JPH1083948A - 回転式現像装置 - Google Patents
回転式現像装置Info
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- JPH1083948A JPH1083948A JP23766096A JP23766096A JPH1083948A JP H1083948 A JPH1083948 A JP H1083948A JP 23766096 A JP23766096 A JP 23766096A JP 23766096 A JP23766096 A JP 23766096A JP H1083948 A JPH1083948 A JP H1083948A
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- holding
- rotation
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の中心を回転中心と一致させた状態で基
板を回転させることができ、かつ基板の裏面を清浄に保
つことができる回転式現像装置を提供することである。 【解決手段】 回転ステージ２の環状支持部５に基板１
００の裏面を支持する複数の基板支持ピン６が設けられ
ている。また、回転ステージ２には、基板１００の水平
位置を規制する複数の基板保持ピン７が軸受け８により
鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付けられている。
複数の基板保持ピン７は、回転中心Ｐから等距離に等分
配置され、永久磁石９および環状磁石１１の磁力により
駆動される。基板１００の受渡し時および現像液の液盛
り後には、基板保持ピン７のピン部材の外周面が基板１
００の外周端面から離れる。基板１００の回転時には、
基板保持ピン７のピン部材の外周面が基板１００の外周
端面に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
板を回転させることができ、かつ基板の裏面を清浄に保
つことができる回転式現像装置を提供することである。 【解決手段】 回転ステージ２の環状支持部５に基板１
００の裏面を支持する複数の基板支持ピン６が設けられ
ている。また、回転ステージ２には、基板１００の水平
位置を規制する複数の基板保持ピン７が軸受け８により
鉛直方向の軸の周りで回動可能に取り付けられている。
複数の基板保持ピン７は、回転中心Ｐから等距離に等分
配置され、永久磁石９および環状磁石１１の磁力により
駆動される。基板１００の受渡し時および現像液の液盛
り後には、基板保持ピン７のピン部材の外周面が基板１
００の外周端面から離れる。基板１００の回転時には、
基板保持ピン７のピン部材の外周面が基板１００の外周
端面に当接し、基板１００が水平方向に保持される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に現像処理を
行うための回転式現像装置に関する。
行うための回転式現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に現像処理を行うために回転式現像装置が用
いられている。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に現像処理を行うために回転式現像装置が用
いられている。
【０００３】この回転式現像装置では、真空配管ライン
に接続された吸引式スピンチャック上に基板を水平に吸
着保持し、現像ノズルを基板の上方に移動させ、基板上
に現像液を吐出する。このとき、基板の表面は現像液を
はじきやすい状態である場合が多いため、スピンチャッ
クに吸着された基板を水平姿勢で低速回転させながら基
板上の感光性膜に現像液を供給する。
に接続された吸引式スピンチャック上に基板を水平に吸
着保持し、現像ノズルを基板の上方に移動させ、基板上
に現像液を吐出する。このとき、基板の表面は現像液を
はじきやすい状態である場合が多いため、スピンチャッ
クに吸着された基板を水平姿勢で低速回転させながら基
板上の感光性膜に現像液を供給する。
【０００４】供給された現像液は、基板の回転によって
基板の全面に均一に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態で一
定時間基板を静止させること（液盛り）により感光性膜
の現像が行われる。
基板の全面に均一に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態で一
定時間基板を静止させること（液盛り）により感光性膜
の現像が行われる。
【０００５】その後、基板を所定の速度で回転させなが
ら基板の表面に純水リンス液を供給するとともに基板の
裏面をバックリンス液で洗浄する。基板の回転により純
水リンス液およびバックリンス液を振り切った後、処理
を終了する。
ら基板の表面に純水リンス液を供給するとともに基板の
裏面をバックリンス液で洗浄する。基板の回転により純
水リンス液およびバックリンス液を振り切った後、処理
を終了する。
【０００６】このような吸引式スピンチャックを用いた
回転式現像装置では、基板を回転時に確実に吸着保持す
るために強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸
着跡が残る。また、基板の裏面に付着したパーティクル
（粒子）等の異物をバックリンス液で洗浄する際に、ス
ピンチャックによる吸着部分およびその周囲を十分に洗
浄しきれず、基板の裏面がパーティクルで汚染される。
回転式現像装置では、基板を回転時に確実に吸着保持す
るために強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸
着跡が残る。また、基板の裏面に付着したパーティクル
（粒子）等の異物をバックリンス液で洗浄する際に、ス
ピンチャックによる吸着部分およびその周囲を十分に洗
浄しきれず、基板の裏面がパーティクルで汚染される。
【０００７】基板の裏面に吸着跡や異物の付着がある
と、基板をキャリア内に多段に配置した場合に、上の基
板の裏面の付着物が下方に落下し、下の基板の表面を汚
染することがある。また、現像処理の後の工程で基板表
面への感光性膜の塗布処理および露光処理を繰り返す場
合、基板裏面に付着物があると、露光処理時にフォーカ
ス異常を引き起こすおそれがある。
と、基板をキャリア内に多段に配置した場合に、上の基
板の裏面の付着物が下方に落下し、下の基板の表面を汚
染することがある。また、現像処理の後の工程で基板表
面への感光性膜の塗布処理および露光処理を繰り返す場
合、基板裏面に付着物があると、露光処理時にフォーカ
ス異常を引き起こすおそれがある。
【０００８】そこで、基板の裏面を支持するとともに基
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。メカ式スピンチャ
ックは、水平姿勢で回転駆動される回転ステージ上に、
基板の裏面を垂直に支持する複数の支持ピンと、基板の
外周端面に当接して基板の水平位置を規制しかつ基板に
回転力を伝達する複数の保持ピンとが設けられてなる。
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。メカ式スピンチャ
ックは、水平姿勢で回転駆動される回転ステージ上に、
基板の裏面を垂直に支持する複数の支持ピンと、基板の
外周端面に当接して基板の水平位置を規制しかつ基板に
回転力を伝達する複数の保持ピンとが設けられてなる。
【０００９】各保持ピンと基板の外周端面との間には、
基板の搬入および搬出を容易にするために僅かな隙間が
設けられている。スピンチャックが鉛直方向の軸の周り
で回転駆動されると、複数の保持ピンのいくつかが基板
の外周端面に圧接され、基板の中心が回転中心からやや
偏心した状態で基板がスピンチャックとともに回転す
る。
基板の搬入および搬出を容易にするために僅かな隙間が
設けられている。スピンチャックが鉛直方向の軸の周り
で回転駆動されると、複数の保持ピンのいくつかが基板
の外周端面に圧接され、基板の中心が回転中心からやや
偏心した状態で基板がスピンチャックとともに回転す
る。
【００１０】このメカ式スピンチャックでは、基板が複
数の支持ピンにより回転ステージ上の所定の高さに支持
されているので、基板と回転ステージとの間にギャップ
が存在する。したがって、基板の裏面の全体をバックリ
ンス液で洗浄することができ、基板裏面の汚染が生じな
い。
数の支持ピンにより回転ステージ上の所定の高さに支持
されているので、基板と回転ステージとの間にギャップ
が存在する。したがって、基板の裏面の全体をバックリ
ンス液で洗浄することができ、基板裏面の汚染が生じな
い。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
メカ式スピンチャックでは、基板上に液盛りされた現像
液が基板の外周端面に当接している保持ピンを伝ってこ
ぼれ落ちやすい。これにより、基板上の現像液にむらが
生じ、現像処理が不均一になる。また、こぼれ落ちた現
像液を補うために追加の現像液を供給する必要が生じ、
現像液の消費量が増加することになる。
メカ式スピンチャックでは、基板上に液盛りされた現像
液が基板の外周端面に当接している保持ピンを伝ってこ
ぼれ落ちやすい。これにより、基板上の現像液にむらが
生じ、現像処理が不均一になる。また、こぼれ落ちた現
像液を補うために追加の現像液を供給する必要が生じ、
現像液の消費量が増加することになる。
【００１２】さらに、基板の中心が回転中心からやや偏
心した状態で基板が回転するので、負荷の不平衡による
振動が発生し、その振動が他の基板処理ユニットに影響
を与える可能性がある。また、複数の保持ピンのうちい
くつかが基板の外周端面に接しているため、基板の取り
出し時に基板の端面と保持ピンとが擦れてパーティクル
が発生しやすい。特に、基板の回転により、基板の端面
が保持ピンに強く喰い込んだ場合には、基板の搬送不良
や基板の破損が発生するおそれがある。
心した状態で基板が回転するので、負荷の不平衡による
振動が発生し、その振動が他の基板処理ユニットに影響
を与える可能性がある。また、複数の保持ピンのうちい
くつかが基板の外周端面に接しているため、基板の取り
出し時に基板の端面と保持ピンとが擦れてパーティクル
が発生しやすい。特に、基板の回転により、基板の端面
が保持ピンに強く喰い込んだ場合には、基板の搬送不良
や基板の破損が発生するおそれがある。
【００１３】本発明の目的は、基板の中心を回転中心と
一致させた状態で基板を回転させることができ、かつ基
板の裏面を清浄に保つことができる回転式現像装置を提
