JP3133735B2 - 回転式塗布装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
のガラス基板、半導体ウエハ、半導体製造装置用のマス
ク基板などの基板の表面に、遠心力を利用してフォトレ
ジスト液などの塗布液を薄膜状に塗布するために、基板
を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台
上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供
給手段とを備えた回転式塗布装置に関する。

【０００２】

【０００３】

【従来の技術】 この種の回転式塗布装置では 、基板を
水平に支持して回転させる回転台と、この回転台を閉じ
る蓋と、回転台の周囲を囲む上面開口のケースと、ケー
スの上面開口を閉じる蓋とを備え、ケースを閉じる蓋を
回転しないように固定支持するとともに、回転台を閉じ
る蓋をベアリングにより回転可能に支持している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述の従来例の場合に
は、回転台による塗布処理空間から出てケース内に回収
した塗布液が霧状になって外部へ飛散するのを防止する
ために、ケースの上面開口を閉じる蓋はケース内の気密
性を保つように構成されている。しかしながら、このよ
うな構成では、かえって霧状の塗布液をケース内に閉じ
込めることになってしまい、基板の出し入れ等を行うた
めにケースの蓋や回転台の蓋を開放する際に、その霧状
の塗布液が基板に付着するという不都合を引き起こすこ
とがある。上記従来技術では、ケース内を排気口から排
気するようにしても、ケースを蓋により気密にしている
ので霧状の塗布液をケースから有効に排出できない。

【０００５】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであつて、ケース内の排気を有効に行うことがで
き、霧状の塗布液が基板に付着することを有効に防止で
きて、汚染のない塗布処理を効率的に行える回転式塗布
装置を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】 本発明の構成と効果
を、後に詳述する実施形態に基づき図面の符号を参照し
て説明する。 ［気流通路構造］ 本構成では、廃液回収ケース５の上部に取り付けられた
筒状カバー１５上部の基板出し入れ用の開口を閉じる閉
じ部材としての固定支持部材１６は、上方側支持プレー
ト１６ａと、下方側支持プレート１６ｂと、縦部材１６
ｄと、横部材１６ｅとからなる。上方側支持プレート１
６ａは図４の平面図に示す形状を、下方側支持プレート
１６ｂは図３の平面図に示す形状を、それぞれ有する。
また、縦部材１６ｄは図３に断面で示し、また図４に示
す形状を有している。そして、上方側支持プレート１６
ａの上側の空間と下側の空間とは、縦部材１６ｄで閉じ
られたところを除き、図５に示すように、上方側支持プ
レート１６ａの側方を通じて連通している。すなわち、
筒状カバー１５と廃液回収ケース５の内側でかつ固定支
持部材１６の下側の、回転台２が設けられている空間
と、固定支持部材１６の上側空間すなわち廃液回収ケー
ス５の外側の空間との間には、固定支持部材１６によっ
て図１と図５に矢印で示すような気流の通路が形成され
る。 ［気流通路構造による効果］ かかる構成により、塗布処理に際し、固定支持部材１６
で筒状カバー１５と廃液回収ケース５を閉じた状態であ
っても、図１と図５に矢印で示すような気流を形成で
き、筒状カバー１５や廃液回収ケース５内の塗布液が霧
状になった塗布液ミストを排気口１４から円滑に排出で
きる。そのため、筒状カバー１５や廃液回収ケース５内
の排気を有効に行うことができ、霧状の塗布液が基板に
付着することを有効に防止できて、汚染のない塗布処理
を効率的に行える。しかも、排気口１４と回転台２との
間には、部材５ａが設けられており、回転台２の全周に
わたって排気の吸引を均一にできるようになっている。
また、回転台２から見た実質的な排気口は部材５ａの下
端部と廃液回収ケース５との隙間５ｂであるが、これら
排気口１４や隙間５ｂを回転台２よりも十分下方に設け
ることで、筒状カバー１５や廃液回収ケース５内を有効
に排気できる。さらに、廃液回収ケース５は回転台２の
周縁部上側のリングプレート１０との間を部材５ｃによ
って狭めており 、回転台２から廃液回収ケース５内に流
出した塗布液のミストが回転台２の上面に載置される角
型基板１上面に付着しにくくするとともに、回転台２周
辺での気流の流速を高くし、塗布液ミストの排出をより
円滑にして角型基板１への再付着を確実に防止してい
る。また、固定支持部材１６における気流通路は、回転
台２の回転中心の軸心Ｐ近傍の上方にある上方側支持プ
レート１６ａの側を通過するよう、回転台２の回転中心
近傍に設けられているので、回転台２の回転中心側から
筒状カバー１５内の空間に入って回転台２の周辺側方向
に向って流れ回転台２の周辺端部から下方に向う下降気
流を形成し、それにより筒状カバー１５内の空間全体を
より円滑にかつ効率よく排気でき、特に回転台２よりも
上方の空間を円滑に排気できて、上部支持板４及び上部
回転板３を持ち上げる際などにおける角型基板１へのミ
スト付着防止に特に有効である。

