JPH11156319A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

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Publication number
JPH11156319A
JPH11156319A JP26681198A JP26681198A JPH11156319A JP H11156319 A JPH11156319 A JP H11156319A JP 26681198 A JP26681198 A JP 26681198A JP 26681198 A JP26681198 A JP 26681198A JP H11156319 A JPH11156319 A JP H11156319A
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JP
Japan
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diaphragm
vibration
generator
cleaning device
ultrasonic
Prior art date
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Pending
Application number
JP26681198A
Other languages
English (en)
Inventor
Klaus Hillebrand
ヒレブラント クラウス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Robert Bosch GmbH
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
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Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08Cleaning containers, e.g. tanks
    • B08B9/20Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought
    • B08B9/22Cleaning containers, e.g. tanks by using apparatus into or on to which containers, e.g. bottles, jars, cans are brought the apparatus cleaning by soaking alone
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Surgical Instruments (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 振動板から外された、もしくは振動板にもは
やしっかりと結合されていない振動発生器を認識できる
ようにする。 【解決手段】 容器1を超音波漕11に供給する装置1
2と、超音波漕11にある媒体のための超音波発生器と
が設けられていて、超音波発生器が、1つの振動板23
と振動板23に結合された複数の振動部材24とを有
し、振動部材24が発生器25によって制御される形式
の洗浄装置10、特にアンプルや水薬瓶またはこれに類
した薬品用の容器1のための洗浄装置10において、振
動部材24によって生ぜしめられる振動を検出するため
に少なくとも1つのセンサ部材が、振動板23に固定さ
れていて、センサ部材が評価装置27に接続されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄装置、特にア
ンプルや水薬瓶またはこれに類した薬品用の容器のため
の洗浄装置であって、容器を超音波漕に供給する装置
と、超音波漕にある媒体のための超音波発生器とが設け
られていて、超音波発生器が、1つの振動板と振動板に
結合された複数の振動部材とを有し、振動部材が発生器
によって制御される形式のものに関する。
【0002】
【従来の技術】このような形式の公知の洗浄装置は、製
薬産業で薬品を充填する前に汚れを容器から取り除くた
めに利用される。いわゆるキャビテーションで生ぜしめ
る洗浄原理の有効化のために、超音波漕で振動発生器に
よって発生される振動を監視することには重要な意義が
ある。このため従来の技術では、振動板に結合されたま
たは振動板に配置された振動発生器の消費出力(Aufnah
meleistung)は超音波発生器で監視される。1つの振動
発生器が故障した際に、このことは例えば消費出力の低
下として超音波発生装置で現れる。このことから洗浄装
置の適正でない運転を、ひいては減少した洗浄能力を推
測することができる。
【0003】公知の洗浄装置の欠点として、例えば振動
板から外された、もしくは振動板にもはやしっかりと結
合されていない振動発生器を、認識することはできな
い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ゆえに本発明の課題
は、冒頭で述べた形式の洗浄装置を改良して、振動板か
ら外された、もしくは振動板にもはやしっかりと結合さ
れていない振動発生器を、認識できるようにすることで
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、振動部材によって生ぜしめられる
振動を検出するために少なくとも1つのセンサ部材が、
振動板に固定されていて、センサ部材が評価装置に接続
されているようにした。
【0006】
【発明の効果】本発明によれば、振動板に固定されてい
ない、または適正に固定されていない振動発生器を検知
することが可能である。これにより洗浄装置の特に確実
な運転が可能となる。本発明の有利な構成では、振動発
生器は同時にセンサ部材として構成されている。これに
よって必要な構造部材の数、ひいてはコストを減少させ
ることができる。それというのは、実質的に回路に関す
る付加的な費用しか必要でないからである。
【0007】
【発明の実施の形態】次に図面につき本発明の実施の形
態を詳しく説明する。
【0008】図1は、アンプル1や水薬瓶、またはこれ
に類した薬品用の容器のための洗浄装置10を示してい
る。この洗浄装置10は、超音波漕11を有し、この超
音波漕11にはその液面下にまで、アンプル1用の供給
装置として働くシュート12が入り込んでいる。このシ
ュート12の端部には、スライダ13が配置されてお
り、このスライダ13によってアンプル1が、超音波漕
11の外において水平な回転軸線に支承されたニードル
輪16の噴射ニードル14に押し嵌められる。ニードル
輪16の回転中絶えず、アンプル1を噴射ニードル14
に留まらせるために、ニードル輪16の回転軸線から一
定の距離をおいて円筒状のガイド18が、配置されてい
る。
【0009】噴射ニードル14におけるアンプル1はそ
の円状の運動軌道に沿ってA〜Hで示されたステーショ
ンを通過する。最初の作業過程で、ステーションAとB
においてアンプル1は、超音波漕11から取り出された
約60度の循環ポンプ水で予洗浄される。つづいてステ
ーションCで、圧縮空気によるアンプル1からの水分吹
き飛ばしが行われる。その後位置Dでアンプル1は、蒸
留水によってもう一度洗浄され、つづいてステーション
E,F,Gで圧縮空気によって乾燥される。洗浄されか
つ乾燥させられたアンプル1のニードル輪16からの最
終的な取り出しは、ガイド18の端部でステーションH
において行われる。このステーションHは、旋回可能に
支承されたレバー19を有していて、このレバー19に
よってアンプル1は、後置の充填装置の供給部に送られ
る。
【0010】噴射ニードル14への水と圧縮空気との供
給は、公知のようにニードル輪16の噴射ニードル14
の、アンプル1とは反対の側で、供給管路21によって
行われる。これらの供給管路21は、噴射ニードル14
の通過の際に開放され、続いてまた閉鎖される。超音波
漕11でアンプル1への水の迅速な侵入を可能にし、同
時に超音波漕11への浸漬の際に気泡の形成を回避する
ため、超音波漕11へのアンプル1の進入領域に、調水
装置22がシュート12とアンプル1の上方に設けられ
ている。
【0011】超音波漕11に浸漬しているシュート12
の端部は、振動板23に連結されている。この振動板2
3はシュート12の下側に固定されている。この振動板
23には複数の、例えば10〜15の振動発生器24が
固定されている(図面では、見やすいように、複数の振
動発生器24うちの幾つかだけを示している)。これら
の振動発生器24は振動板23と共にケーシング20に
よって取り囲まれているので、閉じられた超音波発生ユ
ニットが形成されている。実施例ではピエゾ素子として
構成された振動発生器24は、高周波発生器25に接続
されている。
【0012】本発明にとって重要なことは、振動発生器
24のうちの1つが、スイッチ26を用いて評価回路2
7に接続されていることであり、この評価回路27自体
はメモリプログラミング可能な制御装置(SPS)28
に接続されていてもよい。周期的に二つの位置を切り替
えるスイッチ26を用いて、1つの振動発生器24は高
周波発生器25、または評価回路27のいずれかに接続
されている。この1つの振動発生器24が高周波発生器
25に接続されていると、1つの振動発生器24が残り
の振動発生器24と一緒に振動板23に機械的な振動を
励起させる。この振動の周波数は、典型的には約20k
Hzから40kHzの値であり、振動は振動板23に伝
播し、このため振動板23を取りまく水において圧力変
動が引き起こされる。この圧力変動は水中で高圧相と低
圧相を交互に発生させる。この高圧相と低圧相は、ある
適当な周波において公知のキャビテーション効果を引き
起こす。1つの振動発生器24の、評価回路27に関連
した別の作業形式では、残りの振動発生器24によって
励起させらせた振動板23の振動が、1つの振動発生器
24に伝播される。この1つの振動発生器24はこれら
の振動を電気的な信号に変換する。この信号は、評価回
路27によって伝達される。
【0013】単数または複数の振動発生器24が振動板
に結合されていないか、または適正に結合されていな
い、もしくは故障している場合に、システムの設計に応
じて振動板23のわずかな振動振幅または変えられた振
動周波数という形のいずれかで現れる。これらは評価回
路27によって認識される。この評価回路27は、対応
する欠陥情報を、例えば後置のSPS制御装置28で生
ぜしめる。
【0014】上記の実施例において、振動発生器24の
1つは、同時に振動板23の振動の検出するためのセン
サとして使用される。もちろん振動板23に接続されて
いて常に評価回路27に接続されている別体のセンサを
使用することも可能である。この場合にはスイッチ26
を省くことができる。このような形式の構成は、振動発
生器24の数とコストに応じて、スイッチ26を備えた
最初に述べた実施例におけるよりも全く安価となり得
る。なぜならばスイッチ26の他に、付加的な回路に関
する費用と配線がさらに必要となるためである。さらに
また別体のセンサを使用すると、洗浄装置10の機能の
単に周期的でない、永続的なコントロールもしくは監視
を保証することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による洗浄装置の概略図である。
【符号の説明】
1 アンプル、 10 洗浄装置、 11 超音波漕、
12 シュート、13 スライダ、 14 噴射ニー
ドル、 16 ニードル輪、 18 ガイド、 19
レバー、 20 ケーシング、 21 供給管路、 2
2 調水装置、 23 振動板、 24 振動発生器、
25 高周波発生器、 26 スイッチ、 27 評
価回路、 28 制御装置