供することである。
一致させた状態で基板を回転させることができ、かつ基
板の裏面を清浄に保つことができる回転式現像装置を提
供することである。
【００１４】本発明の他の目的は、パーティクルを発生
することなく基板を円滑に取り出すことができ、かつ基
板の裏面を清浄に保つことができる回転式現像装置を提
供することである。
することなく基板を円滑に取り出すことができ、かつ基
板の裏面を清浄に保つことができる回転式現像装置を提
供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る回転式現像装置は、基板を水平姿勢で保持す
る基板保持手段と、基板保持手段を鉛直方向の軸の周り
で回転駆動する回転駆動手段と、基板保持手段に保持さ
れた基板上に現像液を供給する現像液供給手段とを備え
る。基板保持手段は、回転駆動手段により水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材の回転中心から等距
離の位置に分散配置され、基板の外周端面に当接して基
板を水平方向に保持する基板保持位置と基板の外周端面
から離間する基板開放位置との間で移動可能な複数の保
持部材と、回転駆動手段による回転部材の回転駆動時に
複数の保持部材を基板保持位置に駆動し、現像液供給手
段による基板上への現像液の供給後で回転部材の停止時
に複数の保持部材を基板開放位置に駆動する駆動手段と
を含む。
発明に係る回転式現像装置は、基板を水平姿勢で保持す
る基板保持手段と、基板保持手段を鉛直方向の軸の周り
で回転駆動する回転駆動手段と、基板保持手段に保持さ
れた基板上に現像液を供給する現像液供給手段とを備え
る。基板保持手段は、回転駆動手段により水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材の回転中心から等距
離の位置に分散配置され、基板の外周端面に当接して基
板を水平方向に保持する基板保持位置と基板の外周端面
から離間する基板開放位置との間で移動可能な複数の保
持部材と、回転駆動手段による回転部材の回転駆動時に
複数の保持部材を基板保持位置に駆動し、現像液供給手
段による基板上への現像液の供給後で回転部材の停止時
に複数の保持部材を基板開放位置に駆動する駆動手段と
を含む。
【００１６】第１の発明に係る回転式現像装置において
は、回転駆動手段により基板保持手段の回転部材が鉛直
方向の軸の周りで回転駆動され、基板保持手段に保持さ
れた基板上に現像液供給手段により現像液が供給され
る。回転駆動手段による回転部材の回転駆動時には駆動
手段により複数の保持部材が基板保持位置に駆動され
る。それにより、複数の保持部材が基板の外周端面に当
接して基板を水平方向に保持する。この場合、複数の保
持部材が回転部材の回転中心から等距離の位置に配置さ
れているので、基板の中心が回転中心に正確に一致す
る。それにより、基板の中心が回転中心から偏心するこ
とによる振動の発生が防止される。
は、回転駆動手段により基板保持手段の回転部材が鉛直
方向の軸の周りで回転駆動され、基板保持手段に保持さ
れた基板上に現像液供給手段により現像液が供給され
る。回転駆動手段による回転部材の回転駆動時には駆動
手段により複数の保持部材が基板保持位置に駆動され
る。それにより、複数の保持部材が基板の外周端面に当
接して基板を水平方向に保持する。この場合、複数の保
持部材が回転部材の回転中心から等距離の位置に配置さ
れているので、基板の中心が回転中心に正確に一致す
る。それにより、基板の中心が回転中心から偏心するこ
とによる振動の発生が防止される。
【００１７】現像液供給手段により基板上へ現像液が供
給された後に回転部材が停止すると、駆動手段により複
数の保持部材が基板開放位置に駆動される。それによ
り、複数の保持部材が基板の外周端面から離間する。こ
の状態で一定時間基板を静止させることにより現像処理
が行われる。このとき、複数の保持部材が基板の外周端
面から離間しているので、基板上に供給された現像液が
複数の保持部材を伝ってこぼれ落ちることがない。した
がって、基板上に現像液が均一に保持され、均一な現像
処理が可能となる。また、現像液の消費量が低減され
る。
給された後に回転部材が停止すると、駆動手段により複
数の保持部材が基板開放位置に駆動される。それによ
り、複数の保持部材が基板の外周端面から離間する。こ
の状態で一定時間基板を静止させることにより現像処理
が行われる。このとき、複数の保持部材が基板の外周端
面から離間しているので、基板上に供給された現像液が
複数の保持部材を伝ってこぼれ落ちることがない。した
がって、基板上に現像液が均一に保持され、均一な現像
処理が可能となる。また、現像液の消費量が低減され
る。
【００１８】第２の発明に係る回転式現像装置は、第１
の発明に係る回転式現像装置の構成において、駆動手段
が、基板保持手段への基板の搬入時および搬出時に複数
の保持部材を基板開放位置に駆動するものである。
の発明に係る回転式現像装置の構成において、駆動手段
が、基板保持手段への基板の搬入時および搬出時に複数
の保持部材を基板開放位置に駆動するものである。
【００１９】この場合、基板の搬入時および搬出時に複
数の保持部材が基板の外周端面から離間するので、基板
の外周端面が複数の保持部材に擦れてパーティクルが発
生することが防止される。また、基板の外周端面が複数
