JPH11183941A - エレクトロクロミック素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 導電性高分子化合物をエレクトロクロミック
物質に用いたエレクトロクロミックミラーを提供する。 【解決手段】 少なくとも１枚は透明である、２枚の導
電基板の間に、特定の導電性高分子化合物を含有するエ
レクトロクロミック層を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子、調光ガ
ラス、自動車等の防眩ミラーとして、あるいは屋内で使
用される装飾用ミラーなどのエレクトロクロミックミラ
ーとして有用なエレクトロクロミック素子に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従来
のエレクトロクロミック素子としては、例えば、酸化タ
ングステン（ＷＯ₃ ）のような無機酸化物を真空蒸着法
またはスパッタリング法で透明導電基板上に成膜し、こ
れを発色剤（エレクトロクロミック物質）としたものが
知られている（特開昭６３−１８３３６号公報）。しか
し、真空蒸着法またはスパッタリング法の実施には、真
空ポンプの設置が不可欠であるので、発色剤となる膜の
形成がコスト高になる不都合がある。そのため、より簡
便に、且つ安価に製造可能なエレクトロクロミックミラ
ーの開発が望まれている。そこで、本発明は、このよう
な実状に鑑みなされたものであり、その目的は、簡便な
工程で安価に製造可能なエレクトロクロミック素子を提
供することにある。

【０００３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のエレクトロクロミック素子は、少なくとも
１枚は透明である、２枚の導電基板の間に、（Ａ）下記
の一般式（１）で表される繰り返し単位からなる重合体
および下記の一般式（２）で表される繰り返し単位から
なる重合体を含有するエレクトロクロミック層または
（Ｂ）下記の一般式（１）で表される繰り返し単位およ
び下記の一般式（２）で表される繰り返し単位からなる
共重合体を含有するエレクトロクロミック層を設けたも
のである。

【化６】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異なってもよく、
それぞれ個別にハロゲンアニオン、ＣｌＯ₄ ^- 、ＢＦ₄
^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ （Ｃ₆ Ｈ₄ ）Ｓ
Ｏ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、Ｒ¹ は水素また
は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ² は炭素数１〜１０
の炭化水素残基を、Ｒ³ は炭素数１〜２０のアルキル
基、アリール基またはアラルキル基を、Ａｒ¹ は２価の
芳香族炭化水素残基を各々表す。）

【化７】 （式中、Ｒ⁴ は水素または炭素数１〜５のアルキル基、
Ｒ⁵ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 及びＲ⁹ は水素または炭素数１〜２０
の炭化水素基または炭化水素残基を表し、それぞれ同一
でも異なっても良い。Ａｒ² 及びＡｒ³ は２価の芳香族
炭化水素残基を示す。ｃは０以上の整数を、ｄは１以上
の整数を各々示す。） また、本発明のエレクトロクロミック素子は、少なくと
も１枚は透明である、２枚の導電基板の間に、（Ａ）下
記の一般式（３）で表される繰り返し単位からなる重合
体および上記の一般式（２）で表される繰り返し単位か
らなる重合体を含有するエレクトロクロミック層または
（Ｂ）下記の一般式（３）で表される繰り返し単位およ
び上記の一般式（２）で表される繰り返し単位、さらに
所望により上記の一般式（１）で表される繰り返し単位
からなる共重合体を含有するエレクトロクロミック層を
設けたものである。

【化８】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異なってもよく、
それぞれ個別にハロゲンアニオン、ＣｌＯ₄ ^- 、ＢＦ₄
^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ （Ｃ₆ Ｈ₄ ）Ｓ
Ｏ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹²は水
素または炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は炭
素数１〜１０の炭化水素残基を、Ａｒ⁴ 、Ａｒ⁵ は２価
の芳香族炭化水素残基を各々表す。） 上記エレクトロクロミック層が、イオン伝導性物質層を
兼ねていることが好ましい。

【０００４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の内容を詳しく説明
する。本発明においては、少なくとも１枚は透明であ
る、２枚の導電基板が使用されるが、ここで導電基板と
は電極としての機能を果たす基板を意味する。従って、
本発明で言う導電基板には、基板自体を導電性材料で構
成させたものと、導電性を持たない基板の少なくとも一
方の表面に電極層を積層させた積層板などが包含され
る。導電性を備えているか否かに拘らず、基板自体は常
温において平滑な面を有していることが必要であるが、
その面は平面であっても曲面であっても差し支えなく、
応力で変形するものであっても差し支えない。本発明で
使用される導電基板の少なくとも一方は透明導電基板で
あり、他方は透明であっても、不透明であっても、光を
反射できる反射性導電基板であってもよい。２枚の導電
基板をいずれも透明導電基板としたものは、表示素子や
調光ガラスに、１枚を透明導電基板、もう１枚を不透明
導電基板としたものは表示素子に、そして１枚を透明導
電基板、もう１枚を反射性導電基板としたものはエレク
トロクロミックミラーに適している。透明導電基板は、
通常、透明基板上に透明電極層を積層させた形態にあ
る。ここで、透明とは可視光領域匂いて１０〜１００％
の光透過率を有することを意味する。また、不透導電明
基板としては、（１）金属板、（２）導電性を持たない
不透明基板（透明でない各種のプラスチック、ガラス、
木材、石材等が使用可能）の一方の面に電極槽を積層さ
せた積層体などが例示できる。一方、反射性導電基板の
形態としては、（１）導電性を持たない透明又は不透明
な基板上に反射性電極層を積層させた積層体、（２）導
電性を持たない透明基板の一方の面に透明電極層を、他
方の面に反射層を積層させた積層体、（３）導電性を持
たない透明基板上に反射層を、その反射層上に透明電極
層を積層させた積層体、（４）反射板を基板とし、これ
に透明電極層を積層させた積層体、および（５）基板自
体が光反射層と電極層の両方の機能を備えた板状体など
が例示できる。透明基板の素材には、格別な制限はな
く、例えば、無色あるいは有色ガラス、強化ガラス等が
使用できる他、無色あるいは有色の透明性樹脂、例え
ば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レート、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレン等が使用可能であ
る。本発明の透明電極層は文字通り透明で、電極として
の機能を果たす薄膜を意味し、そのような薄膜として
は、例えば、金、銀、クロム、銅、タングステン等の金
属又はＩＴＯ（Ｉｎ₂ Ｏ₃ −ＳｎＯ₂ ）、酸化錫、酸化
銀、酸化亜鉛、酸化バナジウム等の金属酸化物からなる
導電性薄膜などが挙げられる。この膜の膜厚は、通常１
００〜５，０００オングストローム、好ましくは５００
〜３，０００オングストロームの範囲にあり、表面抵抗
（抵抗率）は、通常０．５〜５００Ω／ｃｍ² 、好まし
くは１〜５０Ω／ｃｍ² の範囲にある。導電性薄膜の形
成方法には、任意の方法が採用可能であって、薄膜を構
成する金属又は金属酸化物等の種類により、適宜な方法
が選択できる。通常は真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、あるいはゾルゲル法等が採用
される。この際、膜厚は薄膜の透明性が損なわれない範
囲で選択されることは勿論である。導電性薄膜には、酸
化還元能の付与、導電性の向上、電気二重層容量の付与
の目的で、部分的に不透明な電極活性物質を付与するこ
ともできるが、その付与量は薄膜全体の透明性が損なわ
れない範囲で選ばれる。不透明な電極活性物質として
は、例えば、銅、銀、金、白金、鉄、タングステン、チ
タン、リチウム等の金属；ポリアニリン、ポリチオフェ
ン、ポリピロール、フタロシアニンなどの酸化還元能を
有する有機物；活性炭、グラファイトなどの炭素材、Ｖ
₂ Ｏ₅、ＭｎＯ₂ 、ＮｉＯ、Ｉｒ₂ Ｏ₃ などの金属酸化
物またはこれらの混合物が挙げられる。そして、電極活
性物質を導電性薄膜に結着させるためには、任意の樹脂
バインダーを使用することができる。導電性薄膜上に不
透明な電極活性物質等を付与した一例としては、ＩＴＯ
薄膜上に、活性炭素繊維、グラファイト、アクリル樹脂
等からなる組成物の塗膜を、ストライプ状またはドット
状等の微細パターンを設けたものがあり、他の一例とし
ては金（Ａｕ）薄膜上に、Ｖ₂ Ｏ₅ 、アセチレンブラッ
ク、ブチルゴム等からなる組成物の塗膜をメッシュ状に
設けたものがある。本発明の反射性電極層は、鏡面を有
し、しかも電極として電気化学的に安定な機能を発揮す
る薄膜を意味し、そのような薄膜としては、例えば、
金、白金、タングステン、タンタル、レニウム、オスミ
ウム、イリジウム、銀、ニッケル、パラジウム等の金属
膜や、白金−パラジウム、白金−ロジウム、ステンレス
等の合金膜が挙げられる。このような鏡面を備えた薄膜
の形成には、任意の方法を採用可能であって、例えば、
真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング
法などを適宜採用することができる。反射性電極層を設
ける基板は透明であるか、不透明であるかを問わない。
従って、反射性電極層を設ける基板としては、先に例示
した透明基板の他、透明でない各種のプラスチック、ガ
ラス、木材、石材等が使用可能である。本発明で言う反
射板または反射層は、鏡面を有する基板又は薄膜を意味
し、例えば、銀、クロム、アルミニウム、ステンレス等
の板状体又はその薄膜を意味する。基板自体が反射層と
電極機能を兼ね備える板状体としては、上記反射性電極
層として例示したもののうち、自己支持性があるものが
挙げられる。