【０００７】［非接触構造］ 実施形態に記載のように、塗布処理に際しては、電動モ
ータ７を起動して回転台２、上部支持板４、上部回転板
３および角型基板１を一体に水平回転させる。このと
き、図５、図６等の図面から明らかなように、回転台
２、上部支持板４、上部回転板３、取付部材３０、環状
プレート３１は、固定支持部材１６とは非接触状態とな
っており、回転台２、上部支持板４、上部回転板３は固
定支持部材１６にかかわらず自由に回転できる。 ［非接触構造による効果］ 角形基板１よりも大きな上部支持板４、上部回転板３な
どをベアリングを用いて回転自在に支持する場合と比
べ、摺動部分が少なくなるため装置の寿命やパーティク
ル発生量において有利であり、また大型かつ高精度なベ
アリングが不要となりコストにおいて有利である。ま
た、ベアリングにより回転自在に支持する場合では、そ
れら上部支持板４と上部回転板３を支持するベアリング
の回転中心を回転台２の回転軸心Ｐに対して厳密に一致
させなければ円滑な回転は得られなかったが、本構成で
はそのような厳密さは不要であり、回転台２等の円滑な
回転による回転塗布を低コストで実現できる。

【０００８】［相対昇降構造］ 固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂは、取付
部材３０で互いに結合されているところの上部支持板４
と環状プレート３１との間の高さに位置し、かつ取付部
材３０に対して接触しない状態となっている。そして、
廃液回収ケース５の上部に取り付けられた筒状カバー１
５上部の基板出し入れ用の開口を閉じる固定支持部材１
６と、上部支持板４とは、非接触で上下方向に相対移動
可能な状態で結合されている。これにより、固定支持部
材１６で上部支持板４、上部回転板３を吊り下げて上方
に外す際には、固定支持部材１６が上昇をはじめてから
固定支持部材１６の下方側支持プレート１６ｂが上部支
持板４の環状プレート３１の下面を持ち上げるまで、上
部支持板４及び上部回転板３は回転台２と結合した状態
である。そして、下方側支持プレート１６ｂが上部支持
板４の環状プレート３１の下面に当接して持ち上げるこ
とで、上部支持板４及び上部回転板３は回転台２から取
り外される。逆に、固定支持部材１６で筒状カバー１５
を閉じ、上部支持板４、上部回転板３を回転台２に結合
するためにそれらを下降させる際には、上部支持板４及
び上部回転板３を吊り下げた状態の固定支持部材１６が
下降することで、まず、上部支持板４及び上部回転板３
がその自重により回転台２と結合する。そしてその後も
固定支持部材１６は下降を続け、最終的に下方側支持プ
レート１６ｂが上部支持板４にぶつかる手前で図１に示
す状態となり、固定支持部材１６が筒状カバー１５の上
面に乗ってその開口を閉じ、固定支持部材１６は停止す
る。そしてこのとき、上部支持板４や取付部材３０、環
状プレート３１は、下方側支持プレート１６ｂとは非接
触状態で回転可能となる。 ［相対昇降構造による効果］ 固定支持部材１６と、上部支持板４及び上部回転板３と
を上下方向に相対移動可能とすることにより、一方（以
上の実施形態では上部支持板４及び上部回転板３）が最
も下方の位置（すなわち回転台２と結合した状態）に至
った後も他方（以上の実施形態では固定支持部材１６）
は下降を続けることができて、上部支持板４及び上部回
転板３が回転台２に対して、固定支持部材１６が筒状カ
バー１５に対して、それぞれ確実に結合装着される。
公知技術のように、上部支持板 ４及び上部回転板と固
定支持部材１６との上下位置が固定されてしまっていれ
ば、それら上部支持板４及び上部回転板と固定支持部材
１６の距離や回転台２、廃液回収ケース５、筒状カバー
１５などの部材の寸法精度や組み立て精度をきわめて高
くする必要があり、コストが非常に高くなってしまい、
かつ、温度変化や経時変化など各種要因によって寸法が
少しでもずれてしまった場合には、回転台２と廃液回収
ケース５の筒状カバー１５とのどちらかの閉じ状態が不
完全となってしまい、不完全な結合による遊びなどに起
因する気密性の低下、振動やパーティクルの発生などの
問題が生じる。本構成では、上部支持板４及び上部回転
板と固定支持部材１６の距離や回転台２、廃液回収ケー
ス５、筒状カバー１５などの寸法精度をさほど高くしな
くても、回転台２と廃液回収ケース５の筒状カバー１５
との両方を確実に閉塞でき、しかも簡単な構造であるか
らコストも安く、しかも温度変化や経時変化など各種要
因による多少の寸法変化が起きても回転台２と廃液回収
ケース５の筒状カバー１５との閉塞状態には全く悪影響
が生じない。このことは、上述したように、上部支持板
４が回転台２に結合した状態では上部支持板４、上部回
転板３、取付部材３０、環状プレート３１が固定支持部
材１６と非接触状態になることと相俟って、装置の円滑
でかつ確実な作動を低コストで実現する。

