JPH1116875A - スピン処理装置 - Google Patents
スピン処理装置Info
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- JPH1116875A JPH1116875A JP30100797A JP30100797A JPH1116875A JP H1116875 A JPH1116875 A JP H1116875A JP 30100797 A JP30100797 A JP 30100797A JP 30100797 A JP30100797 A JP 30100797A JP H1116875 A JPH1116875 A JP H1116875A
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Abstract
きるようにしたスピン処理装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】 基板20を回転させることで、この基板
を乾燥処理するスピン処理装置において、上面が開口し
たカップ体21と、このカップ体の底部中心部から内部
へ挿通されモ−タ25によって回転駆動される駆動軸2
6と、この駆動軸に設けられ上記基板を保持して上記駆
動軸とともに回転する回転テ−ブル27と、上記回転テ
−ブルに保持された基板と対向して配設されるとともに
その中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆動されるこ
とで発生する気流によって上記カップ体の外部の気体を
所定の速度で上記基板との対向面間に導入する導入孔5
2を有する板状の蓋体51とを具備したことを特徴とす
る。
Description
ルに保持して回転させながら乾燥処理するスピン処理装
置に関する。
液晶用ガラス基板(以下、基板と省略する。)に回路パ
タ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセス
がある。これらのプロセスでは上記基板の処理と洗浄と
が繰り返して行われる。
この基板をエッチング処理し、ついでその基板からレジ
ストを剥離するアッシング処理を行う。つぎに、アッシ
ング処理された基板を洗浄処理してから乾燥処理すると
いう作業が繰り返して行われる。
置によって連続して行われる。すなわち、スピン処理装
置は上面が開口したカップ体を有する。このカップ体内
には上記基板を保持して回転駆動される回転テ−ブルが
設けられ、この回転テ−ブルによって基板を回転させな
がら洗浄液を吹き付けることで洗浄処理が行われ、洗浄
処理後に洗浄液に代わり清浄空気や窒素などの乾燥ガス
を吹き付けることで乾燥処理が行われる。
おける処理時間を短縮することが要求され、乾燥処理工
程においても処理時間を短縮することが要求されてい
る。乾燥処理工程の処理時間を短縮するためには、基板
に向けて吹き付ける乾燥ガスの流量(速度)を増大させ
ることが考えられる。
の流量を増大させると、基板の上面やカップ体内におけ
る乾燥ガスの流れに乱れが生じ易くなる。そのため、基
板を短時間で均一に乾燥させることができなくなった
り、乾燥処理時に発生するミストや塵埃がカップ体内か
ら確実に排出されず、基板に付着するという虞もある。
それに比例してランニングコストが増大するということ
があるばかりか、カップ体から排出される乾燥ガスの排
出能力が一定の工場などにおいては乾燥ガスがカップ体
内から円滑に排気できなくなるため、そのことによって
もカップ体内で乱流が発生してミストや塵埃が基板に付
着する虞がある。
た基板を乾燥処理する場合、その処理時間を短縮するた
めに乾燥ガスの吹き付け量を単に増大させると、カップ
体内における乾燥ガスの流れに乱れが生じ、基板を短時
間で均一に乾燥させることができなかったり、乾燥処理
時に発生するミストや塵埃がカップ体内から確実に排出
されず、基板に付着するということもある。
に、乾燥専用の乾燥ガスを用いることなく、乾燥処理を
短時間で行え、しかもその乾燥処理時に基板にミストや
塵埃が付着するようなことがないようにしたスピン処理
装置を提供することにある。
を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処
理装置において、上面が開口したカップ体と、このカッ
プ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回
転駆動される駆動軸と、この駆動軸に設けられ上記基板
を保持して上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブル
と、上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設
されるとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回
転駆動されることで発生する気流によって上記カップ体
の外部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導
入する導入孔を有する板状の整流部材とを具備したこと
を特徴とする。
て、上記整流部材は、上記カップ体にこの上面開口を閉
