JPH11135596A - 基板処理装置および中間受け渡し装置 - Google Patents

基板処理装置および中間受け渡し装置

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JPH11135596A
JPH11135596A JP30026197A JP30026197A JPH11135596A JP H11135596 A JPH11135596 A JP H11135596A JP 30026197 A JP30026197 A JP 30026197A JP 30026197 A JP30026197 A JP 30026197A JP H11135596 A JPH11135596 A JP H11135596A
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JP
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substrate
unit
transfer
external device
processing apparatus
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JP30026197A
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Kazuhiro Nishimura
和浩 西村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フットプリントが低減された基板処理装置お
よび中間受け渡し装置を提供することである。 【解決手段】 基板処理装置100は、インデクサ1、
処理ユニット2およびインタフェースユニット3を備え
る。インタフェースユニット3に隣接するように露光ユ
ニット4が配置される。インタフェースユニット3は基
板搬送ロボット33、基板搬入台34および基板搬出台
35を備える。基板搬入台34および基板搬出台35は
上下に積層されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、外部装置との間で
基板の受け渡しを行う中間受け渡し装置およびそれを備
えた基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。例えば、半導体デバイスの製造プロセ
スでは、生産効率を高めるために一連の処理の各々をユ
ニット化し、複数のユニットを統合した基板処理装置が
用いられている。
【0003】フォトリソグラフィ工程においては、露光
処理の前後の各種の基板処理が基板処理装置で行われ、
露光処理が露光ユニットで行われる。この場合、基板処
理装置には、フォトレジストの塗布処理を行うスピンコ
ータ(回転式塗布装置)、現像処理を行うスピンディベ
ロッパ(回転式現像装置)、加熱処理および冷却処理を
行うベークプレート(基板熱処理装置)等の各種処理装
置や、処理装置間で基板の搬送を行う基板搬送ユニット
が設けられている。
【0004】一方、露光ユニットは、露光を行うための
縮小投影露光機(ステッパ)等の露光機、露光機での露
光パターンの焼付けのための位置決めを行うアラインメ
ント機構、露光ユニット内で基板の搬送を行う基板搬送
ロボット等を備える。
【0005】フォトリソグラフィ工程では、まず、基板
処理装置で露光処理前の基板処理が行われ、次に、露光
ユニットで露光処理が行われ、その後、再び基板処理装
置で露光処理後の基板処理が行われる。したがって、基
板処理装置と露光ユニットとの間で基板の受け渡しを行
う必要がある。そのため、基板処理装置には基板の受け
渡しを行うインタフェースユニット(中間受け渡し装
置;以下、IFユニットと略記する)が設けられてい
る。
【0006】図14は従来のIFユニットを備えた基板
処理装置の平面図、図15は図14の基板処理装置にお
けるIFユニットの正面図、図16は図14の基板処理
装置におけるIFユニットの側面図である。
【0007】図14において、基板処理装置200は、
複数のスピンコータ210a、複数のスピンディベロッ
パ210b、ホットプレートまたはクールプレートから
なる複数の熱処理ユニット210c、基板搬送ユニット
220およびIFユニット230を備える。基板処理装
置200の一端部側には、IFユニット230に隣接す
るように露光ユニット250が設置される。
【0008】基板搬送ユニット220は、基板をX軸方
向(矢印Xの方向)に搬送する基板搬送ロボット221
を有する。IFユニット230は基板搬送ロボット23
1を有する。基板搬送ロボット231は、基板Wを保持
する基板保持部232、その基板保持部232をX軸方
向に移動させるX方向移動機構233、そのX方向移動
機構233を介して基板保持部232をZ軸方向(矢印
Zの方向)に移動させるZ方向移動機構234、および
Z方向移動機構234およびX方向移動機構233を介
して基板保持部232をY軸方向(矢印Yの方向)に移
動させるY方向移動機構235を含む。
【0009】これにより、基板搬送ロボット231は、
基板保持部232に基板Wを保持してX軸方向、Y軸方
向およびZ軸方向に移動させて基板受け渡し台240、
基板搬入台241、基板搬出台242およびバッファ部
243との間で基板Wを受け渡しすることができる。
【0010】基板受け渡し台240は、基板搬送ロボッ
ト231と基板搬送ロボット221との間で基板Wの受
け渡しを行うために用いられる。基板搬入台241およ
び基板搬出台242は、基板搬送ロボット231が露光
ユニット250内の基板搬送ロボット(図示せず)との
間で基板Wの受け渡しを行うために用いられる。図15
に示すように、IFユニット230の側面には、露光ユ
ニット250との間で基板Wを受け渡すための開口部2
36が設けられている。バッファ部243は、基板処理
装置200内での処理時間と露光ユニット250内での
処理時間とに差が生じた場合に基板Wを一時的に収納す
るために用いられる。
【0011】この基板処理装置200においては、ま
ず、基板搬送ユニット220の基板搬送ロボット221
が、スピンコータ210aおよび熱処理ユニット210
cで処理された基板Wを基板受け渡し台240に載置す
る。IFユニット230の基板搬送ロボット231は、
基板受け渡し台240に載置された基板Wを基板保持部
232に受け取って保持し、その基板Wを基板搬入台2
41に載置する。基板搬入台241に載置された基板W
は、露光ユニット250内の基板搬送ロボットにより露
光ユニット250内に取り込まれる。
【0012】露光ユニット250において、露光処理が
行われた基板Wは、露光ユニット250内の基板搬送ロ
ボットにより露光ユニット250から搬出され、基板搬
出台242に載置される。IFユニット230の基板搬
送ロボット231は、基板搬出台242に載置された基
板Wを基板保持部232に受け取って保持し、その基板
Wを基板受け渡し台240に載置する。基板受け渡し台
240に載置された基板Wは、基板搬送ユニット220
の基板搬送ロボット221により熱処理ユニット210
cおよびスピンディベロッパ210bに搬送される。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】近年、基板の大径化に
伴って各処理装置や基板搬送ユニットも大型化しつつあ
る。上記の従来の基板処理装置200では、IFユニッ
ト230内に基板搬送ロボット231に加えて露光ユニ
ット250との間で基板Wの受け渡しを行うための基板
搬入台241および基板搬出台242が並設されている
ため、占有面積が大きくなる。しかしながら、工場内の
スペースは限られているため、基板処理装置の全体のフ
ットプリント(設置面積)を可能な限り低減することが
望まれている。
【0014】本発明の目的は、フットプリントが低減さ
れた基板処理装置および中間受け渡し装置を提供するこ
とである。
【0015】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
(1)第1の発明 第1の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を
行う処理部と、外部装置に基板を渡すための第1の受け
渡し部と、外部装置から基板を受け取るための第2の受
け渡し部と、処理部との基板受け渡し位置と第1および
第2の受け渡し部との間で基板を搬送する搬送手段とを
備え、第1の受け渡し部および第2の受け渡し部が上下
方向に積層されたものである。
【0016】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により第1の受け
渡し部に搬送され、第1の受け渡し部から外部装置に搬
入される。また、外部装置から搬出された基板が第2の
受け渡し部により受け取られ、搬送手段により処理部と
の基板受け渡し位置に搬送され、処理部でその基板に処