の保持部材に喰い込むこともないので、基板の搬送不良
や基板の破損が防止される。
数の保持部材が基板の外周端面から離間するので、基板
の外周端面が複数の保持部材に擦れてパーティクルが発
生することが防止される。また、基板の外周端面が複数
の保持部材に喰い込むこともないので、基板の搬送不良
や基板の破損が防止される。
【００２０】第３の発明に係る回転式現像装置は、第１
または第２の発明に係る回転式現像装置の構成におい
て、駆動手段が、複数の保持部材を磁力により駆動する
ものである。この場合、部材間の摩擦によるパーティク
ルが発生しない。
または第２の発明に係る回転式現像装置の構成におい
て、駆動手段が、複数の保持部材を磁力により駆動する
ものである。この場合、部材間の摩擦によるパーティク
ルが発生しない。
【００２１】第４の発明に係る回転式現像装置は、第
１、第２または第３の発明に係る回転式現像装置の構成
において、複数の保持部材の各々が、鉛直方向の回転軸
の周りで回動可能に回転部材に取り付けられた支持部
と、支持部の回動に伴って基板の外周端面に当接するよ
うに支持部の回転軸に対して偏心して設けられた保持部
とを含むものである。
１、第２または第３の発明に係る回転式現像装置の構成
において、複数の保持部材の各々が、鉛直方向の回転軸
の周りで回動可能に回転部材に取り付けられた支持部
と、支持部の回動に伴って基板の外周端面に当接するよ
うに支持部の回転軸に対して偏心して設けられた保持部
とを含むものである。
【００２２】この場合、支持部を回動させることにより
保持部を基板保持位置と基板開放位置との間で容易に移
動させることができる。第５の発明に係る回転式現像装
置は、第１〜第４のいずれかの発明に係る回転式現像装
置の構成において、基板保持手段が回転部材上に配設さ
れて基板の裏面を支持する複数の支持部材をさらに含
み、基板保持手段の回転部材のほぼ中心部に配置された
吐出口を有しかつ基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液
吐出手段をさらに備えたものである。
保持部を基板保持位置と基板開放位置との間で容易に移
動させることができる。第５の発明に係る回転式現像装
置は、第１〜第４のいずれかの発明に係る回転式現像装
置の構成において、基板保持手段が回転部材上に配設さ
れて基板の裏面を支持する複数の支持部材をさらに含
み、基板保持手段の回転部材のほぼ中心部に配置された
吐出口を有しかつ基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液
吐出手段をさらに備えたものである。
【００２３】この場合、基板が複数の支持部材により回
転部材上の所定の高さに支持されるので、基板と回転部
材との間にギャップが存在する。したがって、洗浄液吐
出手段の吐出口から吐出される洗浄液により基板の裏面
の全体を十分に洗浄することができる。
転部材上の所定の高さに支持されるので、基板と回転部
材との間にギャップが存在する。したがって、洗浄液吐
出手段の吐出口から吐出される洗浄液により基板の裏面
の全体を十分に洗浄することができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
回転式現像装置の断面図である。また、図２は図１の回
転式現像装置の主要部の平面図である。
回転式現像装置の断面図である。また、図２は図１の回
転式現像装置の主要部の平面図である。
【００２５】図１において、回転保持部１は円形板状の
回転ステージ２を備える。回転ステージ２は、モータ３
のシャフト４の先端部に水平に固定され、鉛直方向の軸
の周りで回転駆動される。
回転ステージ２を備える。回転ステージ２は、モータ３
のシャフト４の先端部に水平に固定され、鉛直方向の軸
の周りで回転駆動される。
【００２６】回転ステージ２の上面には環状支持部５が
固定され、この環状支持部５に基板１００の裏面を支持
する複数の基板支持ピン６が設けられている。また、回
転ステージ２には、基板１００の水平位置を規制する複
数の基板保持ピン７が軸受け８により鉛直方向の軸の周
りで回動可能に取り付けられている。図２に示すよう
に、複数の基板保持ピン７は、図１の回転保持部１の回
転中心Ｐから等距離に等分配置されている。各基板保持
ピン７の下部には後述する棒状の永久磁石９が取り付け
られている。回転ステージ２の周縁部には環状壁部１０
が設けられている。
固定され、この環状支持部５に基板１００の裏面を支持
する複数の基板支持ピン６が設けられている。また、回
転ステージ２には、基板１００の水平位置を規制する複
数の基板保持ピン７が軸受け８により鉛直方向の軸の周
りで回動可能に取り付けられている。図２に示すよう
に、複数の基板保持ピン７は、図１の回転保持部１の回
転中心Ｐから等距離に等分配置されている。各基板保持
ピン７の下部には後述する棒状の永久磁石９が取り付け
られている。回転ステージ２の周縁部には環状壁部１０
が設けられている。
【００２７】回転ステージ２の下方には環状磁石１１が
配設されている。この環状磁石１１は、駆動装置（図示
せず）により上下動自在に設けられた磁石支持部材１２
に固定されている。
配設されている。この環状磁石１１は、駆動装置（図示
せず）により上下動自在に設けられた磁石支持部材１２
に固定されている。
