JPH11149071A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPH11149071A
JPH11149071A JP9316718A JP31671897A JPH11149071A JP H11149071 A JPH11149071 A JP H11149071A JP 9316718 A JP9316718 A JP 9316718A JP 31671897 A JP31671897 A JP 31671897A JP H11149071 A JPH11149071 A JP H11149071A
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liquid crystal
substrate
display device
crystal display
plate
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JP9316718A
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Hiroyoshi Nakamura
弘喜 中村
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 投射型表示のように、高温下にさらされる液
晶パネルで起こりがちなコントラストむらを抑制し、高
品位の液晶表示を得る。 【解決手段】 2枚の基板間32、33に液晶層37を
挟持した液晶セル30に近接または接触して、液晶セル
の基板のもつ光弾性係数の温度に対する変化特性と反対
の変化特性の光弾性係数をもつコントラストむら補償板
72を配置し、基板の温度むらによる光応力むらの変化
をコントラストむら補償板72により補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係わ
り、特に高温下にさらされる例えば投射型に適した液晶
表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高密度且つ大容量でありながら高
機能さらに高精細を得る液晶表示装置の実用化が図られ
いている。これらの液晶表示装置のうち、連接する画索
電極間のクロストークがなく、高コントラスト表示が得
られると共に、透過型表示が可能であり且つ、大画面化
も容易である等の理由から、TFTを制御装置として備
えたアクティブマトリクス型液晶表示装置が多用され、
とくにポリシリコン薄膜トランジスタ(以下p−SiT
FTと称する)を用いたものは、p−SiTFT中の電
子の移動度が高く他の駆動素子を用いたものに比べ駆動
素子のサイズを小型化でき、画素電極の開口率向上を計
れると共に、その駆動回路がアクティブマトリクス基板
上に一体的に形成されるという利点をもっている。
【0003】従って、駆動用のIC等が不要となり、そ
の実装工程も省力化でき、ひいては装置の低コスト化が
実現でき、その開発が促進されている。そして、このよ
うなTFT技術を用いて高精細な液晶表示装置を作成
し、投射レンズを用いて拡大投影することで容易に大画
面デイスブレイが達成できることから、フロント型のデ
ータブロジェクタやリア型のブロジェクシヨンTVなど
が開発されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような、投射型液
晶表示装置ではブロジェクタ装置のサイズ・重量、コス
トを低減するために、液晶表示装置の小型化が望まれ
る。一方で、画面を明るくするために液晶表示装置の開
口率の改善に加えて、高輝度・高出力の光源を用いたり
光学系効率を向上させることが行われている。このため
に、液晶表示装置には非常に高い照度の光が入射するよ
うになり、液晶表示装置の温度上昇に加え、面内の温度
むらが生じるようになってきた。これは、特に4:3の
アスペクト比表示画面よりも横長の16:9アスペクト
比の場合に顕著になり、図3(a)に示す液晶表示装置
10を構成するガラス基板11、12や単板式投射に用
いられるマイクロレンズアレイ13の光弾性特性によ
り、面内の温度むらにより生じる応力分布から投射画面
にコントラストむら生じるという問題があった。
【0005】入射照度は中心が強く周辺ほど低くなるこ
とが多く、図3(b)に示すように表示領域16の中心
部17および側辺部18のコントラスト比が低下し、対
角十字状コントラスト比が高い部分19が生じる。これ
は、現在主流のTN液晶では液晶表示装置の前後に偏光
板14、15を配置するために、物体の光弾性による応