理が行われる。
【0017】特に、第1の受け渡し部および第2の受け
渡し部が上下方向に積層されているので、外部装置との
間での基板の受け渡しのために必要なスペースが小さく
なり、基板処理装置の全体のフットプリントが低減され
る。
【0018】(2)第2の発明 第2の発明に係る基板処理装置は、第1の発明に係る基
板処理装置の構成において、第1の受け渡し部が、外部
装置に搬入される基板が載置される第1の基板載置部で
あり、第2の受け渡し部が、外部装置から搬出された基
板が載置される第2の基板載置部であるものである。
【0019】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
第1の基板載置部に載置される。第1の基板載置部に載
置された基板は、外部装置の基板搬入手段により外部装
置内に搬入される。また、外部装置の基板搬出手段によ
り外部装置から搬出された基板は、第2の基板載置部に
載置される。第2の基板載置部に載置された基板は、搬
送手段により処理部との基板受け渡し位置に搬送され、
処理部でその基板に処理が行われる。
【0020】この場合にも、第1の基板載置部および第
2の基板載置部が上下方向に積層されているので、外部
装置との間での基板の受け渡しのために必要なスペース
が小さくなり、基板処理装置の全体のフットプリントが
低減される。
【0021】(3)第3の発明 第3の発明に係る基板処理装置は、第1の発明に係る基
板処理装置の構成において、第1の受け渡し部が、外部
装置内に基板を搬入する基板搬入手段であり、第2の受
け渡し部が、外部装置内から基板を搬出する基板搬出手
段であるものである。
【0022】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
基板搬入手段に渡される。そして、その基板は基板搬入
手段により外部装置内に搬入される。また、基板搬出手
段により外部装置内から基板が搬出されて基板処理装置
内に取り込まれ、搬送手段に渡される。その基板は搬送
手段により処理部との基板受け渡し位置に搬送され、処
理部でその基板に処理が行われる。
【0023】この場合にも、基板搬入手段および基板搬
出手段が上下方向に積層されているので、外部装置との
間で基板の受け渡しのために必要なスペースが小さくな
り、基板処理装置の全体のフットプリントが低減され
る。
【0024】(4)第4の発明 第4の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を
行う処理部と、外部装置に基板を渡しかつ外部装置から
基板を受け取るための共通の受け渡し部と、共通の受け
渡し部を上下に昇降させる昇降手段と、処理部との基板
受け渡し位置と共通の受け渡し部との間で基板を搬送す
る搬送手段とを備えたものである。
【0025】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
共通の受け渡し部に渡される。そして、昇降手段により
共通の受け渡し部が外部装置との基板の受け渡し位置ま
で昇降され、共通の受け渡し部から外部装置に基板が搬
入される。また、昇降手段により共通の受け渡し部が外
部装置との基板の受け渡し位置まで昇降され、外部装置
から搬出された基板が共通の受け渡し部により受け取ら
れる。そして、搬送手段により共通の受け渡し部から処
理部との基板受け渡し位置に基板が搬送され、処理部で
その基板に処理が行われる。
【0026】特に、昇降手段により共通の受け渡し部を
上下に昇降させることにより外部装置への基板の搬入時
および外部装置からの基板の搬出時に共通の受け渡し部
が用いられるので、外部装置との間での基板の受け渡し
のために必要なスペースが小さくなり、基板処理装置の
全体のフットプリントが低減される。
【0027】(5)第5の発明 第5の発明に係る基板処理装置は、第4の発明に係る基
板処理装置の構成において、共通の受け渡し部が、外部
装置に搬入される基板が載置されかつ外部装置から搬出
された基板が載置される基板載置部であるものである。
【0028】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
基板載置部に載置される。そして、昇降手段により基板
載置部が外部装置との基板の受け渡し位置まで昇降さ
れ、基板載置部に載置された基板が外部装置の基板搬入
手段により外部装置内に搬入される。また、昇降手段に
より基板載置部が外部装置との基板の受け渡し位置まで
昇降され、外部装置の基板搬出手段により外部装置から
搬出された基板が基板載置部に載置される。そして、搬
送手段により基板載置部から処理部との基板受け渡し位
置に基板が搬送され、処理部でその基板に処理が行われ
る。
【0029】この場合にも、昇降手段により基板載置部
を上下に昇降させることにより外部装置への基板の搬入
時および外部装置からの基板の搬出時に基板載置部が共
通に用いられるので、外部装置との間での基板の受け渡
しのために必要なスペースが小さくなり、基板処理装置
の全体のフットプリントが低減される。
【0030】(6)第6の発明 第6の発明に係る基板処理装置は、第4の発明に係る基
板処理装置の構成において、共通の受け渡し部が外部装
置内に基板を搬入しかつ外部装置内から基板を搬出する
基板搬入出手段であるものである。
【0031】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
基板搬入出手段に渡される。そして、昇降手段により基
板搬入出手段が外部装置との基板の受け渡し位置まで昇
降され、基板搬入出手段により基板が外部装置内に搬入
される。また、昇降手段により基板搬入出手段が外部装
置との基板の受け渡し位置まで昇降され、基板搬入出手
段により外部装置内から基板が搬出されて基板処理装置
内に取り込まれる。そして、搬送手段により基板搬入出
手段から処理部との基板受け渡し位置に基板が搬送さ
れ、処理部でその基板に処理が行われる。
【0032】この場合にも、昇降手段により基板搬入出
手段を上下に昇降させることにより外部装置への基板の
搬入時および外部装置からの基板の搬出時に基板搬入出
手段が共通に用いられるので、外部装置との間での基板
の受け渡しのために必要なスペースが小さくなり、基板
処理装置の全体のフットプリントが低減される。
【0033】(7)第7の発明 第7の発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を
行う処理部と、外部装置に基板を渡しかつ外部装置から
基板を受け取るための共通の受け渡し部と、処理部との
基板受け渡し位置と共通の受け渡し部との間で基板を搬
送する搬送手段とを備えたものである。
【0034】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
共通の受け渡し部に渡され、共通の受け渡し部から外部
装置に基板が搬入される。また、外部装置から搬出され
た基板が共通の受け渡し部により受け取られ、搬送手段
により共通の受け渡し部から処理部との基板受け渡し位
置に基板が搬送され、処理部でその基板に処理が行われ
る。
【0035】特に、外部装置への基板の搬入時および外
部装置からの基板の搬出時に共通の受け渡し部が用いら
れるので、外部装置との間での基板の受け渡しのために
必要なスペースが小さくなり、基板処理装置の全体のフ
ットプリントが低減される。
【0036】(8)第8の発明 第8の発明に係る基板処理装置は、第7の発明に係る基
板処理装置の構成において、共通の受け渡し部が、外部
装置に搬入される基板が載置されかつ外部装置から搬出
された基板が載置される基板載置部であるものである。
【0037】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
基板載置部に載置される。そして、基板載置部に載置さ
れた基板が外部装置の基板搬入手段により外部装置内に
搬入される。また、外部装置の基板搬出手段により外部
装置から搬出された基板が基板載置部に載置される。そ
して、搬送手段により基板載置部から処理部との基板受
け渡し位置に基板が搬送され、処理部でその基板に処理
が行われる。
【0038】この場合にも、外部装置への基板の搬入時
および外部装置からの基板の搬出時に基板載置部が共通
に用いられるので、外部装置との間での基板の受け渡し
のために必要なスペースが小さくなり、基板処理装置の
全体のフットプリントが低減される。
【0039】(9)第9の発明 第9の発明に係る基板処理装置は、第7の発明に係る基
板処理装置の構成において、共通の受け渡し部が、外部
装置内に基板を搬入しかつ外部装置内から基板を搬出す
る基板搬入出手段であるものである。
【0040】本発明に係る基板処理装置においては、処
理部により処理された基板が搬送手段により搬送され、
基板搬入出手段に渡される。そして、基板搬入出手段に
より基板が外部装置内に搬入される。また、基板搬入出
手段により外部装置から基板が搬出されて基板処理装置
