JPH11171597A - 化学強化用ガラス、化学強化ガラス及び情報記録媒体用ガラス基板 - Google Patents
化学強化用ガラス、化学強化ガラス及び情報記録媒体用ガラス基板Info
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- JPH11171597A JPH11171597A JP9339722A JP33972297A JPH11171597A JP H11171597 A JPH11171597 A JP H11171597A JP 9339722 A JP9339722 A JP 9339722A JP 33972297 A JP33972297 A JP 33972297A JP H11171597 A JPH11171597 A JP H11171597A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大きな熱膨張係数（例えば、100℃から300℃
の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する、イ
オン交換処理による化学強化が可能な化学強化用ガラ
ス、該化学強化用ガラスをイオン交換処理により強化し
た化学強化ガラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報
記録媒体用ガラス基板を提供すること。 【解決手段】 重量比（以下ｗｔ％）で、 ＳｉＯ2 ５６ 〜 ６０ ｗｔ％ Ａｌ2O3 １２ 〜 １５ ｗｔ％ Ｌｉ2O ４ 〜 １０ ｗｔ％ Ｎａ2O ９ 〜 １２ ｗｔ％ Ｋ2O ０ 〜 ５ ｗｔ％ （但し、Ｌｉ2O＋Ｎａ2O＋Ｋ2O １６.１ 〜 ２０
ｗｔ％） ＭｇＯ ０ 〜 ５ ｗｔ ＺｒＯ2 ０ 〜 ５ ｗｔ％ Ａｓ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ Ｓｂ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ の組成を有し、イオン交換処理による化学強化が可能な
化学強化用ガラス。
の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する、イ
オン交換処理による化学強化が可能な化学強化用ガラ
ス、該化学強化用ガラスをイオン交換処理により強化し
た化学強化ガラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報
記録媒体用ガラス基板を提供すること。 【解決手段】 重量比（以下ｗｔ％）で、 ＳｉＯ2 ５６ 〜 ６０ ｗｔ％ Ａｌ2O3 １２ 〜 １５ ｗｔ％ Ｌｉ2O ４ 〜 １０ ｗｔ％ Ｎａ2O ９ 〜 １２ ｗｔ％ Ｋ2O ０ 〜 ５ ｗｔ％ （但し、Ｌｉ2O＋Ｎａ2O＋Ｋ2O １６.１ 〜 ２０
ｗｔ％） ＭｇＯ ０ 〜 ５ ｗｔ ＺｒＯ2 ０ 〜 ５ ｗｔ％ Ａｓ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ Ｓｂ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ の組成を有し、イオン交換処理による化学強化が可能な
化学強化用ガラス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、大きな熱膨張係数
（例えば、100℃から300℃の温度範囲において9.0×10
-6 /℃以上）を有する、イオン交換処理による化学強化
が可能な化学強化用ガラス、該化学強化用ガラスをイオ
ン交換処理により強化した化学強化ガラス、及び該化学
強化ガラスを用いた情報記録媒体用ガラス基板に関する
ものである。
（例えば、100℃から300℃の温度範囲において9.0×10
-6 /℃以上）を有する、イオン交換処理による化学強化
が可能な化学強化用ガラス、該化学強化用ガラスをイオ
ン交換処理により強化した化学強化ガラス、及び該化学
強化ガラスを用いた情報記録媒体用ガラス基板に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報記録媒体（例えば、磁気ディ
