JPH11153707A - Production of color filter - Google Patents
Production of color filterInfo
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- JPH11153707A JPH11153707A JP31955797A JP31955797A JPH11153707A JP H11153707 A JPH11153707 A JP H11153707A JP 31955797 A JP31955797 A JP 31955797A JP 31955797 A JP31955797 A JP 31955797A JP H11153707 A JPH11153707 A JP H11153707A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板などへ
のカラーフィルタの製造方法に関し、特にガラス基板な
どへのカラーインク層の転写性を向上させたカラーフィ
ルタの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a color filter on a glass substrate or the like, and more particularly, to a method for producing a color filter having improved transferability of a color ink layer to a glass substrate or the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ガラス基板にカラーフィルタを形
成する場合には以下に示す方法が行われていた。図４
は、従来より使用されているカラーフィルムシート５０
を、ガラス基板１に密着させた状態を示している。前記
カラーフィルムシート５０は、ベースフィルム３上に、
光熱変換層４およびカラーインク層２が順に積層されて
いる。前記ベースフィルム３は、ポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）などの樹脂製の材料をフィルム状にし
たものが使用される。また、光熱変換層４は、樹脂製の
バインダにカーボン粉を混入させたものが使用され、光
エネルギーを吸収して熱エネルギーに変換する性質を有
している。また、カラーインク層２は、樹脂製のバイン
ダに顔料などを添加したものが使用され、ひとつのカラ
ーフィルムシート５０には１つの色のカラーインク層２
が形成される。2. Description of the Related Art Conventionally, when a color filter is formed on a glass substrate, the following method has been used. FIG.
Is a color film sheet 50 conventionally used.
Is in a state of being adhered to the glass substrate 1. The color film sheet 50 is provided on the base film 3.
The light-to-heat conversion layer 4 and the color ink layer 2 are sequentially stacked. As the base film 3, a film made of a resin material such as polyethylene terephthalate (PET) is used. The light-to-heat conversion layer 4 is made of a resin binder mixed with carbon powder, and has a property of absorbing light energy and converting it to heat energy. The color ink layer 2 is formed by adding a pigment or the like to a resin binder, and one color film sheet 50 is provided with one color ink layer 2.
Is formed.
【０００３】ガラス基板１上に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、
Ｂ（青）のいずれかのカラーインク層２を有するカラー
フィルムシート５０が密着するように設置される。この
カラーフィルムシート５０の上方からレーザー光などの
光エネルギーが局所的に照射されると、前記光熱変換層
４が発熱する。この熱によりカラーインク層２が溶融さ
れ、溶融した部分のカラーインク層２がガラス基板１に
溶着（接着）される。その後にカラーフィルムシート５
０を引き剥がすことにより、ガラス基板１上にカラーイ
ンク層２の転写層が形成される。前記カラーフィルムシ
ート５０を用いて、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色のカラーインク層
２を順番に転写することにより、図３に示すように、ガ
ラス基板１上に各色が順番に配置されたカラーフィルタ
２１が形成される。On a glass substrate 1, R (red), G (green),
The color film sheet 50 having any one of the B (blue) color ink layers 2 is installed so as to be in close contact with the color film sheet 50. When light energy such as laser light is locally irradiated from above the color film sheet 50, the photothermal conversion layer 4 generates heat. The color ink layer 2 is melted by this heat, and the melted portion of the color ink layer 2 is welded (bonded) to the glass substrate 1. After that, color film sheet 5
By peeling 0, a transfer layer of the color ink layer 2 is formed on the glass substrate 1. By sequentially transferring the color ink layers 2 of each color of R, G, and B using the color film sheet 50, a color filter in which each color is sequentially arranged on the glass substrate 1 as shown in FIG. 21 are formed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カラー
フィルムシート５０の製造においては、周囲の雰囲気が
常温下で行われているため、以下に示す問題があった。
カラーフィルムシート５０にレーザー光を照射すると、
照射部分のみ光熱変換層４が発熱してカラーインク層２
が溶融され、溶融した部分のカラーインク層２がガラス
基板１上に溶着（接着）されて転写される。このときの
レーザー光は、カラーフィルタ２１のパターンに応じて
局所的に照射される。例えば赤（Ｒ）のカラーインク層
を有するカラーフィルムシート５０が使用されるときに
は、カラーフィルムシート５０をガラス基板１に密着さ
せて、図３にＲで示すパターンの部分にレーザー光が順
番に照射され、カラーインク層２が部分的に且つ順番に
溶融させられていく。However, in the production of the color film sheet 50, since the surrounding atmosphere is performed at room temperature, there are the following problems.