内に取り込まれる。そして、搬送手段により基板搬入出
手段から処理部との基板受け渡し位置に基板が搬送さ
れ、処理部でその基板に処理が行われる。
【0041】この場合にも、外部装置への基板の搬入時
および外部装置からの基板の搬出時に基板搬入出手段が
共通に用いられるので、外部装置との間での基板の受け
渡しのために必要なスペースが小さくなり、基板処理装
置の全体のフットプリントが低減される。
【0042】(10)第10の発明 第10の発明に係る中間受け渡し装置は、基板に所定の
処理を行う処理部と所定の外部装置との間で基板の受け
渡しを行う中間受け渡し装置であって、外部装置に基板
を渡すための第1の受け渡し部と、外部装置から基板を
受け取るための第2の受け渡し部と、処理部との基板受
け渡し位置と第1および第2の受け渡し部との間で基板
を搬送する搬送手段とを備え、第1の受け渡し部および
第2の受け渡し部が上下方向に積層されたものである。
【0043】本発明に係る中間受け渡し装置において
は、処理部により処理された基板が搬送手段により第1
の受け渡し部に搬送され、第1の受け渡し部から外部装
置に搬入される。また、外部装置から搬出された基板が
第2の受け渡し部により受け取られ、搬送手段により処
理部との基板受け渡し位置に搬送され、処理部でその基
板に処理が行われる。
【0044】特に、第1の受け渡し部および第2の受け
渡し部が上下方向に積層されているので、外部装置との
間での基板の受け渡しのために必要なスペースが小さく
なり、中間受け渡し装置のフットプリントが低減され
る。
【0045】(11)第11の発明 第11の発明に係る中間受け渡し装置は、基板に所定の
処理を行う処理部と所定の外部装置との間で基板の受け
渡しを行う中間受け渡し装置であって、外部装置に基板
を渡しかつ外部装置から基板を受け取るための共通の受
け渡し部と、共通の受け渡し部を上下に昇降させるため
の昇降手段と、処理部との基板受け渡し位置と共通の受
け渡し部との間で基板を搬送する搬送手段とを備えたも
のである。
【0046】本発明に係る中間受け渡し装置において
は、処理部により処理された基板が搬送手段により搬送
され、共通の受け渡し部に渡される。そして、昇降手段
により共通の受け渡し部が外部装置との基板の受け渡し
位置まで昇降され、共通の受け渡し部から外部装置に基
板が搬入される。また、昇降手段により共通の受け渡し
部が外部装置との基板の受け渡し位置まで昇降され、外
部装置から搬出された基板が共通の受け渡し部により受
け取られる。そして、搬送手段により共通の受け渡し部
から処理部との基板受け渡し位置に基板が搬送され、処
理部でその基板に処理が行われる。
【0047】特に、昇降手段により共通の受け渡し部を
上下に昇降させることにより外部装置への基板の搬入時
および外部装置からの基板の搬出時に共通の受け渡し部
が用いられるので、外部装置との間での基板の受け渡し
のために必要なスペースが小さくなり、中間受け渡し装
置のフットプリントが低減される。
【0048】(12)第12の発明 第12の発明に係る中間受け渡し装置は、基板に所定の
処理を行う処理部と所定の外部装置との間で基板の受け
渡しを行う中間受け渡し装置であって、外部装置に基板
を渡しかつ外部装置から基板を受け取るための共通の受
け渡し部と、処理部との基板受け渡し位置と共通の受け
渡し部との間で基板を搬送する搬送手段とを備えたもの
である。
【0049】本発明に係る中間受け渡し装置において
は、処理部により処理された基板が搬送手段により搬送
され、共通の受け渡し部に渡され、共通の受け渡し部か
ら外部装置に基板が搬入される。また、外部装置から搬
出された基板が共通の受け渡し部により受け取られ、搬
送手段により共通の受け渡し部から処理部との基板受け
渡し位置に基板が搬送され、処理部でその基板に処理が
行われる。
【0050】特に、外部装置への基板の搬入時および外
部装置からの基板の搬出時に共通の受け渡し部が用いら
れるので、外部装置との間での基板の受け渡しのために
必要なスペースが小さくなり、中間受け渡し装置のフッ
トプリントが低減される。
【0051】
【発明の実施の形態】
(1)第1の実施例 図1は本発明の第1の実施例における基板処理装置の全
体の構成を示す平面図である。図2は図1の基板処理装
置を露光ユニット側から見た正面図である。図3は図1
の基板処理装置におけるバッファ部付近の概略構成を示
す斜視図である。図1以降の各図には、位置関係を明確
にするためにXYZ直交座標系を付している。
【0052】図1の基板処理装置100aは、インデク
サ1、処理ユニット2、およびインタフェースユニット
(中間受け渡し装置;以下、IFユニットと略記する)
3を備える。IFユニット3に隣接するように外部装置
として露光ユニット4が配置されている。
【0053】インデクサ1は、キャリアの自動搬送車
(Auto Guided Vehicle ; 以下、AGVと呼ぶ)5との
間でキャリアCの受け渡しを行うための搬入出テーブル
11、およびその搬入出テーブル11に載置されている
キャリアCと後述する処理ユニット2内の基板搬送ロボ
ット23との間で基板Wの受け渡しを行う基板搬入出ロ
ボット12を備える。
【0054】処理ユニット2は、第1の装置配置部21
と、第2の装置配置部22と、基板搬送ロボット23用
の搬送経路24とを備える。第1の装置配置部21に
は、図1のX軸方向に沿って、レジスト塗布を行うため
のスピンコータ(回転式塗布装置)SC、および現像を
行うためのスピンディベロッパ(回転式現像装置)SD
がそれぞれ複数台配設されている。また、第2の装置配
置部22には、プリベーク、ポストベーク等を行うため
のベークユニットBUおよび複数台のエッジ露光部EE
Wが配設されている。
【0055】基板搬送ロボット23用の搬送経路24
は、第1の装置配置部21と第2の装置配置部22との
間に設けられている。基板搬送ロボット23は、基板W
を支持する複数の突起部23aを備えた馬蹄形のハンド
23bと、そのハンド23bを水平方向(X−Y平面)
に伸縮させる伸縮部23cとを備える。伸縮部23c
は、図示しないねじ軸およびモータ等からなる1軸方向
移動機構により構成され、図示しない所定のモータによ
りZ軸周りに回転する。
【0056】この基板搬送ロボット23は、ハンド23
bのZ軸(鉛直軸)周りの回転、X軸およびY軸方向の
移動および伸縮動作を適宜に組み合わせて、スピンコー
タSC、スピンディベロッパSD、ベークユニットB
U、エッジ露光部EEW等の処理装置に対するアクセス
(基板Wの搬入および搬出動作)、後述するIFユニッ
ト3内のバッファ部32の任意の収納棚32aに対する
基板Wの収納(載置)および取り出し、処理ユニット2
内の各処理装置との間での基板Wの搬送等を行う。
【0057】例えば、スピンコータSCに基板Wを搬入
する場合には、まず、基板Wを支持するハンド23bを
X軸方向およびZ軸方向に適宜移動させてスピンコータ
SCの前方に位置させ、ハンド23bのZ軸周りの回転
によりハンド23bをそのスピンコータSCの方向に伸
縮できるようにする。次に、ハンド23bをスピンコー
タSCの基板搬入出口からスピンコータSC内に挿入
し、基板Wの受け渡し後、ハンド23bをスピンコータ
SCから退出させる。スピンコータSCからの基板Wの
搬出は、上記搬入時と逆の動作で行う。その他の処理装
置に対するアクセスの際の基板搬送ロボット23の動作
も、上記の動作とほぼ同様である。
【0058】IFユニット3は、図1および図2に示す
ように、バッファ部32、基板搬送ロボット33、基板
搬入台34および基板搬出台35を一体的にユニット化
することにより構成されている。基板搬入台34および
基板搬出台35は上下に積層されている(図2参照)。
また、本実施例では、IFユニット3内に、第1および
第2のカセット36a,36bをそれぞれセットしてお
くための2個のテーブル台37a,37bも設けられて
いる。
【0059】バッファ部32は、上記処理ユニット2内
の基板搬送ロボット23のX軸方向の移動経路の延長線
と、後述するIFユニット3内の基板搬送ロボット33
のX軸方向の移動経路の延長線との交差する位置に配置
され、IFユニット3の内側面に支持されている。
【0060】図3に示すように、バッファ部32には、
複数個の収納棚32aがZ軸方向に多段に積層されてい
る。各収納棚32aは、露光ユニット4側の側壁32b
に処理ユニット2側に向けて張り出すように設けられた
1対の支持腕32cに複数個の基板支持ピン32dが鉛
直方向に立設されてなり、基板支持ピン32dに基板W
が載置される。また、各収納棚32aにおいて、上記処
理ユニット2内の基板搬送ロボット23およびIFユニ
ット3内の基板搬送ロボット33に対向する面が開口さ
れている。これにより、各基板搬送ロボット23,33
による基板Wの収納および取り出しが行われる。
【0061】処理ユニット2内の基板搬送ロボット23
によりバッファ部32へ基板Wを収納する際には、ま