力分布を観測する装置と同じ構造となっていることによ
るものである。
【0006】加えて、液晶表示装置を小型化かつ高精細
化するにつれて、開口率が小さくなることを補う目的で
マイクロレンズアレイ基板13を用いて実効的な開口率
を向上させるために液晶セルの前面基板12上にマイク
ロレンズアレイ基板を接着する場合に、上記の光弾性効
果はガラス基板の厚さに比例するためにマイクロレンズ
基板厚分だけさらにコントラストむらが生じやすくなる
という問題があった。
【0007】そこで、本発明は上記課題を除去するもの
で、面内の温度むらによる応力むらによるコストラスト
むらが抑制できる液晶表示装置を提供することを目的と
する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、2枚の基板間
に液晶層を挟持した液晶セルと、この液晶セルに近接ま
たは接触して配置され、前記液晶セルの前記基板のもつ
光弾性係数の温度に対する変化特性と反対の変化特性の
光弾性係数をもつコントラストむら補償板とからなる液
晶表示装置を得るものである。
【0009】さらに、マトリクス状に配列された画素電
極を有する第1の電極基板と、対向電極を有し前記第1
の電極基板に間隙を隔てて対向配置されこの間隙に液晶
層を配置した第2の電極基板とを有する液晶表示装置に
おいて、前記第1および第2の電極基板の光弾性係数と
符号が異なるコントラストむら補償板が第1の電極基板
と第2の電極基板の少なくとも一方に接着層を介して張
り合わされていることを特徴とする液晶表示装置を得る
ものである。
【0010】さらに、第1または第2の電極基板に接着
層を介してマイクロレンズアレイが接着されていること
を特徴とする液晶表示装置を得るものである。
【0011】さらに、コントラストむら補償板に偏光板
もしくは偏光板と位相差板が一体に張り付けられている
ことを特徴とする液晶表示装置を得るものである。
【0012】さらに、上記偏光板もしくは偏光板と位相
差板が一体となったものの光出射界面に反射防止膜が形
成されているを特徴とする液晶表示装置を得るものであ
る。
【0013】さらに、コントラストむら補償板がマイク
ロレンズアレイであることを特徴とする液晶表示装置を
得るものである。
【0014】以上のように本発明は液晶セルの基板のも
つ光弾性係数と符号を異にする光弾性係数をもつコント
ラストむら補償板を組合わせることによって、高輝度光
源照射により発生する液晶表示装置内の温度むらによる
応力むらを打ち消すように作用させることができる。
【0015】基板を透過する光に対する光弾性効果は基
板の応力ひずみによって顕著に現れる。したがって基板
の温度むらにより基板内に応力ひずみが発生すると、ひ
ずみに応じた応力むらとなる。ところがこの基板に近接
または接触して基板の光弾性係数と異なる符号の光弾性
係数をもつ板状体を配置すると、相互に光弾性効果を相
殺する。したがって、この板状体をコントラストむら補
償板として用いることにより、応力むらを改善し、表示
のコントラストを向上することができる。
【0016】発生する光弾性効果は板状体の光弾性係数
と厚みの積できまる。例えば液晶セルを構成する液晶層
を挟持する2枚のガラス液晶基板は正の光弾性係数をも
ち、一方、液晶層は数μmと非常に薄いので温度に対す
る応力むらはこれらの2枚のガラス基板に依存する。基
板厚は0.5mmから2mmであり、これにガラスのマイク
ロレンズアレイが組合わされるとその分、総合的な厚み
が増える。コントラストむら補償板は例えばアクリル系
樹脂のような負の光弾性係数をもつ材料で構成し、厚み
を選択することで光弾性効果を相殺することができる。
【0017】また、本発明は前面基板である第2の電極
基板上にマイクロレンズアレイ基板を張り合わせること
で実効開口率を高めるとともに、コントラストむら補償
を行う第3の基板を背面基板である第1の電極基板側に
接着することで、液晶表示装置にほこりやゴミが付着し
ても投射像に影響しにくくなるという効果も達成でき、
表示画質を向上するものである。
【0018】そして、第1の電極基板側に接着された第
3の基板に偏光板もしくは偏光板と位相差板が一体とな
ったものを張り合わせ、さらに出射界面に反射防止膜を
形成することで反射ロス軽減による透過率向上に加え界
面反射光による画素スイッチング素子のリーク電流増大
を回避できる。
【0019】さらに、マイクロレンズアレイ板を液晶基
板の光弾性係数と異なる符号の光弾性係数をもつ材料で
形成することによって、コントラストむら補償板を兼ね
させることができ、この場合、別個のコントラストむら