When the color film sheet 50 is irradiated with laser light,
The light-to-heat conversion layer 4 generates heat only in the irradiated portion, and the color ink layer 2
Is melted, and the melted portion of the color ink layer 2 is welded (bonded) onto the glass substrate 1 and transferred. At this time, the laser light is locally irradiated according to the pattern of the color filter 21. For example, when a color film sheet 50 having a red (R) color ink layer is used, the color film sheet 50 is brought into close contact with the glass substrate 1 and a laser beam is sequentially irradiated on the pattern indicated by R in FIG. Then, the color ink layer 2 is partially and sequentially melted.
【０００５】したがって、図３に示す例えばＲのパター
ンの全てがレーザー光で加熱されてカラーインク層２の
ガラス基板１への溶着（接着）が完了した時点では、始
めの頃に溶融されたカラーインク層２が冷却されて硬化
してしまう。レーザー光の照射により一度は溶融したカ
ラーインク層２が時間の経過につれて冷却されて硬化
し、カラーインク層２の転写部と非転写部との境界が明
確ではなくなり、実際に溶融されていなければならない
場所が硬化されて非転写部側のカラーインク層２と一体
化してしまう。これは、レーザー光が光熱変換層４に与
えられることによりカラーインク層２が局所的に一瞬は
５００℃程度まで上昇するが、すぐに熱容量の大きなベ
ースフィルム３等に吸収され、カラーインク層２が冷却
されてしまうことが要因のひとつである。Accordingly, when all the R patterns shown in FIG. 3, for example, are heated by the laser beam and the welding (adhesion) of the color ink layer 2 to the glass substrate 1 is completed, the color melted at the beginning is The ink layer 2 is cooled and hardened. The color ink layer 2 once melted by the irradiation of the laser beam is cooled and hardened with the passage of time, and the boundary between the transfer portion and the non-transfer portion of the color ink layer 2 is not clear. The unrequired portions are hardened and integrated with the color ink layer 2 on the non-transfer portion side. This is because the color ink layer 2 locally rises to about 500 ° C. for an instant when laser light is applied to the light-to-heat conversion layer 4, but is immediately absorbed by the base film 3 having a large heat capacity, and Is one of the factors.
【０００６】また、レーザー光を用いた転写方法では、
例えばＲのパターンを全て同時に加熱することができ
ず、レーザー光を各パターンに照射し、各パターンを順
番に加熱していくことになり、結果的に全てのパターン
の加熱が完了するまでにある程度時間がかかることも原
因のひとつである。[0006] In the transfer method using a laser beam,
For example, it is not possible to heat all the R patterns at the same time, and it is necessary to irradiate each pattern with a laser beam and heat each pattern in turn. Time is another factor.
【０００７】このように、レーザー光が全てのパターン
に照射された時点で、最初の頃に加熱されてガラス基板
１に粘着されたカラーインク層２が冷却され、レーザー
が照射されたパターンの部分と、加熱されない部分とで
カラーインク層２の状態が同じになってしまうと、ベー
スフィルム３をガラス基板１から剥がすときに、ガラス
基板１に溶着（接着）されたカラーインク層の転写部
と、加熱されていない非転写部との分離が悪くなる。そ
のため、カラーインク層の転写部が、ベースフィルム３
と一緒にガラス基板１から剥がされたり、逆にカラーイ
ンク層の非転写部がガラス基板に残ったりして、図３に
示すパターンのエッジをきれいに形成することが難し
い。As described above, at the time when the laser beam is applied to all the patterns, the color ink layer 2 which is heated at the beginning and adhered to the glass substrate 1 is cooled, and the portion of the pattern to which the laser is applied is cooled. When the state of the color ink layer 2 becomes the same in the unheated portion, when the base film 3 is peeled off from the glass substrate 1, the transfer portion of the color ink layer welded (bonded) to the glass substrate 1 Then, the separation from the non-transferred portion that is not heated is deteriorated. Therefore, the transfer portion of the color ink layer is
3 and the non-transferred portion of the color ink layer remains on the glass substrate, making it difficult to form the edge of the pattern shown in FIG. 3 neatly.