【０００９】［回転方向位置決め構造］ また、角型基板１を基板支持部材である回転台２へ載置
する際には、固定支持部材１６で吊り下げて上部回転板
３を上方に外す。図３、図５、図６等の図面から明らか
なように、上部回転板３が連結されている上部支持板４
は、その上部支持板４から上方に延びるように結合され
た取付部材３０を介して水平方向に延在する環状プレー
ト３１に結合されている。環状プレート３１には筒体３
２が設けられる。一方、昇降することにより回転台２に
対して進退する進退部材である固定支持部材１６には、
環状プレート３１の下方に位置するように下方側支持プ
レート１６ｂが設けられ、下方側支持プレート１６ｂの
内周面側部１６ｃの上面には、係合突起２９が設けられ
ている。係合突起２９は筒体３２と係合可能になってい
る。これら、取付部材３０、環状プレート３１、筒体３
２、下方側支持プレート１６ｂ、内周面側部１６ｃ、係
合突起２９により係合部が構成され、筒体３２と係合突
起２９により凹凸結合による位置決め機構が構成され
る。上部回転板３を上方に外す際には、固定支持部材１
６が上昇することにより下方側支持プレート１６ｂの内
周面側部１６ｃによって環状プレート３１が下方から支
持される。またこのとき、環状プレート３１に設けられ
た筒体３２に固定支持部材１６の下方側支持プレート１
６ｂの内周面側部１６ｃに設けられた係合突起２９が嵌
入することにより両者が結合して環状プレート３１は下
方から支持される。これにより、上部回転板３および上
部支持板４は、固定支持部材１６に対して回転しないよ
うに周方向に所定位置に位置決めされて相対回転不能に
吊り下げ支持され、回転台２から離脱して上昇する。回
転台２に上部回転板３、上部支持板４を結合する際に
は、固定支持部材１６が下降し、回転台２に上部回転板
３、上部支持板４が自重により載置結合される。そして
さらに固定支持部材１６が下降することで、下方側支持
プレート１６ｂによる環状プレート３１の支持が解除さ
れ、また係合突起２９が筒体３２から外れてそれらによ
る凹凸結合が解除されて、環状プレート３１の下方から
の支持が解除される。かくして、上部回転板３、上部支
持板４は回転台２と一体で回転自在となる。 ［回転方向位置決め構造による効果］ 公知技術のように、塗布処理空間を形成するための塗布
処理空間形成部材をベアリングを用いて回転自在に支持
するだけでは、角型基板１を回転台２に対して出し入れ
するために塗布処理空間形成部材を上昇させて回転台２
との結合を解除した際に、塗布処理空間形成部材が不所
望に回転してしまい、次に塗布処理空間形成部材を回転
台２に対して結合しようとする際に、一定の位置に結合
させることができず、確実に結合することができないお
それがある。しかし本構成では、上部回転板３と上部支
持板４とからなる塗布処理空間形成部材は、上昇されて
回転台２との結合が解かれた際には、周方向に位置決め