【０００５】次に本発明のエレクトロクロミック層につ
いて説明する。本発明のエレクトロクロミック層の特徴
は、下記の一般式（１）で表される繰り返し単位からな
る重合体（重合体(I) ）と、下記の一般式（２）で表さ
れる繰り返し単位からなる重合体（重合体(II)）を含有
しているか、あるいは、一般式（１）で表される繰り返
し単位と、一般式（２）で表される繰り返し単位を有す
る共重合体（共重合体(III) ）を含有している点、もし
くは、下記の一般式（３）で表される繰り返し単位から
なる重合体（重合体(IV)）と、下記の一般式（２）で表
される繰り返し単位からなる重合体（重合体(II)）を含
有しているか、あるいは、一般式（３）で表される繰り
返し単位と、一般式（２）で表される繰り返し単位、さ
らに所望により一般式（１）で表される繰り返し単位を
有する共重合体（共重合体(V) ）を含有している点にあ
る。

【化９】 一般式（１）において、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異
なってもよく、それぞれ個別にハロゲンアニオン、Ｃｌ
Ｏ₄ ^- 、ＢＦ₄ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^-、ＣＨ₃
（Ｃ₆ Ｈ₄ ）ＳＯ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、
ハロゲンアニオンとしては、Ｆ^- 、Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ
^- 等が挙げられる。Ｒ¹ は水素または炭素数１〜５のア
ルキル基を示し、このアルキル基としては、メチル基、
エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等があげられる。
Ｒ¹ は水素又はメチル基であることが特に好ましい。Ｒ
² は炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜８の炭化水
素残基を示し、例えば２価のアルキレン基、アラルキレ
ン基、などの炭化水素基であり、具体的には、 等を挙げることができる。なかでも−ＣＨ₂ −であるこ
とが特に好ましい。Ｒ³ は炭素数１〜２０、好ましくは
３〜８のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を
示し、アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｉ−
プロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等が、アラルキ
ル基としては、ベンジル基等が例示できる。Ａｒ¹ は２
価の芳香族炭化水素残基を示し、炭素数６〜２０、好ま
しくは６〜１２のものが挙げられ、具体的には、フェニ
レン基（o-、m-、p-）、置換フェニレン基（置換基とし
ては、様々なものが挙げられるが、典型的にはアルキル
置換フェニレン基等）、ビフェニレン基、ナフチレン基
などが挙げられる。なかでも、m-またはp-位のフェニレ
ン基が特に好ましい。重合体(I) は一般式（１）で表さ
れる繰り返し単位を２個以上有し、通常は２〜５００
個、好ましくは２〜１００個、さらに好ましくは５〜５
０個有し、実質的に線状重合体である。

【化１０】 一般式（２）において、Ｒ⁴ は水素または炭素数１〜５
のアルキル基を示し、このアルキル基としては、メチル
基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が挙げられ
る。Ｒ⁴ は水素またはメチル基であることが特に好まし
い。Ｒ⁵ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ およびＲ⁹ は、水素原子、炭素数
１〜２０、好ましくは１〜１０の炭化水素基または炭化
水素残基を示し、それぞれ同一でも異なっても良い。こ
の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基等のアルキル基、トリル基、エチルフェニル基等のア
ルキルフェニル基、フェニル基等のアリール基、アラル
キル基などが挙げられ、また炭化水素残基としては、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基などのアルコキ
シフェニル基などが挙げられる。Ａｒ² 、Ａｒ³ は同じ
でも異なっても良く、２価の芳香族炭化水素残基を示
し、炭素数６〜２０、好ましくは６〜１２のものが挙げ
られ、具体的には、フェニレン基（o-、m-、p-）、置換
フェニレン基（置換基としては、Ｒ⁵ と同様なものが挙
げられるが、典型的にはアルキル置換フェニレン基
等）、ビフェニレン基、ナフチレン基などが挙げられ
る。ｃは０以上の整数であり、通常０〜２０、好ましく
は０〜１０、更に好ましくは０〜５である。ｄは１以上
であり、通常１〜２０、好ましくは１〜５である。重合
体(II)は一般式（２）での繰り返し単位を２個以上有
し、通常は２〜５００個、好ましくは５〜１００個有
し、実質的に線状重合体である。

【化１１】 一般式（３）において、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異
なってもよく、それぞれ個別にハロゲンアニオン、Ｃｌ
Ｏ₄ ^- 、ＢＦ₄ ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^-、ＣＨ₃
（Ｃ₆ Ｈ₄ ）ＳＯ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、
ハロゲンアニオンとしては、Ｆ^- 、Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ
^- 等が挙げられる。Ｒ¹⁰、Ｒ¹²は同じでも異なっても良
く、水素または炭素数１〜５のアルキル基を示し、この
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｉ−プロピ
ル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ｎ−ペンチル基等が挙げられる。Ｒ¹⁰、Ｒ¹²は水素又は
メチル基であることが特に好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹³は同じ
でも異なっても良く、炭素数１〜１０の炭化水素残基を
示し、具体的には、 等を挙げることができる。なかでも−ＣＨ₂ −であるこ
とが特に好ましい。Ａｒ⁴ 、Ａｒ⁵ は同じでも異なって
も良く、２価の芳香族炭化水素残基を示し、具体的に
は、フェニレン基（o-、m-、p-）、置換フェニレン基
（置換基としては、様々なものが挙げられるが、典型的
にはアルキル置換フェニレン基等）、ビフェニレン基な
どが挙げられる。なかでも、m-またはp-位のフェニレン
基が特に好ましい。重合体(IV) は一般式（３）で表さ
れるそれぞれの繰り返し単位をそれぞれ２個以上有し、
通常は２〜５００個、好ましくは２〜１００個、さらに
好ましくは５〜５０個それぞれ有し、実質的に線状重合
体である。エレクトロクロミック層に含まれるエレクト
ロクロミック物質が、重合体(I)と重合体(II)との混合
体で構成される場合、重合体(I) ：重合体(II)の混合割
合（ビオロゲン構造：フェニレンアミン構造［モル組成
比］）は任意に選ぶことができるが、通常は１：５００
〜１００：１、好ましくは１：５０〜１０：１の範囲に
ある。また、重合体(IV)と重合体(II)との混合体で構成
される場合、重合体(IV)：重合体(II)の混合割合（ビオ
ロゲン構造：フェニレンアミン構造［モル組成比］）は
任意に選ぶことができるが、通常は１：５００〜１０
０：１、好ましくは１：５０〜１０：１の範囲にある。
エレクトロクロミック物質が共重合体(III) で構成され
る場合も、共重合体(III) における一般式（１）の繰り
返し単位：一般式（２）の繰り返し単位の比率（ビオロ
ゲン構造：フェニレンアミン構造［モル組成比］）は任
意に選ぶことができるが、通常は１：５００〜１００：
１、好ましくは１：５０〜１０：１の範囲にある。そし
て、共重合体(III) は各繰り返し単位をそれぞれ２個以
上有し、通常は２〜５００個、好ましくは５〜１００個
有している。また、エレクトロクロミック物質が共重合
体(V) で構成される場合、共重合体(V) における一般式
（３）の繰り返し単位：一般式（２）の繰り返し単位の
比率（ビオロゲン構造：フェニレンアミン構造［モル組
成比］）は任意に選ぶことができるが、通常は１：５０
０〜１００：１、好ましくは１：５０〜１０：１の範囲
にある。そして、共重合体(V) は各繰り返し単位をそれ
ぞれ２個以上有し、通常は２〜５００個、好ましくは２
〜１００個有している。また、共重合体(V) において、
一般式（１）で表される構造単位も含有する場合、共重
合体(V) における一般式（１）の繰り返し単位：一般式
（３）の繰り返し単位の比率［モル組成比］は任意に選
ぶことができるが、通常は９９：１〜１：９９、好まし
くは７０：３０〜３０：７０の範囲が望ましい。共重合
体(III) および共重合体(V) は、各々ブロック共重合
体、ランダム共重合体、交互共重合体のいずれであって
も差し支えない。

