JPH1116875A - スピン処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板を効率よく確実に乾燥処理で
きるようにしたスピン処理装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】 基板２０を回転させることで、この基板
を乾燥処理するスピン処理装置において、上面が開口し
たカップ体２１と、このカップ体の底部中心部から内部
へ挿通されモ−タ２５によって回転駆動される駆動軸２
６と、この駆動軸に設けられ上記基板を保持して上記駆
動軸とともに回転する回転テ−ブル２７と、上記回転テ
−ブルに保持された基板と対向して配設されるとともに
その中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆動されるこ
とで発生する気流によって上記カップ体の外部の気体を
所定の速度で上記基板との対向面間に導入する導入孔５
２を有する板状の蓋体５１とを具備したことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は基板を回転テ−ブ
ルに保持して回転させながら乾燥処理するスピン処理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶表示装置の製造工程では、
液晶用ガラス基板（以下、基板と省略する。）に回路パ
タ−ンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセス
がある。これらのプロセスでは上記基板の処理と洗浄と
が繰り返して行われる。

【０００３】たとえば、基板に露光処理を行ったなら、
この基板をエッチング処理し、ついでその基板からレジ
ストを剥離するアッシング処理を行う。つぎに、アッシ
ング処理された基板を洗浄処理してから乾燥処理すると
いう作業が繰り返して行われる。

【０００４】上記洗浄処理と乾燥処理とはスピン処理装
置によって連続して行われる。すなわち、スピン処理装
置は上面が開口したカップ体を有する。このカップ体内
には上記基板を保持して回転駆動される回転テ−ブルが
設けられ、この回転テ−ブルによって基板を回転させな
がら洗浄液を吹き付けることで洗浄処理が行われ、洗浄
処理後に洗浄液に代わり清浄空気や窒素などの乾燥ガス
を吹き付けることで乾燥処理が行われる。

【０００５】生産性の向上を計るために、各処理工程に
おける処理時間を短縮することが要求され、乾燥処理工
程においても処理時間を短縮することが要求されてい
る。乾燥処理工程の処理時間を短縮するためには、基板
に向けて吹き付ける乾燥ガスの流量（速度）を増大させ
ることが考えられる。

【０００６】しかしながら、基板に吹き付ける乾燥ガス
の流量を増大させると、基板の上面やカップ体内におけ
る乾燥ガスの流れに乱れが生じ易くなる。そのため、基
板を短時間で均一に乾燥させることができなくなった
り、乾燥処理時に発生するミストや塵埃がカップ体内か
ら確実に排出されず、基板に付着するという虞もある。

【０００７】さらに、乾燥ガスの使用量が増大すると、
それに比例してランニングコストが増大するということ
があるばかりか、カップ体から排出される乾燥ガスの排
出能力が一定の工場などにおいては乾燥ガスがカップ体
内から円滑に排気できなくなるため、そのことによって
もカップ体内で乱流が発生してミストや塵埃が基板に付
着する虞がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、洗浄され
た基板を乾燥処理する場合、その処理時間を短縮するた
めに乾燥ガスの吹き付け量を単に増大させると、カップ
体内における乾燥ガスの流れに乱れが生じ、基板を短時
間で均一に乾燥させることができなかったり、乾燥処理
時に発生するミストや塵埃がカップ体内から確実に排出
されず、基板に付着するということもある。

【０００９】この発明の目的は、基板を乾燥させるため
に、乾燥専用の乾燥ガスを用いることなく、乾燥処理を
短時間で行え、しかもその乾燥処理時に基板にミストや
塵埃が付着するようなことがないようにしたスピン処理
装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処
理装置において、上面が開口したカップ体と、このカッ
プ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回
転駆動される駆動軸と、この駆動軸に設けられ上記基板
を保持して上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブル
と、上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設
されるとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回
転駆動されることで発生する気流によって上記カップ体
の外部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導
入する導入孔を有する板状の整流部材とを具備したこと
を特徴とする。

【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記整流部材は、上記カップ体にこの上面開口を閉
塞する状態で着脱自在に設けられることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１の発明において、上記整流
部材は、上下駆動機構によって上記回転体に保持された
基板との対向間隔の調整自在に設けられていることを特
徴とする。

【００１２】請求項４の発明は、請求項１ないし請求項
３のいずれかに記載の発明において、上記カップ体の内
部には、上記回転テ−ブルが回転駆動されることで、こ
のカップ体内で発生する気流をカップ体の底部に向けて
ガイドする内カップが設けられ、カップ体の底部にはそ
の気流を排出する排出口が形成されていることを特徴と
する。