スク、光ディスク、光磁気ディスクなど）用の基板は、
情報記録容量の高密度化要求にともない、基板表面の平
坦性及び平滑性の向上が要求されている。ここで、情報
記録媒体のうちの磁気ディスクを代表例として説明する
と、磁気ディスクを用いる磁気ディスク装置は、パソコ
ンの代表的な外部記録装置として、大容量化・小型化・
低価格化が著しい。
スク、光ディスク、光磁気ディスクなど）用の基板は、
情報記録容量の高密度化要求にともない、基板表面の平
坦性及び平滑性の向上が要求されている。ここで、情報
記録媒体のうちの磁気ディスクを代表例として説明する
と、磁気ディスクを用いる磁気ディスク装置は、パソコ
ンの代表的な外部記録装置として、大容量化・小型化・
低価格化が著しい。
【０００３】このような磁気ディスク装置の進歩は、情
報の記録・再生を行う磁気ディスク、磁気ヘッドの高性
能化、記録再生チャンネルの高速化、サーボ回路の高速
化・高精度化など、装置を構成する個別部品・個別技術
の高性能化によるが、その中でも記録・再生に直接関わ
る基幹部品である磁気ディスク、磁気ヘッドの特性向上
によるところが大きい。
報の記録・再生を行う磁気ディスク、磁気ヘッドの高性
能化、記録再生チャンネルの高速化、サーボ回路の高速
化・高精度化など、装置を構成する個別部品・個別技術
の高性能化によるが、その中でも記録・再生に直接関わ
る基幹部品である磁気ディスク、磁気ヘッドの特性向上
によるところが大きい。
【０００４】かかる特性向上のうち、磁気ディスクの特
性向上として、高記録密度化（特に線記録密度の向上）
が挙げられるが、この特性向上には、磁性膜の改良と共
に磁気ヘッドの低浮上量化の影響が大きい。例えば、最
新の磁気ディスク装置では、３５〜５０nm程度の浮上量
が実現されようとしている。
性向上として、高記録密度化（特に線記録密度の向上）
が挙げられるが、この特性向上には、磁性膜の改良と共
に磁気ヘッドの低浮上量化の影響が大きい。例えば、最
新の磁気ディスク装置では、３５〜５０nm程度の浮上量
が実現されようとしている。
【０００５】そして、このような情報記録媒体（ディス
ク）のディスク装置におけるヘッドの低浮上量化を実現
するために、ディスク表面の平坦性及び平滑性の向上が
要求されている。言い換えると、ディスクの高記録密度
化（特に線記録密度の向上）を実現するためには、ヘッ
ドの低浮上量化が必要であり、そのためにディスク表面
の平坦性及び平滑性の向上が要求されている。
ク）のディスク装置におけるヘッドの低浮上量化を実現
するために、ディスク表面の平坦性及び平滑性の向上が
要求されている。言い換えると、ディスクの高記録密度
化（特に線記録密度の向上）を実現するためには、ヘッ
ドの低浮上量化が必要であり、そのためにディスク表面
の平坦性及び平滑性の向上が要求されている。
【０００６】一方、情報記録媒体（ディスク）用のガラ
ス基板に用いられる化学強化ガラスとしては、例えば特
公平6-76224号公報（強化ガラスの製造方法）に示され
る組成のガラスが一般的な例として挙げられる。その組
成を具体的に示すと重量％で、64〜70％のSiO2、14〜20
％のAl2O3、4〜6％のLi2O、7〜10％のNa2O、0〜4 ％のM
gO、0〜1.5％のZrO2である。なお、化学強化はイオン交
換処理により施される。
ス基板に用いられる化学強化ガラスとしては、例えば特
公平6-76224号公報（強化ガラスの製造方法）に示され
る組成のガラスが一般的な例として挙げられる。その組
成を具体的に示すと重量％で、64〜70％のSiO2、14〜20
％のAl2O3、4〜6％のLi2O、7〜10％のNa2O、0〜4 ％のM
gO、0〜1.5％のZrO2である。なお、化学強化はイオン交
換処理により施される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、ディ
スクの高記録密度化（特に線記録密度の向上）を実現す
るためには、ヘッドの低浮上量化（例えば35〜50nm程度
の低浮上量）が必要である。そして、ヘッドの低浮上量
化を実現するために、ディスク表面が平坦かつ平滑であ
ることが要求されることは当然であるが、35〜50nm程度
の低浮上量を保つためには、使用環境温度による微妙な