【０００６】重合体(I) 、重合体(II)、共重合体(III)
、重合体(IV) および共重合体(V)は、公知の方法を利
用して容易に製造することができるが、その一例を挙げ
ると次の通りである。重合体(I) は、まず、ビピリジル
とＲ³ Ｙとを実質的に１：１の比で反応させ、下記の一
般式（４）で表されるモノ置換ビピリジルを得た後、反
応性基をもつ下記の一般式（５）で表される化合物と反
応させ、重合体(I) の前駆体モノマーである下記の化合
物（６）を製造し、次いで、前駆体モノマーを有機溶媒
中で、過酸化ベンゾイル等の公知の開始剤を用いてラジ
カル重合させることにより、容易に製造することができ
る。

【化１２】

【化１３】

【化１４】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- 、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は一般式
（１）におけるＸ^- 、Ｙ^- 、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ と同一
の基を示す。） 重合体(II)は、まず、下記の一般式（７）で表されるア
ミン化合物と、反応性基をもつ下記の一般式（８）で表
される化合物とを反応させ、重合体(II)の前駆体モノマ
ーである下記の化合物（９）を製造し、ついで、前駆体
モノマーを有機溶媒中で、過酸化ベンゾイル等の公知の
開始剤を用いてラジカル重合させる方法で容易に製造す
ることができる。

【化１５】

【化１６】

【化１７】 （式中、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ａｒ² 及びＡ
ｒ³ は、一般式（２）におけるＲ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁷ 、
Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ と同一の基を示し、Ｚは
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンを示す。） 一般式（８）で表される化合物の具体例としてはアクリ
ル酸クロライド、メタクリル酸クロライドなどを挙げる
ことができる。一般式（７）で表される化合物としては
フェニレンジアミン、Ｎ−メチルフェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチルフェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’
−トリメチルフェニレンジアミン、Ｎ−エチルフェニレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチルフェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリエチルフェニレンジアミン、Ｎ−フ
ェニルフェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルフェ
ニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリフェニルフェニレ
ンジアミン、Ｎ−トリルフェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−トリルフェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリトリ
ルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−
Ｎ’−フェニルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノ
フェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルフェニレンジアミン
、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−ト
リフェニルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノフェ
ニル）−Ｎ’，Ｎ’−ジフェニルフェニレンジアミン、
Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ−トリルフェニレンジ
アミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ−フェニル−
Ｎ’−トリルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノフ
ェニル）−Ｎ−トリル−Ｎ’−フェニルフェニレンジア
ミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジトリ
ルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−
Ｎ’，Ｎ’−ジトリルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−
アミノフェニル）−Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジトリ
ルフェニレンジアミン 、Ｎ−（４−アミノフェニル）
−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ’−トリルフェニレンジア
ミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−
トリトリルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノフェ
ニル）−Ｎ−メチルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−ア
ミノフェニル）−Ｎ−フェニル−Ｎ’−メチルフェニレ
ンジアミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ−メチル
−Ｎ’−フェニルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミ
ノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルフェニレンジアミ
ン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ’，Ｎ’−ジメチ
ルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−
Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジメチルフェニレンジアミ
ン 、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェ
ニル−Ｎ’−メチルフェニレンジアミン、Ｎ−（４−ア
ミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルフェニレ
ンジアミン、ベンジジン、Ｎ−メチルベンジジン、Ｎ，
Ｎ’−ジメチルベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル
ベンジジン、Ｎ−エチルベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ジエチ
ルベンジジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリエチルベンジジン、
Ｎ−フェニルベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジ
ジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリフェニルベンジジン、Ｎ−ト
リルベンジジン、Ｎ，Ｎ’−トリルベンジジン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’−トリトリルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフ
ェニル）−Ｎ’−フェニルベンジジン、Ｎ−（４−アミ
ノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン 、Ｎ
−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリフェ
ニルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ’，
Ｎ’−ジフェニルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニ
ル）−Ｎ−トリルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニ
ル）−Ｎ−フェニル−Ｎ’−トリルベンジジン、Ｎ−
（４−アミノフェニル）−Ｎ−トリル−Ｎ’−フェニル
ベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−
ジトリルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−
Ｎ’，Ｎ’−ジトリルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフ
ェニル）−Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’−ジトリルベンジ
ジン 、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフ
ェニル−Ｎ’−トリルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフ
ェニル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリトリルベンジジン、Ｎ
−（４−アミノフェニル）−Ｎ−メチルベンジジン、Ｎ
−（４−アミノフェニル）−Ｎ−フェニル−Ｎ’−メチ
ルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−Ｎ−メチ
ル−Ｎ’−フェニルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェ
ニル）−Ｎ，Ｎ’−ジメチルベンジジン、Ｎ−（４−ア
ミノフェニル）−Ｎ’，Ｎ’−ジメチルベンジジン、Ｎ
−（４−アミノフェニル）−Ｎ−フェニル−Ｎ’，Ｎ’
−ジメチルベンジジン、Ｎ−（４−アミノフェニル）−
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ’−メチルベンジジン、Ｎ−
（４−アミノフェニル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチル
ベンジジン等が挙げられる。共重合体(III) は、一般式
（６）で表される化合物と一般式（９）で表される化合
物とを均一に溶解させ得る有機溶媒中で、アゾビスイソ
ブチロニトリル等の公知の開始剤を用いてラジカル重合
させる方法で容易に製造することができる。重合体(IV)
は、ビピリジルと一般式（１０）で表される化合物と
を実質的に１：１の比で反応させ、下記の一般式（１
１）で表されるモノ置換ビピリジルを得た後、反応性基
をもつ下記の一般式（１２）で表される化合物と１：１
の比で反応させ、重合体(IV) の前駆体モノマーである
下記の化合物（３０）を製造し、次いで、前駆体モノマ
ーを有機溶媒中で、過酸化ベンゾイル等の公知の開始剤
を用いてラジカル重合させることにより、容易に製造す
ることができる。

【化１８】

【化１９】

【化２０】

【化２１】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ａｒ⁴
及びＡｒ⁵ は一般式（３）で定義したところに同じ。） 共重合体(V) は、一般式（１３）で表される化合物と一
般式（９）で表される化合物とを均一に溶解させ得る有
機溶媒中で、アゾビスイソブチロニトリル等の公知の開
始剤を用いてラジカル重合させる方法で容易に製造する
ことができる。

【０００７】一般に、エレクトロクロミック素子は、少
なくとも１枚は透明である２枚の導電基板の間にエレク
トロクロミック物質の層を配し、さらに、イオン伝導性
物質の層、即ち電解質層を設けるのが通常であるが、本
発明のエレクトロクロミック素子にあっては、エレクト
ロクロミック物質を含有する層が電解質層を兼ねている
こと、換言すれば、エレクトロクロミック層と電解質層
が実質的に同一の単一層であることが好ましい。この好
ましい態様のエレクトロクロミック発色層は、電圧を印
可することで容易に酸化還元され着消色する。エレクト
ロクロミック発色層の厚さは、通常１μｍ〜３ｍｍ、好
ましくは１０μｍ〜１ｍｍの範囲にある。本発明に於い
て、イオン伝導性物質とは、エレクトロクロミック層に
着色、消色、色変化等を起こさせることができる物質を
指し、このイオン伝導性物質は、通常、室温で１×１０
^-7Ｓ／ｃｍ以上のイオン伝導度を示すことが好ましい。
本発明で使用可能なイオン伝導性物質は、液系イオン伝
導性物質、ゲル化液系イオン伝導性物質及び固体系イオ
ン伝導性物質に大別される。