【０００８】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、ガラス基板へのカラーインク層の転写
完了までにある程度の時間がかかっても、ガラス基板上
にきれいなエッジパターン形状を有するカラーインク層
を確実に形成できるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has a clear edge pattern shape on a glass substrate even if it takes some time to complete the transfer of the color ink layer to the glass substrate. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a color filter capable of reliably forming a color ink layer.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、熱溶融性のカラーインク層を有するカラ
ーフィルムシートを被着色支持体に密着させ、前記カラ
ーフィルムシートを加熱して被着色支持体に前記カラー
インク層を転写するカラーフィルタの製造方法におい
て、前記カラーフィルムシートにレーザー光を照射して
加熱し、その後にカラーフィルムシートを被着色支持体
から剥離する前に、カラーインク層を所定温度に加熱す
ることを特徴とするものである。According to a method of manufacturing a color filter of the present invention, a color film sheet having a heat-meltable color ink layer is brought into close contact with a support to be colored, and the color film sheet is heated by heating the color film sheet. In the method for producing a color filter for transferring the color ink layer to a support, the color film sheet is irradiated with a laser beam and heated, and then, before the color film sheet is separated from the support to be colored, the color ink layer is heated. Is heated to a predetermined temperature.
【００１０】上記手段により、カラーフィルムシートへ
のレーザー光の照射から、カラーインク層の被着色支持
体への溶着までにある程度の時間を要したとしても、カ
ラーフィルムシートの剥離時には、カラーインク層は所
定温度をすでに保持しているため、硬化することなく、
カラーインク層の転写部と、カラーインク層の非転写部
とが容易に分離できるようになり、きれいなエッジパタ
ーン形状を有するカラーインク層が被着色支持体上に形
成される。By the above means, even if a certain period of time is required from the irradiation of the laser beam to the color film sheet to the welding of the color ink layer to the support to be colored, the color ink layer can be removed when the color film sheet is peeled off. Already holds the prescribed temperature, without curing
The transfer portion of the color ink layer and the non-transfer portion of the color ink layer can be easily separated, and a color ink layer having a clean edge pattern is formed on the support to be colored.
【００１１】また、前記所定温度は、カラーインク層の
ガラス転移点温度近傍あるいはそれ以上の温度であるこ
とが好ましい。Further, it is preferable that the predetermined temperature is a temperature near or higher than the glass transition temperature of the color ink layer.
【００１２】すなわち、カラーフィルムシートを剥離す
る前に前記所定温度で熱処理されることにより、カラー
インク層中の樹脂成分が再び柔らかくなり、あるいは加
熱の条件によっては樹脂成分は硬化せず、被着色支持体
に転写されるカラーインク層と、カラーフィルムシート
側に残るカラーインク層とが境界部で直線的に明確に分
離され、エッジパターンが亀裂状に剪断されることなく
良好な転写層が得られる。That is, the resin component in the color ink layer is softened again by the heat treatment at the predetermined temperature before the color film sheet is peeled off, or the resin component is not cured depending on the heating conditions, and The color ink layer transferred to the support and the color ink layer remaining on the color film sheet side are separated linearly and clearly at the boundary, and a good transfer layer is obtained without the edge pattern being sheared in a crack shape. Can be
【００１３】また、具体的には、カラーインク層のバイ
ンダー樹脂がエポキシ系などの場合に、加熱条件は１５
０℃以上且つ１０分以下とすることが望ましく、特に１
５０℃で１０分とした場合が、最も良好な転写層が被着
色支持体上に得られる。Specifically, when the binder resin of the color ink layer is an epoxy resin or the like, the heating condition is 15
It is preferable that the heating time is not less than 0 ° C. and not more than 10 minutes.
When the temperature is set to 50 ° C. for 10 minutes, the best transfer layer can be obtained on the support to be colored.