影響も見逃せない。
スクの高記録密度化（特に線記録密度の向上）を実現す
るためには、ヘッドの低浮上量化（例えば35〜50nm程度
の低浮上量）が必要である。そして、ヘッドの低浮上量
化を実現するために、ディスク表面が平坦かつ平滑であ
ることが要求されることは当然であるが、35〜50nm程度
の低浮上量を保つためには、使用環境温度による微妙な
影響も見逃せない。
【０００８】即ち、35〜50nm程度の低浮上量を保つため
には、ディスクの熱膨張係数と、ヘッド（サスペンショ
ン部）、スピンドルなどのＨＤＤ構成部品の熱膨張係数
とを同一レベルにする必要がある。現在、ＨＤＤ構成部
品であるヘッド（サスペンション部）やスピンドルなど
は、ステンレス材料により構成されており、その熱膨張
係数は、100℃〜300℃の温度範囲において9.0×10-6 /
℃以上の値となっている。
には、ディスクの熱膨張係数と、ヘッド（サスペンショ
ン部）、スピンドルなどのＨＤＤ構成部品の熱膨張係数
とを同一レベルにする必要がある。現在、ＨＤＤ構成部
品であるヘッド（サスペンション部）やスピンドルなど
は、ステンレス材料により構成されており、その熱膨張
係数は、100℃〜300℃の温度範囲において9.0×10-6 /
℃以上の値となっている。
【０００９】一方、情報記録媒体（ディスク）用の基板
として使用されている従来の化学強化ガラス（組成例：
重量％で64〜70％のSiO2、14〜20％のAl2O3、4〜6％のL
i2O、7〜10％のNa2O、0〜4 ％のMgO、0〜1.5％のZrO2）
の熱膨張係数は、100℃から300℃の温度範囲において9.
0×10-6 /℃未満の値であった。このように、ＨＤＤ構
成部品とディスク基板に大きな熱膨張率の差があると、
使用環境温度によっては、35〜50nm程度のヘッド浮上量
を保つことができないという問題点があった。
として使用されている従来の化学強化ガラス（組成例：
重量％で64〜70％のSiO2、14〜20％のAl2O3、4〜6％のL
i2O、7〜10％のNa2O、0〜4 ％のMgO、0〜1.5％のZrO2）
の熱膨張係数は、100℃から300℃の温度範囲において9.
0×10-6 /℃未満の値であった。このように、ＨＤＤ構
成部品とディスク基板に大きな熱膨張率の差があると、
使用環境温度によっては、35〜50nm程度のヘッド浮上量
を保つことができないという問題点があった。
【００１０】本発明は、かかる問題点を解決することが
可能であり、大きな熱膨張係数（例えば、100℃から300
℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する、
イオン交換処理による化学強化が可能な化学強化用ガラ
ス、該化学強化用ガラスをイオン交換処理により強化し
た化学強化ガラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報
記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
可能であり、大きな熱膨張係数（例えば、100℃から300
℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する、
イオン交換処理による化学強化が可能な化学強化用ガラ
ス、該化学強化用ガラスをイオン交換処理により強化し
た化学強化ガラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報
記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「重量比（以下ｗｔ％）で、 ＳｉＯ2 ５６ 〜 ６０ ｗｔ％ Ａｌ2O3 １２ 〜 １５ ｗｔ％ Ｌｉ2O ４ 〜 １０ ｗｔ％ Ｎａ2O ９ 〜 １２ ｗｔ％ Ｋ2O ０ 〜 ５ ｗｔ％ （但し、Ｌｉ2O＋Ｎａ2O＋Ｋ2O １６.１ 〜 ２０
ｗｔ％） ＭｇＯ ０ 〜 ５ ｗｔ ＺｒＯ2 ０ 〜 ５ ｗｔ％ Ａｓ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ Ｓｂ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ の組成を有し、イオン交換処理による化学強化が可能な