【０００８】液系イオン伝導性物質は、溶媒に塩類、酸
類、アルカリ類等の支持電解質を溶解して調製すること
ができる。この溶媒としては、支持電解質を溶解できる
ものであれば特に限定されないが、特に極性をするもの
が好ましい。具体的には、水が使用できる外、メタノー
ル、エタノール、プロピレンカーボネート、エチレンカ
ーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタ
ン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロ
ラクトン、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメト
キシエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、プ
ロピオンニトリル、グルタロニトリル、アジポニトリ
ル、メトキシアセトニトリル、ジメチルアセトアミド、
メチルピロリジノン、ジメチルスルホキシド、ジオキソ
ラン、スルホラン、トリメチルホスフェイト、ポリエチ
レングリコール等の有機極性溶媒が使用可能で、なかで
も、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、
ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタン、アセトニト
リル、γ−ブチロラクトン、スルホラン、ジオキソラ
ン、ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、テトラ
ヒドロフラン、アジポニトリル、メトキシアセトニトリ
ル、ジメチルアセトアミド、メチルピロリジノン、ジメ
チルスルホキシド、ジオキソラン、スルホラン、トリメ
チルホスフェイト、ポリエチレングリコールなどの有機
極性溶媒が望ましい。各溶媒は単独使用でも混合使用で
も差し支えない。支持電解質としての塩類は、特に限定
されず、各種のアルカリ金属塩やアルカリ土類金属塩な
どの無機イオン塩、４級アンモニウム塩、環状４級アン
モニウム塩などが使用可能である。具体的には、ＬｉＣ
ｌＯ₄ 、ＬｉＳＣＮ、ＬｉＢＦ₄、ＬｉＡｓＦ₆ 、Ｌｉ
ＣＦ₃ ＳＯ₃ 、ＬｉＰＦ₆ 、ＬｉＩ、ＮａＩ、ＮａＳＣ
Ｎ、ＮａＣｌＯ₄ 、ＮａＢＦ₄ 、ＮａＡｓＦ₆ 、ＫＳＣ
Ｎ、ＫＣｌ等のＬｉ、Ｎａ、Ｋのアルカリ金属塩：（Ｃ
Ｈ₃ ）₄ ＮＢＦ₄ 、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄ ＮＢＦ₄ 、（ｎ−Ｃ
₄ Ｈ₉ ）₄ ＮＢＦ₄ 、（Ｃ₂ Ｈ₅ ）₄ ＮＢｒ、（Ｃ₂ Ｈ
₅ ）₄ ＮＣｌＯ₄ 、（ｎ−Ｃ₄ Ｈ₉ ）₄ ＮＣｌＯ₄ 等の
４級アンモニウム塩および環状４級アンモニウム塩等が
各種塩類を挙げることができる。支持電解質としての酸
類は、特に限定されず、無機酸、有機酸などが使用可能
である。具体的には、硫酸、塩酸、リン酸類、スルホン
酸類、カルボン酸類などが挙げられる。支持電解質とし
てのアルカリ類も、特に限定されず、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが使用でき
る。液系イオン伝導性物質を２枚の導電基板の間の所望
個所に注入するには、真空注入法や大気注入法が採用で
きるほか、導電基板を対向させてその周縁部をシール
し、基板間の間隙にメニスカス法によって注入する方法
が採用可能である。

【０００９】ゲル化液系イオン伝導性物質は、上記の液
系イオン伝導性物質に、さらにポリマーを含有させた
り、ゲル化剤を含有させたすることで調製することがで
きる。この場合のポリマーとしては、例えば、ポリアク
リロニトリル、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレンオキサイド、ポリウレタン、ポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、ポリアミド、ポリ
アクリルアミド、セルロース、ポリエステル、ポリプロ
ピレンオキサイド、ナフィオンなどが使用可能である。
またゲル化剤としては、例えば、オキシエチレンメタク
リレート、オキシエチレンアクリレート、ウレタンアク
リレート、アクリルアミド、寒天などが使用可能であ
る。ゲル化液系イオン伝導性物質を導電基板の間の所望
個所に注入するには、真空注入法や大気注入法が採用で
きるほか、導電基板を対向させてその周縁部をシール
し、基板間の間隙にメニスカス法によって注入する方法
が採用可能である。

【００１０】固体系イオン伝導性物質には、室温で固体
であり、かつイオン導電性を有する物質が使用でき、例
えば、ポリエチレンオキサイド、オキシエチレンメタク
リレートのポリマー、ナフィオン、ポリスチレンスルホ
ン酸、Ｌｉ₃ Ｎ、Ｎａ- β-Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｓｎ（ＨＰＯ
₄ ）₂ ・Ｈ₂ Ｏなどが使用可能である。特にオキシアル
キレンメタクリレート系化合物、オキシアルキレンアク
リレート系化合物またはウレタンアクリレート系化合物
を重合することによって得られる高分子化合物（以下、
これを高分子固体電解質と呼ぶ）は、固体系イオン伝導
性物質として好ましい。

【００１１】高分子固体電解質の第１の例は、下記の一
般式（１４）で示されるウレタンアクリレートと、先に
示した有機極性溶媒と支持電解質を含む組成物（以下組
成物Ａと略す）を固化することにより得られる高分子化
合物である。

【化２２】 （式中、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は同一または異なる基であっ
て、下記の一般式（１５）〜（１７）から選ばれる基を
示し、Ｒ¹⁶およびＲ¹⁷は同一または異なる基であって、
炭素数１〜２０、好ましくは２〜１２の２価炭化水素残
基を示し、Ｙはポリエーテル単位、ポリエステル単位、
ポリカーボネート単位またはこれらの混合単位を示す。
またｅは１〜１００、好ましくは１〜５０、さらに好ま
しくは１〜２０の範囲の整数を示す。）

【化２３】

【化２４】

【化２５】 一般式（１５）〜（１７）に於いて、Ｒ¹⁸〜Ｒ²⁰は同一
または異なる基であって、水素原子または炭素数１〜３
のアルキル基を示し、またＲ²¹は炭素数１〜２０の、好
ましくは２〜８の２〜４価有機残基を示す。この有機残
基としては、アルキルトリル基、アルキルテトラリル基
及び下記の一般式（１８）で示されるアルキレン基等の
炭化水素残基が挙げられる。

【化２６】 一般式（１８）に於いて、Ｒ²²は炭素数１〜３のアルキ
ル基または水素を示し、ｆは０〜６の整数を示す。ｆが
２以上の場合、Ｒ²²は同一でも異なっても良い。一般式
（１８）で示されるアルキレン基等の炭化水素残基は、
水素原子の一部が炭素数１〜６、好ましくは１〜３のア
ルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリールオキシ基など
の含酸素炭化水素基で置換されていて差し支えない。一
般式（１５）〜（１７）に於けるＲ²¹の具体例を摘記す
ると、 等を好ましく挙げることができる。一般式（１４）のＲ
¹⁶及びＲ¹⁷で示される２価炭化水素残基には、鎖状２価
炭化水素基、芳香族炭化水素基、含脂環炭化水素基など
が含まれるが、鎖状２価炭化水素基としては、先の一般
式（１８）で示されるアルキレン基等を挙げることがで
き、芳香族炭化水素基および含脂環炭化水素基として
は、下記の一般式（１９）〜（２１）で示される炭化水
素基等が挙げられる。

【化２７】

【化２８】

【化２９】 一般式（１９）〜（２１）に於いて、Ｒ²³およびＲ²⁴は
同一または異なる基であって、フェニレン基、置換フェ
ニレン基（アルキル置換フェニレン基等）、シクロアル
キレン基、置換シクロアルキレン基（アルキル置換シク
ロアルキレン基等）を示す。Ｒ²⁵〜Ｒ²⁸は同一または異
なる基であって、水素原子または炭素数１〜３のアルキ
ル基を示す。また、ｇは１〜５の整数を示す。一般式
（１４）に於けるＲ¹⁶およびＲ¹⁷の具体例は、下記の一
般式（２２）〜（２８）で例示できる。