塞する状態で着脱自在に設けられることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1の発明において、上記整流
部材は、上下駆動機構によって上記回転体に保持された
基板との対向間隔の調整自在に設けられていることを特
徴とする。
3のいずれかに記載の発明において、上記カップ体の内
部には、上記回転テ−ブルが回転駆動されることで、こ
のカップ体内で発生する気流をカップ体の底部に向けて
ガイドする内カップが設けられ、カップ体の底部にはそ
の気流を排出する排出口が形成されていることを特徴と
する。
基板を乾燥処理するために回転テ−ブルを回転駆動する
と、その回転によって発生する気流で整流部材に形成さ
れた導入孔から基板と整流部材との対向面間に外気が導
入されるから、その外気の流れによって基板を短時間で
確実に乾燥させることが可能となる。
駆動機構によって上下動させることで、この整流部材と
基板との対向間隔を調整できるから、これらの対向面間
に導入される外気の流量を設定することができる。
回転によって上記カップ体内で発生する気流は、カップ
体内に設けられた内カップによって底部の方向へガイド
されて排出口から排出されるから、上記内カップにより
形成される気流で整流部材の導入孔からカップ体内に導
入される外気を円滑に流すことができる。
態を図1と図2を参照して説明する。図1に示すスピン
処理装置は、たとえば液晶用ガラス基板や半導体ウエハ
などの基板20を洗浄処理および乾燥処理するためにク
リ−ンル−ムに設置されていて、その装置はカップ体2
1を備えている。このカップ体21は下カップ22a、
上カップ22bおよび内カップ22cから構成されてい
る。下カップ22aは上面が開放したお椀状をなしてい
て、その上端縁にはシ−ルパッキング23が取着され、
底壁中心部には通孔24が形成されている。
6が挿通され、カップ体21内に突出した上記駆動軸2
6の上端は回転テ−ブル27の下面に設けられた円盤状
の連結部材28に連結されている。この連結部材28の
下面周辺部には円周溝29が形成され、この円周溝29
には上記通孔24の周縁部を形成する周壁24aの上端
部が挿入されている。
の周辺部には遮蔽リング31が上記連結部材28の外周
面を覆う状態で設けられている。それによって、基板2
0を後述するごとく乾燥させる際にカップ体21内に飛
散する液体が上記通孔24を通ってモ−タ25を濡らす
のを防止するラビリンス構造となっている。
持ピン32と、その支持ピン32よりも径方向外方に位
置する複数のガイドピン33とが周方向に所定間隔で突
設されている。支持ピン32は回転テ−ブル27の上面
に供給される上記基板20の下面を支持し、上記ガイド
ピン33は上記基板20の外周面に係合し、その基板2
0が回転テ−ブル27上でずれ動くのを阻止するように
なっている。
ことがないよう、導電性の材料によってリング状に形成
された整流板34が配設されている。この整流板34に
は複数の導入口35が周方向に所定の間隔で形成されて
いる。上記整流板34の上面の上記導入口35の部分に
はガイド板36が設けられている。このガイド板36
は、導入口35の上面側に位置する部分が所定の角度で
曲げ起こされている。
7が所定方向に回転駆動されることで、この回転方向と
同じ方向に生じる空気流Cが上記導入口35に流入し易
いように曲成されている。言い換えれば、上記導入口3
5とガイド板36とで、上記回転テ−ブル27の回転に
よって生じる空気流Cを導入する方向に向かって開口し
た導入部37を形成している。
おきの導入口35と対応する部分に、それぞれ帯状板を
平面形状がくの字状となるように曲成した支持部材38
(詳細な形状は図示せず)が設けられている。この支持
部材38は上記整流板34を下カップ22aの内底部で
所定の高さで支持するとともに、上記導入口35に流入
した空気流Cを整流板34の下面側の周方向に沿ってガ
イドするようになっている。
38が設けられていない部分の導入口35と対応する箇
所に、それぞれ排出口39が形成されている。各排出口
39には排出口体40が接続されている。排出口体40
には排出管41が接続され、各排出管41はタンク43
に連通している。このタンク43は上記カップ体21か
らの気体と液体を分離し、所定の箇所に排出するように
なっている。なお、タンク43には気体をクリ−ンル−
ムの外部に放散するための図示しない排気ポンプが接続
される。
ップ22bが着脱自在に取着されている。この上カップ
22bは上記回転テ−ブル27と対応する部分が開放し
たリング状をなしていて、その下端部には上記下カップ
22aの上端縁に設けられたパッキング23の部分に液
密かつ着脱自在に係合取着される係合部44が形成され
ている。
成されたリング状をなしていて、その下端部は上記上カ
ップ22bの内面周辺部に取着された断面クランク状の
保持リング45に係合保持されている。つまり、上記内
カップ22cは上記回転テ−ブル27の周辺部分を覆う
状態で設けられている。それによって、上記回転テ−ブ
ル27の回転によって生じる空気流Cは上記内カップ2
2cの内面にガイドされて下カップ22aの底部方向へ
流れるようになっている。
周縁部に上記上カップ22bの外周面に係合するフラン
ジ51aが形成された整流部材としての蓋体51が着脱
自在に設けられる。この蓋体51の径方向中心部分には
