排気口 １１０ 真空槽 １９１ 遮蔽板（マスク） １９３ シャッター １９４ ガス導入口
Claims (2)
- 【請求項1】真空容器内において、電子銃により発生し
た電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、
これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置において、
前記被蒸着基体の幅を、冷却ドラムの幅以上にすること
を特徴とする真空蒸着装置。 - 【請求項2】被蒸着基体の幅を、冷却ドラムの幅より０
〜４ｍｍ大きくすることを特徴とする請求項１に記載の
真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1790598A JPH11200047A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1790598A JPH11200047A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11200047A true JPH11200047A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11956770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1790598A Pending JPH11200047A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11200047A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009209381A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP1790598A patent/JPH11200047A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009209381A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20041217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041217 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20041217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050204 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20050225 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070724 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070726 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20071115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |