JPH11132752A - ３次元形状測定装置 - Google Patents
３次元形状測定装置Info
- Publication number
- JPH11132752A JPH11132752A JP31633897A JP31633897A JPH11132752A JP H11132752 A JPH11132752 A JP H11132752A JP 31633897 A JP31633897 A JP 31633897A JP 31633897 A JP31633897 A JP 31633897A JP H11132752 A JPH11132752 A JP H11132752A
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- optical head
- stage
- optical
- axis
- dimensional shape
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定物の３次元形状を面形状が大きく傾斜し
ても高精度に測定することができる３次元形状測定装置
を得ること。 【解決手段】 測定物の回転対称軸と一致したθ回転ス
テージと、該回転対称軸に直交して該測定物の半径方向
に光学ヘッドと該測定物とを相対移動するＲ移動ステー
ジと、該光学ヘッドと該測定物とを回転対称軸方向に相
対移動するＺ移動ステージの３軸方向の可動ステージを
有し、該光学ヘッドからの光プローブで該測定物の表面
を走査しており、該光学ヘッドを少なくとも対物部にお
いてその光軸が前記回転対称軸に対して該光学ヘッド内
の対物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜する様配置
して３次元形状情報を得ていること。
ても高精度に測定することができる３次元形状測定装置
を得ること。 【解決手段】 測定物の回転対称軸と一致したθ回転ス
テージと、該回転対称軸に直交して該測定物の半径方向
に光学ヘッドと該測定物とを相対移動するＲ移動ステー
ジと、該光学ヘッドと該測定物とを回転対称軸方向に相
対移動するＺ移動ステージの３軸方向の可動ステージを
有し、該光学ヘッドからの光プローブで該測定物の表面
を走査しており、該光学ヘッドを少なくとも対物部にお
いてその光軸が前記回転対称軸に対して該光学ヘッド内
の対物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜する様配置
して３次元形状情報を得ていること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３次元形状測定装
置に関し、例えば、カメラ、ビデオ、半導体素子製造装
置などに用いられる比較的大口径のレンズ、ミラー、金
型などの滑らかに連続した面形状のうち通常の干渉計で
は測定困難な、非球面形状を高精度に計測するのに好適
なものである。
置に関し、例えば、カメラ、ビデオ、半導体素子製造装
置などに用いられる比較的大口径のレンズ、ミラー、金
型などの滑らかに連続した面形状のうち通常の干渉計で
は測定困難な、非球面形状を高精度に計測するのに好適
なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、非球面形状を３次元的に測定
する３次元形状測定装置が種々と提案されている。図５
は特公平２−１１０８４号公報で提案されている３次元
形状測定装置の要部概略図、図６は図５の一部分の説明
図である。
する３次元形状測定装置が種々と提案されている。図５
は特公平２−１１０８４号公報で提案されている３次元
形状測定装置の要部概略図、図６は図５の一部分の説明
図である。
【０００３】図５において光源であるところのゼーマン
レーザー６０１から射出された偏光方位が直交するわず
かに周波数の異なる２つの光をｆ１，ｆ２とすると、こ
れらの光はビームスプリッタ６０３にて一部が光検出器
６０４に導かれ、参照ビート信号が検出される。ビーム
スプリッタ６０３を通過した光は第１の偏光ビームスプ
リッタ６０５に入射し、一方の光ｆ２は上方に反射し、
レンズで集光されて固定ミラー６０７で反射してレン
ズ、偏光ビームスプリッタ６０５を介して光検出器６０
８に達する。
レーザー６０１から射出された偏光方位が直交するわず
かに周波数の異なる２つの光をｆ１，ｆ２とすると、こ
れらの光はビームスプリッタ６０３にて一部が光検出器
６０４に導かれ、参照ビート信号が検出される。ビーム
スプリッタ６０３を通過した光は第１の偏光ビームスプ
リッタ６０５に入射し、一方の光ｆ２は上方に反射し、
レンズで集光されて固定ミラー６０７で反射してレン
ズ、偏光ビームスプリッタ６０５を介して光検出器６０
８に達する。
【０００４】他方の光ｆ１は偏光ビームスプリッタ６０
５を直進してハーフミラーＨＭを介して対物レンズ６１
３を透して、ワーク（測定物）６０９の表面に入射し、
該表面で反射して元の光路を戻り、第１の偏光ビームス
プリッタ６０５にまで戻り、そこで反射して光検出器６
０８上に達し、前記光ｆ２と干渉して測定ビート信号が
検出される。
５を直進してハーフミラーＨＭを介して対物レンズ６１
３を透して、ワーク（測定物）６０９の表面に入射し、
該表面で反射して元の光路を戻り、第１の偏光ビームス
プリッタ６０５にまで戻り、そこで反射して光検出器６
０８上に達し、前記光ｆ２と干渉して測定ビート信号が
検出される。
【０００５】前記光検出器６０４で得られる参照ビート
信号と、光検出器６０８で得られる測定ビート信号の周
波数差δｆを積分すれば、光ｆ１と光ｆ２の光路長変化
が測定される。即ちワーク（非測定物）６０９の光軸方
向の変位（形状）が測定される。
信号と、光検出器６０８で得られる測定ビート信号の周
波数差δｆを積分すれば、光ｆ１と光ｆ２の光路長変化
が測定される。即ちワーク（非測定物）６０９の光軸方
向の変位（形状）が測定される。
【０００６】同図に示す面形状測定においては、ワーク
６０９の表面に対し常に光が集光状態で当たらなけれ
ば、前記測定ビート信号は検出できないため、同装置で
はワーク６０９からの反射光の一部をハーフミラーＨＭ
を介して光検出器６１１，６１２に導き、対物レンズ６
１３の光軸方向（Ｚ）位置と、光軸直交方向（Ｘ）位置
にサーボをかけて、常にワーク６０９の法線方向から光
