JPH11150207A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置及び半導体装置の製造方法

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JPH11150207A
JPH11150207A JP9315170A JP31517097A JPH11150207A JP H11150207 A JPH11150207 A JP H11150207A JP 9315170 A JP9315170 A JP 9315170A JP 31517097 A JP31517097 A JP 31517097A JP H11150207 A JPH11150207 A JP H11150207A
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semiconductor device
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solder
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JP9315170A
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Tokuaki Negishi
徳昭 根岸
Masaru Fukuoka
大 福岡
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
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    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
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    • H05K3/3436Leadless components having an array of bottom contacts, e.g. pad grid array or ball grid array components

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体パッケージにおいて、半田ボールが形
成される基板に凹状もしくは凸状の反りが生ずると、ボ
ールの高さが一定でなくなり、後工程において製造上、
信頼性の問題を生じていた。 【解決手段】 基板(2) と、基板の一方の側に搭載され
た半導体チップと、他方の側に形成された複数の半田ボ
ール(3) と、前記半導体チップと前記半田ボールとを電
気接続する配線手段と、前記半導体チップを封止する封
止樹脂部(1) とを有する半導体装置において、前記基板
に生じた反りの影響を解消して半田ボールの頂部が一定
の高さを有するように半田ボールの高さに差を設けたこ
とを特徴とする半導体装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はBGA(Ball Grid
Array )構造のパッケージに関し、特に基板としてTA
Bテープ基板を用いたBGA構造のパッケージに関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来技術を模式的に示した図7、図8を
用いて説明する。従来のBGA構造のパッケージにおい
ては、一般に、半導体チップ25を搭載する基板22と
してTABテープが使用されている。半導体チップの周
辺に配置されたボンディング部(通常銅箔が使用され
る)24と、基板の下面にアレイ状に配列された各ボー
ルと接続するビアホール27との配線を支持する基板と
しては、層間配線により配線に自由度がありさらに機械
的強度もある多層TABテープが使用されるが、通常
は、3層のTABテープが使用されている。
【0003】従来の3層のTABテープを用いたBGA
パッケージは、図7に示すように、同一径のビアホール
27を形成したTABテープ基板22を用いて配線を行
う。まず、上記ボンディング部24の形成された基板2
2上にICチップ25を搭載し、銅箔配線24とICチ
ップ25をワイヤ26でボンディングした後、モールド
樹脂21にて樹脂封止を行う。その後、ビアホール27
の底部に半田ボール23を搭載する。
【0004】たとえそりのない基板を用いた場合でも、
図8に示すように、樹脂封止を行い半田ボール23を搭
載した後のBGAパッケージにおいては、図中のA''の
ように、半田ボールの高さ量は一定ではなく、その高さ
に通常で0.1mm弱のばらつきが生ずる。なお、この
ばらつきはEIJAのFBGA(Fine Ball Grid Array
)の規格内である。