されて回転不能に支持されるので、回転台２に対して常
に一定位置関係を保つことができ、常に一定の位置に結
合させることができ、確実に結合させることができる。
これにより本構成では、回転台２のリングプレート１０
と上部支持板４との着脱自在な取り付けを常に一定位置
関係で確実に行うことができる。 ［回転台洗浄構造］ 各実施形態では、基板を水平支持した状態で回転させる
回転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布
液を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置
において、回転台の上面に向けて洗浄液を噴射する回転
台洗浄手段を備えて構成した。 ［回転台洗浄構造による効果］ 基板に対する所定の回転塗布を行った後、基板の無い状
態にしてから洗浄液を回転台の上面に向けて噴射し、回
転台の上面に飛散して付着した塗布液を洗浄除去するこ
とができるようにすることで、基板に対する所定の回転
塗布に起因して回転台の上面に付着した塗布液を洗浄除
去するから、回転台の上面への塗布液付着に起因するパ
ーティクルの発生、ならびに、付着ミストの再飛散によ
る基板の汚染を防止でき、基板の処理品質の低下を回避
できる。

【００１０】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。

【００１１】図１は本発明に係る回転式塗布装置の第１
実施形態の全体の概略構成を示す縦断正面図であり、角
型基板１を載置する回転台２が鉛直方向の軸心Ｐ周りに
水平回転可能に設けられ、その回転台２の上方に、回転
台２と平行に上部回転板３が設けられるとともに、その
上部回転板３が回転台２に上部支持板４を介して一体的
に回転可能に取り付けられ、これら回転部材の下方及び
周辺部を外から囲むように廃液回収ケース５が設けら
れ、前記回転台２に、縦向き回転軸としての出力軸６を
介して駆動源である電動モータ７が連結されている。

【００１２】回転台２は、角型基板１の外形形状より充
分大きい外形円板として構成されていて、その上面に立
設した多数の基板支持ピン８・・・上に角型基板１が水
平に載置支持されるようになっている。また、図示しな
いが、回転台２上には角型基板１の四隅それぞれに一対
づつの位置決めピンが設けられていて、これら位置決め
ピンによつて角型基板１が回転台２と一体に水平回転さ
れるようになっている。

【００１３】また、回転台２の外周上面には、回転台２
と同外径のスペーサリング９およびリングプレート１０
が同心円線上の場所に複数箇所で連結されるとともに、
このリングプレート１０に上部支持板４がノブボルト１
１を介して着脱自在に取り付けられ、上部支持板４を取
り外すことで、リングプレート１０の中央開口から基板
１を出し入れすることができるようになっている。