を入射させ、かつワーク６０９の表面で集光状態を保つ
ように工夫されている。
６０９の表面に対し常に光が集光状態で当たらなけれ
ば、前記測定ビート信号は検出できないため、同装置で
はワーク６０９からの反射光の一部をハーフミラーＨＭ
を介して光検出器６１１，６１２に導き、対物レンズ６
１３の光軸方向（Ｚ）位置と、光軸直交方向（Ｘ）位置
にサーボをかけて、常にワーク６０９の法線方向から光
を入射させ、かつワーク６０９の表面で集光状態を保つ
ように工夫されている。
【０００７】この状態において、ワーク６０９を駆動手
段６２３で、その回転対称軸まわりに回転（θ）させる
と共に、半径（Ｘ）方向にワーク６０９を移動させるこ
とにより、光の当たる位置を円筒座標系（Ｘ−θ―Ｚ
系）に於いて走査して、ワーク６０９の全面形状を測定
している。
段６２３で、その回転対称軸まわりに回転（θ）させる
と共に、半径（Ｘ）方向にワーク６０９を移動させるこ
とにより、光の当たる位置を円筒座標系（Ｘ−θ―Ｚ
系）に於いて走査して、ワーク６０９の全面形状を測定
している。
【０００８】さらに、図６のようにワーク回転軸６２４
をＸ，Ｙ面内で角度βだけ傾け、対物レンズ６１３の全
開角を用いて測定することで、大きな面傾斜を有するワ
ークの測定を可能としている。
をＸ，Ｙ面内で角度βだけ傾け、対物レンズ６１３の全
開角を用いて測定することで、大きな面傾斜を有するワ
ークの測定を可能としている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５に
示す測定装置においてはワーク回転ステージの回転誤
差、ワーク半径方向移動ステージの位置読み取り誤差な
どがワーク６０９の面形状測定誤差になるため、測定精
度限界が機械的な運動精度に支配されるという問題があ
った。
示す測定装置においてはワーク回転ステージの回転誤
差、ワーク半径方向移動ステージの位置読み取り誤差な
どがワーク６０９の面形状測定誤差になるため、測定精
度限界が機械的な運動精度に支配されるという問題があ
った。
【００１０】さらに、ワーク回転軸６２４を半径方向移
動軸に対して傾斜させることにより大傾斜角を測定する
実施例において、 (ア-1) 重力が斜めにかかるため、ワークの支持変形が大
きくなる (ア-2) 装置に占めるワークの空間が大きく装置サイズが
大きくなる (ア-3) 回転ステージの運動精度を測定、補正する系を付
加する場合、回転ステージが半径方向移動を伴うため、
外部基準からの測定が困難になる (ア-4) ワークの着脱を自動化するのが困難 などの問題点があった。
動軸に対して傾斜させることにより大傾斜角を測定する
実施例において、 (ア-1) 重力が斜めにかかるため、ワークの支持変形が大
きくなる (ア-2) 装置に占めるワークの空間が大きく装置サイズが
大きくなる (ア-3) 回転ステージの運動精度を測定、補正する系を付
加する場合、回転ステージが半径方向移動を伴うため、
外部基準からの測定が困難になる (ア-4) ワークの着脱を自動化するのが困難 などの問題点があった。
【００１１】本発明は、θ回転ステージ軸、Ｒ移動ステ
ージ軸、そしてＺ移動ステージ軸の３軸の可動軸を含む
Ｒ−θ−Ｚステージに装着光学ヘッドからの光プローブ
で測定物の面をＲ−θ−Ｚ座標系において光走査測定す
るとき、光プローブの光軸をＲ−Ｚ平面内において、そ
の対物レンズの半開角よりも小さい角度で傾斜させて取
り付けることにより、大傾斜面の測定物の３次元形状を
高精度に求めることができる３次元形状測定装置の提供
を目的とする。
ージ軸、そしてＺ移動ステージ軸の３軸の可動軸を含む
Ｒ−θ−Ｚステージに装着光学ヘッドからの光プローブ
で測定物の面をＲ−θ−Ｚ座標系において光走査測定す
るとき、光プローブの光軸をＲ−Ｚ平面内において、そ
の対物レンズの半開角よりも小さい角度で傾斜させて取
り付けることにより、大傾斜面の測定物の３次元形状を
高精度に求めることができる３次元形状測定装置の提供
を目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の３次元形状測定
装置は、 (1-1) 光学ヘッドからの光プローブを回転対称な形状を
有する測定物に照射し、該測定物からの反射光を検出し
て該測定物の３次元形状情報を得る３次元形状測定装置
において、該測定物の回転対称軸と一致したθ回転ステ
ージと、該回転対称軸に直交して該測定物の半径方向に
該光学ヘッドと該測定物とを相対移動するＲ移動ステー
ジと、該光学ヘッドと該測定物とを回転対称軸方向に相
対移動するＺ移動ステージの３軸方向の可動ステージを
有し、該３軸方向の可動ステージによりＲ−θ−Ｚの円
筒座標系において該光学ヘッドからの光プローブで該測
定物の表面を走査しており、該光学ヘッドを少なくとも
対物部においてその光軸が前記回転対称軸に対して該光
学ヘッド内の対物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜
する様配置していることを特徴としている。
装置は、 (1-1) 光学ヘッドからの光プローブを回転対称な形状を
有する測定物に照射し、該測定物からの反射光を検出し
て該測定物の３次元形状情報を得る３次元形状測定装置
において、該測定物の回転対称軸と一致したθ回転ステ
ージと、該回転対称軸に直交して該測定物の半径方向に
該光学ヘッドと該測定物とを相対移動するＲ移動ステー
ジと、該光学ヘッドと該測定物とを回転対称軸方向に相
対移動するＺ移動ステージの３軸方向の可動ステージを
有し、該３軸方向の可動ステージによりＲ−θ−Ｚの円
筒座標系において該光学ヘッドからの光プローブで該測
定物の表面を走査しており、該光学ヘッドを少なくとも
対物部においてその光軸が前記回転対称軸に対して該光
学ヘッド内の対物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜
する様配置していることを特徴としている。
【００１３】特に、 (1-1-1) 前記Ｒ−θ−Ｚステージの変位情報を外部基準
から計測し、補正する計測補正手段を有していること。
から計測し、補正する計測補正手段を有していること。
【００１４】(1-1-2) 前記光学ヘッド内の対物レンズ光
軸は前記Ｚ移動ステージ軸に対して傾斜していること。
軸は前記Ｚ移動ステージ軸に対して傾斜していること。
【００１５】(1-1-3) 前記光学ヘッド光軸は前記Ｚ移動
ステージ軸に対して傾斜していること。等を特徴として
いる。
ステージ軸に対して傾斜していること。等を特徴として
いる。
【００１６】(1-2) 光学ヘッドからの光プローブを測定
物に照射し、該測定物からの反射光を検出して該測定物
の３次元形状情報を得る３次元形状測定装置において、
前記測定物を前記光プローブに対して相対回転させるθ
回転ステージと、該θ回転ステージの相対回転の径方向
に前記光学ヘッドと前記測定物とを相対移動するＲ移動
ステージと、前記光学ヘッドと前記測定物とを前記θ回
転ステージの相対回転軸方向に相対移動するＺ位相ステ
ージの３軸方向の可動ステージを有し、該３軸方向の可
動ステージによりＲ−θ−Ｚの円筒座標径において該光
学ヘッドからの光プローブで該測定物の表面を走査して
おり、該光学ヘッドをその光軸が前記相対回転軸に対し
て前記光学ヘッド内の対物レンズの半開角よりも小さい
角度傾斜するよう配置していることを特徴としている。
物に照射し、該測定物からの反射光を検出して該測定物
の３次元形状情報を得る３次元形状測定装置において、
前記測定物を前記光プローブに対して相対回転させるθ
回転ステージと、該θ回転ステージの相対回転の径方向
に前記光学ヘッドと前記測定物とを相対移動するＲ移動
ステージと、前記光学ヘッドと前記測定物とを前記θ回
転ステージの相対回転軸方向に相対移動するＺ位相ステ
ージの３軸方向の可動ステージを有し、該３軸方向の可
動ステージによりＲ−θ−Ｚの円筒座標径において該光
学ヘッドからの光プローブで該測定物の表面を走査して
おり、該光学ヘッドをその光軸が前記相対回転軸に対し
て前記光学ヘッド内の対物レンズの半開角よりも小さい
角度傾斜するよう配置していることを特徴としている。
【００１７】(1-3) 測定物に光を照射し、該測定物から
の反射光を検出して該測定物の形状情報を得るための光
学ヘッドと、該光学ヘッドと前記測定物とを相対回転さ
せると共に該相対回転の径方向及び回転軸方向に夫々前
記光学ヘッドと前記測定物とを相対変位させるためのス
テージ系とを有し、該ステージ系による相対回転及び相
対移動によって前記測定物を光学ヘッドで光走査する構
成とすると共に、前記光学ヘッドを少なくとも対物部に
おいてその光軸が前記回転軸に対して前記光学ヘッド内
の対物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜するよう配
置していることを特徴としている。
の反射光を検出して該測定物の形状情報を得るための光
学ヘッドと、該光学ヘッドと前記測定物とを相対回転さ
せると共に該相対回転の径方向及び回転軸方向に夫々前
記光学ヘッドと前記測定物とを相対変位させるためのス
テージ系とを有し、該ステージ系による相対回転及び相
対移動によって前記測定物を光学ヘッドで光走査する構
成とすると共に、前記光学ヘッドを少なくとも対物部に
おいてその光軸が前記回転軸に対して前記光学ヘッド内
の対物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜するよう配
置していることを特徴としている。
【００１８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の要部
概略図である。図２は図１の測定光学ヘッド（光学ヘッ
ド）と、その周辺部の要部概略図である。図３は図２の
一部分の拡大説明図である。まず図１を用いて本発明の
装置全体の機械的構成について説明する。
概略図である。図２は図１の測定光学ヘッド（光学ヘッ
ド）と、その周辺部の要部概略図である。図３は図２の
一部分の拡大説明図である。まず図１を用いて本発明の
装置全体の機械的構成について説明する。
【００１９】同図において、１は光源でレーザーより成
っている。２はＡＯＭ周波数シフター、３は偏波面保存
光ファイバー、７は測定光学ヘッドで図２に示す構成よ
り成っている。８は被測定ワーク（測定物）、１０１は
ベース定盤、１０２はコラム、１０３はＲ移動ステー
ジ、１０４はＺ移動ステージ（Ｚステージ）、１０５は
リングミラー、１０６はθ回転ステージ（θ移動ステー
ジ）、１０７ａ，１０７ｂはボールねじ、１０８ａ，１
０８ｂはＲ，Ｚステージ駆動モーター、１０８ｃはθ回
転ステージ駆動モーター、１０９は計測基準フレーム、
２０１はレーザー測長器ヘッド、２０２ａ〜２０２ｇは
レーザー測長用の干渉計、２０３はレーザー測長器用の
光ファイバー、２０４，２０５は位置測定用の基準平面
ミラー、２０６ａ，２０６ｂは集光用レンズ、２０７は
θ回転位置測定用のエンコーダである。
っている。２はＡＯＭ周波数シフター、３は偏波面保存
光ファイバー、７は測定光学ヘッドで図２に示す構成よ
り成っている。８は被測定ワーク（測定物）、１０１は
ベース定盤、１０２はコラム、１０３はＲ移動ステー
ジ、１０４はＺ移動ステージ（Ｚステージ）、１０５は
リングミラー、１０６はθ回転ステージ（θ移動ステー
ジ）、１０７ａ，１０７ｂはボールねじ、１０８ａ，１
０８ｂはＲ，Ｚステージ駆動モーター、１０８ｃはθ回
転ステージ駆動モーター、１０９は計測基準フレーム、
２０１はレーザー測長器ヘッド、２０２ａ〜２０２ｇは
レーザー測長用の干渉計、２０３はレーザー測長器用の
光ファイバー、２０４，２０５は位置測定用の基準平面
ミラー、２０６ａ，２０６ｂは集光用レンズ、２０７は
θ回転位置測定用のエンコーダである。
【００２０】測定器上にＲ−θ−Ｚの円筒座標系を想定
したとき、測定光学ヘッド７はＲ移動ステージ１０３上
に配置されたＺ移動ステージ１０４上に配置されてお
り、測定光軸がＺ軸に一致している。被測定ワーク８は
リングミラー１０５と共に、θ回転ステージ１０６上に
載置されている。
したとき、測定光学ヘッド７はＲ移動ステージ１０３上
に配置されたＺ移動ステージ１０４上に配置されてお
り、測定光軸がＺ軸に一致している。被測定ワーク８は
リングミラー１０５と共に、θ回転ステージ１０６上に
載置されている。
【００２１】このうちＲ移動ステージ１０３とＺ移動ス
テージ１０４の移動ステージの位置はレーザー測長器ヘ
ッド２０１から射出した光を、光ファイバー２０３に
て、レーザー測長器用の干渉計（測長器）２０２ａ，
ｂ，ｃ等に導くことにより、それぞれ位置測定用のＲ基
準ミラー２０４，Ｚ基準ミラー２０５との相対位置が精
密に測定される。
テージ１０４の移動ステージの位置はレーザー測長器ヘ
