JP3492107B2 - 回転式現像装置 - Google Patents
回転式現像装置Info
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
行うための回転式現像装置に関する。
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に現像処理を行うために回転式現像装置が用
いられている。
に接続された吸引式スピンチャック上に基板を水平に吸
着保持し、現像ノズルを基板の上方に移動させ、基板上
に現像液を吐出する。このとき、基板の表面は現像液を
はじきやすい状態である場合が多いため、スピンチャッ
クに吸着された基板を水平姿勢で低速回転させながら基
板上の感光性膜に現像液を供給する。
基板の全面に均一に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態で一
定時間基板を静止させること(液盛り)により感光性膜
の現像が行われる。
ら基板の表面に純水リンス液を供給するとともに基板の
裏面をバックリンス液で洗浄する。基板の回転により純
水リンス液およびバックリンス液を振り切った後、処理
を終了する。
回転式現像装置では、基板を回転時に確実に吸着保持す
るために強力な吸引を行っているので、基板の裏面に吸
着跡が残る。また、基板の裏面に付着したパーティクル
(粒子)等の異物をバックリンス液で洗浄する際に、ス
ピンチャックによる吸着部分およびその周囲を十分に洗
浄しきれず、基板の裏面がパーティクルで汚染される。
と、基板をキャリア内に多段に配置した場合に、上の基
板の裏面の付着物が下方に落下し、下の基板の表面を汚
染することがある。また、現像処理の後の工程で基板表
面への感光性膜の塗布処理および露光処理を繰り返す場
合、基板裏面に付着物があると、露光処理時にフォーカ
ス異常を引き起こすおそれがある。
板の外周端面を保持しつつ基板に回転力を伝達するメカ
式スピンチャックが提案されている。メカ式スピンチャ
ックは、水平姿勢で回転駆動される回転ステージ上に、
基板の裏面を垂直に支持する複数の支持ピンと、基板の
外周端面に当接して基板の水平位置を規制しかつ基板に
回転力を伝達する複数の保持ピンとが設けられてなる。
基板の搬入および搬出を容易にするために僅かな隙間が
設けられている。スピンチャックが鉛直方向の軸の周り
で回転駆動されると、複数の保持ピンのいくつかが基板
の外周端面に圧接され、基板の中心が回転中心からやや
偏心した状態で基板がスピンチャックとともに回転す
る。
数の支持ピンにより回転ステージ上の所定の高さに支持
されているので、基板と回転ステージとの間にギャップ
が存在する。したがって、基板の裏面の全体をバックリ
ンス液で洗浄することができ、基板裏面の汚染が生じな
い。
メカ式スピンチャックでは、基板上に液盛りされた現像
液が基板の外周端面に当接している保持ピンを伝ってこ
ぼれ落ちやすい。これにより、基板上の現像液にむらが
生じ、現像処理が不均一になる。また、こぼれ落ちた現
像液を補うために追加の現像液を供給する必要が生じ、
現像液の消費量が増加することになる。
心した状態で基板が回転するので、負荷の不平衡による
振動が発生し、その振動が他の基板処理ユニットに影響
を与える可能性がある。また、複数の保持ピンのうちい
くつかが基板の外周端面に接しているため、基板の取り
出し時に基板の端面と保持ピンとが擦れてパーティクル
が発生しやすい。特に、基板の回転により、基板の端面
が保持ピンに強く喰い込んだ場合には、基板の搬送不良
や基板の破損が発生するおそれがある。
一致させた状態で基板を回転させることができ、かつ基
板の裏面を清浄に保つことができる回転式現像装置を提
供することである。
することなく基板を円滑に取り出すことができ、かつ基
板の裏面を清浄に保つことができる回転式現像装置を提
供することである。
発明に係る回転式現像装置は、基板を水平姿勢で保持す
る基板保持手段と、基板保持手段を鉛直方向の軸の周り
で回転駆動する回転駆動手段と、基板保持手段に保持さ
れた基板上に現像液を供給する現像液供給手段とを備え
る。基板保持手段は、回転駆動手段により水平姿勢で回
転駆動される回転部材と、回転部材の回転中心から等距
離の位置に分散配置され、基板の外周端面に当接して基
板を水平方向に保持する基板保持位置と基板の外周端面
から離間する基板開放位置との間で移動可能な複数の保
持部材と、回転駆動手段による回転部材の回転駆動時に
複数の保持部材を基板保持位置に駆動し、現像液供給手
段による基板上への現像液の供給後で回転部材の停止時
に複数の保持部材を基板開放位置に駆動する駆動手段と
を含み、回転部材が停止され、基板上に液盛りされた現
像液が一定時間静止されているときには複数の保持部材
が基板開放位置となるものである。