【0005】しかし、テープ、半導体チップおよび封止
樹脂の熱膨張率の相違等により、図9に示すように、半
田ボール形成後の基板22に、半田ボールの高さのばら
つきに影響を与える程度の、凹状もしくは凸状に反りが
生じる場合がある。この反りB''' が生ずることによ
り、基板の高さは、通常20〜30μm程度、最大で5
0μm程度上下する(図中A''' )。このようにパッケ
ージに反りが生じることにより、基板22に設置されて
いる半田ボール23の高さにばらつきが生じてしまう。
このため、半田ボール23の高さに関し、前記FBGA
の規格からはずれてしまう場合も生じ、これ以降の工程
においても基板実装不良の原因となるなど、製造歩留ま
り上および製品の信頼性の点で問題となっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の多層TABテー
プ、特に、3層のTABテープを用い、樹脂封止を行
い、半田ボールを搭載したBGAパッケージにおいて、
各半田ボールの半田量を一定にすることは困難で、この
ため標準でその高さに0.1mm程度のばらつきが生ず
る。さらに、従来のパッケージにおいては、TABテー
プの基板に凹状、もしくは凸状に前記半田ボールの高さ
のばらつき以上の反りが生じてしまう場合あった。この
ため、それ以降の工程においても精度、信頼性の点で問
題であった。また、この半田ボール23の高さのばらつ
きは、基板への実装不良の原因となり、歩留まり及び製
品の信頼性の面で問題があった。
【0007】本発明の目的は、上記の問題に鑑み、例え
設計上パッケージに反りが生ずることが避けられないよ
うな場合においても、反りに伴う半田ボールの高さのば
らつきを最小限に抑え、歩留まりの向上、製品の信頼性
の向上を達成できる半導体装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体装置
は、基板と、基板の一方の側に搭載された半導体チップ
と、他方の側に形成された複数の半田ボールと、前記半
導体チップと前記半田ボールとを電気接続する配線手段
と、前記半導体チップを封止する封止樹脂部とを有する
半導体装置において、前記基板に生じた反りの影響を解
消して半田ボールの頂部が一定の高さを有するように半
田ボールの高さに差を設けたことを特徴とする半導体装
置である。
【0009】さらに、前記各半田ボールは一定の半田量
を有し、前記基板の半田ボール接着部の面積を変えるこ
とにより、半田ボールに高さに差を設けたことを特徴と
する半導体装置であり、前記半田ボール接着部は前記基
板に形成されたビアホールにより形成されていることを
特徴とする半導体装置であり、前記半田ボールの基板か
ら半田ボールの下部までの高さが、外側にいくほど大き
くなることを特徴とする半導体装置であり、また、前記
基板は多層TABテープからなることを特徴とする半導
体装置であり、さらに、前記半導体装置はBGAタイプ
のパッケージを構成することを特徴とする半導体装置で
ある。
【0010】また、本発明による半導体装置の製造方法
は、所定の電気配線パターンを有する基板を形成する工
程と、前記基板の前記電気配線パターン部に径の異なる
複数のビアホールを形成する工程と、前記基板の一方の
側に半導体チップを結合する工程と、前記基板の電気配
線パターンと半導体チップを電気接続する工程と、前記
半導体チップを樹脂封止する工程と前記基板の他方の側
において前記ビアホール部に半田ボールを融着する工程
を含むこと特徴とする半導体装置の製造方法である。
【0011】さらに、前記ビアホールのビア径を外側に
いくほど小さくなるように形成することを特徴とする製
造方法であり、前記基板の他の側の面から前記半田ボー
ルの下部までの高さを、前記基板の外周部にいくほど大
きくなるように形成したことを特徴とする製造方法であ
る。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明は以下の実施の形態を図面
をもって説明するが、本発明はここで説明する実施の形
態に限定されるものではない。下記実施の形態は多様に
変化することができる。
【0013】本発明の実施の形態を模式的に示した図1
から図6を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態
の特徴を示す断面図であり、基本的には図7と同等の内
部構造を有するものであるが、その違いは基板に形成さ
れた半田ボール接着部の面積に差があること、さらに具
体的な例を挙げれば、半田ボールが設置されているビア
ホールの径の大きさのに差があることである。
【0014】本発明に係る半導体装置の一実施態様は、
図1に示すように、半導体チップ(図示せず)が搭載さ
れた上部がモールド樹脂1により封止されたBGAパッ