【００１４】前記上部回転板３は基板１の外形形状より
大径の円板に構成され、上部支持板４の下面にカラー１
２を介してボルト連結されている。廃液回収ケース５の
底部は絞り込まれ、その下端に廃液排出口１３が形成さ
れるとともに、周方向の複数箇所には塗布液から蒸発し
た溶剤ガスや塗布液ミストを排出する排気口１４が形成
されている。

【００１５】前記廃液回収ケース５の上部に筒状カバー
１５が取り付けられ、その筒状カバー１５に固定支持部
材１６が着脱可能に取り付けられている．

【００１６】図２の要部の一部切欠拡大正面図、図３お
よび図４の要部の平面図、図５の要部の側面図に示すよ
うに、上部回転板３の中央には開口１９が形成され、こ
の開口１９の鉛直方向上方位置において、固定支持部材
１６の上方側支持プレート１６ａに駆動開閉機構として
の第１のエアシリンダ２０が取り付けられ、その第１の
エアシリンダ２０のシリンダロツド２０ａの先端にブロ
ック２１が取り付けられるとともに、ブロック２１に相
対昇降および相対回転可能に有底筒状の蓋１７が吊り下
げ保持されている。

【００１７】また、ブロック２１の下面に第１の磁石２
２が付設され、一方、蓋１７の底面に、前記第１の磁石
２２と同極の第２の磁石２３が付設され、蓋１７を閉じ
位置に変位した状態で、ブロック２１を蓋１７と非接触
状態にしたときに、反発力によって蓋１７を閉じ位置に
維持できるようになっている。

【００１８】したがって、第１のエアシリンダ２０の短
縮により、蓋１７を開口１９の上方の開き位置に上昇変
位させ、一方、第１のエアシリンダ２０の伸長により、
蓋１７を下降して開口１９に嵌入する閉じ位置に変位
し、開口１９を閉じながら蓋１７のみを上部回転板３と
一体回転できるようになっている。

【００１９】 上方側支持プレート１６ａの第１のエア
シリンダ２０の横側方に、鉛直方向の軸芯周りで９０゜
の範囲で回転可能な第２のエアシリンダ２４が設けられ
るとともに、その第２のエアシリンダ２４のシリンダロ
ツド２４ａにスプライン軸２５が連結されている。スプ
ライン軸２５に昇降のみ可能にスプライン筒２６が取り
付けられるとともに、スプライン筒２６に回転のみ可能
に回転筒２７が取り付けられている。スプライン筒２６
に洗浄ノズル１８が一体的に取り付けられるとともに、
上方側支持プレート１６ａの第２のエアシリンダ２４の
横側方下側に設けられた第３のエアシリンダ２８のシリ
ンダロツド２８ａに回転筒２７が連結されている。図示
しないが、洗浄ノズル１８には、洗浄液圧送機構に接続
された配管が接続されている。上述の構成により、回転
台２の上面に向けて洗浄液を噴出する回転台洗浄手段が
構成されている。

【００２０】上記構成により、蓋１７が閉じ位置にある
非洗浄状態では、洗浄ノズル１８を開口１９の上方より
も外れた非洗浄位置に位置きせておき、そして、蓋１７
が開き位置にある洗浄状態では、第２のエアシリンダ２
４により回転して洗浄ノズル１８を開口１９の上方箇所
に位置させた後に、第３のエアシリンダ２８を伸長して
洗浄ノズル１８を下降させ、その吹き出し口１８ａから
回転台２の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄位置に変
位できるようになっている。上記洗浄ノズル１８を洗浄
位置と非洗浄位置とに駆動変位させるための第２および
第３のエアシリンダ２４、２８から成る構成をして駆動
機構と総称する。