【００１３】請求項１ないし請求項３の発明によれば、
基板を乾燥処理するために回転テ−ブルを回転駆動する
と、その回転によって発生する気流で整流部材に形成さ
れた導入孔から基板と整流部材との対向面間に外気が導
入されるから、その外気の流れによって基板を短時間で
確実に乾燥させることが可能となる。

【００１４】請求項３の発明によれば、整流部材を上下
駆動機構によって上下動させることで、この整流部材と
基板との対向間隔を調整できるから、これらの対向面間
に導入される外気の流量を設定することができる。

【００１５】請求項４の発明によれば、回転テ−ブルの
回転によって上記カップ体内で発生する気流は、カップ
体内に設けられた内カップによって底部の方向へガイド
されて排出口から排出されるから、上記内カップにより
形成される気流で整流部材の導入孔からカップ体内に導
入される外気を円滑に流すことができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、この発明の第１の実施の形
態を図１と図２を参照して説明する。図１に示すスピン
処理装置は、たとえば液晶用ガラス基板や半導体ウエハ
などの基板２０を洗浄処理および乾燥処理するためにク
リ−ンル−ムに設置されていて、その装置はカップ体２
１を備えている。このカップ体２１は下カップ２２ａ、
上カップ２２ｂおよび内カップ２２ｃから構成されてい
る。下カップ２２ａは上面が開放したお椀状をなしてい
て、その上端縁にはシ−ルパッキング２３が取着され、
底壁中心部には通孔２４が形成されている。

【００１７】上記通孔２４には、モ−タ２５の駆動軸２
６が挿通され、カップ体２１内に突出した上記駆動軸２
６の上端は回転テ−ブル２７の下面に設けられた円盤状
の連結部材２８に連結されている。この連結部材２８の
下面周辺部には円周溝２９が形成され、この円周溝２９
には上記通孔２４の周縁部を形成する周壁２４ａの上端
部が挿入されている。

【００１８】上記下カップ２２ａの底壁の上記通孔２４
の周辺部には遮蔽リング３１が上記連結部材２８の外周
面を覆う状態で設けられている。それによって、基板２
０を後述するごとく乾燥させる際にカップ体２１内に飛
散する液体が上記通孔２４を通ってモ−タ２５を濡らす
のを防止するラビリンス構造となっている。

【００１９】上記回転テ−ブル２７の上面には複数の支
持ピン３２と、その支持ピン３２よりも径方向外方に位
置する複数のガイドピン３３とが周方向に所定間隔で突
設されている。支持ピン３２は回転テ−ブル２７の上面
に供給される上記基板２０の下面を支持し、上記ガイド
ピン３３は上記基板２０の外周面に係合し、その基板２
０が回転テ−ブル２７上でずれ動くのを阻止するように
なっている。

【００２０】上記下カップ２２ａの内底部には帯電する
ことがないよう、導電性の材料によってリング状に形成
された整流板３４が配設されている。この整流板３４に
は複数の導入口３５が周方向に所定の間隔で形成されて
いる。上記整流板３４の上面の上記導入口３５の部分に
はガイド板３６が設けられている。このガイド板３６
は、導入口３５の上面側に位置する部分が所定の角度で
曲げ起こされている。

【００２１】つまり、ガイド板３６は、回転テ−ブル２
７が所定方向に回転駆動されることで、この回転方向と
同じ方向に生じる空気流Ｃが上記導入口３５に流入し易
いように曲成されている。言い換えれば、上記導入口３
５とガイド板３６とで、上記回転テ−ブル２７の回転に
よって生じる空気流Ｃを導入する方向に向かって開口し
た導入部３７を形成している。

【００２２】上記整流板３４の下面には、周方向に１つ
おきの導入口３５と対応する部分に、それぞれ帯状板を
平面形状がくの字状となるように曲成した支持部材３８
（詳細な形状は図示せず）が設けられている。この支持
部材３８は上記整流板３４を下カップ２２ａの内底部で
所定の高さで支持するとともに、上記導入口３５に流入
した空気流Ｃを整流板３４の下面側の周方向に沿ってガ
イドするようになっている。

【００２３】上記下カップ２２ａの底部には、支持部材
３８が設けられていない部分の導入口３５と対応する箇
所に、それぞれ排出口３９が形成されている。各排出口
３９には排出口体４０が接続されている。排出口体４０
には排出管４１が接続され、各排出管４１はタンク４３
に連通している。このタンク４３は上記カップ体２１か
らの気体と液体を分離し、所定の箇所に排出するように
なっている。なお、タンク４３には気体をクリ−ンル−
ムの外部に放散するための図示しない排気ポンプが接続
される。