補償板を設置することを省くことができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
および図2を参照して説明する。
【0021】図1は液晶表示パネルの概略断面図、図2
は液晶セルの要部の概略断面図である。図において、ア
クティブマトリクス型の液晶表示パネル20は液晶セル
30前面にマイクロレンズアレイ基板71、背面にコン
トラストむら補償板72を配置し、さらにその両外面に
偏光板70、74を配置している。
【0022】液晶セル30は駆動素子としてp−SiT
FT31を用いる第1の電極基板であるアクティブマト
リクス基板32および第2の電極基板である対向基板3
3の間に、ポリイミドからなる配向膜(図示せず)を介
して、液晶組成物であるネマチック型液晶37が保持さ
れている。
【0023】ここで、アクティブマトリクス基板32
は、ガラス基板38上に、p−SiTFT31を有する
が、このp−SiTFT31は次のように形成される。
即ちガラス基板38の上にCVD法によりアモルファス
シリコン(以下a−Siと称する)膜を成膜後、このa
−Si膜をレーザーアニール法により多結晶シリコン
(以下p−Siと称する)膜に形成し、さらにパターン
形成して、マトリクス状にになるように島状に半導体層
40を形成する。ついで、半導体層40の上にゲート絶
縁膜となる第1の絶縁層41を被覆し、さらにp−Si
TFT31に走査信号を印加する走査線(図示せず)お
よびその一部であり、ゲート電圧を印加するためのゲー
ト電極42と補助容量電極43を形成した後、半導体層
にセルフアラインにより不純物を注入してソース領域4
0sおよびドレイン領域40dを形成した後、第2の絶
縁層45を被覆する。
【0024】但し、ここでp−SiTFT31はn−c
hのトランジスタで構成し場合によっては活性層とソー
ス・ドレイン領域との間に低不純物濃度領域(n
域)を形成してLLD(Lightly Doped Drain )構造と
する方が望ましいためn領域の不純物注入はソース・
ドレイン領域とは別工程で行った。
【0025】また、後述する走査線駆動回路および信号
線駆動回路はn−chおよびp−chのCMOS構造で
あることが望ましいため、ソース領域40sおよびドレ
イン領域40d形成のためには不純物の注入は、n−c
hおよびp−chとに分けて行つた。さらにp−SiT
FT31に映像信号を印加するための信号線44をパタ
ーン形成し第1のコンタクトホール46を介してドレイ
ン領域40dに接続し、信号線44と同一の材料でソー
ス領域40sにも第1のコンタクトホール48で接続す
る。
【0026】その上に第3の絶縁層51を形成し、第2
のコンタクトホール49を形成し、さらに第4の絶縁層
52を形成して第2のコンタクトホール49と同じ位置
にコンタクトホール形成してそのコンタクトホール49
を介して、前記ソース領域40sとインジウム錫酸化物
(以下ITOと称する)からなる画素電極47を接続し
た。また、アクティブマトリクス基板32上の画素電極
47がマトリクス状に配列されるに表示領域の隣接する
2辺には、走査線42の引き出し線に接続される走査線
駆動回路(図示せず)、および信号線44の引き出し線
に接続される信号線駆動回路(図示せず)が形成されて
いる。
【0027】ー方、対向基板33は、ガラス基板60上
にクロム(Cr)等の遮光部材を成膜し、アクテイブマ
トリクス基板32上のp−SiTFT31と対向するよ
うにマトリクス状にパターン形成し、遮光層61を形成
し、スパッタ法によりITOからなる対向電極62を前
面に形成する。続いて、アクティブマトリクス基板32
および対向基板33の画素電極47側および対向電極6
2側全面にポリイミドからなる配向膜63、64を印刷
塗布し、ラビング処理を行う。アクテイブマトリクス基
板32にあっては、液晶注入口を除き表示領域の周囲の
接着領域にディスペンサを用いて紫外線硬化型のシール
剤65を印刷塗布した後、アクティブマトリクス基板3
2に対向基板33を積み重ねて位置合わせをし、両基板
32,33間の間隙が均一となるように加圧した後に、
紫外線を照射してシール剤65を硬化して空液晶セルを
形成する。
【0028】次いで、液晶注入口より空液晶セルの間隙
にネマチック型液晶37を注入し液晶注入口を封止して
液晶セルを完成する。
【0029】そして、次に対向基板33の上に2mm厚の
イオン交換型のガラス製マイクロレンズアレイ基板71
を紫外線硬化型接着剤を介して画素と一致するように合
わせた後に紫外線を照射して固定した。マイクロレンズ
アレイ基板71は凸レンズのマイクロレンズ71aを一
表面に多数配置しており、基板がガラスの場合は、この