所定の直径の導入孔52が穿設されている。
7が回転することで空気流Cが生じ、その空気流Cが排
出口39からタンク43へと流れると、その流れによっ
てカップ体21内が負圧になる。それによって、上記蓋
体51の導入孔52からカップ体21内へは外気Aが導
入される。この外気Aは基板20の上面の中心部分に流
入し、回転テ−ブル27の遠心力によって発生する上記
空気流Cによって基板20の上面に沿って径方向外方へ
流れ、排出口39から排出されることになる。
て回転テ−ブル27に供給された基板20を乾燥処理す
る場合について説明する。上カップ22bから蓋体51
を除去し、上記回転テ−ブル27に洗浄液によって洗浄
されて濡れた状態にある基板20を供給したならば、上
記蓋体51によって上カップ22bの開口を閉塞する。
なお、上カップ22bに対する蓋体51の着脱は手動あ
るいは自動のどちらで行うようにしてもよい。
−ブル27を回転駆動する。それによって、基板20に
付着した洗浄液に遠心力が作用するから、その遠心力で
洗浄液が基板20の上面から径方向外方へ飛散し、基板
20が乾燥処理される。基板20から除去された洗浄液
は、内カップ22cの内面に当たって滴下し、下カップ
22aの内底部に設けられた整流板34の導入口35か
ら排出口39および排出管41を通ってタンク43へ排
出される。
ば、そのときの遠心力によって上記回転テ−ブル27の
回転方向と同方向で、基板20の中心部から径方向外方
に沿う空気流Cが発生する。回転テ−ブル27の回転に
よって生じた空気流Cは、図1に矢印で示すように内カ
ップ22cの内周面にガイドされて下方へ向かい、その
流れ方向に向いて開口した導入部37へ流入する。つま
り、空気流Cは、その流れ方向に対して所定の角度で曲
げ起こされたガイド板36にガイドされて整流板34に
形成された導入口35へ流入する。
4の下面の支持部材38に沿って流れ、排出口39から
流出して排出管41を通り、タンク43を経て図示しな
い排気ポンプを介してクリ−ンル−ムの外部に放散され
る。
が生じると、その空気流によってカップ体21内の少な
くとも基板20の上面側の部分が負圧になる。それによ
って、上カップ22bの開口を閉塞した蓋体51の導入
孔52からは外気Aが導入される。
20の上面の中心部から径方向外方へ向かって流れ、回
転テ−ブル27の回転によって生じた空気流Cとともに
内カップ22cの内面にガイドされて排出口39からタ
ンク43へと流れる。
21内へ導入される外気Aが基板20を乾燥させる乾燥
ガスとして作用するから、上記基板20を回転による遠
心力と相俟って効率よく乾燥させることになる。
生じる空気流Cと、導入孔52から導入される外気Aと
は内カップ22cの内面に沿って下カップ22aへ円滑
にガイドされて排気される。
にくいから、カップ体21内で発生したミストが基板2
0に付着したり、乾燥処理の前工程の洗浄工程でカップ
体21の内面に洗浄液に含まれた微粒子などの塵埃が付
着していても、その塵埃が舞い上がって上記基板20に
再付着することが防止される。
流速は、回転テ−ブル27の回転速度が一定であれば、
導入孔52の大きさによって設定することができる。し
たがって、導入孔52の内径寸法を変えたり、導入孔5
2の数を変えるなどのことにより、外気の流速やカップ
体21内への導入位置など、基板20の乾燥速度に影響
を及ぼす条件を種々設定することができる。
設置されているから、蓋体51の導入孔52からカップ
体21内へ導入される外気に塵埃が含まれることはほと
んどない。
を1600rpm に設定し、上カップ22bの上面開口を内径
50mmの導入孔52が穿設された蓋体51で閉塞した状態
と、蓋体51で閉塞せずに、開放した状態とで基板20
の乾燥処理を行ったときの乾燥状態を比較したものであ
る。なお、回転テ−ブル27の外形寸法は500mm で、上
カップ22bの開口端における内径寸法は700mm であ
る。
7の回転数が1600rpm に到達してからその回転数で回転
させた時間である。なお、乾燥状態は目視によって確認
した結果である。
場合には、保持時間が5sec であっても基板20は確実
に乾燥されていた。これに対して蓋体51を設けない場
合には、保持時間が10sec までは基板20が確実に乾燥
せず、保持時間を15sec とすることで、基板20を確実
に乾燥させることができた。
で、設けない場合に比べて基板20の乾燥処理時間を大
幅に短縮できることが確認された。しかも、乾燥専用の
乾燥ガスを用いることなく乾燥させることができるた
め、ランニングコストがほとんどかからず、経済的であ
る。
す。なお、図1に示すスピン処理装置と同一部分には同
一記号を付して説明を省略する。つまり、この実施の形
態のスピン処理装置に設けられる整流部材は、上記第1
の実施の形態の蓋体51に代わり、基板20の対角寸法
と同等あるいはそれ以上の直径寸法を有する円盤状の整
流板61からなり、この整流板61の中心部分には所定
の内径寸法の導入孔62が穿設されている。
される基板20と対向して配置され、上下駆動機構63
によって図3に矢印で示す上下方向に駆動されるように
なっている。
定して設けられたベ−ス板64を有する。このベ−ス板
64の上面には架台65が立設されている。この架台6
5には上下端部がそれぞれ軸受66によって回転自在に