【００２８】また、回転ステージ２には複数の貫通孔１
３が形成されている。これらの貫通孔１３の下方には昇
降ピン１４がエアシリンダ（図示せず）により昇降自在
に配設されている。これらの昇降ピン１４は、基板搬送
装置（図示せず）との基板１００の受渡し時に、回転ス
テージ２の貫通孔１３を貫通して上昇し、基板１００の
裏面に当接して基板１００を上方に押し上げる。
３が形成されている。これらの貫通孔１３の下方には昇
降ピン１４がエアシリンダ（図示せず）により昇降自在
に配設されている。これらの昇降ピン１４は、基板搬送
装置（図示せず）との基板１００の受渡し時に、回転ス
テージ２の貫通孔１３を貫通して上昇し、基板１００の
裏面に当接して基板１００を上方に押し上げる。
【００２９】モータ３のシャフト４は中空体により構成
され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル１５
が挿入されている。このバックリンスノズル１５は、回
転ステージ２を貫通して基板１００の裏面側に突出して
いる。回転保持部１の周囲には、カップ１６が上下動自
在に配設されている。
され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル１５
が挿入されている。このバックリンスノズル１５は、回
転ステージ２を貫通して基板１００の裏面側に突出して
いる。回転保持部１の周囲には、カップ１６が上下動自
在に配設されている。
【００３０】また、回転保持部１の上方には、現像液を
吐出する現像ノズル１７が上下方向および水平方向に移
動可能に設けられている。この現像ノズル１７は、現像
処理前および現像処理後に基板１００の上方から外れた
位置に待機し、現像処理時に基板１００の中心部の上方
に移動する。
吐出する現像ノズル１７が上下方向および水平方向に移
動可能に設けられている。この現像ノズル１７は、現像
処理前および現像処理後に基板１００の上方から外れた
位置に待機し、現像処理時に基板１００の中心部の上方
に移動する。
【００３１】モータ３の回転および停止、磁石支持部材
１２の上昇および下降、現像ノズル１７からの現像液の
吐出、バックリンスノズル１５からのバックリンス液の
吐出等の一連の動作は制御部１８により制御される。
１２の上昇および下降、現像ノズル１７からの現像液の
吐出、バックリンスノズル１５からのバックリンス液の
吐出等の一連の動作は制御部１８により制御される。
【００３２】本実施例では、回転保持部１が基板保持手
段に相当し、モータ３が回転駆動手段に相当し、現像ノ
ズル１７が現像液供給手段に相当する。また、回転ステ
ージ２が回転部材に相当し、基板保持ピン７が保持部材
に相当する。さらに、永久磁石９、環状磁石１１および
制御部１８が駆動手段を構成する。また、基板支持ピン
６が支持部材に相当し、バックリンスノズル１５が洗浄
液吐出手段に相当する。
段に相当し、モータ３が回転駆動手段に相当し、現像ノ
ズル１７が現像液供給手段に相当する。また、回転ステ
ージ２が回転部材に相当し、基板保持ピン７が保持部材
に相当する。さらに、永久磁石９、環状磁石１１および
制御部１８が駆動手段を構成する。また、基板支持ピン
６が支持部材に相当し、バックリンスノズル１５が洗浄
液吐出手段に相当する。
【００３３】図３は基板保持ピン７の斜視図である。図
３に示すように、基板保持ピン７は、円柱状の支持部２
１、円柱状（棒状）のピン部材２２、連結シャフト部２
３および磁石収納部２４からなる。ピン部材２２は、支
持部２１の上面に支持部２１の中心に対して偏心して設
けられている。磁石収納部２４は、支持部２１の下部に
連結シャフト部２３を介して固定されている。磁石収納
部２４内には棒状の永久磁石９が収納されている。
３に示すように、基板保持ピン７は、円柱状の支持部２
１、円柱状（棒状）のピン部材２２、連結シャフト部２
３および磁石収納部２４からなる。ピン部材２２は、支
持部２１の上面に支持部２１の中心に対して偏心して設
けられている。磁石収納部２４は、支持部２１の下部に
連結シャフト部２３を介して固定されている。磁石収納
部２４内には棒状の永久磁石９が収納されている。
【００３４】図４および図５は基板保持ピン７の動作を
説明するための図であり、（ａ）は基板保持ピン７およ
びその周辺部の部分断面図、（ｂ）は基板保持ピン７の
平面図である。
説明するための図であり、（ａ）は基板保持ピン７およ
びその周辺部の部分断面図、（ｂ）は基板保持ピン７の
平面図である。
【００３５】基板１００の受渡し時および現像液の液盛
り後には、図４（ａ）に示すように、環状磁石１１が回
転ステージ２の下方に離れて位置する。このとき、環状
磁石１１が形成する磁力線Ｂは、永久磁石９が設置され
る高さにおいて、回転ステージ２の外側から中心部に向
かう方向に向いている。したがって、永久磁石９のＮ極
が回転ステージ２の中心部に向かう方向に吸引される。
それにより、図４（ｂ）に示すように、基板保持ピン７
が矢印Ｘの方向に回動し、ピン部材２２の外周面が基板
１００の外周端面から離れる。
り後には、図４（ａ）に示すように、環状磁石１１が回
転ステージ２の下方に離れて位置する。このとき、環状
磁石１１が形成する磁力線Ｂは、永久磁石９が設置され
る高さにおいて、回転ステージ２の外側から中心部に向
かう方向に向いている。したがって、永久磁石９のＮ極
が回転ステージ２の中心部に向かう方向に吸引される。