【化３０】

【化３１】

【化３２】

【化３３】

【化３４】

【化３５】

【化３６】 一般式（１４）に於けるＹはポリエーテル単位、ポリエ
ステル単位およびポリカーボネート単位またはこれらの
混合単位を示すが、このポリエーテル単位、ポリエステ
ル単位、ポリカーボネート単位及びこれらの混合単位と
しては、それぞれ下記の一般式（ａ）〜（ｄ）で示され
る単位を挙げることができる。

【化３７】

【化３８】

【化３９】

【化４０】 一般式（ａ）〜（ｄ）に於いて、Ｒ²⁹〜Ｒ³⁴は同一また
は異なる基であって、炭素数１〜２０、好ましくは２〜
１２の２価の炭化水素残基を示し、ｈは２〜３００、好
ましくは１０〜２００の整数を、ｉは１〜３００、好ま
しくは２〜２００の整数を、ｊは１〜２００、好ましく
は２〜１００の整数を、ｋは１〜２００、好ましくは２
〜１００の整数を、ｌは１〜３００、好ましくは１０〜
２００の整数をそれぞれ示す。Ｒ²⁹〜Ｒ³⁴は、直鎖また
は分岐のアルキレン基であることが好ましく、さらに言
えば、Ｒ³¹はメチレン基、エチレン基、トリメチレン
基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチ
レン基、プロピレン基のいずれかであることが、Ｒ²⁹〜
Ｒ³⁰およびＲ³²〜Ｒ³⁴はエチレン基、プロピレン基のい
ずれかであることが好ましい。また、一般式（ａ）〜
（ｄ）に於いて、各単位は同一のいわゆる単独重合で
も、異なる単位の共重合でも、いずれのものでもよい。
一般式（１４）で示されるウレタンアクリレートの分子
量は、通常、重量平均分子量で２，５００〜３０，００
０、好ましくは３，０００〜２０，０００の範囲にあ
る。また、ウレタンアクリレート１分子中の重合官能基
数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４が望
ましい。一般式（１４）で示されるウレタンアクリレー
トは、公知の方法により容易に製造することができ、そ
の製法は特に限定されるものではない。

【００１２】上記した組成物Ａを調製する際に使用する
有機極性溶媒（有機非水溶媒）の量は、ウレタンアクリ
レート１００重量部に対して通常１００〜１２００重量
部、好ましくは２００〜９００重量部の範囲で選ばれ
る、有機非水溶媒の使用量が少なすぎると、イオン伝導
度が低下し、なく、また有機非水溶媒の使用量が多すぎ
ると、組成物Ａが固化した後の機械強度が低下してしま
う場合がある。支持電解質には先に例示したもの使用で
き、その使用量は有機非水溶媒に対し０．１〜３０重量
％、好ましくは１〜２０重量％の範囲で選ばれる。組成
物Ａは、基本的には、ウレタンアクリレートと有機非水
溶媒（有機極性溶媒）と支持電解質からなる基本成分を
固化することにより得られるが、この組成物には本発明
の目的を損なわない範囲で任意成分を必要に応じて加え
ることができ、そうした任意成分としては、例えば架橋
剤や重合開始剤（光または熱）などが挙げられる。組成
物Ａを２枚の導電基板の間の所望個所に注入するには、
真空注入法や大気注入法が採用できるほか、導電基板を
対向させてその周縁部をシールし、基板間の間隙にメニ
スカス法によって組成物Ａを注入する方法が採用可能で
ある。そして、基板間に注入された組成物Ａを適宜な方
法で固化させることにより、高分子固体電解質層を形成
させることができる。重合性成分または架橋性成分など
が、重合（重縮合）ないしは架橋反応によって硬化し、
組成物全体が常温において実質的に流動しない状態とな
ることをいう。なお、この場合ネットワーク状の基本構
造を有する。

【００１３】高分子固体電解質の第２の例は、アクリロ
イル変性ポリアルキレンオキシドと、上記した有機極性
溶媒と支持電解質を含む組成物（以下組成物Ｂと略す）
を固化することにより得られる高分子化合物である。上
記アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドの一例は、
一般式（２９）で表される単官能アクリロイル変性ポリ
アルキレンオキシドである。

【化４１】 一般式（２９）に於いて、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷およびＲ³⁸
は、各々個別に水素または炭素数１〜５のアルキル基を
示し、そのアルキル基としては、メチル基、エチル基、
i-プロピル基、n-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル
基、n-ペンチル基等が挙げられ、特にＲ³⁵〜Ｒ³⁷はそれ
ぞれ水素又はメチル基であることが、Ｒ³⁸は水素、メチ
ル基又はエチル基であることが好ましい。一般式（２
９）のｍは、１以上の整数、通常１≦ｍ≦１００、好ま
しくは２≦ｍ≦５０、さらに好ましくは２≦ｍ≦３０の
範囲の整数を示す。一般式（２９）で示される化合物の
具体例としては、オキシアルキレンユニットを１〜１０
０個、好ましくは２〜５０個、さらに好ましくは１〜２
０個の範囲で持つメトキシポリエチレングリコールメタ
クリレート、メトキシポリプロピレングリコールメタク
リレート、エトキシポリエチレングリコールメタクリレ
ート、エトキシポリプロピレングリコールメタクリレー
ト、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メ
トキシポリプロピレングリコールアクリレート、エトキ
シポリエチレングリコールアクリレート、エトキシポリ
プロピレングリコールアクリレート、またはこれらの混
合物を挙げることができる。一般式（２９）のｍが２以
上の場合、オキシアルキレンユニットは互いに異なるい
わゆる共重合オキシアルキレンユニットを持つものでも
よく、その具体例としては、例えば、オキシエチレンユ
ニットを１〜５０個、好ましくは１〜２０個の範囲で持
ち、かつオキシプロピレンユニットを１〜５０個、好ま
しくは１〜２０個の範囲で持つところの、メトキシポリ
（エチレン・プロピレン）グリコールメタクリレート、
エトキシポリ（エチレン・プロピレン）グリコールメタ
クリレート、メトキシポリ（エチレン・プロピレン）グ
リコールアクリレート、エトキシポリ（エチレン・プロ
ピレン）グリコールアクリレート、またはこれらの混合
物が挙げられる。

【００１４】本発明で使用可能なアクリロイル変性ポリ
アルキレンオキシドの他の例は、一般式（３０）で示さ
れる２官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド及
び一般式（３１）で表されるところの、３官能以上の多
官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドなどが挙
げられる。