支持されたねじ軸67と、上下端部が固定されたガイド
軸68とが軸線を平行にして設けられている。
出し、その端部には継手69を介してモ−タ71の回転
軸72に連結されている。このモ−タ71は上記ベ−ス
板64の下面に設けられたブラケット73に保持され、
図示しない制御装置によって正転方向と逆転方向とに駆
動されるようになっている。
れ、上記ガイド軸68にはスライダ75がスライド自在
に設けられ、これらナット体74とスライダ75とは連
結されている。したがって、上記モ−タ71が作動して
ねじ軸67が回転駆動されれば、その回転方向に応じて
上記ナット体74がねじ軸67に沿って上下動するか
ら、その動きにスライダ75が連動するようになってい
る。
6の基端部が連結されている。このア−ム体76の先端
部は上記整流板61の上面の一端部に連結されている。
したがって、ア−ム体76が上記スライダ75と一体的
に上下動し、その動きに上記整流板61が連動すること
で、この整流板61と基板20との対向間隔を調整でき
るようになっている。
20を乾燥処理する場合には、まず、上下駆動機構63
によって整流板61と基板20との対向間隔を設定す
る。ついで、モ−タ25を作動させて基板20とともに
回転テ−ブル27を回転させる。基板20を回転させる
ことで、その基板20に付着した洗浄液が遠心力で飛散
されるから、基板20が乾燥処理される。
そのときの遠心力によって図3に矢印Cで示すように、
基板20の回転方向と同方向で、基板20の中心部から
周辺部に向かう空気流が生じる。この空気流Cが生じる
ことで、基板20と整流板61との対向面間が負圧にな
るから、この対向面間には整流板61に形成された導入
孔62から同図に矢印Dで示すように外気が導入され
る。外気Dは基板20の上面中心部から径方向外方へ向
かって流れ、回転テ−ブル27の回転によって生じた空
気流Cとともに内カップ22cの内面にガイドされて排
出口39からタンク43へと流れる。
記第1の実施の形態と同様、外気Dが基板20を乾燥さ
せる乾燥ガスとして作用するから、基板20をそれに作
用する遠心力とで効率よく乾燥処理することができる。
て上下方向の位置決め、つまり基板20との対向間隔を
設定することができる。したがって、基板20のサイズ
が変更され、その基板20が回転することで発生する遠
心力が変化しても、基板20と整流板61との対向間隔
を調整することで、基板20と整流板61との対向面間
に流入する外気Dの流量を一定に維持することができ
る。
と、この基板20が回転テ−ブル27によって回転され
たときに発生する遠心力が大きくなる。遠心力が大きく
なると、空気流Cの流量が増大するから、カップ体21
内への外気Dの流入量も増大する。それによって、排出
管41から排出される排気量も増大することになるが、
通常、排気能力は一定であるから、外気Dの流入量が増
大すると円滑に排気されなくなり、カップ体21内での
空気流が乱流となり、乾燥時に発生する塵埃やミストが
舞い上がり、基板20に付着する虞がある。
場合には、上述したように基板20と整流板61との対
向間隔を調整して外気Dの流入量が一定になるようにす
る。たとえば、基板20のサイズが大きくなった場合に
は、基板20と整流板61との対向間隔を大きくして外
気Dの流入量を少なくする。それによって、カップ体2
1からの排気が円滑に維持され、そのカップ体21内で
乱流が発生するのを防止できるから、塵埃やミストが舞
い上がって基板20に付着するのを阻止することができ
る。
で、回転テ−ブル27の回転数が1400r.p.m の場合、基
板20と整流板61との対向間隔は15〜50mm、導入孔6
2の内径寸法は50〜150mm 程度に設定することで、基板
20に塵埃やミストが付着することなく乾燥処理できる
ことが確認された。
る外気Dの流速は、これらの対向間隔だけによって決定
されるものでなく、整流板61に形成される導入孔62
の内径寸法によっても変化する。つまり、導入孔62の
内径寸法を小さくすれば、外気Dの流速が大きくなり、
逆に導入孔62を大きくすれば流速が小さくなる。
して基板20と整流板61との対向面間に流れる外気D
の流速量を速くすれば、基板20の乾燥時間を短縮する
ことができる。
6に対して着脱できる構成とし、基板20の所定の内径
寸法の導入孔52が形成された整流板61に交換できる
ようにすれば、乾燥時間を制御することができる。
する場合には、整流板61を図3に鎖線で示すようにカ
ップ体21の上方へ退避させ、図示しないロボットのハ
ンドをカップ体21内へ出し入れして行うようにすれば
よい。
ば、回転テ−ブルと対向して中心部分に導入孔が形成さ
れた整流部材を配置し、基板を乾燥処理するために回転
テ−ブルを回転駆動すると、その回転によって発生する
気流で上記導入孔から基板と整流部材との対向面間に外
気が導入されるようにした。
の対向面間に導入される外気の流れによって基板を短時
間で確実に乾燥させることが可能となるばかりか、乾燥
専用の乾燥ガスを必要としないから、ランニングコスト
の低減を計ることができる。
材を上下駆動機構によって上下動させることで、この整
流部材と基板との対向間隔を調整できるようにしたか
ら、たとえば基板のサイズが変更になった場合などに整
流部材と基板との対向間隔を調整することで、カップ体