【００２４】上記下カップ２２ａの上端部には上記上カ
ップ２２ｂが着脱自在に取着されている。この上カップ
２２ｂは上記回転テ−ブル２７と対応する部分が開放し
たリング状をなしていて、その下端部には上記下カップ
２２ａの上端縁に設けられたパッキング２３の部分に液
密かつ着脱自在に係合取着される係合部４４が形成され
ている。

【００２５】上記内カップ２２ｃは外周面が凸曲面に形
成されたリング状をなしていて、その下端部は上記上カ
ップ２２ｂの内面周辺部に取着された断面クランク状の
保持リング４５に係合保持されている。つまり、上記内
カップ２２ｃは上記回転テ−ブル２７の周辺部分を覆う
状態で設けられている。それによって、上記回転テ−ブ
ル２７の回転によって生じる空気流Ｃは上記内カップ２
２ｃの内面にガイドされて下カップ２２ａの底部方向へ
流れるようになっている。

【００２６】上記上カップ２２ｂの開口した上面には、
周縁部に上記上カップ２２ｂの外周面に係合するフラン
ジ５１ａが形成された整流部材としての蓋体５１が着脱
自在に設けられる。この蓋体５１の径方向中心部分には
所定の直径の導入孔５２が穿設されている。

【００２７】上記カップ体２１内で上記回転テ−ブル２
７が回転することで空気流Ｃが生じ、その空気流Ｃが排
出口３９からタンク４３へと流れると、その流れによっ
てカップ体２１内が負圧になる。それによって、上記蓋
体５１の導入孔５２からカップ体２１内へは外気Ａが導
入される。この外気Ａは基板２０の上面の中心部分に流
入し、回転テ−ブル２７の遠心力によって発生する上記
空気流Ｃによって基板２０の上面に沿って径方向外方へ
流れ、排出口３９から排出されることになる。

【００２８】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て回転テ−ブル２７に供給された基板２０を乾燥処理す
る場合について説明する。上カップ２２ｂから蓋体５１
を除去し、上記回転テ−ブル２７に洗浄液によって洗浄
されて濡れた状態にある基板２０を供給したならば、上
記蓋体５１によって上カップ２２ｂの開口を閉塞する。
なお、上カップ２２ｂに対する蓋体５１の着脱は手動あ
るいは自動のどちらで行うようにしてもよい。

【００２９】ついで、モ−タ２５に通電して上記回転テ
−ブル２７を回転駆動する。それによって、基板２０に
付着した洗浄液に遠心力が作用するから、その遠心力で
洗浄液が基板２０の上面から径方向外方へ飛散し、基板
２０が乾燥処理される。基板２０から除去された洗浄液
は、内カップ２２ｃの内面に当たって滴下し、下カップ
２２ａの内底部に設けられた整流板３４の導入口３５か
ら排出口３９および排出管４１を通ってタンク４３へ排
出される。

【００３０】一方、回転テ−ブル２７が回転駆動されれ
ば、そのときの遠心力によって上記回転テ−ブル２７の
回転方向と同方向で、基板２０の中心部から径方向外方
に沿う空気流Ｃが発生する。回転テ−ブル２７の回転に
よって生じた空気流Ｃは、図１に矢印で示すように内カ
ップ２２ｃの内周面にガイドされて下方へ向かい、その
流れ方向に向いて開口した導入部３７へ流入する。つま
り、空気流Ｃは、その流れ方向に対して所定の角度で曲
げ起こされたガイド板３６にガイドされて整流板３４に
形成された導入口３５へ流入する。

【００３１】導入口３５へ流入した空気流Ｃは整流板３
４の下面の支持部材３８に沿って流れ、排出口３９から
流出して排出管４１を通り、タンク４３を経て図示しな
い排気ポンプを介してクリ−ンル−ムの外部に放散され
る。

【００３２】回転テ−ブル２７の回転によって空気流Ｃ
が生じると、その空気流によってカップ体２１内の少な
くとも基板２０の上面側の部分が負圧になる。それによ
って、上カップ２２ｂの開口を閉塞した蓋体５１の導入
孔５２からは外気Ａが導入される。