化学強化用ガラス（請求項１）」を提供する。
に「重量比（以下ｗｔ％）で、 ＳｉＯ2 ５６ 〜 ６０ ｗｔ％ Ａｌ2O3 １２ 〜 １５ ｗｔ％ Ｌｉ2O ４ 〜 １０ ｗｔ％ Ｎａ2O ９ 〜 １２ ｗｔ％ Ｋ2O ０ 〜 ５ ｗｔ％ （但し、Ｌｉ2O＋Ｎａ2O＋Ｋ2O １６.１ 〜 ２０
ｗｔ％） ＭｇＯ ０ 〜 ５ ｗｔ ＺｒＯ2 ０ 〜 ５ ｗｔ％ Ａｓ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ Ｓｂ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ の組成を有し、イオン交換処理による化学強化が可能な
化学強化用ガラス（請求項１）」を提供する。
【００１２】また、本発明は第二に「請求項１記載の化
学強化用ガラスがイオン交換処理により化学強化されて
なり、かつ100℃から300℃の温度範囲における熱膨張係
数が9.0×10-6 /℃以上の値であることを特徴とする化
学強化ガラス（請求項２）」を提供する。また、本発明
は第三に「請求項２記載の化学強化ガラスを用いたこと
を特徴とする情報記録媒体用ガラス基板（請求項３）」
を提供する。
学強化用ガラスがイオン交換処理により化学強化されて
なり、かつ100℃から300℃の温度範囲における熱膨張係
数が9.0×10-6 /℃以上の値であることを特徴とする化
学強化ガラス（請求項２）」を提供する。また、本発明
は第三に「請求項２記載の化学強化ガラスを用いたこと
を特徴とする情報記録媒体用ガラス基板（請求項３）」
を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明にかかる上記組成範囲は、
実験化学的に見い出されたものであり、組成範囲限定の
理由は次の通りである。ＳｉＯ2はガラス形成酸化物で
あり、失透に対する安定性を向上させるが、5６ｗｔ％
未満では、化学的耐久性が低下する。また、６０ｗｔ％
を越えると粘性が高くなり、溶融性が低下する。
実験化学的に見い出されたものであり、組成範囲限定の
理由は次の通りである。ＳｉＯ2はガラス形成酸化物で
あり、失透に対する安定性を向上させるが、5６ｗｔ％
未満では、化学的耐久性が低下する。また、６０ｗｔ％
を越えると粘性が高くなり、溶融性が低下する。
【００１４】Ａｌ2O3は失透に対する安定性、化学的耐
久性を向上させるが、１５ｗｔ％を越えると耐失透性が
低下（悪化）する。また、１２ｗｔ％未満ではガラスの
化学的耐久性が低下し、またガラス表面のイオン交換性
能の効果が不十分となる。Ｌｉ2Oは、他のアルカリ金属
酸化物のように大幅な屈折率低下や化学的耐久性の悪化
を伴うことなく、溶融温度及び屈伏点を低下させるため
の必須成分であり、しかも熱膨張係数を増大させる成分
でもある。
久性を向上させるが、１５ｗｔ％を越えると耐失透性が
低下（悪化）する。また、１２ｗｔ％未満ではガラスの
化学的耐久性が低下し、またガラス表面のイオン交換性
能の効果が不十分となる。Ｌｉ2Oは、他のアルカリ金属
酸化物のように大幅な屈折率低下や化学的耐久性の悪化
を伴うことなく、溶融温度及び屈伏点を低下させるため
の必須成分であり、しかも熱膨張係数を増大させる成分
でもある。
【００１５】また、Ｌｉ2Oは、イオン交換による化学強
化作業により、ガラス表面においてイオン交換される成
分であるが、４ｗｔ％未満では十分なイオン交換性能が
得られず、１０ｗｔ％を越えると化学的耐久性及び失透
に対する安定性が低下する。Ｎａ2Oは、イオン交換によ
る化学強化作業により、ガラス表面においてイオン交換
される（主としてＫイオンとイオン交換される）成分で
あるが、溶融温度及び屈伏点を低下させ、熱膨張係数を
増大させる成分でもある。
化作業により、ガラス表面においてイオン交換される成
分であるが、４ｗｔ％未満では十分なイオン交換性能が
得られず、１０ｗｔ％を越えると化学的耐久性及び失透
に対する安定性が低下する。Ｎａ2Oは、イオン交換によ
る化学強化作業により、ガラス表面においてイオン交換
される（主としてＫイオンとイオン交換される）成分で