ッド２０１から射出した光を、光ファイバー２０３に
て、レーザー測長器用の干渉計（測長器）２０２ａ，
ｂ，ｃ等に導くことにより、それぞれ位置測定用のＲ基
準ミラー２０４，Ｚ基準ミラー２０５との相対位置が精
密に測定される。
【００２２】この位置測定用の基準ミラー２０４，２０
５は計測基準フレーム１０９上に載置されている。この
計測基準フレーム１０９は低熱膨張で十分な剛性を持っ
た門型をしており、一方の端をベース定盤１０１に固定
し、他端を水平方向に自由、垂直方向に拘束して取り付
ける。従って、本体に移動ステージの荷重移動に伴う変
形や、熱膨張による変形があっても、計測基準フレーム
１０９に変形が及ばないようになっている。
５は計測基準フレーム１０９上に載置されている。この
計測基準フレーム１０９は低熱膨張で十分な剛性を持っ
た門型をしており、一方の端をベース定盤１０１に固定
し、他端を水平方向に自由、垂直方向に拘束して取り付
ける。従って、本体に移動ステージの荷重移動に伴う変
形や、熱膨張による変形があっても、計測基準フレーム
１０９に変形が及ばないようになっている。
【００２３】θ回転ステージ１０６については、回転ス
テージ上に載置されたリングミラー１０５の上面をレー
ザ測長器２０２ｄ，２０２ｅにて監視し、リングミラー
１０５の外周面をレーザー測長器２０２ｆ，２０２ｇで
監視している。
テージ上に載置されたリングミラー１０５の上面をレー
ザ測長器２０２ｄ，２０２ｅにて監視し、リングミラー
１０５の外周面をレーザー測長器２０２ｆ，２０２ｇで
監視している。
【００２４】リングミラー１０５の外周面は円筒面であ
るから、レーザー光は集光レンズ（不図示）にて集光さ
れてリングミラー１０５の外周に当たるように調整され
ている。
るから、レーザー光は集光レンズ（不図示）にて集光さ
れてリングミラー１０５の外周に当たるように調整され
ている。
【００２５】これらの計測光は、θ回転ステージ軸とＲ
移動ステージ軸を含む面内に配置され、移動ステージの
姿勢誤差に伴う誤差が小さくなるようにしてある。また
同じ理由で、Ｚ軸測定用の測長器光は光プローブヘッド
の光軸と一致するように配置されている。また、これら
の移動ステージはボールねじ１０７ａ，ｂやステージ駆
動モーター１０８ａ，ｂの作用により、自在に移動可能
となっている。
移動ステージ軸を含む面内に配置され、移動ステージの
姿勢誤差に伴う誤差が小さくなるようにしてある。また
同じ理由で、Ｚ軸測定用の測長器光は光プローブヘッド
の光軸と一致するように配置されている。また、これら
の移動ステージはボールねじ１０７ａ，ｂやステージ駆
動モーター１０８ａ，ｂの作用により、自在に移動可能
となっている。
【００２６】本構成において、円筒座標系における測定
ワーク８の表面位置は、基本的にはエンコーダ（ロータ
リーエンコーダ）２０７により回転角θ、干渉計２０２
ａ，２０２ｂにて半径方向Ｒ、干渉計２０２ｃにてＺ方
向が計測され、補助的に干渉計２０２ｄ，２０２ｅによ
りθ回転ステージ１０６のスラスト誤差、干渉計２０２
ｆ，２０２ｇによりθ回転ステージ１０６のラジアル誤
差を補正する。これらのデータは、例えばエンコーダ２
０７の取込タイミングで全てのデータをラッチし、同時
刻のデータが取り込み可能となっている。
ワーク８の表面位置は、基本的にはエンコーダ（ロータ
リーエンコーダ）２０７により回転角θ、干渉計２０２
ａ，２０２ｂにて半径方向Ｒ、干渉計２０２ｃにてＺ方
向が計測され、補助的に干渉計２０２ｄ，２０２ｅによ
りθ回転ステージ１０６のスラスト誤差、干渉計２０２
ｆ，２０２ｇによりθ回転ステージ１０６のラジアル誤
差を補正する。これらのデータは、例えばエンコーダ２
０７の取込タイミングで全てのデータをラッチし、同時
刻のデータが取り込み可能となっている。
【００２７】従って、本構成により測定光学ヘッド７
と、被測定ワーク８の相対位置関係は、このＲ−θ−Ｚ
円筒座標系において任意に変化可能となっており、かつ
その位置関係が移動ステージの精度に関わりなく、精密
に測定可能となっている。
と、被測定ワーク８の相対位置関係は、このＲ−θ−Ｚ
円筒座標系において任意に変化可能となっており、かつ
その位置関係が移動ステージの精度に関わりなく、精密
に測定可能となっている。
【００２８】次に図２，図３を用いて図１の測定光学ヘ
ッド７と、その周辺部の構成と動作を説明する。
ッド７と、その周辺部の構成と動作を説明する。
【００２９】同図において、１は光源であるところのレ
ーザーヘッド、２は入射した光を僅かに周波数の異なる
２周波光に変換するＡＯＭ周波数シフター、３は偏波面
保存光ファイバー、４はＡＯＭドライバー、５は位相
計、６はサーボドライバー、７は測定光学ヘッド、８は
ワーク、９はエンコーダアンプ、１１はコンピュータ、
７０１はビームエキスパンダ、７０２は偏光ビームスプ
リッタ、７０３ａ，７０３ｂはλ／４板、７０４は参照
平面、７０５は対物レンズ、７０６は偏光板、７０７は
シリンドリカルレンズ等の変倍光学素子、７０８はアレ
イセンサ、７０９はマルチプレクサ、７１０はプリズ
ム、７１１は偏光板、７１２は参照信号である。
ーザーヘッド、２は入射した光を僅かに周波数の異なる
２周波光に変換するＡＯＭ周波数シフター、３は偏波面
保存光ファイバー、４はＡＯＭドライバー、５は位相
計、６はサーボドライバー、７は測定光学ヘッド、８は
ワーク、９はエンコーダアンプ、１１はコンピュータ、
７０１はビームエキスパンダ、７０２は偏光ビームスプ
リッタ、７０３ａ，７０３ｂはλ／４板、７０４は参照
平面、７０５は対物レンズ、７０６は偏光板、７０７は
シリンドリカルレンズ等の変倍光学素子、７０８はアレ
イセンサ、７０９はマルチプレクサ、７１０はプリズ
ム、７１１は偏光板、７１２は参照信号である。
【００３０】図２において光源１から射出したレーザー
光は、ＡＯＭシフター２の作用で偏光方位が直交する２
つの僅かに周波数が異なる光に変換され、偏波面保存光
ファイバー３の入射面３ａより入射し、ファイバー線を
伝送して測定光学ヘッド７へ導かれ、末端部（射出部）
３ｂより偏光方位を維持した状態で２周波光を射出す
る。光ファイバー３の射出部３ｂから射出された光は、
ハーフミラーＨＭによってその一部の光を参照信号とす
るために取り出し、偏光板７１１を通して干渉させ、ビ
ート信号を参照信号センサ（センサ）７１２で検出す
る。
光は、ＡＯＭシフター２の作用で偏光方位が直交する２