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄装置(10)、特にアンプルや水薬
    瓶またはこれに類した薬品用の容器(1)のための洗浄
    装置(10)であって、該容器(1)を超音波漕(1
    1)に供給する装置(12)と、超音波漕(11)にあ
    る媒体のための超音波発生器とが設けられていて、該超
    音波発生器が、1つの振動板(23)と該振動板(2
    3)に結合された複数の振動部材(24)とを有し、該
    振動部材(24)が、発生器(25)によって制御され
    る形式のものにおいて、 振動部材(24)によって生ぜしめられる振動を検出す
    るために少なくとも1つのセンサ部材が、振動板(2
    3)に固定されていて、センサ部材が評価装置(27)
    に接続されていることを特徴とする、洗浄装置。
  2. 【請求項2】 センサ部材が、回路装置(26)を用い
    て制御されている振動部材(24)であり、発生器(2
    5)または評価装置(27)に接続されている、請求項
    1記載の洗浄装置。
  3. 【請求項3】 振動部材(24)がピエゾ素子である、
    請求項1または2記載の洗浄装置。
  4. 【請求項4】 振動部材(24)およびセンサ部材が振
    動板(23)に固定されており、ケーシングによって取
    り囲まれている、請求項1から3までのいずれか1項記
    載の洗浄装置。
  5. 【請求項5】 容器(1)を超音波漕(11)に供給す
    る装置(12)と振動板(23)とが互いに作用連結さ
    れて配置されている、請求項1から4までのいずれ1項
    記載の洗浄装置。
JP26681198A 1997-09-23 1998-09-21 洗浄装置 Pending JPH11156319A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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DE1997141836 DE19741836A1 (de) 1997-09-23 1997-09-23 Reinigungsvorrichtung
DE19741836.8 1997-09-23

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ID=7843260

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