は、回転駆動手段により基板保持手段の回転部材が鉛直
方向の軸の周りで回転駆動され、基板保持手段に保持さ
れた基板上に現像液供給手段により現像液が供給され
る。回転駆動手段による回転部材の回転駆動時には駆動
手段により複数の保持部材が基板保持位置に駆動され
る。それにより、複数の保持部材が基板の外周端面に当
接して基板を水平方向に保持する。この場合、複数の保
持部材が回転部材の回転中心から等距離の位置に配置さ
れているので、基板の中心が回転中心に正確に一致す
る。それにより、基板の中心が回転中心から偏心するこ
とによる振動の発生が防止される。
給された後に回転部材が停止され、基板上に液盛りされ
た現像液が一定時間静止されているときには複数の保持
部材が基板開放位置となる。このとき、複数の保持部材
が基板の外周端面から離間しているので、基板上に供給
された現像液が複数の保持部材を伝ってこぼれ落ちるこ
とがない。したがって、基板上に現像液が均一に保持さ
れ、均一な現像処理が可能となる。また、現像液の消費
量が低減される。
1の発明に係る回転式現像装置の構成において、駆動手
段が、基板保持手段への基板の搬入時および搬出時に複
数の保持部材を基板開放位置に駆動するものである。
数の保持部材が基板の外周端面から離間するので、基板
の外周端面が複数の保持部材に擦れてパーティクルが発
生することが防止される。また、基板の外周端面が複数
の保持部材に喰い込むこともないので、基板の搬送不良
や基板の破損が防止される。
1または第2の発明に係る回転式現像装置の構成におい
て、駆動手段が、複数の保持部材を磁力により駆動する
ものである。この場合、部材間の摩擦によるパーティク
ルが発生しない。
1〜第3のいずれかの発明に係る回転式現像装置の構成
において、複数の保持部材の各々が、鉛直方向の回転軸
の周りで回動可能に回転部材に取り付けられた支持部
と、支持部の回動に伴って基板の外周端面に当接するよ
うに支持部の回転軸に対して偏心して設けられた保持部
とを含むものである。
保持部を基板保持位置と基板開放位置との間で容易に移
動させることができる。
1〜第4のいずれかの発明に係る回転式現像装置の構成
において、基板保持手段が回転部材上に配設されて基板
の裏面を支持する複数の支持部材をさらに含み、基板保
持手段の回転部材のほぼ中心部に配置された吐出口を有
しかつ基板の裏面に洗浄液を吐出する洗浄液吐出手段を
さらに備えたものである。
転部材上の所定の高さに支持されるので、基板と回転部
材との間にギャップが存在する。したがって、洗浄液吐
出手段の吐出口から吐出される洗浄液により基板の裏面
の全体を十分に洗浄することができる。
回転式現像装置の断面図である。また、図2は図1の回
転式現像装置の主要部の平面図である。
回転ステージ2を備える。回転ステージ2は、モータ3
のシャフト4の先端部に水平に固定され、鉛直方向の軸
の周りで回転駆動される。
固定され、この環状支持部5に基板100の裏面を支持
する複数の基板支持ピン6が設けられている。また、回
転ステージ2には、基板100の水平位置を規制する複
数の基板保持ピン7が軸受け8により鉛直方向の軸の周
りで回動可能に取り付けられている。図2に示すよう
に、複数の基板保持ピン7は、図1の回転保持部1の回
転中心Pから等距離に等分配置されている。各基板保持
ピン7の下部には後述する棒状の永久磁石9が取り付け
られている。回転ステージ2の周縁部には環状壁部10
が設けられている。
配設されている。この環状磁石11は、駆動装置(図示
せず)により上下動自在に設けられた磁石支持部材12
に固定されている。
3が形成されている。これらの貫通孔13の下方には昇
降ピン14がエアシリンダ(図示せず)により昇降自在
に配設されている。これらの昇降ピン14は、基板搬送
装置(図示せず)との基板100の受渡し時に、回転ス
テージ2の貫通孔13を貫通して上昇し、基板100の
裏面に当接して基板100を上方に押し上げる。
され、その内部に裏面洗浄用のバックリンスノズル15
が挿入されている。このバックリンスノズル15は、回
転ステージ2を貫通して基板100の裏面側に突出して
いる。回転保持部1の周囲には、カップ16が上下動自
在に配設されている。
吐出する現像ノズル17が上下方向および水平方向に移
動可能に設けられている。この現像ノズル17は、現像
処理前および現像処理後に基板100の上方から外れた
位置に待機し、現像処理時に基板100の中心部の上方
に移動する。
12の上昇および下降、現像ノズル17からの現像液の
吐出、バックリンスノズル15からのバックリンス液の
吐出等の一連の動作は制御部18により制御される。
段に相当し、モータ3が回転駆動手段に相当し、現像ノ
ズル17が現像液供給手段に相当する。また、回転ステ
ージ2が回転部材に相当し、基板保持ピン7が保持部材
に相当する。さらに、永久磁石9、環状磁石11および