【化４２】

【化４３】 一般式（３０）において、Ｒ³⁹、Ｒ⁴⁰、Ｒ⁴¹およびＲ⁴²
は、各々個別に水素または炭素数１〜５のアルキル基を
示す、このアルキル基としては、メチル基、エチル基、
i-プロピル基、n-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチル
基、n-ペンチル基等が挙げられる。特にＲ³⁹〜Ｒ⁴²はそ
れぞれ水素又はメチル基であることが好ましい。一般式
（３０）中のｎは、１以上の整数、通常１≦ｎ≦１０
０、好ましくは２≦ｎ≦５０、さらに好ましくは２≦ｎ
≦３０の範囲の整数を示す。一般式（３０）で示される
２官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドの具体
例は、オキシアルキレンユニットを１〜１００個、好ま
しくは２〜５０個、さらに好ましくは１〜２０個の範囲
で持つポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
プロピレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコール
ジメタクリレート、またはこれらの混合物等を挙げるこ
とができる。ｎが２以上の場合、オキシアルキレンユニ
ットが互いに異なるいわゆる共重合オキシアルキレンユ
ニットを持つものでもよく、その例としては、例えば、
オキシエチレンユニットを１〜５０個、好ましくは１〜
２０個の範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを
１〜５０個、好ましくは１〜２０個の範囲で持つところ
の、ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールジメタク
リレート、ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールジ
アクリレート、またはこれらの混合物などが挙げられ
る。一般式（３１）に於いて、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴およびＲ
⁴⁵は、各々個別に水素または炭素数１〜５のアルキル基
を示し、このアルキル基としては、メチル基、エチル
基、i-プロピル基、n-プロピル基、n-ブチル基、t-ブチ
ル基、n-ペンチル基等が挙げられる。Ｒ⁴³〜Ｒ⁴⁵は水素
又はメチル基であることが好ましい。4 一般式（３
１）のｐは１以上の整数、通常１≦ｐ≦１００、好まし
くは２≦ｐ≦５０さらに好ましくは２≦ｐ≦３０の範囲
の整数を示し、ｑは連結基Ｌの連結数を示し、２≦ｑ≦
４の整数を示す。連結基Ｌは、通常、炭素数１〜３０、
好ましくは１〜２０の２価、３価または４価の炭化水素
基である。２価炭化水素基としては、アルキレン基、ア
リーレン基、アリールアルキレン基、アルキルアリーレ
ン基、またはこれらを基本骨格として有する炭化水素基
などが挙げられ、具体的には、 などが挙げられる。３価の炭化水素基としては、アルキ
ルトリル基、アリールトリル基、アリールアルキルトリ
ル基、アルキルアリールトリル基、またはこれらを基本
骨格として有する炭化水素基などが挙げられ、具体的に
は などが挙げられる。また、４価の炭化水素基としては、
アルキルテトラリル基、アリールテトラリル基、アリー
ルアルキルテトラリル基、アルキルアリールテトラリル
基、またはこれらを基本骨格として有する炭化水素基な
どが挙げられ、具体的には 等が挙げられる。多官能アクリロイル変性ポリアルキレ
ンオキシドの具体例としては、オキシアルキレンユニッ
トを１〜１００個、好ましくは２〜５０個、さらに好ま
しくは１〜２０個の範囲で持つトリメチロールプロパン
トリ（ポリエチレングリコールアクリレート）、トリメ
チロールプロパントリ（ポリエチレングリコールメタク
リレート）、トリメチロールプロパントリ（ポリプロピ
レングリコールアクリレート）、トリメチロールプロパ
ントリ（ポリプロピレングリコールメタクリレート）、
テトラメチロールメタンテトラ（ポリエチレングリコー
ルアクリレート）、テトラメチロールメタンテトラ（ポ
リエチレングリコールメタクリレート）、テトラメチロ
ールメタンテトラ（ポリプロピレングリコールアクリレ
ート）、テトラメチロールメタンテトラ（ポリプロピレ
ングリコールメタクリレート）、２，２−ビス［４−
（アクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン、
２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フ
ェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（アクリロキシ
ポリイソプロポキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビ
ス［４−（メタクリロキシポリイソプロポキシ）フェニ
ル］プロパン、またはこれらの混合物等を挙げることが
できる。また、ｐが２以上の場合、オキシアルキレンユ
ニットが互いに異なるいわゆる共重合オキシアルキレン
ユニットを持つものでもよく、例えば、オキシエチレン
ユニットを１〜５０個、好ましくは１〜２０個の範囲で
持ち、かつオキシプロピレンユニットを１〜５０個、好
ましくは１〜２０個の範囲で持つところの、トリメチロ
ールプロパントリ（ポリ（エチレン・プロピレン）グリ
コールアクリレート）、トリメチロールプロパントリ
（ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールメタクリレ
ート）、テトラメチロールメタンテトラ（ポリ（エチレ
ン・プロピレン）グリコールアクリレート）、テトラメ
チロールメタンテトラ（ポリ（エチレン・プロピレン）
グリコールメタクリレート）、またはこれらの混合物な
どがその具体例である。一般式（２９）で表される単官
能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドと一般式
（３０）又は一般式（３１）で表される多官能アクリロ
イル変性ポリアルキレンオキシドは併用することができ
る。併用する場合、単官能アクリロイル変性ポリアルキ
レンオキシド／多官能アクリロイル変性ポリアルキレン
オキシドの重量比は通常０．０１／９９．９〜９９．９
／０．０１、好ましくは１／９９〜９９／１、さらに好
ましくは２０／８０〜８０／２０の範囲にある。組成物
Ｂを調製するに際しての極性有機溶媒の使用量は、アク
リロイル変性ポリアルキレンオキシドに対して通常５０
〜８００重量％、好ましくは１００〜５００重量％の範
囲にあり、支持電解質の使用量は、アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドおよび極性有機溶媒の重量和に対
して通常１〜３０重量％、好ましくは３〜２０重量％の
範囲である。上記組成物Ｂには、必要の応じて光重合開
始剤や熱重合開始剤を添加することができ、その使用量
はアクリロイル変性ポリアルキレンオキシドに対して通
常０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜３重量
％の範囲である。

【００１５】組成物Ｂを少なくとも１枚は透明な２枚の
導電基板の間の所望個所に注入するには、真空注入法や
大気注入法が採用できるほか、２枚の導電基板を対向さ
せてその周縁部をシールし、基板間の間隙にメニスカス
法によって組成物Ａを注入する方法が採用可能である。
そして、基板間に注入された組成物Ａを適宜な方法で固
化させることにより、高分子固体電解質層を形成させる
ことができる。重合性成分（単官能または多官能アクリ
ロイル変性ポリアルキレンオキシド）または架橋性成分
などが、重合（重縮合）ないしは架橋反応によって硬化
し、組成物全体が常温において実質的に流動しない状態
となることをいう。なお、この場合ネットワーク状の基
本構造を有する。

【００１６】以上説明した液系イオン伝導性物質、ゲル
化液系イオン伝導性物質並びに固体系イオン伝導性物質
は、本発明のエレクトロクロミック素子に必要な電解質
層を、エレクトロクロミック層とは個別に設ける際に使
用可能であるが、本発明にあっては、２枚の導電基板と
の間に挟持される単一層が、エレクトロクロミック層と
電解質層の両者の役割を担う態様が好ましい。この態様
の実現には、次の方法等を採用することができる。 イオン伝導性物質に液系又はゲル化液系を使用し、
これに上記した重合体(I) と重合体(II)を、あるいは共
重合体(III) を、あるいは重合体（IV）と重合体（II）
を、あるいは共重合体（V）を、均質に溶解又は分散さ
せるか、重合体(I) 及び重合体(II)または重合体（IV）
及び重合体（II）の前駆体モノマー又は共重合体(III)
または共重合体（V）の前駆体モノマーを、液系又はゲ
ル化液系イオン伝導性物質に溶かして重合させる方法。 イオン伝導性物質に固体系を、典型的には上記の高
分子固体電解質を使用し、その前駆体である組成物Ａ又
は組成物Ｂ中に、重合体(I) と重合体(II)あるいは重合
体（IV）と重合体（II）を、あるいは共重合体(III)あ
るいは共重合体（V）を均質に溶解又は分散させて、組
成物を固化させるか、あるいは組成物Ａ又は組成物Ｂ中
で、重合体(I) 及び重合体(II)または重合体（IV）及び
重合体（II）の前駆体モノマー又は共重合体(III) また
は共重合体（V）の前駆体モノマーを、重合させる方
法。