【００２１】固定支持部材１６の下方側支持プレート１
６ｂは環状に形成され、その内周面側に寄った上面の周
方向所定の４箇所それぞれに、山形状の係合突起２９が
設けられ、一方、下方側支持プレート１８ｂよりも上方
に位置するように、上部支持板４に取付部材３０・・・
を介して環状プレート３１が取り付けられるとともに、
その環状プレート３１の周方向所定の４箇所それぞれ
に、係合突起２９を嵌入する筒体３２が設けられ、前記
上部回転板３を着脱する際に、係合突起２９・・・を筒
体３２・・・に嵌入することにより、固定支持部材１６
で吊り下げることができるように構成されている。

【００２２】以上の構成により、先ず、塗布処理に際し
ては、固定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外す
とともに上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支
持部材１６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角
型基板１を回転台２の基板支持ピン８・・・上に所定の
姿勢で載置する。

【００２３】次に、図示しない塗布液供給手段としての
塗布液供給ノズルを角型基板１の中央上方に移動させ、
所定量の塗布液を滴下供給する。その後、固定支持部材
１６で吊り下げて上部支持板４を搬入し、上部支持板４
をリングプレート１０上に、そして、固定支持部材１６
を筒状カバー１５上にそれぞれ取り付け、図６の要部の
正面図に示すように、第１のエアシリンダ２０を伸長し
て蓋１７を駆動変位し、上部回転板ａの開口１９を閉じ
ておくとともに洗浄ノズル１８を非洗浄位置に変位して
おく。

【００２４】その後、電動モータ７を起動して回転台
２、上部支持板４、上部回転板３および角型基板１を一
体に水平回転させる。この回転によって角型基板１上の
塗布液は遠心力によって外方に拡散流動して角型基板１
上面に薄く塗布される。この場合、回転台２と上部回転
板３との間に形成された偏平な塗布処理空間Ｓの空気層
も一体に回転し、角型基板１上に気流が発生しない状態
で塗布液の拡散流動が行われる。

【００２５】角型基板１上を流動して外周に到達した余
剰塗布液は角型基板１の周縁から流出し、塗布処理空間
Ｓの外周全域から飛散してゆく。そして、飛散した塗布
液はスペーサリング９の上下に形成されている間隙を通
って廃液回収ケース５内に流出して回収される。

【００２６】所定回数の回転塗布処理が行われると、固
定支持部材１６を筒状カバー１５から取り外すとともに
上部支持板４を回転台２から取り外し、固定支持部材１
６で吊り下げて上部回転板３を上方に外して角型基板１
を取り出してから、上部支持板４をリングプレート１０
上に、そして、固定支持部材１６を筒状カバー１５上に
それぞれ取り付け、その後に、第１のエアシリンダ２０
を短縮して蓋１７を開き位置に駆動変位する。

【００２７】しかる後、第２のエアシリンダ２４を作動
して洗浄ノズル１８を開口１９の上方位置まで回転変位
し、その状態から第３のエアシリンダ２８を伸長して洗
浄ノズル１８を下降させ、開ロ１９を通じて、図５に示
すように、上部回転板３の下方の洗浄位置まで変位す
る。その状態で、電動モータ７を起動して回転台２、上
部支持板４、上部回転板３を一体に水平回転させなが
ら、洗浄ノズル１８から回転台２の上面に洗浄液を噴出
供給し、遠心力を利用して、回転台２の上面に付着した
塗布液のミストを洗浄除去する。

【００２８】図７は、本発明に係る回転式塗布装置の第
２実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施例と
異なるところは次の通りである。

【００２９】回転台２の回転軸２ａの下端と電動モータ
３３の駆動軸３３ａの上端とがベルト式伝動機構３４を
介して連動連結されるとともに、回転台２の回転軸２ａ
に、その回転軸芯を通る貫通孔３５が形成され、その貫
通孔３５内に、上端に洗浄ノズル３６を取り付けた洗浄
液パイプ３７が挿入されるとともに、洗浄ノズル３６が
回転台２の上方に位置されて固定状態で設けられ、回転
台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗浄
手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同様
であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略す
る。