あるが、溶融温度及び屈伏点を低下させ、熱膨張係数を
増大させる成分でもある。
【００１６】Ｎａ2Oは、９ｗｔ％未満では溶融性が低下
し、１２ｗｔ％を越えると化学的耐久性及び失透に対す
る安定性が低下する。Ｋ2Oは、その添加により溶融温度
を低下させることができる。しかし、５ｗｔ％を越える
と、化学的耐久性が低下する。ここで、Ｌｉ2O、Ｎａ
2O、Ｋ2Oの合計量として１６.１ｗｔ％以上含有させる
ことにより、熱膨張係数が100℃から300℃の温度範囲に
おいて9.0×10-6 /℃以上の値となる。
し、１２ｗｔ％を越えると化学的耐久性及び失透に対す
る安定性が低下する。Ｋ2Oは、その添加により溶融温度
を低下させることができる。しかし、５ｗｔ％を越える
と、化学的耐久性が低下する。ここで、Ｌｉ2O、Ｎａ
2O、Ｋ2Oの合計量として１６.１ｗｔ％以上含有させる
ことにより、熱膨張係数が100℃から300℃の温度範囲に
おいて9.0×10-6 /℃以上の値となる。
【００１７】但し、Ｌｉ2O、Ｎａ2O、Ｋ2Oの合計量とし
て、２０ｗｔ％を越えると、化学的耐久性が低下し、失
透に対する安定性も低下する。ＭｇＯは溶融温度を低下
させるが、５ｗｔ％を越えると失透に対する安定性が低
下し、分相傾向も増大する。ＺｒＯ2は失透に対する安
定性と化学的耐久性を向上させるが、５ｗｔ％を越える
と、逆に失透傾向が増大する。
て、２０ｗｔ％を越えると、化学的耐久性が低下し、失
透に対する安定性も低下する。ＭｇＯは溶融温度を低下
させるが、５ｗｔ％を越えると失透に対する安定性が低
下し、分相傾向も増大する。ＺｒＯ2は失透に対する安
定性と化学的耐久性を向上させるが、５ｗｔ％を越える
と、逆に失透傾向が増大する。
【００１８】Ａｓ2O3 とＳｂ2O3 は脱泡剤として用いる
が、それぞれ１ｗｔ％以下で十分な効果を得ることがで
きる。本発明（請求項１）にかかる化学強化用ガラス
は、以上のような組成を有するので、イオン交換処理に
より化学強化が可能であるだけでなく、化学強化された
ガラスが大きな熱膨張係数（100℃から300℃の温度範囲
において9.0×10-6 /℃以上）を有することとなる（請
求項２）。
が、それぞれ１ｗｔ％以下で十分な効果を得ることがで
きる。本発明（請求項１）にかかる化学強化用ガラス
は、以上のような組成を有するので、イオン交換処理に
より化学強化が可能であるだけでなく、化学強化された
ガラスが大きな熱膨張係数（100℃から300℃の温度範囲
において9.0×10-6 /℃以上）を有することとなる（請
求項２）。
【００１９】また、本発明（請求項２）にかかる化学強
化ガラスは、化学強化されたガラスが大きな熱膨張係数
（100℃から300℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以
上）を有するので、高強度や前記ヘッドの低浮上量化が
要求される情報記録媒体用ガラス基板に用いて好適であ
る（請求項３）。即ち、本発明（請求項２）にかかる化
学強化ガラスは、大きな熱膨張係数を有し、ＨＤＤ構成
部品の熱膨張率との差を従来よりも小さくできる。その
ため、ヘッドの低浮上量化が要求される情報記録媒体用
ガラス基板に用いた場合に、使用環境温度によっては、
35〜50nm程度のヘッド浮上量を保つことができないとい
う従来の問題点を解決することができる。
化ガラスは、化学強化されたガラスが大きな熱膨張係数
（100℃から300℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以
上）を有するので、高強度や前記ヘッドの低浮上量化が
要求される情報記録媒体用ガラス基板に用いて好適であ
る（請求項３）。即ち、本発明（請求項２）にかかる化
学強化ガラスは、大きな熱膨張係数を有し、ＨＤＤ構成
部品の熱膨張率との差を従来よりも小さくできる。その
ため、ヘッドの低浮上量化が要求される情報記録媒体用
ガラス基板に用いた場合に、使用環境温度によっては、
35〜50nm程度のヘッド浮上量を保つことができないとい
う従来の問題点を解決することができる。
【００２０】このように、本発明によれば、前記問題点
を解決できる程度の大きな熱膨張係数を有する、イオン
交換処理による化学強化が可能な化学強化用ガラス、該