ケージであって、多層の、特に、3層のTABテープ基
板2を用い、この基板に基板上部と下部を電気的に接続
するビアホール4が形成され、下部のビアホール開口部
に半田ボールが形成されている。
【0015】かかる構造において、設計上、例えば基板
がパッケージの周辺部において上側に反ることがどうし
ても避けられない場合、下部に形成する半田ボールの高
さに差を設けることにより反りを補正するものである。
即ち、半田ボールがこの半導体装置が実装される印刷基
板の表面と均一に接することができるように、半田ボー
ル頂部の高さが一定になるよう半田ボールの高さに差を
設けるものである。
【0016】このため、このビアホール4の径の大きさ
φ1 、φ2 、φ3 を、φ1>φ2 >φ3 と、
外側にいくに従って徐々に小さくなるようにビアホール
を形成する。半田ボールの高さは半田の量に依存するの
は当然であるが、半田の量が一定の場合には、半田ボー
ルが形成されるビアホール4の底部の面積に依存する。
底部の面積が大きいほど、ビアホール4を充填するため
の半田量が増え、その分半田ボールを形成する半田の量
が減るので、半田ボールの高さは低くなる。また、ビア
ホールが無い場合でも、基板の下面に形成された半田ボ
ール接着部の接着面積が増加すれば、半田は横に広がる
のでその分半田ボールの高さは低くなる。したがって、
接着部の面積すなわちビアホール4の径を、φ1 >φ
2 >φ3 と外側にいくに従って徐々に小さくする
と、そこに形成される半田ボールの高さは外側にいくに
従って高くなる。
【0017】パッケージに反りが生ずる前の段階では、
その径がφ1 >φ2 >φ3 と外側にいくに従って
徐々に小さくなるようにビアホールを設計することによ
り、一番外側のφ3 の径に設置されている半田ボール
3''' と内側のφ1 の径に設置されている半田ボール
3’との半田ボールの高さには段差Aが生ずる。
【0018】次に、パッケージが反った後の状態を図2
に示す。パッケージに反りBが発生するが、半田ボール
の高さがこの反りを打ち消すように予めその高さを違え
て形成してあるので、各半田ボール3は基板2に接する
ことになる。当然、各半田ボール3の間の段差A' は解
消されている。
【0019】次に、本発明を実施するための諸条件につ
いて説明する。本発明のビアホールの径と、半田ボール
の体積との関係から、半田ボールの高さを求める方法を
を図3に示す。
【0020】図3に示すように、VA はビアホール柱
の体積、VB は純粋な半田ボールの体積からビアホー
ル柱の体積を差し引いた半田ボール部の体積、Hはボー
ル部の高さ(リフロー後)、Rはボール部の半径(リフ
ロー後)、hはボール部の高さからボール部の半径を差
し引いた長さ、DV はビアホール径、tはビアホール
柱の深さとする。それぞれの関係を以下に示す。
【0021】
【数1】
【0022】VS を純粋な半田ボールの体積とする
と、VS は式(1)で示されるような式になる。ここ
で、VA はビアホール柱の体積であり、式(2)で示
される。また、VB は純粋な半田ボールの体積からビ
アホール柱の体積を差し引いた半田ボール部の体積であ
り、式(3)で示される。
【0023】以上、式(1)、(2)、(3)からビア
径(Via径)であるDV が求められ、DV は式
(4)で示される。そして、式(4)から半田ボール部
の半径Rが求められ、式(5)で示されるような式にな
る。
【0024】以上の計算式に基づき、融着前の半田ボー
ルの径が0.5mmのとき、ビアホール底部に融着後の
半田ボール部の半径Rとビア径DV との関係を求め
た。そして、半田ボール部の高さHを横軸に、ビア径D
V を縦軸にとった場合の計算結果を図4に示す。
【0025】図4に示すように、半田ボールの高さはビ
ア径DV が増加するに従い減少する。半田ボールの高
さHとビア径DV は一定の関数で表されており、半田
ボールの高さをビア径の大きさで制御することができ
る。
【0026】次に、実際のBGAパッケージの例につい
て述べる。図5において、BGAパッケージの周辺に3
列配置で、パッケージ上に並んだ縦16個、横16個の
半田ボールが並んだ平面図の一部を示している。Dはパ
ッケージの中心を表し、Eは半田ボールの最外周を表し
ている。
【0027】図5中の半田ボール一つの直径をФ1 と
し、一つの半田ボールと隣り合う半田ボールとの中心間
の距離をCとする。このとき、図5に示すように、半田
ボールと半田ボールの間に配線が1本通っているところ
では、1本の配線の設置幅を0.1mmとし、Cが0.
8mmのときは、配線の設置幅0.1mmを除く0.7
mm未満で半田ボールの直径Ф1 を作成しなくてはな
らない。また、半田ボールと半田ボールの間に配線が2
本通っているところでは、1本の配線の設置幅を0.1
mmとし、Cが0.8mmのときは、配線の設置幅0.