内に導入される外気の量が排気能力以上になるのを抑制
できる。
行われるため、カップ体内で乱流が生じてミストや塵埃
が舞い上がり、基板に付着するの防止することができ
る。請求項4の発明によれば、回転テ−ブルの回転によ
って上記カップ体内で発生する気流は、カップ体内に設
けられた内カップによって底部の方向へガイドされて排
出口から排出される。
も、このカップ体内で乱流が生じるのが防止されるか
ら、そのことによっても基板の乾燥効率を向上させるこ
とができ、さらにはカップ体の内面に塵埃が付着した
り、乾燥処理時にミストが発生しても、それらが舞い上
がって基板に付着するのが防止される。
を示す断面図。
を示す断面図。
Claims (4)
- 【請求項1】 基板を回転させることで、この基板を乾
燥処理するスピン処理装置において、 上面が開口したカップ体と、 このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源に
よって回転駆動される駆動軸と、 この駆動軸に設けられ上記基板を保持して上記駆動軸と
ともに回転する回転テ−ブルと、 上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設され
るとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆
動されることで発生する気流によって上記カップ体の外
部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導入す
る導入孔を有する板状の整流部材とを具備したことを特
徴とするスピン処理装置。 - 【請求項2】 上記整流部材は、上記カップ体にこの上
面開口を閉塞する状態で着脱自在に設けられることを特
徴とする請求項1記載のスピン処理装置。 - 【請求項3】 上記整流部材は、上下駆動機構によって
上記回転体に保持された基板との対向間隔の調整自在に
設けられていることを特徴とする請求項1記載のスピン
処理装置。 - 【請求項4】 上記カップ体の内部には、上記回転テ−
ブルが回転駆動されることで、このカップ体内で発生す
る気流をカップ体の底部に向けてガイドする内カップが
設けられ、カップ体の底部にはその気流を排出する排出
口が形成されていることを特徴とする請求項1ないし請
求項3のいずれかに記載のスピン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30100797A JP4447673B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-10-31 | スピン処理装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9-112532 | 1997-04-30 | ||
JP11253297 | 1997-04-30 | ||
JP30100797A JP4447673B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-10-31 | スピン処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1116875A true JPH1116875A (ja) | 1999-01-22 |
JP4447673B2 JP4447673B2 (ja) | 2010-04-07 |
Family
ID=26451668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30100797A Expired - Fee Related JP4447673B2 (ja) | 1997-04-30 | 1997-10-31 | スピン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4447673B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6385863B1 (en) * | 1999-06-04 | 2002-05-14 | Sez Semiconductor-Equipment Zubenor Fur Die Habbleiterfertigung | Process and device for drying disk-like objects |
JP2013021184A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
JP2013021185A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
-
1997
- 1997-10-31 JP JP30100797A patent/JP4447673B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JP2013021185A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4447673B2 (ja) | 2010-04-07 |
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