化学強化用ガラスをイオン交換処理により強化した化学
強化ガラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報記録媒
体用ガラス基板を提供することができる。以下、本発明
を実施例により具体的に説明するが、本発明はこの例に
限定されるものではない。
を解決できる程度の大きな熱膨張係数を有する、イオン
交換処理による化学強化が可能な化学強化用ガラス、該
化学強化用ガラスをイオン交換処理により強化した化学
強化ガラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報記録媒
体用ガラス基板を提供することができる。以下、本発明
を実施例により具体的に説明するが、本発明はこの例に
限定されるものではない。
【００２１】
【実施例】本実施例にかかる化学強化用ガラスの組成例
（数値はｗｔ％）と、該化学強化用ガラスをイオン交換
処理により強化した化学強化ガラスの熱膨張係数（温度
範囲：100℃〜300℃）を表１（組成１〜組成６）及び表
２（組成７〜組成１２）に示す。なお、熱膨張係数は、
表中でα(×10-7/℃)と示してある。
（数値はｗｔ％）と、該化学強化用ガラスをイオン交換
処理により強化した化学強化ガラスの熱膨張係数（温度
範囲：100℃〜300℃）を表１（組成１〜組成６）及び表
２（組成７〜組成１２）に示す。なお、熱膨張係数は、
表中でα(×10-7/℃)と示してある。
【００２２】本実施例にかかる化学強化用ガラス（組成
１〜組成１２）は、以下の工程により製造した。まず、
表１、２の各組成成分の原料に相当する酸化物、炭酸
塩、硝酸塩等を使用し、前記各組成（表１、２）に対応
する所望の割合にて各原料を秤量し、粉末状態において
十分に混合することにより各調合原料とした。
１〜組成１２）は、以下の工程により製造した。まず、
表１、２の各組成成分の原料に相当する酸化物、炭酸
塩、硝酸塩等を使用し、前記各組成（表１、２）に対応
する所望の割合にて各原料を秤量し、粉末状態において
十分に混合することにより各調合原料とした。
【００２３】次に、各調合原料を例えば１４００℃に加
熱された電気炉中の白金坩堝にそれぞれ投入し、溶融し
て清澄化させた。その後、これを撹拌均質化し、予め加
熱された鉄製の鋳型に鋳込み、徐冷することにより、前
記各組成（組成１〜組成１２）を有する化学強化用ガラ
スをそれぞれ製造した。
熱された電気炉中の白金坩堝にそれぞれ投入し、溶融し
て清澄化させた。その後、これを撹拌均質化し、予め加
熱された鉄製の鋳型に鋳込み、徐冷することにより、前
記各組成（組成１〜組成１２）を有する化学強化用ガラ
スをそれぞれ製造した。
【００２４】以上の工程により製造した化学強化用ガラ
スをイオン交換処理により強化すると、表１及び表２に
示す大きな熱膨張係数を有する化学強化ガラスが得られ
た。ここで、本実施例にかかる前記化学強化用ガラスか
ら磁気記録媒体用基板を製造する工程を以下に示す。ま
ず、所定寸法に前記化学強化用ガラスを切り出し、孔あ
けした後、所定厚さまで研削加工を行った。
スをイオン交換処理により強化すると、表１及び表２に
示す大きな熱膨張係数を有する化学強化ガラスが得られ
た。ここで、本実施例にかかる前記化学強化用ガラスか
ら磁気記録媒体用基板を製造する工程を以下に示す。ま
ず、所定寸法に前記化学強化用ガラスを切り出し、孔あ
けした後、所定厚さまで研削加工を行った。
【００２５】次に、内外径加工を行ってから再度、研
削、研磨加工を行った。次に、基板洗浄を施した後、化
学強化を行った。化学強化に際しては、硝酸カリウムと
硝酸ナトリウムを混合した溶液を加熱し、その溶液中に
基板を所定時間浸漬させた。最後に、溶液中から基板を
取り出して、再度基板洗浄を行うことにより、磁気記録
媒体用基板を製造した。
削、研磨加工を行った。次に、基板洗浄を施した後、化
学強化を行った。化学強化に際しては、硝酸カリウムと
硝酸ナトリウムを混合した溶液を加熱し、その溶液中に
基板を所定時間浸漬させた。最後に、溶液中から基板を
取り出して、再度基板洗浄を行うことにより、磁気記録
媒体用基板を製造した。
【００２６】このようにして製造した磁気記録媒体用基