【００１４】なお、カラーフィルタが液晶セルに形成さ
れる場合は、被着色支持体がガラス基板である。また被
着色支持体は樹脂フィルムなどであってもよい。When a color filter is formed in a liquid crystal cell, the support to be colored is a glass substrate. The support to be colored may be a resin film or the like.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】図１は、支持台１５に固定された
被着色支持体としてのガラス基板１上に、カラーフィル
シート５０が設置され、レーザー光で所定のパターンが
局所的に加熱される状態を示す斜視図、図２は、カラー
インク層２がガラス基板１に転写された後にカラーフィ
ルムシート５０を剥がす動作を示す部分拡大断面図であ
る。支持台１５には、ガラス基板１を吸着固定するため
の機能が装着されている。また、被着色支持体として
は、ガラス基板１以外に、高分子樹脂からなる透明シー
ト基板を適用することもできる。FIG. 1 shows a color fill sheet 50 provided on a glass substrate 1 as a support to be colored fixed to a support 15 and a predetermined pattern is locally heated by a laser beam. FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view showing an operation of peeling off the color film sheet 50 after the color ink layer 2 is transferred to the glass substrate 1. The support 15 is provided with a function for adsorbing and fixing the glass substrate 1. In addition to the glass substrate 1, a transparent sheet substrate made of a polymer resin can be used as the support to be colored.
【００１６】図１に示すカラーフィルムシート５０は、
図４に示したように、ベースフィルム３に、光熱変換層
４、カラーインク層２が順番に積層されている。前記ベ
ースフィルム３は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）等からなる樹脂を延伸したものを熱処理して応力を
緩和したものが使用される。また、光熱変換層４は、エ
ポキシ樹脂等にカーボン粉を添加したものが使用され、
光を吸収して熱エネルギーに変換する機能を有してい
る。また、カラーインク層２は、エポキシ樹脂等にイン
クや顔料（シアンなど）を添加したものが使用され、各
カラーフィルムシート５０毎に、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色のカ
ラーインク層２が形成されている。The color film sheet 50 shown in FIG.
As shown in FIG. 4, a light-to-heat conversion layer 4 and a color ink layer 2 are sequentially laminated on a base film 3. The base film 3 is made of polyethylene terephthalate (PE)
A resin obtained by stretching a resin such as T) or the like is subjected to a heat treatment to reduce stress. The light-to-heat conversion layer 4 is formed by adding carbon powder to an epoxy resin or the like.
It has the function of absorbing light and converting it to heat energy. The color ink layer 2 is formed by adding an ink or a pigment (such as cyan) to an epoxy resin or the like, and the color ink layers 2 of R, G, and B are formed for each color film sheet 50. ing.
【００１７】図１に示すように、支持台１５上に固定さ
れたガラス基板１の上に前記カラーフィルムシート５０
が密着して配置される。また、カラーフィルムシート５
０を剥離する前にガラス基板１を加熱するための加熱手
段としては、前記支持台１５そのものをホットプレート
にする方法、前記支持台１５の下面に熱源を配置して加
熱する方法、または支持台１５とガラス基板１を加熱室
（恒温室）内に設置するなど種々利用することができ
る。この場合、カラーインク層２の転写むらができない
ようにガラス基板１全体が所定温度になるように設定さ
れることが好ましい。As shown in FIG. 1, the color film sheet 50 is placed on a glass substrate 1 fixed on a support 15.
Are arranged in close contact. Also, color film sheet 5
As a heating means for heating the glass substrate 1 before peeling 0, a method of using the support 15 itself as a hot plate, a method of arranging a heat source on the lower surface of the support 15 and heating, or a method of heating the support 15 15 and the glass substrate 1 can be installed in a heating chamber (constant temperature chamber) in various ways. In this case, it is preferable that the temperature of the entire glass substrate 1 be set to a predetermined temperature so that transfer unevenness of the color ink layer 2 is not caused.