つの僅かに周波数が異なる光に変換され、偏波面保存光
ファイバー３の入射面３ａより入射し、ファイバー線を
伝送して測定光学ヘッド７へ導かれ、末端部（射出部）
３ｂより偏光方位を維持した状態で２周波光を射出す
る。光ファイバー３の射出部３ｂから射出された光は、
ハーフミラーＨＭによってその一部の光を参照信号とす
るために取り出し、偏光板７１１を通して干渉させ、ビ
ート信号を参照信号センサ（センサ）７１２で検出す
る。
【００３１】ハーフミラーＨＭを通過した残りの光はビ
ームエキスパンダ７０１でビーム径を拡大した状態で偏
光ビームスプリッタ７０２に入射し、２周波光のうち一
方の光は反射されてλ／４板７０３ａを介して参照平面
７０４側へ、もう一方の光は透過してワーク８側へ進
む。
ームエキスパンダ７０１でビーム径を拡大した状態で偏
光ビームスプリッタ７０２に入射し、２周波光のうち一
方の光は反射されてλ／４板７０３ａを介して参照平面
７０４側へ、もう一方の光は透過してワーク８側へ進
む。
【００３２】参照平面７０４側へ進んだ光はλ／４板７
０３ａで円偏光に変換されて参照平面７０４で正反射さ
れ、再びλ／４板７０３ａを通って直線偏光に変換され
て偏光ビームスプリッタ７０２に戻るが、偏光方位が９
０°回転しているために、今度は偏光ビームスプリッタ
７０２を透過して光検出器７０８側へ進む。
０３ａで円偏光に変換されて参照平面７０４で正反射さ
れ、再びλ／４板７０３ａを通って直線偏光に変換され
て偏光ビームスプリッタ７０２に戻るが、偏光方位が９
０°回転しているために、今度は偏光ビームスプリッタ
７０２を透過して光検出器７０８側へ進む。
【００３３】ワーク８側へ進んだ光は、プリズム７１０
で光軸を所定角度傾斜させ、参照側と同様にλ／４板７
０３ｂで円偏光に変換されて対物レンズ７０５で収斂光
となってワーク８表面で焦点を結び、所謂Cat's eye 反
射されて元の光路を戻り、順に対物レンズ７０５、λ／
４板７０３ｂ、プリズム７１０と戻り、直線偏光に変換
されて光ビームスプリッタ７０２に戻るが、偏光方位が
９０°回転しているために、今後は反射して光検出器７
０８側へ進む。
で光軸を所定角度傾斜させ、参照側と同様にλ／４板７
０３ｂで円偏光に変換されて対物レンズ７０５で収斂光
となってワーク８表面で焦点を結び、所謂Cat's eye 反
射されて元の光路を戻り、順に対物レンズ７０５、λ／
４板７０３ｂ、プリズム７１０と戻り、直線偏光に変換
されて光ビームスプリッタ７０２に戻るが、偏光方位が
９０°回転しているために、今後は反射して光検出器７
０８側へ進む。
【００３４】このとき、対物レンズ７０５はプリズム７
１０により傾斜した光軸とレンズ軸が一致するように傾
斜させて取付調整しておくものとし、この傾斜角は対物
レンズ７０５の半開角よりも小さい角度となるようにし
ておく。
１０により傾斜した光軸とレンズ軸が一致するように傾
斜させて取付調整しておくものとし、この傾斜角は対物
レンズ７０５の半開角よりも小さい角度となるようにし
ておく。
【００３５】参照平面７０４、ワーク８で反射させたそ
れぞれの光を偏光板７０６の作用で干渉させ、変倍光学
素子７０７を通して光束をアレイセンサ７０８上に楕円
状光束として入射させる。アレイセンサ７０８より２つ
の周波数の差に相当する周波数の所謂ビート信号が検出
される。
れぞれの光を偏光板７０６の作用で干渉させ、変倍光学
素子７０７を通して光束をアレイセンサ７０８上に楕円
状光束として入射させる。アレイセンサ７０８より２つ
の周波数の差に相当する周波数の所謂ビート信号が検出
される。
【００３６】アレイセンサ７０８の全面に測定光が戻っ
てくるのは、対物レンズ７０５の光軸とワーク８の面法
線が一致している場合であって、それ以外の場合、測定
光はアレイセンサ７０８の長手方向にずれて戻ってく
る。
てくるのは、対物レンズ７０５の光軸とワーク８の面法
線が一致している場合であって、それ以外の場合、測定
光はアレイセンサ７０８の長手方向にずれて戻ってく
る。
【００３７】従って、図３に示すように測定している場
所の面法線角度に応じたアレイセンサ７０８からの出力
を選択して、ワーク８の面傾斜が対物レンズ７０５の全
開角に入っているようにして、常に測定信号を得てい
る。
所の面法線角度に応じたアレイセンサ７０８からの出力
を選択して、ワーク８の面傾斜が対物レンズ７０５の全
開角に入っているようにして、常に測定信号を得てい
る。
【００３８】傾斜角は対物レンズ７０５の半開角よりも
小さい角度となるようになっているので、傾斜のない
点、即ちワーク８の頂点から最大傾斜の点までを対物レ
ンズ７０５の全開角を用いて測定することが可能とな
る。
小さい角度となるようになっているので、傾斜のない
点、即ちワーク８の頂点から最大傾斜の点までを対物レ
ンズ７０５の全開角を用いて測定することが可能とな
る。
【００３９】ワーク８の法線角度は設計値から明らかで
あるから、ヘッド７の位置の関数としてどのアレイセン
サ７０８を選択すべきかは事前に判明しており、コンピ
ュータ１１からの指示によりマルチプレクサ７０９のア
ドレッシングを行い、ワーク８の面法線角度に応じた測
定信号をただ１つ得ている。
あるから、ヘッド７の位置の関数としてどのアレイセン
サ７０８を選択すべきかは事前に判明しており、コンピ
ュータ１１からの指示によりマルチプレクサ７０９のア
ドレッシングを行い、ワーク８の面法線角度に応じた測
定信号をただ１つ得ている。
【００４０】このアレイセンサ７０８で得られる信号
（以下『測定ビート信号』）と先述のセンサ７１２で得
られる参照信号（以下『参照ビート信号』）との位相差
を位相計５で測定すれば、参照平面１０４側に向かった
光とワーク８側に向かった光路長差の変化がわかるか
ら、逆に位相が一定となるように測定光学ヘッド７を光
軸方向にサーボしておき、ワーク８と測定光学ヘッド７
の相対位置をワーク半径方向に変化させながら、その移
動量を別の直交座標測定計２０２ａ，２０２ｂ，２０２
ｃ等で読み取れば、ワーク８の表面の３次元形状が原理
的には測定される。
（以下『測定ビート信号』）と先述のセンサ７１２で得
られる参照信号（以下『参照ビート信号』）との位相差
を位相計５で測定すれば、参照平面１０４側に向かった
光とワーク８側に向かった光路長差の変化がわかるか
ら、逆に位相が一定となるように測定光学ヘッド７を光
軸方向にサーボしておき、ワーク８と測定光学ヘッド７