2mmを除く0.6mm未満で半田ボールの直径Ф1
を作成しなくてはならない。したがって、かかるBGA
基板においては、半田ボールの直径Ф1 が最大でも
0.6mm以内となるようにボールの半田量、ビア径、
ビアの深さを定め、ビア径を予想される反りに応じて変
化させる。基板が上側に反る場合は、中心部のビア径を
例えば最大の0.6mmとし、外側になるに従って反り
の大きさに応じてビア径を小さくなるようにする。
【0028】次に、図6のBGAパッケージはボールが
全面格子配置で配置されている。図6は、パッケージ上
に縦16個、横16個の半田ボールが並んだ平面図の一
部を示している。図5と同様にDはパッケージの中心を
表し、Eは半田ボールの最外周を表している。
【0029】図6に示すように、半田ボールと半田ボー
ルの間に配線が2本通っているところでは、1本の配線
の設置幅を0.1mmとし、Cが0.8mmのときは、
配線の設置幅0.2mmを除く0.6mm未満で半田ボ
ールの直径Ф1 を作成しなくてはならない。また、半
田ボールと半田ボールの間に配線が3本通っているとこ
ろでは、1本の配線の設置幅を0.1mmとし、Cが
0.8mmのときは、配線の設置幅0.3mmを除く
0.5mm未満で半田ボールの直径Ф1 を作成しなく
てはならない。したがって、かかる基板においては、半
田ボールの直径Ф1が最大でも0.5mm以内となるよ
うボールの半田量、ビア径、ビアの深さを定め、、ビア
径を予想される反りに応じて変化させる。
【0030】本発明は上記の条件を考慮して半田ボール
の高さを制御することができ、また、パッケージに反り
ができてしまった時にも、半田ボールの高さをビア径を
制御することによって段階的に変えることにより、問題
を解決できる。以上から、製品に対する歩留まりの向
上、信頼性の向上などを図ることができる。
【0031】
【発明の効果】本発明は、半導体装置のパッケージにお
ける半田ボールの高さを任意に制御することができ、パ
ッケージに反りができてしまった時にも、半田ボールの
高さをビア径を制御して段階的に変えることにより、問
題を解決できる。これにより製品に対する歩留まりの向
上、信頼性の向上などを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る半導体装置を示す断面
図。
【図2】本発明の実施形態に係る半導体装置を示す断面
図。
【図3】本発明の実施形態に係る半導体装置における半
田ボールを表す斜視図。
【図4】本発明の実施形態に係る半田ボールの高さとビ
ア径の関係を表す図。
【図5】本発明の実施形態に係る半導体装置のBGAパ
ッケージの周辺3列配置構造を示す平面図。
【図6】本発明の実施形態に係る半導体装置のBGAパ
ッケージの全面格子配置構造を示す平面図。
【図7】従来のBGAパッケージの一例を示す断面図。
【図8】従来のBGAパッケージを示す断面図。
【図9】従来のBGAパッケージを示す断面図。
【符号の説明】 1、21…モールド樹脂 2、22…3層TABテープ基板 3、3' 、3''、3''' 、23…半田ボール 4、27…ビアホール 24…銅箔 25…チップ 26…ワイヤ A、A' 、A''、A''' …高さが一番高い半田ボールと
高さが一番低い半田ボールとの高さの差 B、B' 、B''、B''' …反り部 C…ピンとピンとの中心間との距離 D…パッケージ中心 E…パッケージピンの最外周 Ф1 、Ф2 …ピンの直径 φ1 …ビアホールの直径(小) φ2 …ビアホールの直径(中) φ3 …ビアホールの直径(大) VS …純粋な半田ボールの体積 VA …ビアホール柱の体積 VB …純粋な半田ボールの体積からビアホール柱の接
続部の体積を差し引いた半田ボール部の体積 H…ボール部の高さ(リフロー後) R…ボール部の半径(リフロー後) h…ボール部の高さからボール部の半径を差し引いた長
さ DV …ビア径 t…ビアホール柱の深さ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、基板の一方の側に搭載された半
    導体チップと、他方の側に形成された複数の半田ボール
    と、前記半導体チップと前記半田ボールとを電気接続す
    る配線手段と、前記半導体チップを封止する封止樹脂部
    とを有する半導体装置において、前記基板に生じた反り
    の影響を解消して半田ボールの頂部が一定の高さを有す
    るように半田ボールの高さに差を設けたことを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記各半田ボールは一定の半田量を有
    し、前記基板の半田ボール接着部の面積を変えることに
    より、半田ボールに高さに差を設けたことを特徴とする
    請求項1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記半田ボール接着部は前記基板に形成
    されたビアホールにより形成されていることを特徴とす
    る請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記半田ボールの基板から半田ボールの
    下部までの高さが、外側にいくほど大きくなることを特
    徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の
    半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記基板は多層TABテープからなるこ
    とを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に
    記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記半導体装置はBGAタイプのパッケ
    ージを構成することを特徴とする請求項1乃至請求項5
    のいずれか1項に記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 所定の電気配線パターンを有する基板を
    形成する工程と、 前記基板の前記電気配線パターン部に径の異なる複数の
    ビアホールを形成する工程と、 前記基板の一方の側に半導体チップを結合する工程と、 前記基板の電気配線パターンと半導体チップを電気接続
    する工程と、 前記半導体チップを樹脂封止する工程と前記基板の他方
    の側において前記ビアホール部に半田ボールを融着する
    工程を含むこと特徴とする半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】前記ビアホールのビア径を外側にいくほど
    小さくなるように形成することを特徴とする請求項7記
    載の半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】前記基板の他の側の面から前記半田ボール
    の下部までの高さを、前記基板の外周部にいくほど大き
    くなるように形成したことを特徴とする前記請求項7ま
    たは請求項8記載の半導体装置の製造方法。
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