【００１８】転写作業としては、まずガラス基板１を加
熱せずにほぼ常温状態とし、前記カラーフィルムシート
５０の上方からレーザー照射装置７を用いてレーザー光
を局所的に照射する。例えばカラーインク層２が赤のカ
ラーフィルムシート５０を用いるときには、図３に示す
Ｒのパターンにレーザー光が順番に照射される。緑のカ
ラーインク層のときにはＧのパターン、青のカラーイン
ク層のときにはＢのパターンに順番にレーザー光が照射
される。このレーザー光はベースフィルム３を透過して
光熱変換層４に吸収され、発熱が起こる。この熱がカラ
ーインク層２に伝わり、カラーインク層２が溶融され、
図３に示すパターンとなるように加熱されたカラーイン
ク層が溶融してガラス基板１に溶着（接着）される。In the transfer operation, first, the glass substrate 1 is brought to a substantially normal temperature state without heating, and a laser beam is locally irradiated from above the color film sheet 50 using the laser irradiation device 7. For example, when using the red color film sheet 50 for the color ink layer 2, the R pattern shown in FIG. 3 is sequentially irradiated with laser light. The laser light is sequentially applied to the G pattern for the green color ink layer and to the B pattern for the blue color ink layer. This laser light passes through the base film 3 and is absorbed by the light-to-heat conversion layer 4 to generate heat. This heat is transmitted to the color ink layer 2, and the color ink layer 2 is melted.
The heated color ink layer is melted and adhered (bonded) to the glass substrate 1 so as to form the pattern shown in FIG.
【００１９】上記のようにして、カラーインク層２の例
えばＲまたはＧあるいはＢのいずれかのパターンの部分
でカラーインク層２が溶融されて、ガラス基板１に溶着
（接着）された後に、剥離工程が行われる。このとき、
剥離工程に至る前に、前記加熱手段によりガラス基板１
を所定温度まで加熱する。この加熱のタイミングは、前
記のように常温状態でレーザー光を照射し、この照射が
完了した後にガラス基板１を所定温度に上昇させればよ
いが、レーザー光を照射するときに、ガラス基板１をあ
る程度の温度に予熱しておき、レーザー光の照射が完了
した直後に所定温度まで昇温させてもよい。As described above, the color ink layer 2 is melted at the portion of the color ink layer 2, for example, any one of R, G and B, and is fused (adhered) to the glass substrate 1 and then peeled off. A process is performed. At this time,
Before the peeling step, the glass substrate 1 is heated by the heating means.
Is heated to a predetermined temperature. The timing of this heating may be such that the laser beam is irradiated at room temperature as described above, and the glass substrate 1 may be heated to a predetermined temperature after the irradiation is completed. May be preheated to a certain temperature, and may be heated to a predetermined temperature immediately after the completion of the laser beam irradiation.
【００２０】前記所定温度としては、カラーインク層２
のガラス転移点温度近傍あるいはそれ以上とすることが
好ましい。前記所定温度に設定されることにより、カラ
ーインク層２の非転写部２ｂと転写部２ａが共に軟化す
る。そのためベースフィルム３をガラス基板１から剥が
すときに、レーザー光の加熱によりガラス基板１に接着
されている前記転写部２ａと、ガラス基板１に接着され
ていない非転写部２ｂとが容易に分離できる。As the predetermined temperature, the color ink layer 2
It is preferable that the temperature is close to or higher than the glass transition temperature. By setting the predetermined temperature, both the non-transfer portion 2b and the transfer portion 2a of the color ink layer 2 are softened. Therefore, when the base film 3 is peeled off from the glass substrate 1, the transfer portion 2a bonded to the glass substrate 1 by heating of the laser beam and the non-transfer portion 2b not bonded to the glass substrate 1 can be easily separated. .
【００２１】したがって、転写部２ａがガラス基板１か
ら剥がされてベースフィルム３側に残ったり、非転写部
２ｂがガラス基板１側に残るようなことがなく、図３に
示すパターンのように、エッジ部の形状がきれいな転写
部２ａがガラス基板１上に形成される（図２参照）。ま
た前記所定温度は、カラーインク層２に含まれる樹脂の
種類によって異なるが、例えばカラーインク層２のバイ
ンダー樹脂がエポキシ系などの場合、１５０℃以上に設
定することが好ましい。なお、前記ガラス転移点温度以
下の温度であっても、剥離効果を期待できる。Therefore, the transfer portion 2a does not peel off from the glass substrate 1 and remains on the base film 3 side, and the non-transfer portion 2b does not remain on the glass substrate 1 side, as shown in the pattern in FIG. A transfer portion 2a having a clean edge portion is formed on the glass substrate 1 (see FIG. 2). The predetermined temperature varies depending on the type of the resin contained in the color ink layer 2. For example, when the binder resin of the color ink layer 2 is an epoxy resin or the like, it is preferably set to 150 ° C. or higher. Note that a peeling effect can be expected even at a temperature equal to or lower than the glass transition temperature.