の相対位置をワーク半径方向に変化させながら、その移
動量を別の直交座標測定計２０２ａ，２０２ｂ，２０２
ｃ等で読み取れば、ワーク８の表面の３次元形状が原理
的には測定される。
【００４１】図１の構成で示したように、ワーク８と測
定光学ヘッド７の相対位置は、装置上の円筒座標系内で
任意に移動かつ測定可能であるから、Ｚステージ１０４
を測定光学ヘッド７からの信号によりサーボしながらＲ
移動ステージ１０３をワーク半径方向に移動してゆくと
共に、ワーク８を軸回りに回転させ、その回転角度θを
エンコーダ２０７で検出し、エンコーダアンプ９を介し
て読み取ってゆけばワーク８の３次元形状データが同心
円状又はスパイラル状に測定できる。
定光学ヘッド７の相対位置は、装置上の円筒座標系内で
任意に移動かつ測定可能であるから、Ｚステージ１０４
を測定光学ヘッド７からの信号によりサーボしながらＲ
移動ステージ１０３をワーク半径方向に移動してゆくと
共に、ワーク８を軸回りに回転させ、その回転角度θを
エンコーダ２０７で検出し、エンコーダアンプ９を介し
て読み取ってゆけばワーク８の３次元形状データが同心
円状又はスパイラル状に測定できる。
【００４２】この際、図１に示した補助計測系である干
渉計２０２ｄ，２０２ｅ，２０２ｆ，２０２ｇなどの測
定データを用いて適切な補正を行うことにより、回転ス
テージ１０６の運動エラーや測定中の熱膨張等の誤差を
排除することができる。
渉計２０２ｄ，２０２ｅ，２０２ｆ，２０２ｇなどの測
定データを用いて適切な補正を行うことにより、回転ス
テージ１０６の運動エラーや測定中の熱膨張等の誤差を
排除することができる。
【００４３】また、Ｚ方向のデータは干渉計２０２ｃに
よるヘッド７のＺ位置情報に位相計５の出力をもとにし
たサーボエラー分を加味することで、サーボエラーが直
接誤差要因とならなくなるため、より正確な測定が可能
である。
よるヘッド７のＺ位置情報に位相計５の出力をもとにし
たサーボエラー分を加味することで、サーボエラーが直
接誤差要因とならなくなるため、より正確な測定が可能
である。
【００４４】図１，２のように対物レンズ７０５を傾斜
させた場合、ワーク８が凸面の場合はワーク中心から右
半径方向に移動させれば良く、ワーク８が凹面の場合は
逆に左半径方向に移動させれば良い。
させた場合、ワーク８が凸面の場合はワーク中心から右
半径方向に移動させれば良く、ワーク８が凹面の場合は
逆に左半径方向に移動させれば良い。
【００４５】図４は本発明の実施形態２の要部概略図で
ある。本実施形態は図２に本実施形態１に比べてワーク
８のワーク軸に対するヘッド７の傾斜をヘッド７全体で
行う点が異なっているだけであり、その他の構成は基本
的に同じである。
ある。本実施形態は図２に本実施形態１に比べてワーク
８のワーク軸に対するヘッド７の傾斜をヘッド７全体で
行う点が異なっているだけであり、その他の構成は基本
的に同じである。
【００４６】同図のように傾斜をつけても、本発明の本
質であるワーク軸とワーク回転軸が一致しており、かつ
半径走査方向が直交している状態で光プローブの対物レ
ンズ７０５の光軸がワーク軸に対して傾斜を持つという
構成は維持されている。
質であるワーク軸とワーク回転軸が一致しており、かつ
半径走査方向が直交している状態で光プローブの対物レ
ンズ７０５の光軸がワーク軸に対して傾斜を持つという
構成は維持されている。
【００４７】また、本構成では実施形態１に比べて光軸
を傾斜させる為のプリズムが不要というメリットがあ
る。
を傾斜させる為のプリズムが不要というメリットがあ
る。
【００４８】
【発明の効果】本発明によれば以上のように、θ軸、Ｒ
軸、そしてＺ軸の３軸の相対可動軸を有するステージ系
を用いて光学ヘッドからの光プローブで測定物の面を光
走査測定するとき、光プローブの光軸を回転対称軸ない
し回転軸に対して、その対物レンズの半開角よりも小さ
い角度で傾斜させて取り付けることにより、大傾斜面の
測定物の３次元形状を高精度に求めることができる３次
元形状測定装置を達成することができる。
軸、そしてＺ軸の３軸の相対可動軸を有するステージ系
を用いて光学ヘッドからの光プローブで測定物の面を光
走査測定するとき、光プローブの光軸を回転対称軸ない
し回転軸に対して、その対物レンズの半開角よりも小さ
い角度で傾斜させて取り付けることにより、大傾斜面の
測定物の３次元形状を高精度に求めることができる３次
元形状測定装置を達成することができる。
【００４９】特に本発明によれば、例えば具体的に、光
プローブを用いてレンズ等の回転対称なワーク形状を測
定する場合において考えれば、ワーク回転対称軸と一致
した回転軸のワーク回転と、この回転軸に直交したワー
ク半径方向への光プローブヘッドとワークの相対移動
と、光プローブヘッドとワークのワーク軸方向への相対
移動の少なくとも３軸の回転・変位によりワーク表面を
Ｒ−θ−Ｚの円筒座標系において走査測定するように装
置を構成し、加えて光プローブヘッド光軸を回転対称軸
ないし回転軸に対してその対物レンズの半開角より小さ
い角度傾斜させて取り付けることにより、次のような効
果を得ている。
プローブを用いてレンズ等の回転対称なワーク形状を測
定する場合において考えれば、ワーク回転対称軸と一致
した回転軸のワーク回転と、この回転軸に直交したワー
ク半径方向への光プローブヘッドとワークの相対移動
と、光プローブヘッドとワークのワーク軸方向への相対
移動の少なくとも３軸の回転・変位によりワーク表面を
Ｒ−θ−Ｚの円筒座標系において走査測定するように装
置を構成し、加えて光プローブヘッド光軸を回転対称軸
ないし回転軸に対してその対物レンズの半開角より小さ
い角度傾斜させて取り付けることにより、次のような効
果を得ている。
【００５０】(イ-1) ワークが水平に載置できるため、大
きなワークを測定するのに有利であり、ワークの支持変
形を最小にした状態で、対物レンズの全開角を利用した
大傾斜面測定が可能となる。
きなワークを測定するのに有利であり、ワークの支持変
形を最小にした状態で、対物レンズの全開角を利用した
大傾斜面測定が可能となる。
【００５１】(イ-2) 装置に占めるワークの空間が小さく
できる。
できる。
【００５２】(イ-3) 外部基準から移動軸の運動誤差を補
正する場合、全ての軸が直交しているため補正の為の測
定が容易である。
正する場合、全ての軸が直交しているため補正の為の測