ず、基板Wを支持するハンド23bのX軸方向およびZ
軸方向の移動ならびにZ軸周りの回転を適宜行い、ハン
ド23bをバッファ部32の方向に伸縮できるようにす
る。次に、ハンド23bをバッファ部32の方向に伸長
させ、支持している基板Wを収納棚32aに挿入し、Z
軸方向に下降させて基板Wをその収納棚32aの基板支
持ピン32dに載置し、さらにハンド23bを若干下降
させて退出させる。バッファ部32の任意の収納棚32
aからの基板Wの取り出しは、上記基板Wの収納と逆の
動作でハンド23bが収納されている基板Wを下方から
持ち上げるようにして行う。
【0062】図2に示すように、IFユニット3内の基
板搬送ロボット33は、Y方向駆動部33a、第1の連
結部材33b、Z方向駆動部33c、第2の連結部材3
3d、回転駆動部33e、伸縮駆動部33fおよび基板
支持部33gにより構成される。
【0063】Y方向駆動部33aはIFユニット3の内
側面に固定されている。このY方向駆動部33aには、
ねじ軸33aaがY軸周りに回動自在に内設され、ねじ
軸33aaに平行にガイド軸33abが内設され、また
ねじ軸33aaを正逆方向に回転させるモータ33ac
も内設されている。このY方向駆動部33aは、基板搬
送ロボット33の伸縮駆動部33fおよび基板支持部3
3gを、バッファ部32のY軸方向の正面と、後述する
基板搬入台34および基板搬出台35のX軸方向の正面
との間で移動可能に配置されている。
【0064】第1の連結部材33bの基端部は、上記Y
方向駆動部33a内のねじ軸33aaに螺合され、ガイ
ド軸33abに摺動自在に嵌め込まれており、ねじ軸3
3aaを正逆方向に回転させることにより第1の連結部
材33bをY軸方向に移動させることができる。また、
第1の連結部材33bの先端部にはZ方向駆動部33c
が固定されている。
【0065】Z方向駆動部33cには、ねじ軸33ca
がZ軸周りに回動自在に内設され、ねじ軸33caに平
行にガイド軸(図示せず)が内設され、またねじ軸33
caを正逆方向に回転させるモータ33cbも内設され
ている。
【0066】第2の連結部材33dの基端部は、上記Z
方向駆動部33c内のねじ軸33caに螺合され、ガイ
ド軸に摺動自在に嵌め込まれており、ねじ軸33caを
正逆方向に回転させることにより第2の連結部材33d
をZ軸方向に移動させることができる。また、第2の連
結部材33dの先端部には回転駆動部33eが固定され
ている。
【0067】回転駆動部33eには、上方に回転軸33
eaがZ軸周りに回動自在に立設され、この回転軸33
eaを正逆方向に回転させるモータ33ebが内設され
ている。
【0068】上記回転軸33eaの先端部には、伸縮駆
動部33fが固定されている。この伸縮駆動部33fに
は、モータ33faで駆動されるタイミングベルト33
fbが内設されている。このタイミングベルト33fb
の一部に基板支持部33gの基端部が連結されており、
タイミングベルト33fbを駆動することにより伸縮駆
動部33fに対して基板支持部33gを伸縮させること
ができる。
【0069】上記回転駆動部33eの回転軸33eaを
正逆方向に回転させることにより、伸縮駆動部33fお
よび基板支持部33gをZ軸周りに回転させ、X−Y平
面(水平面)内の任意の方向に基板支持部33gを伸縮
させることができる。
【0070】さらに、上記Z方向駆動部33cのねじ軸
33caを正逆方向に回転させることにより、第2の連
結部材33d、回転駆動部33eおよび伸縮駆動部33
fを介して基板支持部33gを伸縮させるZ軸方向の高
さを調整することが可能となる。
【0071】また、Y方向駆動部33aのねじ軸33a
aを正逆方向に回転させることにより、第1の連結部材
33b、Z方向駆動部33c、第2の連結部材33dお
よび回転駆動部33eを介して伸縮駆動部33fおよび
基板支持部33gをY軸方向に変位させることが可能と
なる。
【0072】なお、伸縮駆動部33fがZ軸方向に下降
した状態でも伸縮駆動部33fがZ軸周りに回転できる
ように、Z方向駆動部33cは、第2の連結部材33d
を介して伸縮駆動部33fおよび回転駆動部33eの下
方からずれた位置に配置されている。
【0073】上記構成により、基板搬送ロボット33
は、バッファ部32の任意の収納棚32aに対する基板
Wの収納および取り出し、基板搬入台34への基板Wの
載置、基板搬出台35からの基板Wの取り出し、および
後述するカセット36a,36bに対する基板Wの収納
および取り出しを行う。
【0074】バッファ部32の任意の収納棚32aに対
する基板Wの収納および取り出しの際には、基板支持部
33gの伸縮方向をバッファ部32の方向にし、収納ま
たは取り出しの対象となる収納棚32aの高さに合わせ
て伸縮駆動部33fおよび基板支持部33gのZ軸方向
の高さを調節する。この場合の基板Wの収納および取り
出しも、上述した処理ユニット2内の基板搬送ロボット
23によるバッファ部32の任意の収納棚32aに対す
る基板Wの収納および取り出しと同様の動作で行う。
【0075】基板搬入台34および基板搬出台35は、
支持台142上に上下方向に2段に積層されている。本
実施例では、支持部材143により基板搬出台35上に
基板搬入台34が配置されている。基板搬入台34およ
び基板搬出台35には、それぞれ3本以上(本実施例で
は4本)の基板支持ピン34a,35aが鉛直方向に立
設されている。これらの基板支持ピン34a,35aに
基板Wが載置されて露光ユニット4内の基板搬送ロボッ
ト(図示せず)との間で基板Wの受け渡しが行われる。
【0076】なお、図示していないが、露光ユニット4
とIFユニット3との間で基板Wを受け渡すときに基板
Wを支持した露光ユニット4内の基板搬送ロボットが通
過するための開口が、露光ユニット4とIFユニット3
との間に設けられている。
【0077】IFユニット3内の基板搬送ロボット33
による基板搬入台34への基板Wの載置は、図4に示す
ように行う。まず、図2のY方向駆動部33aにより伸
縮駆動部33fおよび基板支持部33gをY軸方向に移
動させて基板搬入台34のX軸方向の正面に位置させる
とともに、回転駆動部33eにより伸縮駆動部33fを
Z軸周りで回転させて基板支持部33gを基板搬入台3
4の方向に伸縮できるようにする。そして、基板搬入台
34のZ軸方向の高さに合わせてZ方向駆動部33cに
より基板支持部33gの高さを調節する。
【0078】なお、基板支持部33gのY軸方向の移
動、Z軸周りの回転およびZ軸方向の移動はいずれを先
に行ってもよい。
【0079】次に、基板支持部33gを伸長させて支持
している基板Wを基板搬入台34の基板支持ピン34a
の若干上方に位置させ、Z軸方向駆動部33cにより基
板支持部33gをZ軸方向に下降させて基板Wを基板搬
入台34の基板支持ピン34a上に載置し、載置した基
板Wの裏面と基板支持部33gとが接触しない位置で基
板支持部33gの下降を停止する。その後、基板支持部
33gを退出させる。
【0080】IFユニット3内の基板搬送ロボット33
による基板搬出台35からの基板Wの取り出しは、上記
基板搬入台34への基板Wの載置と逆の動作で基板支持
部33gが基板搬出台35の基板支持ピン35a上に載
置されている基板Wを下方から持ち上げるようにして行
う。
【0081】第1のカセット36aをセットするテーブ
ル台37aは、IFユニット3内の基板搬送ロボット3
3のY方向駆動部33aの一端部(バッファ部32と反
対側の端部)側にバッファ部32と向き合うようにIF
ユニット3の内側面に固定されている。また、第2のカ
セット36bをセットするテーブル台37bは、上記テ
ーブル台37aよりもY軸方向にバッファ部32に近
く、かつテーブル台37aよりも高い位置にIFユニッ
ト3の内側面に固定されている。また、テーブル台37
aの高さは、図2に想像線で示すように、IFユニット
3内の基板搬送ロボット33が基板搬入台34および基
板搬出台35の側に位置しているときにZ方向駆動部3
3cの上端が干渉しないように位置決めされている。
【0082】第1および第2のカセット36a,36b
には、複数の基板Wを水平姿勢で収納するための複数個
の収納棚(図示せず)が設けられている。これらのカセ
ット36a,36bは、例えば、パイロット基板(露光
テスト用の基板)を収納して露光テストを行う場合に用
いられたり、IFユニット3をインデクサ1として使用
する場合に用いられる。
【0083】テーブル台37a,37bに対するカセッ
ト36a,36bのセットまたは取り出しは、作業者が
IFユニット3の一側面に設けられた扉38(図1参
照)を開いて行う。
【0084】露光ユニット4は、露光を行うための例え
ば縮小投影露光機(ステッパ)等の露光機、露光機での
露光パターンの焼き付けのための位置決めを行うアライ
メント機構、露光ユニット4内で基板Wの搬送等を行う
基板搬送ロボット(いずれも図示せず)を一体的にユニ
ット化することにより構成される。
【0085】露光ユニット4内の基板搬送ロボットは、