【００１７】本発明のエレクトロクロミック素子は、２
枚の導電基板の間に、エレクトロクロミック層と電解質
層（イオン伝導性物質層）を個別に挟持させたものであ
っても、同一層がエレクトロクロミック層と電解質層の
役割を兼備するものであっても良いが、ここではエレク
トロクロミック層と電解質層とを同一層で兼ねるエレク
トロクロミック素子の製造法を、図面に沿って説明す
る。図１に示すエレクトロクロミック素子は、透明基板
１とその表面に積層させた透明電極層２からなる透明導
電基板と、透明又は不透明な基板５とその表面に積層さ
せた透明、不透明または反射性導電基板４との間に、エ
レクトロクロミック層兼電解質層３を挟持させた構造に
あり、このエレクトロクロミック素子は次の方法で製造
することができる。まず、透明基板１上に透明電極層２
を形成して積層板Ａを、基板５上に透明、不透明または
反射性電極層４を形成して積層板Ｂを得る。次いで、積
層板Ａと積層板Ｂを電極層が向き合うよう、１〜１００
０μｍ程度の間隔で対向させ、注入口を除いた周縁をシ
ール材６でシールし、注入口付きの空セルを作成する。
続いて、本発明のエレクトロクロミック物質（重合体
(I) 及び重合体(II)、又は重合体（IV）及び重合体（I
I）、または共重合体(III)または共重合体（V） ）と、
イオン伝導性物質（通常液状）を、上記の注入口から注
入した後、ここを封止することで、図１に示すエレクト
ロクロミックミラーを製造することができる。積層板Ａ
と積層板Ｂを対向させる際には、両者の間隔を一定に確
保するためにスペーサーを用いることができる。スペー
サーとしては特に限定されないが、ガラス、ポリマー等
で構成されるビーズまたはシートを用いることができ
る。スペーサーは積層板の表面上に直接設けることもで
きる。イオン伝導性物質として本発明の固体系イオン伝
導性物質を使用した場合には、注入後組成物Ａ又は組成
物Ｂを硬化させるが、これには硬化剤を併用又は併用し
ない熱硬化法、光硬化法が利用できる。また、本発明の
エレクトロクロミック素子は、透明基板１上に透明電極
層２、エレクトロクロミック層兼イオン導電性物質層３
を、記載順に順次形成した積層体Ａ’と、基板５上に透
明、不透明または反射性電極層４を形成した積層体Ｂ’
をそれぞれ作成した後、積層体Ａ’のエレクトロクロミ
ック層兼イオン伝導性物質層３と、積層体Ｂ’の電極層
４とを密着させ、両積層体の周縁をシール材６でシール
する方法で製造することもできる。図２には表示素子や
エレクトロクロミック調光ガラスの例を示す。透明基板
１の一方の面に透明電極層２を形成した透明導電基板２
枚を、両基板の透明電極層が向き合うよう、適宜な間隔
で対向させ、この間隙にエレクトロクロミック層兼イオ
ン伝導性物質層３を挟持させた構造にある。図２に示す
表示素子やエレクトロクロミック調光ガラスは、２枚の
透明電極層同士を用いること以外は、図１に示すエレク
トロクロミック素子の場合と同様の手順で製造すること
ができる。図３はエレクトロクロミックミラーの例を示
す。透明基板１の一方の面に透明電極層２を形成した透
明導電基板と、透明基板１の一方の面に透明電極層２
を、他方の面に反射層７を形成した反射性導電基板と
を、両基板の透明電極層が向き合うよう、適宜な間隔で
対向させ、この間隙にエレクトロクロミック層兼イオン
伝導性物質層３を挟持させた構造にある。図３に示すエ
レクトロクロミックミラーは、１枚の透明基板１の一方
の面に透明電極層２を、もう一方の面に反射層７を形成
させること以外は、図１に示すエレクトロクロミック素
子の場合と同様の手順で製造することができる。本発明
のエレクトロクロミック素子には、必要に応じて、紫外
線反射層や紫外線吸収層などの紫外線カット層、素子全
体もしくは各膜層の表面保護を目的とするオーバーコー
ト層などを設けることができる。紫外線カット層を設置
する場合は、これを透明基板１の外界側もしくは透明電
極層側に、オーバーコート層を設置する場合は、これを
透明基板１の外界側や反射層７の外界側などに設けるこ
とが好ましい。

【００１８】

【発明の効果】本発明のエレクトロクロミック素子は、
特定の化合物を含有するエレクトロクロミック層を用い
ることにより応答速度が速く、十分な耐久性やメモリー
性を有する。本発明のエレクトロクロミック素子は、特
定の化合物を含有するエレクトロクロミック層を用い、
工程が簡便であるため、比較的容易にかつ安価に製造す
ることができ、また、係る化合物の仕様を変更すること
により着色濃度が容易に調節できるという優れた特徴を
有する。イオン伝導性物質層に固体電解質を用いること
が容易であり、従って、電解質溶液が飛び散ることがな
く、大型で安全性が高い素子を作ることができる。しか
も、本発明のエレクトロクロミック素子は、それぞれの
電極間に電圧を印加することによりエレクトロクロミッ
ク現象による発色・消色を起こすことができ、電圧印加
手段としては公知のものを利用することができる。以上
のことから、本発明のエレクトロクロミック素子は、表
示素子、調光ガラス、自動車等の防眩ミラー、あるいは
屋内で使用される装飾用ミラーなどのエレクトロクロミ
ックミラーなどに好適に使用することができる。

【００１９】

【実施例】以下に実施例を挙げ、本発明を具体的に説明
するが、本発明は実施例に制限されるものではない。 実施例１（１）エレクトロクロミック化合物の合成 アセトン中で、ビピリジルとベンジルクロライドとを等
モル量で反応させて、モノ置換体Ｎ−ベンジルビピリジ
ニウムクロライドを得た。このＮ−ベンジルビピリジニ
ウムクロライド５．６６ｇ（２０ｍｍｏｌ）を２−プロ
パノール１５０ｍｌに溶解させ、４−クロロメチルスチ
レン（４−ビニルベンジルクロライド）３．０５ｇ（２
０ｍｍｏｌ）と重合禁止材としてヒドロキノン５０ｍｇ
（０．４５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２４時間攪拌
し、式（３２）で示されるＮ−ベンジル−Ｎ’−ビニル
スチリルビピリジニウムジクロライドを得た。

【化４４】 （２）電子供与体化合物の合成 ５００ｍｌの３つ口フラスコにジフェニルアミン２５．
４ｇ（１５０ｍｍｏｌ）、セシウムフロライド２２．８
ｇ（１５０ｍｍｏｌ）を秤り取り、フラスコ内を窒素置
換して、ジメチルスルフォキシド２５０ｍｌを加えて攪
拌した。１−フロロ−４−ニトロベンゼン２１．３ｇ
（１５０ｍｍｏｌ）を加えてオイルバスで１２０℃に加
熱し、２４時間攪拌を継続した。反応溶液を氷水に注ぎ
固体を析出させ、得られた固体を酢酸より再結晶させて
式（３３）で表される化合物２９．５ｇ（１０２ｍｍｏ
ｌ）を得た。

【化４５】 上記のようにして得られた化合物（３３）のうち１５．
０ｇ（５２ｍｍｏｌ）を、５００ｍｌ ３つ口フラスコ
に移し、ジメチルフォルムアミド２００ｍｌ、５％パラ
ジウム／カーボン１．５ｇを加えて、常圧で水素を供給
した。室温で１２時間攪拌を続けた後、パラジウムカー
ボンを濾過して除き、反応溶液を氷水に注いで固体を析
出させた。得られた白色固体を減圧乾燥させ、式（３
４）で示される化合物１２．５ｇ（４８ｍｍｏｌ）を得
た。

【化４６】 化合物（３４）１２．５ｇ（４８ｍｍｏｌ）を５００ｍ
ｌの３つ口フラスコに移し、ベンゼン２５０ｍｌ、トリ
エチルアミン１０ｍｌを加えて、氷冷下で攪拌した。メ
タクリル酸クロライド６．３ｇ（６０ｍｍｏｌ）／ベン
ゼン２０ｍｌ溶液を滴下した。反応溶液を１ＮＨＣｌ水
溶液で２回、水で２回、１ＮＮａＯＨ水溶液で２回それ
ぞれ洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
て１３．４ｇ（４１ｍｍｏｌ）の化合物（３５）を得
た。

【化４７】 （３）エレクトロクロミック化合物と電子供与体化合物
との重合 化合物（３２）８．７ｇ（２０ｍｍｏｌ）と化合物（３
５）６．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）とをγ−ブチロラクトン
３０ｍｌに溶解させ、ＡＩＢＮ０．２ｇを加えてオイル
バスで８０℃に加熱し、化合物（３２）と化合物（３
５）との共重合ポリマー溶液を得た。ＧＰＣ分析より得
られたポリマーの平均分子量は約１０，０００であっ
た。（４）エレクトロクロミックミラーの作製 高反射性電極としてパラジウム薄膜の付いた基板を用
い、これを積層板Ｄとし、積層板Ｄの該パラジウムの周
辺部に、電解質前駆体溶液の注入口の部分を除いてエポ
キシ系接着剤を線状に塗布し、この上にＳｎＯ₂ 被覆さ
れた透明ガラス基板Ｃを、ＳｎＯ₂ 面とパラジウム層と
が向かい合うように重ね合わせ、加圧しながら接着剤を
硬化させ、注入口付き空セルを作製した。一方、（３）
で得られた化合物（３２）と化合物（３５）との共重合
ポリマー溶液５．０ｇに、メトキシポリエチレングリコ
ールモノメタクリレート（新中村化学工業株式会社製
ＭＥＯ４）［オキシエチレンユニット数４］ １．０
ｇ、ポリエチレングリコールジメタクリレート（新中村
化学工業株式会社製 ９Ｇ）［オキシエチレンユニット
数９］０．０２ｇ、過塩素酸リチウム０．４ｇを添加し
て均一溶液とした。暗室内で、上記均一溶液に光重合開
始剤である１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社
製、商品名「ダイキュア−１１１６」）０．０２ｇを添
加した。この溶液を脱気後、上述のようにして作成した
セルの注入口より電解質前駆体として注入した。注入口
をエポキシ系接着剤で封止した後、透明基板側から蛍光
灯の光を当てて電解質前駆体を硬化させ、固体型電解質
を得た。このようにして図１に示す構成の全固体型エレ
クトロクロミックミラーを得た。このミラーは組み立て
た時点では着色しておらず、反射率は約８５％であっ
た。また、電圧を印可すると応答性に優れ、良好なエレ
クトロクロミック特性を示した。すなわち、１．５Ｖの
電圧を印可すると着色し、反射率約１５％となった。電
圧印可を停止後も着色状態を維持し１００時間後も反射
率１０％であった。