制御部18が駆動手段を構成する。また、基板支持ピン
6が支持部材に相当し、バックリンスノズル15が洗浄
液吐出手段に相当する。
3に示すように、基板保持ピン7は、円柱状の支持部2
1、円柱状(棒状)のピン部材22、連結シャフト部2
3および磁石収納部24からなる。ピン部材22は、支
持部21の上面に支持部21の中心に対して偏心して設
けられている。磁石収納部24は、支持部21の下部に
連結シャフト部23を介して固定されている。磁石収納
部24内には棒状の永久磁石9が収納されている。
説明するための図であり、(a)は基板保持ピン7およ
びその周辺部の部分断面図、(b)は基板保持ピン7の
平面図である。
り後には、図4(a)に示すように、環状磁石11が回
転ステージ2の下方に離れて位置する。このとき、環状
磁石11が形成する磁力線Bは、永久磁石9が設置され
る高さにおいて、回転ステージ2の外側から中心部に向
かう方向に向いている。したがって、永久磁石9のN極
が回転ステージ2の中心部に向かう方向に吸引される。
それにより、図4(b)に示すように、基板保持ピン7
が矢印Xの方向に回動し、ピン部材22の外周面が基板
100の外周端面から離れる。
すように、環状磁石11が上昇して回転ステージ2に接
近する。したがって、永久磁石9のS極が環状磁石11
のN極に吸引される。それにより、図5(b)に示すよ
うに、基板保持ピン7が矢印Yの方向に回動し、ピン部
材22の外周面が基板100の外周端面に当接し、基板
100が水平方向に保持される。
ら図1の回転式現像装置における現像処理時の動作を説
明する。まず、図5に示すように、環状磁石11が上昇
して複数の基板保持ピン7により基板100が水平方向
に保持される(ステップS1)。このとき、複数の基板
保持ピン7が回転ステージ2の回転中心から等距離に配
置されているので、基板100の中心が回転ステージ2
の回転中心(基板100の回転中心)と正確に一致す
る。
転駆動され、基板100が鉛直方向の軸の周りで低速回
転する(ステップS2)。この状態で、現像ノズル17
から基板100上に現像液が吐出される(ステップS
3)。基板100の回転により現像液は基板100の表
面の全体に均一に塗り広げられる。
(ステップS4)。基板100の回転が停止すると、図
4に示すように、環状磁石11が下降して基板保持ピン
7が開放状態となる(ステップS5)。この場合、基板
保持ピン7のピン部材22が基板100の外周端面から
離間するため、基板100上に液盛りされた現像液がピ
ン部材22を伝ってこぼれ落ちることがない。この状態
で、現像液が一定時間静止される(ステップS6)。こ
れにより、基板100上の感光性膜の現像が進行する。
上昇して基板保持ピン7により基板100が水平方向に
保持される(ステップS7)。そして、モータ3により
回転保持部1が回転駆動され、基板100が所定の速度
で回転する(ステップS8)。純水供給ノズル(図示せ
ず)から基板100上に純水リンス液が供給されて基板
100の表面に純水リンスが行われるとともにバックリ
ンスノズル15からバックリンス液が吐出されて基板1
00の裏面が洗浄される(ステップS9)。
びバックリンス液が振り切られた後、基板100の回転
が停止する(ステップS10)。現像処理の終了後、図
4に示すように、環状磁石11が下降して基板保持ピン
7が開放状態となる(ステップS11)。昇降ピン14
が回転ステージ2の貫通孔13を貫通して上昇し、基板
100の裏面に当接し、さらに基板100を上方に押し
上げる。その状態で、基板搬送装置(図示せず)に対し
て基板100の受渡しが行われる。
装置においては、基板100の裏面および外周端面が点
接触状態または線接触状態で保持されているので、基板
100の裏面の全体を洗浄することが可能となる。その
結果、基板100の裏面のパーティクルが格段に減少す
る。
のピン部材22が基板100の外周端面から離間するの
で、ピン部材22を伝って現像液がこぼれ落ちることが
ない。その結果、基板100の表面に現像液が均一に保
持され、均一な現像処理が行われるとともに、現像液の
消費量が低減される。
の中心と回転中心とが正確に一致するので、負荷の不平
衡による振動が発生しない。したがって、安定した回転
処理が行われる。
板保持ピン7のピン部材22が基板100の外周端面か
ら離間するので、基板100の外周端面が基板保持ピン
7のピン部材22と擦れてパーティクルが発生すること
が防止されるとともに、基板100が基板保持ピン7の
ピン部材22に喰い込むことによる基板100の搬送不
良や基板100の破損が防止される。
面図である。
る。
斜視図である。
離れた状態を示す部分断面図および平面図である。
接した状態を示す部分断面図および平面図である。
作を示すフローチャートである。
Claims (5)