それにより、図４（ｂ）に示すように、基板保持ピン７
が矢印Ｘの方向に回動し、ピン部材２２の外周面が基板
１００の外周端面から離れる。
【００３６】基板１００の回転時には、図５（ａ）に示
すように、環状磁石１１が上昇して回転ステージ２に接
近する。したがって、永久磁石９のＳ極が環状磁石１１
のＮ極に吸引される。それにより、図５（ｂ）に示すよ
うに、基板保持ピン７が矢印Ｙの方向に回動し、ピン部
材２２の外周面が基板１００の外周端面に当接し、基板
１００が水平方向に保持される。
すように、環状磁石１１が上昇して回転ステージ２に接
近する。したがって、永久磁石９のＳ極が環状磁石１１
のＮ極に吸引される。それにより、図５（ｂ）に示すよ
うに、基板保持ピン７が矢印Ｙの方向に回動し、ピン部
材２２の外周面が基板１００の外周端面に当接し、基板
１００が水平方向に保持される。
【００３７】次に、図６のフローチャートを参照しなが
ら図１の回転式現像装置における現像処理時の動作を説
明する。まず、図５に示すように、環状磁石１１が上昇
して複数の基板保持ピン７により基板１００が水平方向
に保持される（ステップＳ１）。このとき、複数の基板
保持ピン７が回転ステージ２の回転中心から等距離に配
置されているので、基板１００の中心が回転ステージ２
の回転中心（基板１００の回転中心）と正確に一致す
る。
ら図１の回転式現像装置における現像処理時の動作を説
明する。まず、図５に示すように、環状磁石１１が上昇
して複数の基板保持ピン７により基板１００が水平方向
に保持される（ステップＳ１）。このとき、複数の基板
保持ピン７が回転ステージ２の回転中心から等距離に配
置されているので、基板１００の中心が回転ステージ２
の回転中心（基板１００の回転中心）と正確に一致す
る。
【００３８】その後、モータ３により回転保持部１が回
転駆動され、基板１００が鉛直方向の軸の周りで低速回
転する（ステップＳ２）。この状態で、現像ノズル１７
から基板１００上に現像液が吐出される（ステップＳ
３）。基板１００の回転により現像液は基板１００の表
面の全体に均一に塗り広げられる。
転駆動され、基板１００が鉛直方向の軸の周りで低速回
転する（ステップＳ２）。この状態で、現像ノズル１７
から基板１００上に現像液が吐出される（ステップＳ
３）。基板１００の回転により現像液は基板１００の表
面の全体に均一に塗り広げられる。
【００３９】その後、回転保持部１の回転が停止される
（ステップＳ４）。基板１００の回転が停止すると、図
４に示すように、環状磁石１１が下降して基板保持ピン
７が開放状態となる（ステップＳ５）。この場合、基板
保持ピン７のピン部材２２が基板１００の外周端面から
離間するため、基板１００上に液盛りされた現像液がピ
ン部材２２を伝ってこぼれ落ちることがない。この状態
で、現像液が一定時間静止される（ステップＳ６）。こ
れにより、基板１００上の感光性膜の現像が進行する。
（ステップＳ４）。基板１００の回転が停止すると、図
４に示すように、環状磁石１１が下降して基板保持ピン
７が開放状態となる（ステップＳ５）。この場合、基板
保持ピン７のピン部材２２が基板１００の外周端面から
離間するため、基板１００上に液盛りされた現像液がピ
ン部材２２を伝ってこぼれ落ちることがない。この状態
で、現像液が一定時間静止される（ステップＳ６）。こ
れにより、基板１００上の感光性膜の現像が進行する。
【００４０】次に、図５に示すように、環状磁石１１が
上昇して基板保持ピン７により基板１００が水平方向に
保持される（ステップＳ７）。そして、モータ３により
回転保持部１が回転駆動され、基板１００が所定の速度
で回転する（ステップＳ８）。純水供給ノズル（図示せ
ず）から基板１００上に純水リンス液が供給されて基板
１００の表面に純水リンスが行われるとともにバックリ
ンスノズル１５からバックリンス液が吐出されて基板１
００の裏面が洗浄される（ステップＳ９）。
上昇して基板保持ピン７により基板１００が水平方向に
保持される（ステップＳ７）。そして、モータ３により
回転保持部１が回転駆動され、基板１００が所定の速度
で回転する（ステップＳ８）。純水供給ノズル（図示せ
ず）から基板１００上に純水リンス液が供給されて基板
１００の表面に純水リンスが行われるとともにバックリ
ンスノズル１５からバックリンス液が吐出されて基板１
００の裏面が洗浄される（ステップＳ９）。
【００４１】基板１００の回転により純水リンス液およ
びバックリンス液が振り切られた後、基板１００の回転
が停止する（ステップＳ１０）。現像処理の終了後、図
４に示すように、環状磁石１１が下降して基板保持ピン
７が開放状態となる（ステップＳ１１）。昇降ピン１４
が回転ステージ２の貫通孔１３を貫通して上昇し、基板
１００の裏面に当接し、さらに基板１００を上方に押し
上げる。その状態で、基板搬送装置（図示せず）に対し
て基板１００の受渡しが行われる。
びバックリンス液が振り切られた後、基板１００の回転
が停止する（ステップＳ１０）。現像処理の終了後、図
４に示すように、環状磁石１１が下降して基板保持ピン
７が開放状態となる（ステップＳ１１）。昇降ピン１４
が回転ステージ２の貫通孔１３を貫通して上昇し、基板
１００の裏面に当接し、さらに基板１００を上方に押し
上げる。その状態で、基板搬送装置（図示せず）に対し
て基板１００の受渡しが行われる。
【００４２】上記のように、本実施例の回転式現像処理