【００３３】カップ体２１内に導入された外気Ａは基板
２０の上面の中心部から径方向外方へ向かって流れ、回
転テ−ブル２７の回転によって生じた空気流Ｃとともに
内カップ２２ｃの内面にガイドされて排出口３９からタ
ンク４３へと流れる。

【００３４】したがって、上記導入孔５２からカップ体
２１内へ導入される外気Ａが基板２０を乾燥させる乾燥
ガスとして作用するから、上記基板２０を回転による遠
心力と相俟って効率よく乾燥させることになる。

【００３５】しかも、回転テ−ブル２７の回転によって
生じる空気流Ｃと、導入孔５２から導入される外気Ａと
は内カップ２２ｃの内面に沿って下カップ２２ａへ円滑
にガイドされて排気される。

【００３６】そのため、カップ体２１内で乱流が発生し
にくいから、カップ体２１内で発生したミストが基板２
０に付着したり、乾燥処理の前工程の洗浄工程でカップ
体２１の内面に洗浄液に含まれた微粒子などの塵埃が付
着していても、その塵埃が舞い上がって上記基板２０に
再付着することが防止される。

【００３７】上記カップ体２１内に導入される外気Ａの
流速は、回転テ−ブル２７の回転速度が一定であれば、
導入孔５２の大きさによって設定することができる。し
たがって、導入孔５２の内径寸法を変えたり、導入孔５
２の数を変えるなどのことにより、外気の流速やカップ
体２１内への導入位置など、基板２０の乾燥速度に影響
を及ぼす条件を種々設定することができる。

【００３８】なお、スピン処理装置はクリ−ンル−ムに
設置されているから、蓋体５１の導入孔５２からカップ
体２１内へ導入される外気に塵埃が含まれることはほと
んどない。

【００３９】下記の表１は、回転テ−ブル２７の回転数
を1600rpm に設定し、上カップ２２ｂの上面開口を内径
50mmの導入孔５２が穿設された蓋体５１で閉塞した状態
と、蓋体５１で閉塞せずに、開放した状態とで基板２０
の乾燥処理を行ったときの乾燥状態を比較したものであ
る。なお、回転テ−ブル２７の外形寸法は500mm で、上
カップ２２ｂの開口端における内径寸法は700mm であ
る。

【００４０】表１における保持時間は、回転テ−ブル２
７の回転数が1600rpm に到達してからその回転数で回転
させた時間である。なお、乾燥状態は目視によって確認
した結果である。

【００４１】

【表１】

【００４２】表１から分かるように、蓋体５１を設けた
場合には、保持時間が５sec であっても基板２０は確実
に乾燥されていた。これに対して蓋体５１を設けない場
合には、保持時間が10sec までは基板２０が確実に乾燥
せず、保持時間を15sec とすることで、基板２０を確実
に乾燥させることができた。

【００４３】以上のことから、蓋体５１を設けること
で、設けない場合に比べて基板２０の乾燥処理時間を大
幅に短縮できることが確認された。しかも、乾燥専用の
乾燥ガスを用いることなく乾燥させることができるた
め、ランニングコストがほとんどかからず、経済的であ
る。

【００４４】図３はこの発明の第２の実施の形態を示
す。なお、図１に示すスピン処理装置と同一部分には同
一記号を付して説明を省略する。つまり、この実施の形
態のスピン処理装置に設けられる整流部材は、上記第１
の実施の形態の蓋体５１に代わり、基板２０の対角寸法
と同等あるいはそれ以上の直径寸法を有する円盤状の整
流板６１からなり、この整流板６１の中心部分には所定
の内径寸法の導入孔６２が穿設されている。

【００４５】上記整流板６１は回転テ−ブル２７に保持
される基板２０と対向して配置され、上下駆動機構６３
によって図３に矢印で示す上下方向に駆動されるように
なっている。

【００４６】つまり、上下駆動機構６３は所定個所に固
定して設けられたベ−ス板６４を有する。このベ−ス板
６４の上面には架台６５が立設されている。この架台６
５には上下端部がそれぞれ軸受６６によって回転自在に
支持されたねじ軸６７と、上下端部が固定されたガイド
軸６８とが軸線を平行にして設けられている。

【００４７】上記ねじ軸６７の下端部は軸受６６から突
出し、その端部には継手６９を介してモ−タ７１の回転
軸７２に連結されている。このモ−タ７１は上記ベ−ス
板６４の下面に設けられたブラケット７３に保持され、
図示しない制御装置によって正転方向と逆転方向とに駆
動されるようになっている。