【００２２】また、このときの加熱条件（温度と時間と
の関係）としては、１５０℃以上で数秒から１０分程度
とすることが好ましい。１５０℃より高くなるにつれて
加熱時間は短縮されるが、特に１５０℃で１０分とする
ことが温度設定の容易性および転写性の点で望ましい。
温度を高く設定しすぎると非転写部２ｂが極端に軟化
し、非転写部２ｂがガラス基板１側に転写されやすくな
って好ましくなく、また温度を低く設定しすぎてもカラ
ーインク層２が十分に軟化されず、転写部２ａと非転写
部２ｂとで分離しにくくなり、エッジパターンの良好な
転写層が得られない。The heating conditions (relationship between temperature and time) at this time are preferably 150 ° C. or more and several seconds to 10 minutes. The heating time is shortened as the temperature becomes higher than 150 ° C., but it is particularly preferable to set the heating time at 150 ° C. for 10 minutes in view of ease of temperature setting and transferability.
If the temperature is set too high, the non-transferred portion 2b becomes extremely soft, and the non-transferred portion 2b is easily transferred to the glass substrate 1 side, which is not preferable. Therefore, the transfer portion 2a and the non-transfer portion 2b are hardly separated from each other, and a transfer layer having a good edge pattern cannot be obtained.
【００２３】図１に示すレーザー照射装置７は、半導体
素子を備えたものを使用することが、制御の点、取扱い
の点および光熱変換層４のレーザー光の吸収性の点にお
いて好ましい。このようなレーザー照射装置７として
は、例えば半導体素子から発射されたレーザー光をミラ
ーで反射させながら照射点まで導く方法、あるいは複数
の半導体素子を用いてこれらと照射点とを光ファイバで
つないだものを使用する方法などを挙げることができ
る。また、照射点ではレーザー光が集光レンズにより集
光されてカラーフィルムシート５０に照射される。The laser irradiation device 7 shown in FIG. 1 is preferably provided with a semiconductor element in terms of control, handling, and absorptivity of the laser beam of the photothermal conversion layer 4. As such a laser irradiation device 7, for example, a method in which laser light emitted from a semiconductor element is guided to an irradiation point while being reflected by a mirror, or these are connected to an irradiation point by an optical fiber using a plurality of semiconductor elements. Examples of the method include a method of using an object. At the irradiation point, the laser light is condensed by the condensing lens and irradiated on the color film sheet 50.
【００２４】以上説明した方法により、Ｒ，Ｇ，Ｂの３
種類のカラーフィルムシート５０のカラーインク層２が
順番にガラス基板１上に転写される。その結果、図３に
示すようにＲ，Ｇ，Ｂが所定のパターンで配列されたカ
ラーフィルタ２１を有するガラス基板が得られる。ま
た、本発明の製造方法によるカラーフィルタ２１は、図
３に示すように、ガラス基板１上に各色のカラーフィル
タが形成された後に、色と色との隙間を遮光するための
ブラックマトリクスＢＬが形成される。このブラックマ
トリクスＢＬは、クロム薄膜を成膜するか、もしくはブ
ラック樹脂を成膜し、フォトリソグラフィー技術を用い
てパターニングすることにより形成される。According to the method described above, R, G, B
The color ink layers 2 of the color film sheets 50 are sequentially transferred onto the glass substrate 1. As a result, a glass substrate having a color filter 21 in which R, G, and B are arranged in a predetermined pattern as shown in FIG. 3 is obtained. Further, as shown in FIG. 3, after the color filters of the respective colors are formed on the glass substrate 1, the color filter 21 according to the manufacturing method of the present invention has a black matrix BL for shielding the gap between the colors. It is formed. The black matrix BL is formed by forming a chromium thin film or by forming a black resin and patterning the film using photolithography technology.