IFユニット3内の基板搬入台34に載置された露光前
の基板Wを露光ユニット4内に取り込むとともに、露光
ユニット4での露光処理が終了した露光済の基板Wを露
光ユニット4から搬出してIFユニット3内の基板搬出
台35に載置する。
【0086】本実施例では、露光ユニット4への基板W
の搬入時における露光ユニット4内の基板搬送ロボット
との基板受け渡し位置が上部に配置され、露光ユニット
4からの基板Wの搬出時における露光ユニット4内の基
板搬送ロボットとの基板受け渡し位置が下部に配置され
ているものとする。
【0087】この露光ユニット4内の基板搬送ロボット
による基板搬入台34からの基板Wの取り出しおよび基
板搬出台35への基板Wの載置は、図4を用いて説明し
たIFユニット3内の基板搬送ロボット33による基板
搬入台34への基板Wの載置および基板搬出台35から
の基板Wの取り出しの動作と同様に行われる。
【0088】本実施例では、処理ユニット2が処理部に
相当し、基板搬入台34が第1の受け渡し部および第1
の基板載置部に相当し、基板搬出台35が第2の受け渡
し部および第2の基板載置部に相当し、バッファ部32
の各収納棚32aが処理部としての処理ユニット2との
基板受け渡し位置に相当し、基板搬送ロボット33が搬
送手段に相当する。
【0089】次に、図1の基板処理装置100aの動作
を説明する。まず、AGV5により搬入出テーブル11
へキャリアCが載置され、基板搬入出ロボット12によ
りキャリアCから処理前の基板搬送ロボットWが取り出
され、その基板Wが処理ユニット2内の基板搬送ロボッ
ト23に渡される。そして、基板搬送ロボット23によ
り処理前の基板WがスピンコータSC、ベークユニット
BU、エッジ露光部EEW等に順次搬送され、スピンコ
ータSCによるレジスト塗布、ベークユニットBUによ
るベーク、エッジ露光部EEWによるエッジ露光等の各
種処理が行われる。
【0090】処理後の基板Wは、基板搬送ロボット23
によりIFユニット3のバッファ部32の任意の収納棚
32aに収納される。そして、収納棚32aに収納され
た露光前の基板Wが基板搬送ロボット33により取り出
され、基板搬入台34の基板支持ピン34a上に載置さ
れる。
【0091】その後、露光ユニット4内の基板搬送ロボ
ット(図示せず)により基板搬入台34から露光前の基
板Wが露光ユニット4内に取り込まれる。露光ユニット
4内では、基板Wがアライメント機構に引き渡されて位
置決め処理が行われ、位置決めされた状態で露光機に渡
され、所定の露光パターンが焼き付けられる。
【0092】露光処理が終了した露光済の基板Wは、露
光ユニット4内の基板搬送ロボットにより露光ユニット
4から搬出され、基板搬出台35の基板支持ピン35a
上に載置される。
【0093】その後、IFユニット3の基板搬送ロボッ
ト33により基板搬出台35から露光済の基板Wが取り
出され、バッファ部32の任意の収納棚32aに収納さ
れる。
【0094】そして、処理ユニット2内の基板搬送ロボ
ット23によりバッファ部32の収納棚32aから露光
済の基板Wが取り出され、ベークユニットBU、スピン
ディベロッパSD等に順次搬送され、ベークユニットB
Uによるベーク、スピンディベロッパSDによる現像等
の各種処理が行われる。処理後の基板Wは、基板搬送ロ
ボット23によりインデクサ1の基板搬入出ロボット1
2に渡され、基板搬入出ロボット12により搬入出テー
ブル11上のキャリアCに収納される。
【0095】本実施例の基板処理装置100aにおいて
は、IFユニット3の基板搬入台34および基板搬出台
35が上下方向に積層されているので、露光ユニット4
との基板Wの受け渡しのために必要なスペースが小さく
なり、IFユニット3のフットプリントが低減される。
本実施例の場合、基板処理装置100aと露光ユニット
4との間に余剰スペースSが生じる。この余剰スペース
Sを利用してIFユニット3および露光ユニット4の保
守を行うことができる。あるいは、この余剰スペースS
に他の処理装置等を設置することも可能となる。
【0096】(2)第2の実施例 次に、本発明の第2の実施例における基板処理装置を説
明する。第2の実施例の基板処理装置では、第1の実施
例の基板処理装置100aの基板搬入台34および基板
搬出台35の代わりに図5に示す基板搬入出台130が
用いられる。
【0097】図5に示すように、基板搬入出台130
は、昇降装置140によりZ軸方向に移動可能となって
いる。基板搬入出台130上には、3本以上の基板支持
ピン130aが立設されている。本実施例の基板処理装
置の他の部分の構成は、第1の実施例の基板処理装置1
00aの構成と同様である。
【0098】本実施例では、基板搬入出台130が共通
の受け渡し部および基板載置部に相当し、昇降装置14
0が昇降手段に相当する。
【0099】露光前の基板Wを露光ユニット4に搬入す
る際には、IFユニット3内の基板搬送ロボット33に
より基板搬入出台130の基板支持ピン130a上に露
光前の基板Wが載置される。そして、昇降装置140に
より基板搬入出台130が露光ユニット4内の基板搬送
ロボットの受け渡し位置にまで昇降される。その後、露
光ユニット4内の基板搬送ロボットにより基板搬入出台
130から露光前の基板Wが露光ユニット4内に取り込
まれる。
【0100】露光済の基板Wを露光ユニット4から搬出
する際には、昇降装置140により基板搬入出台130
が露光ユニット4内の基板搬送ロボットの受け渡し位置
まで昇降される。そして、露光ユニット4内の基板搬送
ロボットにより露光済の基板Wが基板搬入出台130の
基板支持ピン130a上に載置される。その後、IFユ
ニット3内の基板搬送ロボット33により基板搬入出台
130から露光済の基板Wが取り出される。
【0101】本実施例の基板処理装置においては、露光
ユニット4への基板Wの搬入時および露光ユニット4か
らの基板Wの搬出時に共通に用いられる基板搬入出台1
30が昇降装置140により上下方向に昇降可能に設け
られているので、露光ユニット4との基板Wの受け渡し
のために必要なスペースが小さくなり、IFユニット3
のフットプリントが低減される。
【0102】(3)第3の実施例 次に、本発明の第3の実施例における基板処理装置を説
明する。第3の実施例の基板処理装置では、第1の実施
例の基板処理装置100aの基板搬入台34および基板
搬出台35の代わりに図6に示す基板搬入出台132が
用いられる。
【0103】図6に示すように、基板搬入出台132は
支持台142により所定の高さに固定されている。基板
搬入出台132上には、3本以上の基板支持ピン132
aが立設されている。本実施例の基板処理装置の他の部
分の構成は、第1の実施例の基板処理装置100aの構
成と同様である。
【0104】本実施例では、基板搬入出台132が共通
の受け渡し部および基板載置部に相当する。
【0105】本実施例の基板処理装置は、露光ユニット
4内の基板搬送ロボットがZ軸方向に移動可能に設けら
れている場合に適用することができる。
【0106】露光前の基板Wを露光ユニット4に搬入す
る際には、IFユニット3内の基板搬送ロボット33に
より露光前の基板Wが基板搬入出台132の基板支持ピ
ン132a上に載置される。露光ユニット4内の基板搬
送ロボットは、基板搬入出台132の高さまで昇降し、
基板搬入出台132から露光ユニット4内に露光前の基
板Wを取り込む。
【0107】露光済の基板Wを露光ユニット4から搬出
する際には、露光ユニット4内の基板搬送ロボットが基
板搬入出台132の高さまで昇降し、露光済の基板Wを
基板搬入出台132の基板支持ピン132a上に載置す
る。その後、IFユニット3内の基板搬送ロボット33
により基板搬入出台132から露光済の基板Wが取り出
される。
【0108】本実施例の基板処理装置においては、露光
ユニット4への基板Wの搬入時および露光ユニット4か
らの基板Wの搬出時に共通に用いられる基板搬入出台1
32が設けられているので、露光ユニット4との基板W
の受け渡しのために必要なスペースが小さくなり、IF
ユニット3のフットプリントが低減される。
【0109】(4)第4の実施例 図7は本発明の第4の実施例における基板処理装置の全
体の構成を示す平面図である。図8は図7の基板処理装
置を露光ユニット側から見た正面図である。
【0110】図7の基板処理装置100bは、インデク
サ1、処理ユニット2およびIFユニット3を備える。
IFユニット3に隣接するように露光ユニット40が配
置されている。
【0111】インデクサ1の構成は、図1のインデクサ
1の構成と同様である。本実施例の処理ユニット2にお
いては、第2の装置配置部22のIFユニット3側の端
部付近に、後述するIFユニット3内の基板搬送ロボッ
ト31と基板Wの受け渡しを行うための基板受け渡し台
25が設けられている。基板受け渡し台25には、3本
以上の基板支持ピン25aが鉛直方向に立設されてお
り、これらの基板支持ピン25aに基板Wが載置されて
基板Wの受け渡しが行われる。なお、処理ユニット2の