【００３０】図８は、本発明に係る回転式塗布装置の第
３実施形態を示す全体概略正面図であり、第１実施形態
と異なるところは次の通りである。

【００３１】回転台２の周囲の固定フレーム１５ａ上の
所定箇所に、支持ブラケット３８を介して洗浄ノズル３
９が取り付けられ、上部回転板３を取り外した状態で回
転台２の上面に向けて洗浄液を噴出するように回転台洗
浄手段が構成されている。他の構成は第１実施形態と同
様であり、同一図番を付すことにより、その説明を省略
する。

【００３２】本発明としては、角型基板１に限らず円形
基板の回転式塗布装置にも適用できる。

【００３３】

【００３４】

【００３５】

【００３６】

【００３７】

【００３８】

【００３９】

【００４０】

【００４１】

【００４２】

【００４３】

【００４４】

【００４５】

【００４６】

【００４７】

【００４８】

【００４９】

【００５０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る発明の回転式塗布装置によれば、ケース内の排気
を有効に行うことができ、霧状の塗布液が基板に付着す
ることを有効に防止できて、汚染のない塗布処理を効率
的に行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る回転式塗布装置の第１実施形態の
全体の概略構成を示す縦断正面図である。

【図２】要部の拡大正面図である。

【図３】要部の平面図である。

【図４】要部の平面図である。

【図５】要部の側面図である。

【図６】回転塗布状態を示す要部の正面図である。

【図７】本発明に係る回転式塗布装置の第２実施形態を
示す全体概略正面図である。

【図８】本発明に係る回転式塗布装置の第３実施形態を
示す全体概略正面図である。

【符号の税明】

１・・・角型基板 ２・・・回転台 ３・・・上部回転板 ４・・・上部支持板 ５・・・廃液回収ケース １５・・・筒状カバー １６・・・固定支持部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027 B05C 11/08 G03F 7/16 H01L 21/304

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させることにより当該基板の
   表面に塗布液を塗布する回転式塗布装置において、 基板を回転可能に支持する基板支持部材と、 前記基板支持部材と結合して塗布処理空間を形成する塗
   布処理空間形成部材と、 上部に開口を有するとともに内部を排気するための排気
   口が形成され、基板支持部材の周囲を囲むケースと、 前記ケースに着脱可能に設けられ、前記ケースへの装着
   時に前記ケースの前記開口を閉じる閉じ部材とを備え、 前記閉じ部材には、前記ケースの前記開口を当該閉じ部
   材により閉じた状態のケースの内と外を連通する気流通
   路が形成されていることを特徴とする回転式塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転式塗布装置におい
   て、 前記閉じ部材に形成される前記気流通路は、前記基板支
   持部材の上方において基板支持部材の回転中心側から周
   辺側に向って流れる気流を形成するよう、前記閉じ部材
   の中心近傍に設けられていることを特徴とする回転式塗
   布装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の回転式塗布装
   置において、 前記ケースに形成された排気口は、前記基板支持部材の
   周囲端部において下降気流を形成するよう、前記基板支
   持部材よりも下方位置に設けられていることを特徴とす
   る回転式塗布装置。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の回転式
   塗布装置において、 前記塗布処理空間形成部材は、前記基板支持部材との結
   合時に当該基板支持部材と共に回転可能となるよう前記
   閉じ部材に結合されていることを特徴とする回転式塗布
   装置。
5. 【請求項５】 請求項３に記載の回転式塗布装置におい
   て、 前記ケースは、前記排気口よりも上方位置において、前
   記ケースと前記基板支持部材の周縁部側との間隔を狭め
   るための部材を備えてなることを特徴とする回転式塗布
   装置。