装置においては、基板１００の裏面および外周端面が点
接触状態または線接触状態で保持されているので、基板
１００の裏面の全体を洗浄することが可能となる。その
結果、基板１００の裏面のパーティクルが格段に減少す
る。
装置においては、基板１００の裏面および外周端面が点
接触状態または線接触状態で保持されているので、基板
１００の裏面の全体を洗浄することが可能となる。その
結果、基板１００の裏面のパーティクルが格段に減少す
る。
【００４３】また、現像液の液盛り時に基板保持ピン７
のピン部材２２が基板１００の外周端面から離間するの
で、ピン部材２２を伝って現像液がこぼれ落ちることが
ない。その結果、基板１００の表面に現像液が均一に保
持され、均一な現像処理が行われるとともに、現像液の
消費量が低減される。
のピン部材２２が基板１００の外周端面から離間するの
で、ピン部材２２を伝って現像液がこぼれ落ちることが
ない。その結果、基板１００の表面に現像液が均一に保
持され、均一な現像処理が行われるとともに、現像液の
消費量が低減される。
【００４４】さらに、基板１００の回転時に基板１００
の中心と回転中心とが正確に一致するので、負荷の不平
衡による振動が発生しない。したがって、安定した回転
処理が行われる。
の中心と回転中心とが正確に一致するので、負荷の不平
衡による振動が発生しない。したがって、安定した回転
処理が行われる。
【００４５】また、基板１００の搬入および搬出時に基
板保持ピン７のピン部材２２が基板１００の外周端面か
ら離間するので、基板１００の外周端面が基板保持ピン
７のピン部材２２と擦れてパーティクルが発生すること
が防止されるとともに、基板１００が基板保持ピン７の
ピン部材２２に喰い込むことによる基板１００の搬送不
良や基板１００の破損が防止される。
板保持ピン７のピン部材２２が基板１００の外周端面か
ら離間するので、基板１００の外周端面が基板保持ピン
７のピン部材２２と擦れてパーティクルが発生すること
が防止されるとともに、基板１００が基板保持ピン７の
ピン部材２２に喰い込むことによる基板１００の搬送不
良や基板１００の破損が防止される。
【図１】本発明の一実施例における回転式現像装置の断
面図である。
面図である。
【図２】図１の回転式現像装置の主要部の平面図であ
る。
る。
【図３】図１の回転式現像装置における基板保持ピンの
斜視図である。
斜視図である。
【図４】基板保持ピンのピン部材が基板の外周端面から
離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
【図５】基板保持ピンのピン部材が基板の外周端面に当
接した状態を示す部分断面図および平面図である。
接した状態を示す部分断面図および平面図である。
【図６】図１の回転式現像装置における現像処理時の動
作を示すフローチャートである。
作を示すフローチャートである。
１ 回転保持部 ２ 回転ステージ ３ モータ ４ シャフト ６ 基板支持ピン ７ 基板保持ピン ９ 永久磁石 １１ 環状磁石 １５ バックリンスノズル １７ 現像ノズル ２１ 支持部 ２２ ピン部材
Claims (5)
- 【請求項１】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
と、 前記基板保持手段を鉛直方向の軸の周りで回転駆動する
回転駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された基板上に現像液を供給す
る現像液供給手段とを備え、 前記基板保持手段は、 前記回転駆動手段により水平姿勢で回転駆動される回転
部材と、 前記回転部材の回転中心から等距離の位置に分散配置さ
れ、前記基板の外周端面に当接して前記基板を水平方向
に保持する基板保持位置と前記基板の外周端面から離間
する基板開放位置との間で移動可能な複数の保持部材
と、 前記回転駆動手段による前記回転部材の回転駆動時に前
記複数の保持部材を前記基板保持位置に駆動し、前記現
像液供給手段による前記基板上への現像液の供給後で前
記回転部材の停止時に前記複数の保持部材を前記基板開
放位置に駆動する駆動手段とを含むことを特徴とする回
転式現像装置。 - 【請求項２】 前記駆動手段は、前記基板保持手段への
基板の搬入時および搬出時に前記複数の保持部材を前記
基板開放位置に駆動することを特徴とする請求項１記載
の回転式現像装置。 - 【請求項３】 前記駆動手段は、前記複数の保持部材を
磁力により駆動することを特徴とする請求項１または２
記載の回転式現像装置。 - 【請求項４】 前記複数の保持部材の各々は、 鉛直方向の回転軸の周りで回動可能に前記回転部材に取
り付けられた支持部と、 前記支持部の回動に伴って前記基板の外周端面に当接す
るように前記支持部の前記回転軸に対して偏心して設け
られた保持部とを含むことを特徴とする請求項１〜３の
いずれかに記載の回転式現像装置。 - 【請求項５】 前記基板保持手段は前記回転部材上に配
設されて前記基板の裏面を支持する複数の支持部材をさ
らに含み、 前記基板保持手段の前記回転部材のほぼ中心部に配置さ
れた吐出口を有しかつ前記基板の裏面に洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出手段をさらに備えたことを特徴とする請求