【００４８】上記ねじ軸６７にはナット体７４が螺合さ
れ、上記ガイド軸６８にはスライダ７５がスライド自在
に設けられ、これらナット体７４とスライダ７５とは連
結されている。したがって、上記モ−タ７１が作動して
ねじ軸６７が回転駆動されれば、その回転方向に応じて
上記ナット体７４がねじ軸６７に沿って上下動するか
ら、その動きにスライダ７５が連動するようになってい
る。

【００４９】上記スライダ７５にはＬ字状のア−ム体７
６の基端部が連結されている。このア−ム体７６の先端
部は上記整流板６１の上面の一端部に連結されている。
したがって、ア−ム体７６が上記スライダ７５と一体的
に上下動し、その動きに上記整流板６１が連動すること
で、この整流板６１と基板２０との対向間隔を調整でき
るようになっている。

【００５０】上記構成のスピン処理装置において、基板
２０を乾燥処理する場合には、まず、上下駆動機構６３
によって整流板６１と基板２０との対向間隔を設定す
る。ついで、モ−タ２５を作動させて基板２０とともに
回転テ−ブル２７を回転させる。基板２０を回転させる
ことで、その基板２０に付着した洗浄液が遠心力で飛散
されるから、基板２０が乾燥処理される。

【００５１】一方、回転テ−ブル２７を回転させれば、
そのときの遠心力によって図３に矢印Ｃで示すように、
基板２０の回転方向と同方向で、基板２０の中心部から
周辺部に向かう空気流が生じる。この空気流Ｃが生じる
ことで、基板２０と整流板６１との対向面間が負圧にな
るから、この対向面間には整流板６１に形成された導入
孔６２から同図に矢印Ｄで示すように外気が導入され
る。外気Ｄは基板２０の上面中心部から径方向外方へ向
かって流れ、回転テ−ブル２７の回転によって生じた空
気流Ｃとともに内カップ２２ｃの内面にガイドされて排
出口３９からタンク４３へと流れる。

【００５２】したがって、この実施の形態によれば、上
記第１の実施の形態と同様、外気Ｄが基板２０を乾燥さ
せる乾燥ガスとして作用するから、基板２０をそれに作
用する遠心力とで効率よく乾燥処理することができる。

【００５３】上記整流板６１は上下駆動機構６３によっ
て上下方向の位置決め、つまり基板２０との対向間隔を
設定することができる。したがって、基板２０のサイズ
が変更され、その基板２０が回転することで発生する遠
心力が変化しても、基板２０と整流板６１との対向間隔
を調整することで、基板２０と整流板６１との対向面間
に流入する外気Ｄの流量を一定に維持することができ
る。

【００５４】たとえば、基板２０のサイズが大きくなる
と、この基板２０が回転テ−ブル２７によって回転され
たときに発生する遠心力が大きくなる。遠心力が大きく
なると、空気流Ｃの流量が増大するから、カップ体２１
内への外気Ｄの流入量も増大する。それによって、排出
管４１から排出される排気量も増大することになるが、
通常、排気能力は一定であるから、外気Ｄの流入量が増
大すると円滑に排気されなくなり、カップ体２１内での
空気流が乱流となり、乾燥時に発生する塵埃やミストが
舞い上がり、基板２０に付着する虞がある。

【００５５】そこで、基板２０のサイズが変更になった
場合には、上述したように基板２０と整流板６１との対
向間隔を調整して外気Ｄの流入量が一定になるようにす
る。たとえば、基板２０のサイズが大きくなった場合に
は、基板２０と整流板６１との対向間隔を大きくして外
気Ｄの流入量を少なくする。それによって、カップ体２
１からの排気が円滑に維持され、そのカップ体２１内で
乱流が発生するのを防止できるから、塵埃やミストが舞
い上がって基板２０に付着するのを阻止することができ
る。

【００５６】なお、基板２０のサイズが 600mm× 800mm
で、回転テ−ブル２７の回転数が1400r.p.m の場合、基
板２０と整流板６１との対向間隔は15〜50mm、導入孔６
２の内径寸法は50〜150mm 程度に設定することで、基板
２０に塵埃やミストが付着することなく乾燥処理できる
ことが確認された。

【００５７】基板２０と整流板６１との対向面間に流れ
る外気Ｄの流速は、これらの対向間隔だけによって決定
されるものでなく、整流板６１に形成される導入孔６２
の内径寸法によっても変化する。つまり、導入孔６２の
内径寸法を小さくすれば、外気Ｄの流速が大きくなり、
逆に導入孔６２を大きくすれば流速が小さくなる。