他の部分の構成は、図1に示した処理ユニット2の構成
と同様である。
【0112】処理ユニット2内の基板搬送ロボット23
は、ハンド23bのZ軸周りの回転、X軸およびY軸方
向の移動および伸縮動作を適宜に組み合わせて、スピン
コータSC、スピンディベロッパSD、ベークユニット
BU、エッジ露光部EEW等の処理装置に対するアクセ
ス、基板受け渡し台25に対する基板Wの載置および取
り出し、処理ユニット2内の各処理装置の間での基板W
の搬送等を行う。
【0113】例えば、基板受け渡し台25に基板Wを載
置する場合には、まず、基板Wを支持するハンド23b
をX軸方向およびZ軸方向に適宜移動させるとともにZ
軸周りに回転させることにより、ハンド23bを基板受
け渡し台25の上方に伸縮できるようにする。次に、ハ
ンド23bを基板受け渡し台25の方向に伸長させ、支
持している基板Wを基板受け渡し台25の基板支持ピン
25aの若干上方に位置させる。そして、ハンド23b
をZ軸方向に下降させ、基板Wを基板支持ピン25a上
に載置し、さらに若干下降させた位置でハンド23bを
退出させる。基板受け渡し台25に載置された基板Wの
取り出しは、上記と逆の動作でハンド23bが基板受け
渡し台25に載置された基板Wを下方から持ち上げるよ
うにして行う。
【0114】IFユニット3は、図7および図8に示す
ように、基板搬送ロボット31、バッファ部32、基板
搬送ロボット33、基板搬入装置134および基板搬出
装置135を一体的にユニット化することにより構成さ
れている。基板搬入装置134および基板搬出装置13
5は、上下方向に積層されている。また、本実施例にお
いても、IFユニット3内に、第1および第2のカセッ
ト36a,36bをそれぞれセットしておくための2個
のテーブル台37a,37bも設けられている。
【0115】基板搬送ロボット31は、処理ユニット2
内の基板受け渡し台25に対する基板Wの載置および取
り出し、ならびにバッファ部32の任意の収納棚32a
に対する基板Wの収納および取り出しを行う。この基板
搬送ロボット31は、図8に示すように、Z軸方向駆動
部31a、連結部材31b、回転駆動部31c、伸縮駆
動部31dおよび基板支持部31eにより構成される。
【0116】Z軸方向駆動部31aはIFユニット3の
下面に固定されている。このZ軸方向駆動部31aに
は、ねじ軸31aaがZ軸周りに回動自在に内設され、
ねじ軸31aaに平行にガイド軸(図示せず)が内設さ
れ、ねじ軸31aaを正逆方向に回転させるモータ31
abも内設されている。
【0117】連結部材31bの基端部は、上記Z軸方向
駆動部31a内のねじ軸31aaに螺合され、ガイド軸
に摺動自在に嵌め込まれており、ねじ軸31aaを正逆
方向に回転させることにより連結部材31bをZ軸方向
に移動(鉛直方向に昇降移動)させることができる。ま
た、連結部材31bの先端部には回転駆動部31cが固
定されている。
【0118】回転駆動部31cには、上方に回転軸31
caがZ軸周りに回動自在に立設され、この回転軸31
caを正逆方向に回転させるモータ31cbが内設され
ている。
【0119】上記回転軸31caの先端部には、伸縮駆
動部31dが固定されている。この伸縮駆動部31dに
は、モータ31daで駆動されるタイミングベルト31
dbが内設されている。このタイミングベルト31db
の一部に基板支持部31eの基端部が連結されており、
タイミングベルト31dbを駆動することにより伸縮駆
動部31dに対して基板支持部31eを伸縮させること
ができる。
【0120】上記回転駆動部31cの回転軸31caを
正逆方向に回転させることにより、伸縮駆動部31dお
よび基板支持部31eをZ軸周りに回転させ、X−Y平
面(水平面)の任意の方向に基板支持部31eを伸縮さ
せることができる。
【0121】さらに、上記Z軸方向駆動部31aのねじ
軸31aaを正逆方向に回転させることにより、連結部
材31b、回転駆動部31cおよび伸縮駆動部31dを
介して基板支持部31eを伸縮させるZ軸方向の高さを
調節することが可能となる。
【0122】なお、図8中の符号2aは、処理ユニット
2とIFユニット3との間で基板Wを受け渡すときに基
板Wを支持した基板搬送ロボット31が通過するための
開口を示している。
【0123】また、基板支持部31eを処理ユニット2
内の基板受け渡し台25およびバッファ部32に対して
伸縮できるように、伸縮駆動部31dは基板受け渡し台
25のX軸方向の正面でかつバッファ部32のY軸方向
の正面に配置されている。さらに、伸縮駆動部31dが
Z軸方向に下降した状態でも伸縮駆動部31dがZ軸周
りに回転できるように、Z軸方向駆動部31aは、連結
部材31bを介して伸縮駆動部31dおよび回転駆動部
31cの下方からずれた位置に配置されている。
【0124】バッファ部32は、基板搬送ロボット31
と基板搬送ロボット33とに挟まれた位置に配置され、
IFユニット3の内側面に支持されている。バッファ部
32の構成は、図1、図2および図3に示したバッファ
32の構成と同様である。このバッファ部32では、各
収納棚32aが、基板搬送ロボット31および基板搬送
ロボット33に対向する面が開口されている。これによ
り、基板搬送ロボット31,33による基板Wの収納お
よび取り出しが行われる。
【0125】基板搬送ロボット33は、バッファ部32
の任意の収納棚32aに対する基板Wの収納および取り
出し、基板搬入装置134への基板Wの載置、基板搬出
装置135からの基板Wの取り出し、ならびにカセット
36a,36bに対する基板Wの収納および取り出しを
行う。この基板搬送ロボット33の構成は、図1および
図2に示した基板搬送ロボット33の構成と同様であ
る。
【0126】基板搬入装置134は、露光前の基板Wを
露光ユニット40の基板受け渡し部40aに搬入し、基
板搬出装置135は、露光ユニット40で露光処理が終
了した露光済みの基板Wを露光ユニット4の基板受け渡
し部40bからIFユニット3内に取り込む。
【0127】露光ユニット40の基板受け渡し部40
a,40bは上下方向に積層されている。本実施例で
は、露光ユニット40への基板Wの搬入時における露光
ユニット40内の基板受け渡し部40aが上部に配置さ
れ、露光ユニット40からの基板の搬出時における基板
受け渡し部40bが下部に配置されているものとする。
【0128】図9は基板搬入装置134の斜視図、図1
0は基板搬入装置134の平面図である。また、図11
は図9および図10の基板搬入装置134の動力伝達機
構の斜視図である。
【0129】図9および図10に示すように、基板搬入
装置134は、第1のアーム(搬送アーム)41、第2
のアーム42、第3のアーム43、回動手段(電動モー
タ)44、アーム台45、および動力伝達機構46(図
11)を備える。
【0130】第1のアーム41には基板Wが載置され
る。第2のアーム42は、第1のアーム41を水平面内
で回動自在に支持する。第3のアーム43は、第2のア
ーム42を水平面内で回動自在に支持する。回動手段4
4は、第3のアーム43を水平面内で回動させる。アー
ム台45は、第3のアーム43を上方に支持する。図1
1の動力伝達機構46は、回動手段44により第3のア
ーム43を回動させたときに第2のアーム42および第
1のアーム41に動力を伝達し、第2のアーム42およ
び第1のアーム41の姿勢および移動方向を制御する。
【0131】アーム台45は、昇降シリンダ(図示せ
ず)により支持プレート87に対して昇降自在に取り付
けられている。また、支持プレート87の処理ユニット
2側の位置に、2本の位置決めガイドピン88がガイド
移動用シリンダ89により第1のアーム41と同じ進退
方向に移動可能に設けられている。
【0132】支持プレート87は、固定ねじ76により
1対のY軸レール73に固定されている。Y軸レール7
3は、4本のZ軸レール81に固定され、1対のY軸レ
ール73およびZ軸レール81は支持部材85により互
いに連結されている。
【0133】第1のアーム41は、平行に配置された短
冊状の2個の載置片51とこれらの載置片51の基端部
どうしを連結する1個の短冊状の連結部52とにより逆
コ字形に形成されている。各載置片51の基端部および
先端部には、基板Wに当接して位置ずれを防止するため
のストッパ54がピン等により固着されている。また、
連結部52の一部には、後方から位置決めガイドピン8
8が嵌合して第1のアーム41上での基板Wの位置決め
を行うための位置決め用切欠き54aが形成されてい
る。さらに、連結部52の中央部には、第1の回転軸5
5が下方に垂直に固定されている。
【0134】図11に示すように、第2のアーム42の
先端部には、第1の回転軸55を回動自在に軸受けする
第1の軸受け孔56が設けられている。また、第2のア
ーム42の基端部には、第2の回動軸57が下方に垂直
に固定されている。
【0135】第3のアーム43は、第2のアーム42と
同じ長さに設定されており、その先端部には、第2の回