【００２５】このようにしてカラーフィルタが形成され
たガラス基板と、他のガラス基板とが貼り合わされ、両
ガラス基板のギャップ内に液晶材料が封入されて液晶セ
ルが形成される。また、本発明の製造方法に使用される
カラーフィルムシートとしては、光熱変換層４がベース
フィルム３の表面に形成されているものや、カラーイン
ク層２と光熱変換層４との間にカラーインク層２のガラ
ス基板１への転写性を向上させるための剥離層が設けら
れているものなど種々採用してよい。The glass substrate on which the color filter is formed and the other glass substrate are bonded together, and a liquid crystal material is sealed in a gap between the two glass substrates to form a liquid crystal cell. Examples of the color film sheet used in the production method of the present invention include a color film sheet having a light-to-heat conversion layer 4 formed on the surface of a base film 3 and a color ink sheet between the color ink layer 2 and the light-to-heat conversion layer 4. Various types such as those provided with a release layer for improving the transferability of the layer 2 to the glass substrate 1 may be employed.
【００２６】[0026]
【発明の効果】本発明のカラーフィルタの製造方法は、
カラーインク層の転写時にある程度の時間を要したとし
ても、ガラス基板上に、きれいなエッジパターン形状を
有するカラーインク層が確実に形成される。The method for manufacturing a color filter according to the present invention comprises:
Even if a certain amount of time is required for transferring the color ink layer, the color ink layer having a clean edge pattern shape is reliably formed on the glass substrate.
【図１】カラーフィルタの製造方法を説明する斜視図、FIG. 1 is a perspective view illustrating a method for manufacturing a color filter.
【図２】カラーインク層が転写された後の状態を示す拡
大断面図、FIG. 2 is an enlarged sectional view showing a state after a color ink layer has been transferred;
【図３】カラーフィルタのパターン配置を示す平面図、FIG. 3 is a plan view showing a pattern arrangement of a color filter;
【図４】カラーフィルムシートをガラス基板に積層した
状態を示す断面図、FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a color film sheet is laminated on a glass substrate.
１ ガラス基板 ２ カラーインク層 ２ａ 転写部 ２ｂ 非転写部 ３ ベースフィルム ４ 光熱変換層 ７ レーザー照射装置 ５０ カラーフィルムシート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Color ink layer 2a Transfer part 2b Non-transfer part 3 Base film 4 Light-to-heat conversion layer 7 Laser irradiation device 50 Color film sheet
Claims (3)
ーフィルムシートを被着色支持体に密着させ、前記カラ
ーフィルムシートを加熱して被着色支持体に前記カラー
インク層を転写するカラーフィルタの製造方法におい
て、 前記カラーフィルムシートにレーザー光を照射して加熱
し、その後に前記カラーフィルムシートを被着色支持体
から剥離する前に、カラーインク層を所定温度に加熱す
ることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。1. Production of a color filter in which a color film sheet having a heat-fusible color ink layer is brought into close contact with a support to be colored, and the color film sheet is heated to transfer the color ink layer to the support to be colored. In the method, the color filter is heated by irradiating the color film sheet with a laser beam, and then heating the color ink layer to a predetermined temperature before peeling the color film sheet from the support to be colored. Manufacturing method.
ス転移点温度近傍あるいはそれ以上の温度である請求項
１記載のカラーフィルタの製造方法。2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the predetermined temperature is a temperature close to or higher than the glass transition temperature of the color ink layer.
下である請求項１または２記載のカラーフィルタの製造
方法。3. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the heating condition is 150 ° C. or more and 10 minutes or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31955797A JPH11153707A (en) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31955797A JPH11153707A (en) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11153707A true JPH11153707A (en) | 1999-06-08 |
Family
ID=18111601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31955797A Withdrawn JPH11153707A (en) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11153707A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011154994A (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Samsung Mobile Display Co Ltd | Laser thermal transfer device, and method of manufacturing organic light-emitting display device utilizing the same |
-
1997
- 1997-11-20 JP JP31955797A patent/JPH11153707A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011154994A (en) * | 2010-01-27 | 2011-08-11 | Samsung Mobile Display Co Ltd | Laser thermal transfer device, and method of manufacturing organic light-emitting display device utilizing the same |
| US8784599B2 (en) | 2010-01-27 | 2014-07-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Laser induced thermal imaging apparatus and method of manufacturing organic light emitting display device using the same |
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