【００５８】そのため、導入孔６２の内径寸法を小さく
して基板２０と整流板６１との対向面間に流れる外気Ｄ
の流速量を速くすれば、基板２０の乾燥時間を短縮する
ことができる。

【００５９】したがって、上記整流板６１をア−ム体７
６に対して着脱できる構成とし、基板２０の所定の内径
寸法の導入孔５２が形成された整流板６１に交換できる
ようにすれば、乾燥時間を制御することができる。

【００６０】なお、回転テ−ブル２７に基板２０を着脱
する場合には、整流板６１を図３に鎖線で示すようにカ
ップ体２１の上方へ退避させ、図示しないロボットのハ
ンドをカップ体２１内へ出し入れして行うようにすれば
よい。

【００６１】

【発明の効果】請求項１ないし請求項３の発明によれ
ば、回転テ−ブルと対向して中心部分に導入孔が形成さ
れた整流部材を配置し、基板を乾燥処理するために回転
テ−ブルを回転駆動すると、その回転によって発生する
気流で上記導入孔から基板と整流部材との対向面間に外
気が導入されるようにした。

【００６２】そのため、上記導入孔から基板と整流板と
の対向面間に導入される外気の流れによって基板を短時
間で確実に乾燥させることが可能となるばかりか、乾燥
専用の乾燥ガスを必要としないから、ランニングコスト
の低減を計ることができる。

【００６３】しかも、請求項３の発明によれば、整流部
材を上下駆動機構によって上下動させることで、この整
流部材と基板との対向間隔を調整できるようにしたか
ら、たとえば基板のサイズが変更になった場合などに整
流部材と基板との対向間隔を調整することで、カップ体
内に導入される外気の量が排気能力以上になるのを抑制
できる。

【００６４】そのため、カップ体内からの排気が円滑に
行われるため、カップ体内で乱流が生じてミストや塵埃
が舞い上がり、基板に付着するの防止することができ
る。請求項４の発明によれば、回転テ−ブルの回転によ
って上記カップ体内で発生する気流は、カップ体内に設
けられた内カップによって底部の方向へガイドされて排
出口から排出される。

【００６５】そのため、カップ体内へ外気を導入して
も、このカップ体内で乱流が生じるのが防止されるか
ら、そのことによっても基板の乾燥効率を向上させるこ
とができ、さらにはカップ体の内面に塵埃が付着した
り、乾燥処理時にミストが発生しても、それらが舞い上
がって基板に付着するのが防止される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施の形態のスピン処理装置
を示す断面図。

【図２】同じく蓋体の平面図。

【図３】この発明の第２の実施の形態のスピン処理装置
を示す断面図。

【符号の説明】

２０…基板 ２１…カップ体 ２２ｃ…内カップ ２５…駆動源 ２６…駆動軸 ２７…回転テ−ブル ３９…排出口 ５１…蓋体（整流部材） ５２、６２…導入孔 ６１…整流板（整流部材） ６３…上下駆動機構

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小松 正幸 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１ 株 式会社芝浦製作所大船工場内 (72)発明者 磯 明典 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１ 株 式会社芝浦製作所大船工場内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させることで、この基板を乾
   燥処理するスピン処理装置において、 上面が開口したカップ体と、 このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源に
   よって回転駆動される駆動軸と、 この駆動軸に設けられ上記基板を保持して上記駆動軸と
   ともに回転する回転テ−ブルと、 上記回転テ−ブルに保持された基板と対向して配設され
   るとともにその中心部分には上記回転テ−ブルが回転駆
   動されることで発生する気流によって上記カップ体の外
   部の気体を所定の速度で上記基板との対向面間に導入す
   る導入孔を有する板状の整流部材とを具備したことを特
   徴とするスピン処理装置。
2. 【請求項２】 上記整流部材は、上記カップ体にこの上
   面開口を閉塞する状態で着脱自在に設けられることを特
   徴とする請求項１記載のスピン処理装置。
3. 【請求項３】 上記整流部材は、上下駆動機構によって
   上記回転体に保持された基板との対向間隔の調整自在に
   設けられていることを特徴とする請求項１記載のスピン
   処理装置。
4. 【請求項４】 上記カップ体の内部には、上記回転テ−
   ブルが回転駆動されることで、このカップ体内で発生す
   る気流をカップ体の底部に向けてガイドする内カップが
   設けられ、カップ体の底部にはその気流を排出する排出
   口が形成されていることを特徴とする請求項１ないし請
   求項３のいずれかに記載のスピン処理装置。