動軸57を回動自在に軸受けする第2の軸受け孔58が
設けられている。また、第3のアーム43の基端部に
は、回動手段44の回動力を伝達する第3の回動軸59
が下方に垂直に固定されている。
【0136】第1の回転軸55と第2の回転軸57との
間の距離と、第2の回転軸57と第3の回転軸59との
間の距離とは同じに設定されている。
【0137】図11に示す動力伝達機構46は、前述し
た回動手段44の第3の回動軸59と、第1の回動軸5
5の下端に固定された第1のプーリ61と、第3のアー
ム43の第2の軸受け孔58の上面側に固定された第2
のプーリ62と、第1のプーリ61および第2のプーリ
62の間に架け渡された第1のベルト63と、第3のア
ーム43の第2の軸受け孔58の下面側に固定された第
3のプーリ64と、アーム台45に対して固定されて第
3の回動軸59を遊嵌する第4のプーリ65と、第3の
プーリ64および第4のプーリ65の間に架け渡された
第2のベルト66とを備える。第2のプーリ62および
第3のプーリ64の径は、それぞれ第1のプーリ61お
よび第4のプーリ65の1/2倍に設定されている。な
お、回動手段44の回動角度の制御は、図示しない制御
装置により行われる。
【0138】上記の構成では、回動手段44が第3の回
動軸59を通じて第3のアーム43を図11のAωの方
向(左周り)に回動させると、第2の軸受け孔58で軸
受けされた第2の回動軸57は、第2のベルト66およ
び第3のプーリ64を通じて第3の回動軸59の2倍の
速度で図11のBωの方向(右周り)に回動する。これ
により、第2のアーム42の先端部に軸受けされた第1
の回動軸55および第1のアーム41は、図11のx1
の方向(X軸方向)に直進する。
【0139】この際、第1のプーリ61が第2のプーリ
62および第1のベルト63を通じて回動下向制御され
ている。
【0140】ここで、第1のプーリ61の径は第2のプ
ーリ62の径の2倍であるため、かりに第2のアーム4
2を基準とすると、第2のプーリ62の1/2倍の回動
速度で左周りに回動することになるが、第2のアーム4
2自体が回動しており、また第4のプーリ65がアーム
台45に対して不動であるため、第1のプーリ61は、
アーム台45に対して回動することなく、図11のx1
の方向(X軸方向)に直進することになる。したがっ
て、第1のアーム41は、アーム台45に対してx1の
方向(露光ユニット40に向かう方向)に向いた姿勢を
維持しながら前進することになる。
【0141】なお、回動手段44が方向Aωと逆の方向
に回動する場合は、各部の運動は上記とは逆の方向に向
かうため、第1のアーム41は露光ユニット44に対向
した姿勢を維持しながら方向x1とは逆の方向に後退す
る。
【0142】本実施例では、基板搬入装置134の下部
に基板搬出装置135が配置されている。基板搬出装置
135の構成も、基板搬入装置134の構成と同様であ
る。
【0143】本実施例では、処理ユニット2が処理部に
相当し、基板搬入装置134が第1の受け渡し部および
基板搬入手段に相当し、基板搬出装置135が第2の受
け渡し部および基板搬出手段に相当し、基板受け渡し台
25が処理部としての処理ユニット2との基板受け渡し
位置に相当し、基板搬送ロボット31,33が搬送手段
に相当する。
【0144】次に、図7の基板処理装置100bの動作
を説明する。まず、AGV5により搬入出テーブル11
へキャリアCが載置され、基板搬入出ロボット12によ
りキャリアCから処理前の基板Wが取り出され、その基
板Wが処理ユニット2内の基板搬送ロボット23に渡さ
れる。そして、基板搬送ロボット23により処理前の基
板WがスピンコータSC、ベークユニットBU、エッジ
露光部EEW等に順次搬送され、スピンコータSCによ
るレジスト塗布、ベークユニットBUによるベーク、エ
ッジ露光部EEWによるエッジ露光等の各種処理が行わ
れる。
【0145】処理後の基板Wは、基板搬送ロボット23
により基板受け渡し台25に載置される。そして、基板
受け渡し台25に載置された露光前の基板WがIFユニ
ット3の基板搬送ロボット31により取り出され、バッ
ファ部32の任意の収納棚32aに収納される。さら
に、収納棚32aに収納された露光前の基板Wが基板搬
送ロボット33により取り出され、基板搬入装置134
の第1のアーム41上に載置される。
【0146】基板搬入装置134により露光前の基板W
が露光ユニット40内に取り込まれ、基板受け渡し部4
0aに載置される。露光ユニット4内では、基板Wがア
ライメント機構に引き渡されて位置決め処理が行われ、
位置決めされた状態で露光機に渡され、所定の露光パタ
ーンが焼き付けられる。
【0147】露光処理が終了した露光済みの基板Wは、
露光ユニット40内の基板受け渡し部40bに載置され
る。その後、IFユニット3の基板搬出装置135によ
り露光ユニット40内の基板受け渡し部40bから露光
済みの基板Wが取り出され、IFユニット3内に取り込
まれる。そして、IFユニット3の基板搬送ロボット3
3により基板搬出装置135から露光済みの基板Wが取
り出され、バッファ部32の任意の収納棚32aに収納
される。
【0148】さらに、収納棚32aに収納された露光済
みの基板Wが基板搬送ロボット31により取り出され、
基板受け渡し台25に載置される。その後、基板受け渡
し台25に載置された基板Wが、処理ユニット2内の基
板搬送ロボット23によりベークユニットBU、スピン
ディベロッパSD等に順次搬送され、ベークユニットB
Uによるベーク、スピンディベロッパSDによる現像等
の各種処理が行われる。処理後の基板Wは、基板搬送ロ
ボット23によりインデクサ1の基板搬入出ロボット1
2に渡され、基板搬入出ロボット12により搬入出テー
ブル11上のキャリアCに収納される。
【0149】本実施例の基板処理装置100bにおいて
は、IFユニット3の基板搬入装置134および基板搬
出装置135が上下方向に積層されているので、露光ユ
ニット40との基板Wの受け渡しのために必要なスペー
スが小さくなり、IFユニット3のフットプリントが低
減される。本実施例の場合、基板処理装置100bと露
光ユニット40との間に余剰のスペースSが生じる。こ
の余剰スペースSを利用してIFユニット3および露光
ユニット40の保守を行うことができる。あるいは、こ
の余剰スペースSに他の処理装置等を設置することも可
能となる。
【0150】(5)第5の実施例 次に、本発明の第5の実施例における基板処理装置を説
明する。第5の実施例の基板処理装置では、第4の実施
例の基板処理装置100bの基板搬入装置134および
基板搬出装置135の代わりに図12に示す基板搬入出
装置150が用いられる。
【0151】図5に示すように、基板搬入出装置150
は、昇降装置160によりZ軸方向に移動可能となって
いる。基板搬入出装置150の構成は、図9〜図11に
示した基板搬入装置134の構成と同様である。本実施
例の基板処理装置の他の部分の構成は、第4の実施例の
基板処理装置の構成と同様である。
【0152】本実施例では、基板搬入出装置150が共
通の受け渡し部および基板搬入出手段に相当し、昇降装
置160が昇降手段に相当する。
【0153】露光前の基板Wを露光ユニット40に搬入
する際には、IFユニット3内の基板搬送ロボット33
により基板搬入出装置150の第1のアーム41上に露
光前の基板Wが載置される。そして、昇降装置160に
より基板搬入出装置150が露光ユニット40内の基板
受け渡し部40aの位置まで昇降される。その後、露光
前の基板Wが基板搬入出装置150により露光ユニット
40内に取り込まれ、基板受け渡し部40a上に載置さ
れる。
【0154】露光済みの基板Wを露光ユニット40から
搬出する際には、昇降装置160により基板搬入出装置
150が露光ユニット40内の基板受け渡し部40bの
位置まで昇降される。そして、基板搬入出装置150に
より基板受け渡し部40b上の基板Wが取り出され、I
Fユニット3内に取り込まれる。その後、IFユニット
3内の基板搬送ロボット33により基板搬入出装置15
0から露光済みの基板Wが取り出される。
【0155】本実施例の基板処理装置においては、露光
ユニット40への基板Wの搬入時および露光ユニット4
0からの基板Wの搬出時に共通に用いられる基板搬入出
装置150が昇降装置160により上下方向に昇降可能
に設けられているので、露光ユニット40との基板Wの
受け渡しのために必要なスペースが小さくなり、IFユ
ニット3のフットプリントが軽減される。
【0156】(6)第6の実施例 次に、本発明の第6の実施例における基板処理装置を説
明する。第6の実施例の基板処理装置では、第4の実施
例の基板処理装置100bの基板搬入装置134および
基板搬出装置135の代わりに図13に示す基板搬入出
装置152が用いられる。
【0157】図13に示すように、基板搬入出装置15
2は、支持台162により所定の高さに固定されてい
る。基板搬出入装置152の構成は、図9〜図11に示