定が容易である。
【図１】本発明の実施形態１の要部概略図
【図２】本発明の実施形態１の光学ヘッド部分を表す詳
細図
細図
【図３】本発明の実施形態１の面傾斜に対する動作説明
図
図
【図４】本発明の実施形態２の光学ヘッド部分を表す詳
細図
細図
【図５】従来の３次元形状測定装置の概略図
【図６】図５の一部分の説明図
１ レーザーヘッド ２ ＡＯＭ周波数シフター ３ 偏波面保存光ファイバー ４ ＡＯＭドライバー ５ 位相計 ６ サーボドライバー ７ 測定光学ヘッド ８ ワーク １１ コンピュータ ７０１ 偏光ビームスプリッタ ７０３ａ，７０３ｂ λ／４板 ７０４ 参照平面板 ７０５ 対物レンズ ７０６，７１１ 偏光板 ７０７ 変倍光学系 ７０８ アレイセンサ ７０９ マルチプレクサ ８１ 球面基準ワーク １０１ ベース定盤 １０２ コラム １０３ Ｒ移動ステージ １０４ Ｚ移動ステージ １０６ θ移動ステージ １０７ａ，１０７ｂ ボールねじ １０８ａ，１０８ｂ，１０８ｃ モータ １０９ 計測基準フレーム ２０１ レーザー測長器ヘッド ２０２ａ〜ｇ レーザー測長器用干渉計 ２０３ レーザー測長器用光ファイバー ２０４，２０５ 位置測定基準ミラー ２０７ ロータリーエンコーダ
Claims (6)
- 【請求項１】 光学ヘッドからの光プローブを回転対称
な形状を有する測定物に照射し、該測定物からの反射光
を検出して該測定物の３次元形状情報を得る３次元形状
測定装置において、該測定物の回転対称軸と一致したθ
回転ステージと、該回転対称軸に直交して該測定物の半
径方向に該光学ヘッドと該測定物とを相対移動するＲ移
動ステージと、該光学ヘッドと該測定物とを回転対称軸
方向に相対移動するＺ移動ステージの３軸方向の可動ス
テージを有し、該３軸方向の可動ステージによりＲ−θ
−Ｚの円筒座標系において該光学ヘッドからの光プロー
ブで該測定物の表面を走査しており、該光学ヘッドを少
なくとも対物部においてその光軸が前記回転対称軸に対
して該光学ヘッド内の対物レンズの半開角よりも小さい
角度傾斜する様配置していることを特徴とする３次元形
状測定装置。 - 【請求項２】 前記Ｒ−θ−Ｚステージの変位情報を外
部基準から計測し、補正する計測補正手段を有している
ことを特徴とする請求項１の３次元形状測定装置。 - 【請求項３】 前記光学ヘッド内の対物レンズ光軸は前
記Ｚ移動ステージ軸に対して傾斜していることを特徴と
する請求項１の３次元形状測定装置。 - 【請求項４】 前記光学ヘッド光軸は前記Ｚ移動ステー
ジ軸に対して傾斜していることを特徴とする請求項１の
３次元形状測定装置。 - 【請求項５】 光学ヘッドからの光プローブを測定物に
照射し、該測定物からの反射光を検出して該測定物の３
次元形状情報を得る３次元形状測定装置において、前記
測定物を前記光プローブに対して相対回転させるθ回転
ステージと、該θ回転ステージの相対回転の径方向に前
記光学ヘッドと前記測定物とを相対移動するＲ移動ステ
ージと、前記光学ヘッドと前記測定物とを前記θ回転ス
テージの相対回転軸方向に相対移動するＺ位相ステージ
の３軸方向の可動ステージを有し、該３軸方向の可動ス
テージによりＲ−θ−Ｚの円筒座標径において該光学ヘ
ッドからの光プローブで該測定物の表面を走査してお
り、該光学ヘッドをその光軸が前記相対回転軸に対して
前記光学ヘッド内の対物レンズの半開角よりも小さい角
度傾斜するよう配置していることを特徴とする３次元形
状測定装置。 - 【請求項６】 測定物に光を照射し、該測定物からの反
射光を検出して該測定物の形状情報を得るための光学ヘ
ッドと、該光学ヘッドと前記測定物とを相対回転させる
と共に該相対回転の径方向及び回転軸方向に夫々前記光
学ヘッドと前記測定物とを相対変位させるためのステー
ジ系とを有し、該ステージ系による相対回転及び相対移
動によって前記測定物を光学ヘッドで光走査する構成と
すると共に、前記光学ヘッドを少なくとも対物部におい
てその光軸が前記回転軸に対して前記光学ヘッド内の対
物レンズの半開角よりも小さい角度傾斜するよう配置し
ていることを特徴とする３次元形状測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31633897A JP3501639B2 (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | ３次元形状測定装置 |
| US09/132,772 US6008901A (en) | 1997-08-22 | 1998-08-12 | Shape measuring heterodyne interferometer with multiplexed photodetector aaray or inclined probe head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31633897A JP3501639B2 (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | ３次元形状測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11132752A true JPH11132752A (ja) | 1999-05-21 |
| JP3501639B2 JP3501639B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=18076017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31633897A Expired - Fee Related JP3501639B2 (ja) | 1997-08-22 | 1997-10-31 | ３次元形状測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3501639B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004501368A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-01-15 | ヨー ウント エルンスト リンク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | サンプルのサイズを検出するための測定装置 |