凸レンズ部分をイオン交換により形成している。 この
各凸レンズは液晶セルの画素に対応して配置されて単板
式カラー表示では赤、緑、青各画素に1つのレンズが対
応する。
【0030】さらに、アクティブマトリクス基板32に
紫外線硬化型接着剤を介して1〜2mm厚のアクリル樹
脂基板72をコントラストむら補償板として張り合わせ
紫外線を照射して固定した。さらにアクリル樹脂基板7
2に表面側に反射防止層75が形成された偏光板74を
粘着層を介して張り合わせた。
【0031】このようにガラス製アクティブマトリクス
基板32、対向基板33、そしてガラス製マイクロレン
ズアレイ基板71のような正の光弾性係数(使用温度範
囲で2.6〜3.7cm2 /dyne)を有するガラス基板で
構成されている液晶パネルに、負の光弾性係数を有する
アクリル樹脂製コントラストむら補償板72(−6cm2
/dyne)を張り合わせるようにすれば、マイクロレンズ
アレイ基板71側から高照度の光の入射によって発生す
る温度むら起因のコントラストむらの原因である入射側
偏光板70後の直線偏向光が液晶パネル通過時に楕円偏
光化されることが抑制される。
【0032】コントラストむらとは、黒表示した時に温
度むらによる応力発生がなければTN液晶では入射側の
偏光板で直線偏光となった光は出射側偏光板74で遮ら
れるだけでコントラストはほぼ一様であるが、温度むら
が発生すると液晶パネル(ガラス基板)を通過する際に
位相差を生じてしまいコントラストの小さい部分とコン
トラストの高い帯状部分ができるコントラストむらが生
じてしまうものである。例えば、図3のように上下対称
に発生し、この現象は液晶パネル内の温度むらが2℃
(中央と周辺の温度差)を越えると顕著に視認されるよ
うになってくるものである。
【0033】この光弾性効果による互いに直交する偏光
面を持つ2偏光の角位相差δは、基板厚をtとし、厚さ
方向での応力状態が一様で変化のない場合はに2偏光に
対する光路長がそれぞれ σ1 方向の偏光に対してはn1 t σ2 方向の偏光に対してはn2 t (n1 、n2 は直交するそれぞれの偏光に対する屈折
率) であるからδ=(2π/λ)(n1 −n2 )・t ここで、上記n1 ,n2 と主応力との間には n1 −n0 =Aσ1 +Bσ2 n2 −n0 =Bσ1 +Aσ2 n0 :無応力状態の屈折率 A:直接応力光定数 B:横応力光定数 の関係があるから、 δ=(2π/λ)・(A−B)・(σ1 −σ2 )・t C=A−B δ=(2π/λ)・C・(σ1 −σ2 )・t C:光弾性係数 のような関係になる。
【0034】このため、液晶パネルの温度むらにより発
生した面内応力で生じた角位相差を打ち消すようにする
には正の光弾性係数を有する部材の総合厚さと光弾性係
数の積と等しくなるように、負の光弾性係数を有する部
材厚と光弾性係数との積を設定すればよいことが分か
る。
【0035】また、図2のようなポリシリコンTFT3
1を用いた液晶パネルではアクティブマトリクス基板3
2の出射界面での反射光が画素TFTの裏面から入射し
てリーク電流が発生しやすい。このため、出射側界面に
偏光板73を張り付け、かつ、この出射界面に反射防止
膜75を形成することでリーク電流低減できるために反
射防止膜付き偏光板をアクリル樹脂基板72の上に張り
付けた方が望ましい。
【0036】もちろん、出射側偏光板73を液晶パネル
に張り付けずに離して配置して、アクリル樹脂基板72
の上に反射防止膜を付けてもよいことはいうまでもな
い。
【0037】さらに、反射防止膜の分光特性としてはp
−Siの吸収係数の高い青側の反射率を低くすることが
望ましい。
【0038】また、偏光スクリーンとの組み合わせを考
慮すると液晶の配向が45度ラビングである場合に偏光
軸を45度回転させて偏光スクリーンと一致させるよう
な位相差板を偏光板とラミネートしたものに反射防止膜
を付けて張り合わせてもよいことはいうまでもない。
【0039】また、投射型表示装置では投射レンズで大
きく拡大投影するために表示装置の上に積もったゴミや
埃により表示品位が劣化するという問題が生じるが、図
1のように入射側にはマイクロレンズアレイ基板が、そ
して出射側にはアクリル樹脂基板が配置されていること
からゴミや埃の位置がフォーカス位置からずれることか
ら表示品位の劣化が抑制されるという利点もある。
【0040】本発明の他の実施の形態はマイクロレンズ
アレイ基板をコントラストむら補償板を兼ねる構成とす
ることである。図4に示すように、多数の凸レンズ81
を一表面に形成したマイクロレンズアレイ基板80をア
クリル樹脂で形成する場合、屈折率は1.54であるか