した基板搬入装置134の構成と同様である。本実施例
の基板処理装置の他の部分の構成は、第4の実施例の基
板処理装置100bの構成と同様である。
【0158】本実施例では、基板搬入出装置152が共
通の受け渡し部および基板搬入出手段に相当する。
【0159】本実施例の基板処理装置は、基板Wの搬入
時および搬出時に兼用される露光ユニット40内の基板
受け渡し部がZ軸方向に移動可能に設けられている場合
に適用することができる。
【0160】露光前の基板Wを露光ユニット40に搬入
する際には、IFユニット3内の基板搬送ロボット33
により基板搬入出装置152の第1のアーム41上に露
光前の基板Wが載置される。そして、露光ユニット4内
の基板受け渡し部が基板搬入出装置152の位置まで昇
降する。その後、露光前の基板Wが基板搬入出装置15
2により露光ユニット40内に取り込まれ、基板受け渡
し部上に載置される。
【0161】露光済みの基板Wを露光ユニット40から
搬出する際には、露光ユニット40内の基板受け渡し部
が基板搬入出装置152の位置まで昇降する。そして、
基板搬入出装置152により基板受け渡し部上の露光済
みの基板Wが取り出され、IFユニット3内に取り込ま
れる。その後、IFユニット3内の基板搬送ロボット3
3により基板搬入出装置152から露光済みの基板Wが
取り出される。
【0162】本実施例の基板処理装置においては、露光
ユニット40への基板Wの搬入時および露光ユニット4
0からの基板Wの搬出時に共通に用いられる基板搬入出
装置152が設けられているので、露光ユニット40と
の基板Wとの受け渡しのために必要なスペースが小さく
なり、IFユニット3のフットプリントが低減される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における基板処理装置の
全体の構成を示す平面図である。
【図2】図1の基板処理装置を露光ユニット側から見た
正面図である。
【図3】図1の基板処理装置におけるバッファ部付近の
概略構成を示す斜視図である。
【図4】基板搬送ロボットによる基板搬入台への基板の
載置を説明するための図である。
【図5】本発明の第2の実施例における基板処理装置の
基板搬入出台を示す正面図である。
【図6】本発明の第3の実施例における基板処理装置の
基板搬入出台を示す正面図である。
【図7】本発明の第4の実施例における基板処理装置の
全体の構成を示す平面図である。
【図8】図7の基板処理装置を露光ユニット側から見た
正面図である。
【図9】図7の基板処理装置における基板搬入装置の斜
視図である。
【図10】図7の基板処理装置における基板搬入装置の
平面図である。
【図11】図9および図10の基板搬入装置の動力伝達
機構の斜視図である。
【図12】本発明の第5の実施例における基板処理装置
の基板搬入出装置の正面図である。
【図13】本発明の第6の実施例における基板処理装置
の基板搬入出装置の正面図である。
【図14】従来の基板処理装置の平面図である。
【図15】図14の基板処理装置におけるインタフェー
スユニットの正面図である。
【図16】図14の基板処理装置におけるインタフェー
スユニットの側面図である。
【符号の説明】
1 インデクサ 2 処理ユニット 3 インタフェースユニット 4,40 露光ユニット 4a,4b,40a,40b 基板受け渡し部 23,31,33 基板搬送ロボット 34 基板搬入台 35 基板搬出台 130,132 基板搬入出台 134 基板搬入装置 135 基板搬出装置 140,160 昇降装置 142,162 支持台 150,152 基板搬入出装置 W 基板

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板に所定の処理を行う処理部と、 外部装置に基板を渡すための第1の受け渡し部と、 前記外部装置から基板を受け取るための第2の受け渡し
    部と、 前記処理部との基板受け渡し位置と前記第1および第2
    の受け渡し部との間で基板を搬送する搬送手段とを備
    え、 前記第1の受け渡し部および前記第2の受け渡し部が上
    下方向に積層されたことを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の受け渡し部は、前記外部装置
    に搬入される基板が載置される第1の基板載置部であ
    り、 前記第2の受け渡し部は、前記外部装置から搬出された
    基板が載置される第2の基板載置部であることを特徴と
    する請求項1記載の基板処理装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の受け渡し部は、前記外部装置
    内に基板を搬入する基板搬入手段であり、 前記第2の受け渡し部は、前記外部装置内から基板を搬
    出する基板搬出手段であることを特徴とする請求項1記
    載の基板処理装置。
  4. 【請求項4】 基板に所定の処理を行う処理部と、 外部装置に基板を渡しかつ前記外部装置から基板を受け
    取るための共通の受け渡し部と、 前記共通の受け渡し部を上下に昇降させる昇降手段と、 前記処理部との基板受け渡し位置と前記共通の受け渡し
    部との間で基板を搬送する搬送手段とを備えたことを特
    徴とする基板処理装置。
  5. 【請求項5】 前記共通の受け渡し部は、前記外部装置
    に搬入される基板が載置されかつ前記外部装置から搬出
    された基板が載置される基板載置部であることを特徴と
    する請求項4記載の基板処理装置。
  6. 【請求項6】 前記共通の受け渡し部は、前記外部装置
    内に基板を搬入しかつ前記外部装置内から基板を搬出す
    る基板搬入出手段であることを特徴とする請求項4記載
    の基板処理装置。
  7. 【請求項7】 基板に所定の処理を行う処理部と、 外部装置に基板を渡しかつ前記外部装置から基板を受け
    取るための共通の受け渡し部と、 前記処理部との基板受け渡し位置と前記共通の受け渡し
    部との間で基板を搬送する搬送手段とを備えたことを特
    徴とする基板処理装置。
  8. 【請求項8】 前記共通の受け渡し部は、前記外部装置
    に搬入される基板が載置されかつ前記外部装置から搬出
    された基板が載置される基板載置部であることを特徴と
    する請求項7記載の基板処理装置。
  9. 【請求項9】 前記共通の受け渡し部は、前記外部装置
    内に基板を搬入しかつ前記外部装置内から基板を搬出す
    る基板搬入出手段であることを特徴とする請求項7記載
    の基板処理装置。
  10. 【請求項10】 基板に所定の処理を行う処理部と所定
    の外部装置との間で基板の受け渡しを行う中間受け渡し
    装置であって、 前記外部装置に基板を渡すための第1の受け渡し部と、 前記外部装置から基板を受け取るための第2の受け渡し
    部と、 前記処理部との基板受け渡し位置と前記第1および第2
    の受け渡し部との間で基板を搬送する搬送手段とを備
    え、 前記第1の受け渡し部および第2の受け渡し部が上下方
    向に積層されたことを特徴とする中間受け渡し装置。
  11. 【請求項11】 基板に所定の処理を行う処理部と所定
    の外部装置との間で基板の受け渡しを行う中間受け渡し
    装置であって、 前記外部装置に基板を渡しかつ前記外部装置から基板を
    受け取るための共通の受け渡し部と、 前記共通の受け渡し部を上下に昇降させる昇降手段と、 前記処理部との基板受け渡し位置と前記共通の受け渡し
    部との間で基板を搬送する搬送手段とを備えたことを特
    徴とする中間受け渡し装置。
  12. 【請求項12】 基板に所定の処理を行う処理部と所定
    の外部装置との間で基板の受け渡しを行う中間受け渡し
    装置であって、 前記外部装置に基板を渡しかつ前記外部装置から基板を
    受け取るための共通の受け渡し部と、 前記処理部との基板受け渡し位置と前記共通の受け渡し
    部との間で基板を搬送する搬送手段とを備えたことを特
    徴とする中間受け渡し装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009044172A (ja) * 2004-06-21 2009-02-26 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JP2009154983A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Asyst Technologies Japan Inc 保管庫及び入出庫方法
JP2010511294A (ja) * 2006-11-27 2010-04-08 テック・セム アーゲー オーバーヘッド型搬送システム用搬送装置

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