【００２０】実施例２（１）エレクトロクロミック化合物の合成 ビピリジル３．１２ｇ（２０ｍｍｏｌ）をフラスコ中で
１００ｍｌのアセトニトリルに溶解させ、ここに４−ク
ロロメチルスチレン（４−ビニルベンジルクロライド）
６．１０ｇ（４０ｍｍｏｌ) と、重合禁止材としてヒド
ロキノン５０ｍｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を加えた。室温
で２４時間攪拌した後、析出した固体を濾別、乾燥して
式（３６）で表されるＮ，Ｎ‘−ジ−ビニルベンジルビ
ピリジニウムジクロライド７．８４ｇ（１７ｍｍｏｌ）
を得た。

【化４８】 （２）エレクトロクロミック化合物と電子供与体化合物
との重合 化合物（３６）４．６ｇ（１０ｍｍｏｌ）と化合物（３
５）６．６ｇ（２０ｍｍｏｌ）とをγ−ブチロラクトン
３０ｍｌに溶解させ、ＡＩＢＮ０．２ｇを加えてオイル
バスで８０℃に加熱し、化合物（３６）と化合物（３
５）との共重合ポリマー溶液を得た。ＧＰＣ分析より得
られたポリマーの平均分子量は約１２，０００であっ
た。（３）エレクトロクロミック調光ガラスの作製 ２枚の透明導電基板電極としてＩＴＯ被覆された透明ガ
ラス基板Ａ、Ｂを用い、透明ガラス基板Ｂの白金薄膜側
の周辺部に、電解質前駆体溶液の注入口の部分を除いて
エポキシ系接着剤を線状に塗布し、この上に透明ガラス
基板Ａを、ＩＴＯ面同士が向かい合うように重ね合わ
せ、加圧しながら接着剤を硬化させ、注入口付き空セル
を作製した。一方、メトキシポリエチレングリコールモ
ノメタクリレート（新中村化学工業株式会社製 ＭＥＯ
４）［オキシエチレンユニット数４］ １．０ｇ、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート（新中村化学工業
株式会社製 ９Ｇ）［オキシエチレンユニット数９］
０．０２ｇ、γ−ブチロラクトン ４．０ｇの混合溶液
に、過塩素酸リチウム０．４ｇを添加し、均一溶液とし
た。暗室内で、上記均一溶液に光重合開始剤である１−
（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−
メチルプロパン−１−オン（メルク社製、商品名「ダイ
キュア−１１１６」）０．０２ｇを添加し、均一溶液を
得た。ここに上記（２）で得た化合物（３６）と化合物
（３５）との共重合ポリマー溶液２ｍｌを加えて均一化
させ、脱気後、上述のようにして作成したセルの注入口
より電解質前駆体として注入した。注入口をエポキシ系
接着剤で封止した後、両面から蛍光灯の光を当てて電解
質前駆体を硬化させ、高分子固体型電解質を得た。この
ようにして図２に示す構成の全固体型エレクトロクロミ
ック調光ガラスを得た。この調光ガラスは組み立てた時
点では着色しておらず、透過率は約９０％であった。ま
た、電圧を印可すると応答性に優れ、良好なエレクトロ
クロミック特性を示した。すなわち、１．５Ｖの電圧を
印可すると着色し、６３３ｎｍの波長の光の透過率約２
０％となった。電圧印可を停止後も着色状態を維持し１
００時間後も透過率２０％であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエレクトロクロミック素子の構成の一
つを示す断面図である。

【図２】本発明のエレクトロクロミック調光ガラスの構
成の他の一つを示す断面図である。

【図３】本発明のエレクトロクロミックミラーの構成の
他の一つを示す断面図である。

【符号の説明】

１ 透明基板 ２ 透明電極層 ３ エレクトロクロミック発色層兼イオン伝導性物質層 ４ 透明、不透明または反射性電極層 ５ 基板 ６ シール材 ７ 反射層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも１枚は透明である、２枚の導
   電基板の間に、（Ａ）下記の一般式（１）で表される繰
   り返し単位からなる重合体および下記の一般式（２）で
   表される繰り返し単位からなる重合体を含有するエレク
   トロクロミック層または（Ｂ）下記の一般式（１）で表
   される繰り返し単位および下記の一般式（２）で表され
   る繰り返し単位からなる共重合体を含有するエレクトロ
   クロミック層を設けたことを特徴とするエレクトロクロ
   ミック素子。 【化１】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異なってもよく、
   それぞれ個別にハロゲンアニオン、ＣｌＯ₄ ^- 、ＢＦ₄
   ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ （Ｃ₆ Ｈ₄ ）Ｓ
   Ｏ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、Ｒ¹ は水素また
   は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ² は炭素数１〜１０
   の炭化水素残基を、Ｒ³ は炭素数１〜２０のアルキル
   基、アリール基またはアラルキル基を、Ａｒ¹ は２価の
   芳香族炭化水素残基を各々表す。） 【化２】 （式中、Ｒ⁴ は水素または炭素数１〜５のアルキル基、
   Ｒ⁵ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 及びＲ⁹ は水素または炭素数１〜２０
   の炭化水素基または炭化水素残基を表し、それぞれ同一
   でも異なっても良い。Ａｒ² 及びＡｒ³ は２価の芳香族
   炭化水素残基を示す。ｃは０以上の整数を、ｄは１以上
   の整数を各々示す。）
2. 【請求項２】 少なくとも１枚は透明である、２枚の導
   電基板の間に、（Ａ）下記の一般式（３）で表される繰
   り返し単位からなる重合体および下記の一般式（２）で
   表される繰り返し単位からなる重合体を含有するエレク
   トロクロミック層または（Ｂ）下記の一般式（３）で表
   される繰り返し単位および下記の一般式（２）で表され
   る繰り返し単位、さらに所望により下記の一般式（１）
   で表される繰り返し単位からなる共重合体を含有するエ
   レクトロクロミック層を設けたことを特徴とするエレク
   トロクロミック素子。 【化３】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異なってもよく、
   それぞれ個別にハロゲンアニオン、ＣｌＯ₄ ^- 、ＢＦ₄
   ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ （Ｃ₆ Ｈ₄ ）Ｓ
   Ｏ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹²は水
   素または炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ¹¹、Ｒ¹³は炭
   素数１〜１０の炭化水素残基を、Ａｒ⁴ 、Ａｒ⁵ は２価
   の芳香族炭化水素残基を各々表す。） 【化４】 （式中、Ｒ⁴ は水素または炭素数１〜５のアルキル基、
   Ｒ⁵ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 及びＲ⁹ は水素または炭素数１〜２０
   の炭化水素基または炭化水素残基を表し、それぞれ同一
   でも異なっても良い。Ａｒ² 及びＡｒ³ は２価の芳香族
   炭化水素残基を示す。ｃは０以上の整数を、ｄは１以上
   の整数を各々示す。） 【化５】 （式中、Ｘ^- 、Ｙ^- は同一であっても異なってもよく、
   それぞれ個別にハロゲンアニオン、ＣｌＯ₄ ^- 、ＢＦ₄
   ^- 、ＰＦ₆ ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ （Ｃ₆ Ｈ₄ ）Ｓ
   Ｏ₃ ^- から選ばれる対アニオンを示し、Ｒ¹ は水素また
   は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ² は炭素数１〜１０
   の炭化水素残基を、Ｒ³ は炭素数１〜２０のアルキル
   基、アリール基またはアラルキル基を、Ａｒ¹ は２価の
   芳香族炭化水素残基を各々表す。）
3. 【請求項３】 上記エレクトロクロミック層が、イオン
   伝導性物質層を兼ねている請求項１又は２記載のエレク
   トロクロミック素子。