ら液晶セルのガラス基板にレンズ側を接着しても接着剤
に屈折率が1.34のフッ素系樹脂を用いると、レンズ
作用を損なうことがない。上記したように、アクリル樹
脂はガラスに対して光弾性係数の温度に対する変化特性
が反対であるから、適切な厚さを選ぶことにより、コン
トラストむらを十分に取り除くことができる。
【0041】なお、本発明はマイクロレンズを用いない
ものにも有効であることは言うまでもない。もし、マイ
クロレンズを用いない液晶パネルの場合のゴミや埃の影
響を抑制するためにコントラストむら補償板となるアク
リル樹脂基板を入射側と出射側の両方に張り合わせても
よいことは言うまでもなく、その場合は前後のアクリル
樹脂の厚さを上記の関係式に基づき実験的に最適化を計
ればよい。また、アクリル樹脂以外の材料でコントラス
トむら補償板を形成することができ、本発明を逸脱しな
い範囲で種々の変形が可能であることはいうまでもな
い。
【0042】図5は本発明の他の実施の形態を示すもの
で、コントラストむら補償板72に視野角の拡大や色付
き防止のために設ける位相差板76、偏光板74および
反射防止膜75を一体形成したものを示しており、これ
を液晶パネルに接着することで、製造の簡素化をはかる
ことができる。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、投
射型液晶パネルでの高照度光の入射に伴う温度むらに起
因するコントラストむらを抑制することができ高品位の
投射型表示装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の液晶パネルの概略断面
図、
【図2】本発明の実施の形態の液晶セルの概略断面図、
【図3】従来例を説明するもので、(a)は概略断面
図、(b)は投射画像のコントラストむらを説明する概
略平面図。
【図4】本発明の他の実施の形態のコントラストむら補
償板の概略断面図。
【図5】本発明の他の実施の形態のコントラストむら補
償板の概略断面図。
【符号の説明】
20:液晶パネル 30:液晶セル 31:TFT 32:アクティブマトリクス基板 33:対向基板 70、74:偏光板 71:マイクロレンズアレイ基板 72:コントラストむら補償板 75:反射防止膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // G02B 5/30 G02B 5/30

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2枚の基板間に液晶層を挟持した液晶セ
    ルと、この液晶セルに近接または接触して配置され、前
    記液晶セルの前記基板のもつ光弾性係数の温度に対する
    変化特性と反対の変化特性の光弾性係数をもつコントラ
    ストむら補償板とからなる液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 マトリクス状に配列された画素電極を有
    する第1の電極基板と、対向電極を有し前記第1の電極
    基板に間隙を隔てて対向配置されこの間隙に液晶層を配
    置した第2の電極基板とを有する液晶表示装置におい
    て、前記第1および第2の電極基板の光弾性係数と符号
    が異なるコントラストむら補償板が第1の電極基板と第
    2の電極基板の少なくとも一方に接着層を介して張り合
    わされていることを特徴とする液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 第1または第2の電極基板に接着層を介
    してマイクロレンズアレイが接着されていることを特徴
    とする請求項2記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 コントラストむら補償板に偏光板もしく
    は偏光板と位相差板が一体に張り付けられていることを
    特徴とする請求項2記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 上記偏光板もしくは偏光板と位相差板が
    一体となったものの光出射面に反射防止膜が形成されて
    いるを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 コントラストむら補償板がマイクロレン
    ズアレイであることを特徴とする請求項1または2記載
    の液晶表示装置。
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