板の上に、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を順次形成
すれば磁気ディスクとなる。本実施例にかかる化学強化
用ガラスは、表１及び表２に示す組成を有するので、イ
オン交換処理による化学強化が可能であるだけでなく、
化学強化されたガラスが大きな熱膨張係数（100℃から3
00℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する
こととなった。
板の上に、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を順次形成
すれば磁気ディスクとなる。本実施例にかかる化学強化
用ガラスは、表１及び表２に示す組成を有するので、イ
オン交換処理による化学強化が可能であるだけでなく、
化学強化されたガラスが大きな熱膨張係数（100℃から3
00℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する
こととなった。
【００２７】また、本実施例にかかる化学強化ガラス
は、化学強化されたガラスが大きな熱膨張係数（100℃
から300℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有
するので、高強度や前記ヘッドの低浮上量化が要求され
る情報記録媒体用ガラス基板に用いて好適であった。即
ち、本実施例にかかる化学強化ガラスを用いた磁気記録
媒体用ガラス基板は、大きな熱膨張係数を有し、ＨＤＤ
主要構成部品であるスピンドル、ヘッド（サスペンショ
ン部）といった部品のステンレス材料と熱膨張係数の値
が近いので、使用環境温度が変化しても、35〜50nm程度
の磁気ヘッド浮上量を保つことが可能となり、高密度記
録化に寄与することができた。
は、化学強化されたガラスが大きな熱膨張係数（100℃
から300℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有
するので、高強度や前記ヘッドの低浮上量化が要求され
る情報記録媒体用ガラス基板に用いて好適であった。即
ち、本実施例にかかる化学強化ガラスを用いた磁気記録
媒体用ガラス基板は、大きな熱膨張係数を有し、ＨＤＤ
主要構成部品であるスピンドル、ヘッド（サスペンショ
ン部）といった部品のステンレス材料と熱膨張係数の値
が近いので、使用環境温度が変化しても、35〜50nm程度
の磁気ヘッド浮上量を保つことが可能となり、高密度記
録化に寄与することができた。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【表２】
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
大きな熱膨張係数（例えば、100℃から300℃の温度範囲
において9.0×10-6 /℃以上）を有する、イオン交換処
理による化学強化が可能な化学強化用ガラス、該化学強
化用ガラスをイオン交換処理により強化した化学強化ガ
ラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報記録媒体用ガ
ラス基板を提供することができる。
大きな熱膨張係数（例えば、100℃から300℃の温度範囲
において9.0×10-6 /℃以上）を有する、イオン交換処
理による化学強化が可能な化学強化用ガラス、該化学強
化用ガラスをイオン交換処理により強化した化学強化ガ
ラス、及び該化学強化ガラスを用いた情報記録媒体用ガ
ラス基板を提供することができる。
【００３１】本発明にかかる化学強化用ガラスは、イオ
ン交換処理による化学強化が可能であるだけでなく、化
学強化されたガラスが大きな熱膨張係数（100℃から300
℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する。
また、本発明にかかる化学強化ガラスは、化学強化され
たガラスが大きな熱膨張係数（100℃から300℃の温度範
囲において9.0×10-6 /℃以上）を有するので、高強度
や前記ヘッドの低浮上量化が要求される情報記録媒体用
ガラス基板に用いて好適である。