- 【請求項1】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
と、 前記基板保持手段を鉛直方向の軸の周りで回転駆動する
回転駆動手段と、 前記基板保持手段に保持された基板上に現像液を供給す
る現像液供給手段とを備え、 前記基板保持手段は、 前記回転駆動手段により水平姿勢で回転駆動される回転
部材と、 前記回転部材の回転中心から等距離の位置に分散配置さ
れ、前記基板の外周端面に当接して前記基板を水平方向
に保持する基板保持位置と前記基板の外周端面から離間
する基板開放位置との間で移動可能な複数の保持部材
と、 前記回転駆動手段による前記回転部材の回転駆動時に前
記複数の保持部材を前記基板保持位置に駆動し、前記現
像液供給手段による前記基板上への現像液の供給後で前
記回転部材の停止時に前記複数の保持部材を前記基板開
放位置に駆動する駆動手段とを含み、 前記回転部材が停止され、前記基板上に液盛りされた現
像液が一定時間静止されているときには前記複数の保持
部材が前記基板開放位置となることを特徴とする回転式
現像装置。 - 【請求項2】 前記駆動手段は、前記基板保持手段への
基板の搬入時および搬出時に前記複数の保持部材を前記
基板開放位置に駆動することを特徴とする請求項1記載
の回転式現像装置。 - 【請求項3】 前記駆動手段は、前記複数の保持部材を
磁力により駆動することを特徴とする請求項1または2
記載の回転式現像装置。 - 【請求項4】 前記複数の保持部材の各々は、 鉛直方向の回転軸の周りで回動可能に前記回転部材に取
り付けられた支持部と、 前記支持部の回動に伴って前記基板の外周端面に当接す
るように前記支持部の前記回転軸に対して偏心して設け
られた保持部とを含むことを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載の回転式現像装置。 - 【請求項5】 前記基板保持手段は前記回転部材上に配
設されて前記基板の裏面を支持する複数の支持部材をさ
らに含み、 前記基板保持手段の前記回転部材のほぼ中心部に配置さ
れた吐出口を有しかつ前記基板の裏面に洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出手段をさらに備えたことを特徴とする請求
項1〜4のいずれかに記載の回転式現像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23766096A JP3492107B2 (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 回転式現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23766096A JP3492107B2 (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 回転式現像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH1083948A JPH1083948A (ja) | 1998-03-31 |
JP3492107B2 true JP3492107B2 (ja) | 2004-02-03 |
Family
ID=17018626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23766096A Expired - Fee Related JP3492107B2 (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 回転式現像装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3492107B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
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JP4939376B2 (ja) | 2007-11-13 | 2012-05-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
CN106449500A (zh) * | 2016-09-27 | 2017-02-22 | 天津华海清科机电科技有限公司 | 定位组件 |
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1996
- 1996-09-09 JP JP23766096A patent/JP3492107B2/ja not_active Expired - Fee Related
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