| KR100454264B1 (ko) * | 2002-06-12 | 2004-10-26 | 한국과학기술원 | 광픽업 ＦＵ(ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｕｎｉｔ）용 2군렌즈의조립 및 평가 장치 및 그 방법 |
| JP2005103667A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Nachi Fujikoshi Corp | 自由曲面加工装置 |
| JP2013101161A (ja) * | 2013-03-06 | 2013-05-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 角度測定方法及び角度測定システム |
| US9134145B2 (en) | 2013-04-03 | 2015-09-15 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Angle measuring method and angle measuring system |
| US9354088B2 (en) | 2012-02-15 | 2016-05-31 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Rotation angle measurement device and rotation angle measurement method |
| WO2020153453A1 (ja) * | 2019-01-23 | 2020-07-30 | 日本製鉄株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
| CN111664828A (zh) * | 2020-07-13 | 2020-09-15 | 杭州屹升科技有限公司 | 一种基于网络立体成像平整度校准器 |
-
1997
- 1997-10-31 JP JP31633897A patent/JP3501639B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004501368A (ja) * | 2000-06-21 | 2004-01-15 | ヨー ウント エルンスト リンク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | サンプルのサイズを検出するための測定装置 |
| KR100454264B1 (ko) * | 2002-06-12 | 2004-10-26 | 한국과학기술원 | 광픽업 ＦＵ(ｆｏｃｕｓｉｎｇ ｕｎｉｔ）용 2군렌즈의조립 및 평가 장치 및 그 방법 |
| JP2005103667A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Nachi Fujikoshi Corp | 自由曲面加工装置 |
| US9778075B2 (en) | 2012-02-15 | 2017-10-03 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Rotation angle measurement device and rotation angle measurement method |
| US9354088B2 (en) | 2012-02-15 | 2016-05-31 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Rotation angle measurement device and rotation angle measurement method |
| JP2013101161A (ja) * | 2013-03-06 | 2013-05-23 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 角度測定方法及び角度測定システム |
| US9372099B2 (en) | 2013-04-03 | 2016-06-21 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Angle measuring method and angle measuring system |
| US9574908B2 (en) | 2013-04-03 | 2017-02-21 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Angle measuring method and angle measuring system |
| US9134145B2 (en) | 2013-04-03 | 2015-09-15 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd. | Angle measuring method and angle measuring system |
| WO2020153453A1 (ja) * | 2019-01-23 | 2020-07-30 | 日本製鉄株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
| US11635520B2 (en) | 2019-01-23 | 2023-04-25 | Nippon Steel Corporation | Measuring device and measuring method |
| JP6750767B1 (ja) * | 2019-04-03 | 2020-09-02 | 日本製鉄株式会社 | 測定装置及び測定方法 |
| CN111664828A (zh) * | 2020-07-13 | 2020-09-15 | 杭州屹升科技有限公司 | 一种基于网络立体成像平整度校准器 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3501639B2 (ja) | 2004-03-02 |
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