ン交換処理による化学強化が可能であるだけでなく、化
学強化されたガラスが大きな熱膨張係数（100℃から300
℃の温度範囲において9.0×10-6 /℃以上）を有する。
また、本発明にかかる化学強化ガラスは、化学強化され
たガラスが大きな熱膨張係数（100℃から300℃の温度範
囲において9.0×10-6 /℃以上）を有するので、高強度
や前記ヘッドの低浮上量化が要求される情報記録媒体用
ガラス基板に用いて好適である。
【００３２】即ち、本発明にかかる化学強化ガラスは、
大きな熱膨張係数を有し、ＨＤＤ構成部品（スピンド
ル、ヘッド（サスペンション部）といったステンレス製
部品）材料の熱膨張率との差を従来よりも小さくでき
る。そのため、ヘッドの低浮上量化が要求される情報記
録媒体用ガラス基板に用いた場合に、使用環境温度によ
っては、35〜50nm程度のヘッド浮上量を保つことができ
ないという従来の問題点を解決することができる。 以上
大きな熱膨張係数を有し、ＨＤＤ構成部品（スピンド
ル、ヘッド（サスペンション部）といったステンレス製
部品）材料の熱膨張率との差を従来よりも小さくでき
る。そのため、ヘッドの低浮上量化が要求される情報記
録媒体用ガラス基板に用いた場合に、使用環境温度によ
っては、35〜50nm程度のヘッド浮上量を保つことができ
ないという従来の問題点を解決することができる。 以上
Claims (3)
- 【請求項１】 重量比（以下ｗｔ％）で、 ＳｉＯ2 ５６ 〜 ６０ ｗｔ％ Ａｌ2O3 １２ 〜 １５ ｗｔ％ Ｌｉ2O ４ 〜 １０ ｗｔ％ Ｎａ2O ９ 〜 １２ ｗｔ％ Ｋ2O ０ 〜 ５ ｗｔ％ （但し、Ｌｉ2O＋Ｎａ2O＋Ｋ2O １６.１ 〜 ２０
ｗｔ％） ＭｇＯ ０ 〜 ５ ｗｔ ＺｒＯ2 ０ 〜 ５ ｗｔ％ Ａｓ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ Ｓｂ2O3 ０ 〜 １ ｗｔ％ の組成を有し、イオン交換処理による化学強化が可能な
化学強化用ガラス。 - 【請求項２】 請求項１記載の化学強化用ガラスがイオ
ン交換処理により化学強化されてなり、かつ100℃から3
00℃の温度範囲における熱膨張係数が9.0×10-6 /℃以
上の値であることを特徴とする化学強化ガラス。 - 【請求項３】 請求項２記載の化学強化ガラスを用いた
ことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9339722A JPH11171597A (ja) | 1997-12-10 | 1997-12-10 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラス及び情報記録媒体用ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9339722A JPH11171597A (ja) | 1997-12-10 | 1997-12-10 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラス及び情報記録媒体用ガラス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11171597A true JPH11171597A (ja) | 1999-06-29 |
Family
ID=18330199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9339722A Pending JPH11171597A (ja) | 1997-12-10 | 1997-12-10 | 化学強化用ガラス、化学強化ガラス及び情報記録媒体用ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11171597A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1997
- 1997-12-10 JP JP9339722A patent/JPH11171597A/ja active Pending
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