項１〜４のいずれかに記載の回転式現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23766096A JP3492107B2 (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 回転式現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23766096A JP3492107B2 (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 回転式現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1083948A true JPH1083948A (ja) | 1998-03-31 |
| JP3492107B2 JP3492107B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=17018626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23766096A Expired - Fee Related JP3492107B2 (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 回転式現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3492107B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6964724B2 (en) * | 1999-03-15 | 2005-11-15 | Nec Corporation | Etching and cleaning methods and etching and cleaning apparatuses used therefor |
| KR100816742B1 (ko) * | 2006-09-11 | 2008-03-25 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR100872889B1 (ko) | 2007-04-18 | 2008-12-10 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼 스핀 척 |
| US8166985B2 (en) | 2007-11-13 | 2012-05-01 | Sokudo Co., Ltd. | Substrate cleaning and processing apparatus with magnetically controlled spin chuck holding pins |
| CN106449500A (zh) * | 2016-09-27 | 2017-02-22 | 天津华海清科机电科技有限公司 | 定位组件 |
-
1996
- 1996-09-09 JP JP23766096A patent/JP3492107B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6964724B2 (en) * | 1999-03-15 | 2005-11-15 | Nec Corporation | Etching and cleaning methods and etching and cleaning apparatuses used therefor |
| US8420549B2 (en) | 1999-03-15 | 2013-04-16 | Renesas Electronics Corporation | Etching and cleaning methods and etching and cleaning apparatuses used therefor |
| KR100816742B1 (ko) * | 2006-09-11 | 2008-03-25 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 |
| KR100872889B1 (ko) | 2007-04-18 | 2008-12-10 | 세메스 주식회사 | 웨이퍼 스핀 척 |
| US8166985B2 (en) | 2007-11-13 | 2012-05-01 | Sokudo Co., Ltd. | Substrate cleaning and processing apparatus with magnetically controlled spin chuck holding pins |
| CN106449500A (zh) * | 2016-09-27 | 2017-02-22 | 天津华海清科机电科技有限公司 | 定位组件 |
| WO2018059166A1 (zh) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 清华大学 | 定位组件 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3492107B2 (ja) | 2004-02-03 |
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